JPH0644610A - 光ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 ガラス製基板上に、（１）紫外線硬化型樹脂
組成物から成る案内溝及び／又は信号ピットの凹凸パタ
ーン形成層、（２）記録層、（３）保護層を順次積層し
た光ディスクにおいて、保護層がシランカップリング剤
及び紫外線硬化型樹脂を含有する保護層形成材料から成
る硬化層であることを特徴とする光ディスク。 【効果】 ガラス２Ｐ基板上に設けられた記録層全面に
わたって、保護層を均一に形成することにより、耐湿熱
性、機械特性や高速記録特性等の諸特性に優れたガラス
基板の特長を有することに加えて、高温高湿度下におい
てもシワ、クラック或いは腐食等が発生することのな
い、長期高信頼性にも優れた光ディスクを提供すること
ができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ディスク形状のガラス
製基板上に、２Ｐ（Photo Polymerization）法により、
（１）紫外線硬化型樹脂組成物等の光により硬化する性
質を有する樹脂（Photo Polymer、以下、２Ｐ樹脂とい
う。）からなる案内溝及び／又は信号ピット等の凹凸パ
ターンを有する層（以下、２Ｐ層という。）、（２）光
磁気型、相変化型、或いは追記型等の記録層、（３）保
護層を順次積層した光ディスクに関し、更に詳しくは、
特定の組成を有する保護層形成材料に関する。

【０００２】

【従来の技術】光ディスクには、大きくわけて、再生専
用型、追記型、書換え可能型の３種類が知られており、
再生専用型及び追記型光ディスクは、既に様々な分野で
利用されている。書換え可能型光ディスクの開発も急速
に進展しており、とりわけ光磁気ディスクは、ＩＳＯに
より国際規格が定められた１３０mmサイズ品、９０mmサ
イズ品が、本格的に実用化されるようになってきた。こ
れらの光ディスク用の基板材料には、ポリメチルメタク
リレート、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂、エポキ
シ樹脂等の熱硬化性樹脂、或いはガラスが一般に用いら
れている。また、特に光磁気ディスク用基板材料とし
て、低複屈折、低吸水率といった特徴を有する新規なポ
リオレフィン系の樹脂についても、盛んに研究が行われ
ている。

【０００３】さて、多種多様かつ莫大な情報の伝達、加
工、蓄積が必要な昨今、記録媒体である光ディスクに求
められる性能は、大容量化、データ転送の高速化、高信
頼性であり、現在の光ディスクの研究の中心は、これら
の点に集中して行われている。

【０００４】これらの高度な性能を実現するためには、
基板材料の果たす役割は非常に重要であり、その意味で
ガラス基板に大きな期待が寄せられている。

【０００５】例えば、大容量化は、基板の口径を大きく
することによって実現できるが、現在、最も多く用いら
れているポリカーボネート基板では口径３００mm程度に
なると、ディスク回転時に面振れ等の機械特性が悪化し
てしまい高速回転（３６００ｒｐｍ以上）に対応するの
は難しい。また射出成形条件の制御が難しく、周方向の
複屈折分布が大きくなってしまう等の欠点がある。この
点、ガラスは、最も機械特性に優れた基板材料であり、
複屈折性もないため大口径化に有利である。

【０００６】また、データ転送の高速化をはかる目的
で、ディスク回転速度を大きくする研究が行われてお
り、最近では５０００ｒｐｍ以上の高速記録も実施され
ている。この点においても、他のプラスチック製基板と
比較してガラス基板は動的機械特性が格段に優れてお
り、高回転速度記録にもガラス基板が最適と言える。

【０００７】さらに、高温高湿度下における安定性に優
れており、ガラス基板は最も信頼性の高い基板材料でも
ある。

【０００８】光ディスク用基板には、一般にレーザービ
ームのガイド用の案内溝及び／又はプリフォーマット信
号ピット等の凹凸パターンが、予め形成されているが、
ガラス基板の場合、紫外線硬化型樹脂組成物（２Ｐ樹
脂）を用いて凹凸パターンを形成する２Ｐ法が知られて
いる。２Ｐ法は、以下のプロセスにより基板上に凹凸パ
ターンを有する２Ｐ層を形成する方法である。

