JPH0645762A - 多層セラミック基板とその製造方法 - Google Patents

多層セラミック基板とその製造方法

Info

Publication number
JPH0645762A
JPH0645762A JP4198126A JP19812692A JPH0645762A JP H0645762 A JPH0645762 A JP H0645762A JP 4198126 A JP4198126 A JP 4198126A JP 19812692 A JP19812692 A JP 19812692A JP H0645762 A JPH0645762 A JP H0645762A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
green sheet
electrode pattern
multilayer ceramic
ceramic substrate
sheet
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4198126A
Other languages
English (en)
Inventor
Takahiko Iwaki
隆彦 岩城
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP4198126A priority Critical patent/JPH0645762A/ja
Publication of JPH0645762A publication Critical patent/JPH0645762A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 半導体LSI、チップ部品などを搭載し、か
つそれらを相互配線するための多層セラミック配線基板
のグリーンシートの穴あけ工程と、バイアホールへの導
電ペースト充填とをなくし、プロセスの簡略化とコスト
の低減を図ることを目的とする。 【構成】 グリーンシート1にはとめ状金属構造体3を
所定の位置に圧入し、その上に導電ペーストで電極パタ
ーン4を印刷する。この印刷されたグリーンシートと別
の電極パターンを印刷したグリーンシートを所望枚数積
層し、焼成して多層セラミック基板ができる。この構成
によれば多層セラミック基板のプロセスの簡略化と、コ
ストの低減を図ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体LSI、チップ
部品などを搭載し、かつそれらを相互配線するための多
層セラミック配線基板とその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、セラミック基板は、熱伝導性や耐
熱性、化学的耐久性が有機材料基板より優れているの
で、有機材料基板に代わるものとして利用が拡大してい
る。また電子機器の小型化、多様化に伴い、高密度配
線、高密度実装が可能な基板として広く利用されるよう
になってきた。さらに今後は半導体ベアチップ実装基板
として需要は高まると予想され、微細な配線が容易で、
信頼性の高いセラミック基板の製造方法が必要になると
考えられる。
【0003】以下、従来のセラミック回路基板の一例に
ついて図6を参照しながら説明する。図6に示すよう
に、従来のセラミック基板は、アルミナなどからなるセ
ラミック基板上に銀粉や銅粉を主成分とし、これに硼珪
酸ガラスまたは硼珪酸ガラスと熱可塑性樹脂などを添加
してなる導電ペーストを印刷して導体層を形成する。導
体層は、グリーンシート9にバイアホール(以下穴と記
す)10をあけて、その中に導電ペーストを充填し、さ
らに導電ペーストで電極パターン11を形成する。さら
に、このグリーンシート9と別の導体層を形成したグリ
ーンシートを所望枚数積層する。このように構成された
セラミック基板を焼成することによってセラミック回路
基板が完成される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このグリーン
シート9に穴10をあけて、その中に導電ペーストを充
填するということは工程が多くなり、多層になると層数
分だけ工程数が増えることになる。またグリーンシート
9に穴10をあける条件、導電ペーストの充填条件など
の工程管理条件が多く、基板の品質を悪くするもととな
っている。
【0005】本発明は上記課題を解決するもので、プロ
セスを簡略化し、コスト削減に寄与するセラミック基板
およびその製造方法を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために、ガラス・セラミック低温焼結基板材料に少
なくとも有機バインダー、可塑剤を含むグリーンシート
を作製し、そのグリーンシートに金属でできた微小なは
とめ状構造体を圧入する。または、グリーンシート作製
時に所望の位置に金属でできた構造体を固定し、そこに
グリーンシート構成材料を流し込んで構造体を含んだグ
リーンシートを作製する。その後、前記グリーンシート
に導電ペーストで電極パターンを印刷する。これを所望
枚数分だけ繰り返し積層する。つぎに前記積層体を焼成
することによりセラミック基板を作製するものである。
【0007】
【作用】本発明は上記のように、金属製のはとめ状構造
体を含んだグリーンシートを作製するため、グリーンシ
ートの穴あけと導電ペーストの充填を省略できることと
なる。
【0008】
【実施例】(実施例1)以下、本発明の第1の実施例に
ついて図1〜図3を参照しながら説明する。グリーンシ
ート1を作製するために、硼珪酸鉛ガラス粉末にセラミ
ック材料としてのアルミナ粉末を重量比で50対50と
した組成物(日本電気硝子社製MLS−19)を用い
た。このガラス・セラミック粉を無機成分とし、有機バ
インダーとしてポリビニルブチラール、可塑剤としてジ
−n−ブチルフタレート、溶剤としてトルエンとイソプ
ロピルアルコールの混合液(重量比30対70)を混合
しスラリーとした。このスラリーをドクターブレード法
で有機フィルム上にシート形成した。
【0009】次にシートをフィルムからはがしてフレー
ム2に固定し、図2のような形状の主成分は銅で表面に
金めっきを行ったはとめ状構造体3をシートの所望の位
置に圧入した。表面を金めっきしたのは、脱バインダー
時の酸化を防ぐためである。本実施例では銅を主成分と
したが、他の金属たとえば銀やタングステンなどでもよ
い。
【0010】次に酸化第一銅粉末(平均粒径3μm)に
接着強度を得るためのガラスフリット(日本電気硝子社
製 LS−0803ガラス粉末、平均粒径2.5μm)
を3wt%加えたものを無機成分とし、有機バインダー
であるエチルセルロースをターピネオールに溶かしたビ
ヒクルとともに加えて、3段ロールにより適度な粘度に
なるように混合した導電ペーストを用いてスクリーン印
刷法により電極パターン4を形成した。前記グリーンシ
ート1の厚みは約250μmである。
【0011】さらに図3に示すようにグリーンシート1
に印刷を行ったものを所定の枚数積み重ね、熱圧着して
積層体を形成した。熱圧着条件は、温度が80℃、圧力
は200kg/cm2である。つぎに脱バインダー工程、還
元工程、焼成工程を経て、表面層に銅ペーストを用いて
印刷、焼成を行いセラミック多層基板を得ることができ
た。なお本実施例においては、導電ペーストに酸化第一
銅ペーストを用いて説明したが、他の導電ペーストたと
えば銀ペーストや銅ペーストを用いてもよい。その場
合、積層後の工程は、脱バインダー工程、焼成工程、表
面導体印刷、焼成工程になる。
【0012】(実施例2)次に、本発明の第2の実施例
について図4および図5を参照しながら説明する。
【0013】図4に示すように、深さが一定の型5に図
5に示す実施例1と同様な組成の金属構造体8を所望の
位置の突起部6に固定し、そこにスリラー注入口7から
実施例1と同様な組成のグリーンシート用スラリーを流
し込み、溶剤成分を乾燥させて型から引きはがしグリー
ンシートとした。以下の手順は実施例1と同様に行っ
た。
【0014】
【発明の効果】以上の実施例