【０００９】即ち、レーザービームをガイドする為の案
内溝或いはプリフォーマット信号ピット等の凹凸パター
ンが形成されたスタンパー（電鋳法により原盤から転写
されてできた成形用金型）上に、液状の２Ｐ樹脂を塗布
し、ガラス基板を配置し、加圧して未硬化の２Ｐ樹脂を
押し広げ、ガラス基板側から紫外光を照射して２Ｐ樹脂
を硬化させた後、スタンパーから剥離することにより、
所望の凹凸パターンを有する２Ｐ層を形成する。

【００１０】一般に光ディスクは、基板の案内溝及び／
又はプリフォーマット信号ピット等の凹凸パターン形成
面上に、追記型或いは書換え可能型の記録層が形成さ
れ、さらに記録層上に、記録層の腐食或いは傷つき防止
等の目的で保護層が形成されている。この保護層の役割
は高信頼性が要求される光ディスクにとって極めて重要
であり、以下のような性能を満足することが必要であ
る。

【００１１】即ち、記録層全面にわたって均一に塗布可
能なこと、記録層及び基板との接着性に優れること、傷
つき防止のために高硬度であること、記録層の腐食防止
のために耐湿熱性に優れること等の諸性能を兼備するこ
とが必要であることから、従来より様々な保護層形成材
料が検討された結果、ある特定の組成を有する紫外線硬
化型樹脂組成物からなる保護層形成材料が実用化されて
いる。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来よ
り用いられている紫外線硬化型樹脂組成物からなる保護
層形成材料を、光ディスク用ガラス２Ｐ基板（２Ｐ法に
より製造された光ディスク用ガラス基板）上の記録層上
に設けた場合、以下のような問題がある。即ち、基板と
のぬれ性が悪く均一に塗布できない、特にディスクの内
周部或いは外周部で２Ｐ層が露出した部分（記録層が無
い部分）では、保護層形成材料がはじかれる、硬化後の
保護層の接着力が十分でない等の不良が見られる。これ
が原因して、光ディスクの信頼性試験のために高温高湿
度下（８０℃、８５％ＲＨ）に放置すると、１００時間
程度で記録層の内外縁部からシワやクラックの発生、記
録層の腐食によるピンホールの発生といった現象を招く
ことになり、光ディスクに致命的なダメージを与えてし
まう。

【００１３】本発明が解決しようとする課題は、ガラス
２Ｐ基板上に設けられた記録層全面にわたって、高硬度
かつ耐湿熱性に優れた保護層を均一に形成することによ
り、耐湿熱性、機械特性や高速記録特性等の諸特性に優
れたガラス基板の特長を有することに加えて、高温高湿
度下においてもシワ、クラック或いは腐食等が発生する
ことのない、長期高信頼性にも優れた光ディスクを提供
することにある。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明者は、前記従来技
術の問題点を解決するために鋭意検討を重ねた結果、シ
ランカップリング剤及び紫外線硬化型樹脂を含有する保
護層形成材料を用いると、ガラス２Ｐ基板上に設けられ
た記録層全面にわたって均一な保護層を形成することが
可能であり、高温高湿度下において記録層の内外縁部か
らシワやクラックの発生、記録層の腐食によるピンホー
ルの発生が見られない長期高信頼性を有する光ディスク
を提供しうることを見いだし本発明を完成するに至っ
た。

【００１５】即ち、本発明は上記課題を解決するため
に、ガラス製基板上に、（１）紫外線硬化型樹脂組成物
から成る案内溝及び／又は信号ピットの凹凸パターン形
成層、（２）記録層、（３）保護層を順次積層した光デ
ィスクにおいて、保護層がシランカップリング剤及び紫
外線硬化型樹脂を含有する保護層形成材料から成る硬化
層であることを特徴とする光ディスクを提供する。

【００１６】以下に、本発明の構成についてより詳細に
説明する。

【００１７】本発明のガラス製基板には、化学強化した
ソーダライムガラス或いはソーダアルミノ珪酸ガラス等
のガラスが適しており、ディスク状に加工したものが用
いられる。ガラス基板は、表面に付着した有機物或いは
ほこり等を除去する目的で洗浄を行う。洗浄方法として
は、４糟以上の洗浄糟を有するの連続式の自動洗浄装置
を用いた、純水及び洗剤中でのスクラブ洗浄、超純水洗
浄等が有効である。この洗浄を施すことにより、ガラス
基板表面上の有機物及びほこり等は除去される。

【００１８】このガラス基板上に、ガラスと２Ｐ層との
接着力を向上させる目的でプライマー層を設けることが
有効である。プライマー層は、シランカップリング剤及
び希釈溶剤を含有するプライマー層形成材料を、スピン
コーター等の塗布装置を用いて塗布した後、焼付けを行
うことによって形成する。

【００１９】本発明の紫外線硬化型樹脂組成物から成る
案内溝及び／又は信号ピット等の凹凸パターン形成層
は、２Ｐ法によりプライマー層を形成したガラス基板上
に形成される。

【００２０】即ち、レーザービームをガイドする為の案
内溝或いはプリフォーマット信号ピット等の凹凸パター
ンが形成されたスタンパー（電鋳法により原盤から転写
されてできた成形用金型）上に、液状の２Ｐ樹脂を塗布
し、ガラス基板を配置し、加圧して未硬化の２Ｐ樹脂を
押し広げ、ガラス基板側から紫外光を照射して２Ｐ樹脂
を硬化させた後、スタンパーから剥離することにより、
所望の凹凸パターンを有する２Ｐ層を形成する。

【００２１】この場合の案内溝及び／又は信号ピット等
の凹凸パターン形成材料である２Ｐ樹脂としては、例え
ば、（ａ）光ラジカル重合可能なプレポリマー、モノマ
ー、及び光ラジカル重合開始剤を主成分とする光ラジカ
ル重合組成物、（ｂ）光カチオン重合可能なプレポリマ
ー、モノマー、及び光カチオン重合開始剤を主成分とす
る光カチオン重合組成物（ｃ）光ラジカル重合組成物及
び光カチオン重合組成物を混合した組成物、等の紫外光
により硬化する組成物等である。

【００２２】プレポリマーは、ポリエステル、ポリエー
テル、エポキシ、ポリカーボネート、ウレタン等の骨格
に、官能基としてアクリロイル基、メタクリロイル基を
２つ以上付加したウレタンアクリレート、エポキシアク
リレート、ポリカーボネート等が用いられる。それぞれ
の化学構造及び分子量によって、２Ｐ樹脂のスタンパ上
での広がり易さ或いは硬化物のスタンパからの離型性と
いった成形性、硬化物の硬度、柔軟性、接着性、耐熱
性、耐湿性といった光ディスク用基板としての特性に、
重大な影響を及ぼす成分である。

【００２３】モノマーは、低分子量で１〜３官能モノマ
ーが用いられる場合が多い。官能基は、アクリロイル
基、メタクリロイル基が多いが、スチレン、Ｎ−ビニル
ピロリドン等のビニル基を有するものも用いられる。一
般にプレポリマーは粘度が高く、単体では２Ｐ成形を行
うのが困難なため、モノマーを反応性希釈剤として配合
し、２Ｐ樹脂の流動性を調製するのに用いる。またモノ
マーの官能基数により、硬化物の架橋密度が異なる。例
えば、３官能以上のモノマーを用いることにより、硬化
物の架橋密度が増加し、硬度、ヤング率、耐湿熱性が向
上する。反面、硬化物が脆くなったり、或いは接着性、
スタンパーからの離型性等に悪影響を及ぼすこともある
ため、多官能モノマーの選定は非常に重要である。

【００２４】本発明の２Ｐ樹脂に紫外線を照射し重合反
応させる場合、適当な光重合開始剤を加えることにより
速やかに重合反応を行うことができる。この光重合開始
剤とは、紫外線或は可視光線を照射することにより、そ
の特定波長を吸収し電子的励起状態となりラジカルを発
生する化合物で、３重項状態にある光重合開始剤分子自
身が開裂してラジカルを生成する分子内結合開裂型、或
いは３重項状態にある光重合開始剤が水素供与体とコン
プレックスを作り、水素原子が光重合開始剤分子へ分子
間移動してラジカルを生成する分子間水素引き抜き型が
知られている。

【００２５】光重合開始剤の具体例としては、４−フェ
ノキシジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−ジク
ロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、２−
ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−
オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロ
キシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−ドデ
シルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン
−１−オン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、
２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、ヒ
ドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾフェノ
ン、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフ
ェノン等が挙げられるが、これらの光重合開始剤は単独
或いは２種以上を混合して用いることができる。２Ｐ樹
脂中の光重合開始剤の配合比は、２〜１０重量％が好ま
しい。

【００２６】記録層は、通常、誘電体層、光磁気記録層
及び反射層から形成され、必要に応じて光磁気記録層と
反射層との層間に第２の誘電体層を形成しても良い。

【００２７】誘電体層には透明性の高い無機誘電体が用
いられる。その材質としては、例えば、ＳｉＮ_x、Ｓｉ
Ｏ_x、ＡｌＳｉＯＮ、ＡｌＳｉＮ、ＡｌＮ、ＡｌＴｉ
Ｎ、Ｔａ₂Ｏ₅、ＺｎＳなどが挙げられるが、中でもＳｉ
Ｎ_x が好ましい。これら誘電体層の屈折率は１．８〜
２．５の範囲が好ましい。

【００２８】誘電体層は、スパッタリング、イオンプレ
ーティングなどの物理蒸着法（ＰＶＤ）、プラズマＣＶ
Ｄなどの化学蒸着法（ＣＶＤ）などによって形成する。

【００２９】光磁気記録層を構成する材質としては、例
えば、ＴｂＦｅＣｏ、ＤｙＦｅＣｏ、ＴｂＦｅ、ＧｄＴ
ｂＦｅＣｏ、ＮｄＤｙＦｅＣｏ、ＴｂＣｏ等が挙げら
れ、これらの非晶質合金に耐酸化性の向上等の目的でそ
の他の金属を添加したものも使用できる。

【００３０】光磁気記録層を形成させる際のスパッタ条
件としては、スパッタガス圧を変化させる。この場合、
同一のターゲットを用いるが、スパッタガス圧により製
膜速度が異なるので、膜厚を制御するためには、予め製
膜速度を求めておき、各々のガス圧でのスパッタ時間を
決めておく。

【００３１】反射層の材質としては、Ａｌ、Ａｌと他の
金属との合金などが挙げられるが、Ａｌ、Ａｌ−Ｔｉ合
金、Ａｌ−Ｃｒ合金が好ましい。

【００３２】反射層は、スパッタリング、イオンプレー
ティングなどの物理蒸着法（ＰＶＤ）、プラズマＣＶＤ
などの化学蒸着法（ＣＶＤ）などによって形成する。

【００３３】次に本発明の保護層形成材料及び形成方法
について説明する。

【００３４】本発明の保護層形成材料中の紫外線硬化型
樹脂には、プレポリマー、単官能或いは２官能以上の多
官能アクリレートモノマーを用いる。

【００３５】プレポリマーとしては、ポリエステルアク
リレート、ポリウレタンアクリレート、エポキシアクリ
レート、ポリエーテルアクリレート、ポリカーボネート
アクリレート等を用いることができる。

【００３６】単官能アクリレートモノマーとしては、２
−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、２−ヒド
ロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、ジシク
ロペンテニルアクリレート、Ｎ−ビニル−２−ピロリド
ン、イソボルニルアクリレート、イソボルニルメタクリ
レート、イソデシルアクリレート、イソデシルメタクリ
レート、ステアリルアクリレート、イソオクチルアクリ
レート、ｎ−ラウリルアクリレート等を用いることがで
きる。

【００３７】多官能アクリレートモノマーとしては、ネ
オペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグ
リコールのプロピレンオキサイド２モル付加物のジアク
リレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ヒド
ロキシピバリン酸とネオペンチルグリコールのエステル
のジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリ
レート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、トリ
プロピレングリコールジアクリレート、ビスフェノール
Ａジメタクリレート、エチレンオキサイド変成ビスフェ
ノールＡジアクリレート、１，３−ブチレングリコール
ジメタクリレート、ジシクロペンタニルジアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレー
ト、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、グ
リセロールアクリレート、メトキシ化シクロヘキシルジ
アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタ
エリスリトールテトラメタクリレート等を用いることが
できる。

【００３８】上記の紫外線硬化型樹脂は、単独或いは２
種以上を混合して、保護層形成材料中、７０〜９６重量
％の範囲で用いるのが好ましい。

【００３９】本発明の保護層形成材料に紫外線を照射し
重合反応させる場合、適当な光重合開始剤を加えること
により速やかに重合反応を行うことができる。

【００４０】光重合開始剤の具体例としては、４−フェ
ノキシジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−ジク
ロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、２−
ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−
オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロ
キシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−ドデ
シルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン
−１−オン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、
２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、ヒ
ドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾフェノ
ン、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフ
ェノン等が挙げられるが、これらの光重合開始剤は単独
或いは２種以上を混合して用いることができる。紫外線
硬化型樹脂に対して光重合開始剤の配合比は、２〜１０
重量％が好ましい。

【００４１】本発明の構成物中の保護層形成材料は、シ
ランカップリング剤を含有する。

【００４２】シランカップリング剤としては、例えば、
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、β−
（３，４エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシ
シラン、γ−グリキシドキシプロピルメチルジエトキシ
シラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピ
ルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ
−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノ
プロピルトリエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラ
ン、ビニルトリメトキシシラン等が挙げられる。

【００４３】上記のシランカップリング剤は、単独或い
は２種以上を混合して、保護層形成材料中、２〜２０重
量％の範囲で用いるのが好ましい。

【００４４】本発明の保護層は、ディッピング法、スピ
ンコート法、ロールコーター法等の公知の手法を用いて
形成することができる。これらの保護コート法のうち、
スピンコート法は簡便かつ迅速な方法であるので特に好
ましい。この方法は、ディスペンサーを用いて基板上に
保護層形成材料を吐出し、ディスクを高速回転して遠心
力により樹脂を広げて塗布を行う。塗布された樹脂は、
その後、紫外線照射によって硬化させる。

【００４５】本発明の保護層形成材料はシランカップリ
ング剤を含有したことにより、ガラス基板上に形成され
た２Ｐ層とのぬれ性及び接着力が改善される。シランカ
ップリング剤は、本発明の保護層形成材料の紫外線硬化
型樹脂中に良好に分散した状態で存在し、スピンコート
法等によって保護層形成材料を記録層上に塗布すると、
ディスクの内周部或いは外周部で２Ｐ層が露出した部分
（記録層が無い部分）で弾かれること無く、ディスク全
面にわたって均一に塗膜を形成することができる。ガラ
ス２Ｐ基板上に設けられた記録層全面にわたって、高硬
度かつ耐湿熱性に優れた保護層を均一に形成することに
より、耐湿熱性、機械特性や高速記録特性等の諸特性に
優れたガラス基板の特長を有することに加えて、高温高
湿度下においてもシワ、クラック或いは腐食等が発生す
ることのない、長期高信頼性にも優れた光ディスクを提
供することができる。

【００４６】

【実施例】以下、実施例を用いて本発明を更に詳細に説
明する。

【００４７】（実施例１）ディスク形状のソーダライム
ガラス（外径１３０mm、内径１５mm、板厚１．１mm）上
に、スピンコーターを用いて下記のスピンコート条件で
プライマー層を形成した。プライマー層を形成するプラ
イマー塗料は、下記の配合のものを調製した。

【００４８】 （プライマー塗料の配合） （１）γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン「Ａ−１７４」 日本ユニカー（株）製 １５重量％ （２）エタノール ８５重量％

【００４９】（スピンコート条件） 低速回転 ： ６０ｒｐｍ、１８秒 （内、プライマー塗出時間 ： １２秒） 高速回転 ： ３０００ｒｐｍ、３０秒

【００５０】上記条件にて、プライマーの塗布及び溶媒
乾燥を行った後、紫外線を３０ｍＷ／cm²で２０秒間照
射して、 プライマーを硬化させた。続いてクリンオー
ブン内で、１００℃、１時間の焼付け処理をした。

【００５１】上記のプライマー処理したガラス平板をを
用いて、自動２Ｐ成形機（大日本インキ化学工業（株）
製）により、光ディスク用ガラス基板を成形した。

【００５２】自動２Ｐ成形機には、ＩＳＯ標準フォーマ
ットの入った５．２５インチのスタンパを装着し、温
度、圧力制御されたディスペンサーにより、２Ｐ樹脂
（紫外線硬化型樹脂組成物、大日本インキ化学工業
（株）製「ＳＴＭ−４０２」）をスタンパ上に適量塗布
した後、プライマー処理したガラスを乗せて加圧し、窒
素雰囲気下で紫外線照射後、ＩＳＯ標準フォーマット信
号が転写された、２Ｐ樹脂の硬化層（２Ｐ層）が形成さ
れたガラス２Ｐ基板を、スタンパーから離型する。以上
のプロセスは、総て超高精度に制御されたロボットを用
いて自動的に行われる。

【００５３】次に、インターバック式スパッタ装置を用
いて、２Ｐ成形したガラス基板上に光磁気記録膜層を製
膜した。記録膜層は、基板側から、ＳｉＮ／ＴｂＦｅＣ
ｏ／ＳｉＮ／Ａｌの４層構造とした。

【００５４】次に記録層上に、保護層を形成した。

【００５５】 （保護層形成材料配合） （１）ウレタンアクリレート「ＵＶ−７５００Ｂ」 日本合成化学工業（株）製 ３０重量％ （２）トリメチロールプロパントリアクリレート「Ｍ−３０９」 東亜合成化学工業（株）製 ２０重量％ （３）Ｎ−ビニル−２−ピロリドン「Ｍ−１５０」 東亜合成化学工業（株）製 ３５重量％ （４）γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン「Ａ−１７４」 日本ユニカー（株）製 １０重量％ （５）１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン 「イルガキュア−１８４」チバガイギー社製 ５重量％

【００５６】上記配合の保護層形成材料を、スピンコー
ターを用いて記録層上に塗布した。スピンコートは以下
の条件で行った。

【００５７】（スピンコート条件） 低速回転 ： ６０ｒｐｍ、２５秒 （内、保護層形成材料塗出時間 ： １５秒） 高速回転 ： ３０００ｒｐｍ、４５秒

【００５８】上記条件にて、保護層形成材料の塗布を行
った後、紫外線を３０ｍＷ／cm² で３０秒間照射して、
保護層形成材料を硬化させた。続いてクリンオーブン内
で、１００℃、１時間の焼付け処理をした。

【００５９】この光磁気ディスクについて、耐湿熱性試
験（80℃、85％ＲＨ、2000時間）を行ったが、保護層及
び記録膜にクラック、しわ、浮き、ピンホール発生等の
変化は無かった。さらに、バイトエラーレートの測定を
行ったが、１．２×１０^-6と良好な値であった。

【００６０】（実施例２）実施例１と同様の方法で、プ
ライマー処理、２Ｐ成形及び光磁気記録膜製膜を行っ
た。この記録層上に、下記配合の保護層形成材料を用い
て、実施例１と同様にして保護層を形成した。

【００６１】 （保護層形成材料配合） （１）２．２−ビス〔４−（メタクリロキシ、ポリエトキシ）フェニル〕プ ロパン 「ＮＫエステルＢＰＥ−５００」 新中村化学工業（株）製 ２０重量％ （２）ネオペンチルグリコールジアクリレート ２０重量％ （３）２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート 「Ｍ−５７００」東亜合成化学工業（株）製 １０重量％ （４）Ｎ−ビニル−２−ピロリドン「Ｍ−１５０」 東亜合成化学工業（株）製 ３５重量％ （５）γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン「Ａ−１７４」 日本ユニカー（株）製 １０重量％ （６）１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン 「イルガキュア−１８４」チバガイギー社製 ５重量％

【００６２】この光磁気ディスクについて、耐湿熱性試
験（80℃、85％ＲＨ、2000時間）を行ったが、保護層及
び記録膜にクラック、しわ、浮き、ピンホール発生等の
変化は無かった。さらに、バイトエラーレートの測定を
行ったが、１．８×１０^-6と良好な値であった。

【００６３】（比較例１）実施例１と同様の方法で、プ
ライマー処理、２Ｐ成形及び光磁気記録膜製膜を行っ
た。この記録層上に、下記配合の保護層形成材料を用い
て、実施例１と同様にして保護層を形成した。

【００６４】 （保護層形成材料配合） （１）ウレタンアクリレート「ＵＶ−７５００Ｂ」 日本合成化学工業（株）製 ３０重量％ （２）トリメチロールプロパントリアクリレート「Ｍ−３０９」 東亜合成化学工業（株）製 ２５重量％ （３）Ｎ−ビニル−２−ピロリドン「Ｍ−１５０」 東亜合成化学工業（株）製 ４０重量％ （４）１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン 「イルガキュア−１８４」チバガイギー社製 ５重量％

【００６５】この場合、保護層形成材料と２Ｐ層とのぬ
れ性が悪いために、スピンコート条件を調整し検討した
が、特にディスクの内周部或いは外周部で２Ｐ層が露出
した部分（記録層が無い部分）で、保護層形成材料がは
じかれてしまい、均一な保護層を設けることはできなか
った。

【００６６】この光磁気ディスクについて、耐湿熱性試
験（80℃、85％ＲＨ）を行ったところ、１００時間で記
録層の内外縁部で保護層の浮き（保護層と記録層或いは
保護層と２Ｐ層との間に生じる空気層）が発生した。ま
た１０００時間経過時では、記録層の内外縁部にクラッ
ク、しわ、及び腐食によるピンホール発生が見られた。
１０００時間経過時での、バイトエラーレートは、５×
１０^-4以上で実用不可能になった。

【００６７】（比較例２）実施例１と同様の方法で、プ
ライマー処理、２Ｐ成形及び光磁気記録膜製膜を行っ
た。この記録層上に、下記配合の保護層形成材料を用い
て、実施例１と同様にして保護層を形成した。

【００６８】 （保護層形成材料配合） （１）２．２−ビス〔４−（メタクリロキシ、ポリエトキシ）フェニル〕プ ロパン 「ＮＫエステルＢＰＥ−５００」 新中村化学工業（株）製 ２５重量％ （２）ネオペンチルグリコールジアクリレート ２５重量％ （３）２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート 「Ｍ−５７００」東亜合成化学工業（株）製 １０重量％ （４）Ｎ−ビニル−２−ピロリドン「Ｍ−１５０」 東亜合成化学工業（株）製 ３５重量％ （５）１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン 「イルガキュア−１８４」チバガイギー社製 ５重量％

【００６９】この場合も、保護層形成材料と２Ｐ層との
ぬれ性が悪いために、スピンコート条件を調整し検討し
たが、特にディスクの内周部或いは外周部で２Ｐ層が露
出した部分（記録層が無い部分）で、保護層形成材料が
はじかれてしまい、均一な保護層を設けることはできな
かった。

【００７０】この光磁気ディスクについて、耐湿熱性試
験（80℃、85％ＲＨ）を行ったところ、１００時間で全
面にわたって保護層の浮きが発生した。また１０００時
間経過時では、記録層の内外縁部にクラック、しわ、及
び腐食によるピンホール発生が見られた。１０００時間
経過時での、バイトエラーレートは、５×１０^-4以上で
実用不可能になった。

【００７１】

【発明の効果】本発明によれば、ガラス２Ｐ基板上に設
けられた記録層全面にわたって、保護層を均一に形成す
ることにより、耐湿熱性、機械特性や高速記録特性等の
諸特性に優れたガラス基板の特長を有することに加え
て、高温高湿度下においてもシワ、クラック或いは腐食
等が発生することのない、長期高信頼性にも優れた光デ
ィスクを提供することができる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ガラス製基板上に、（１）紫外線硬化型
   樹脂組成物から成る案内溝及び／又は信号ピットの凹凸
   パターン形成層、（２）記録層、（３）保護層を順次積
   層した光ディスクにおいて、保護層がシランカップリン
   グ剤及び紫外線硬化型樹脂を含有する保護層形成材料か
   ら成る硬化層であることを特徴とする光ディスク。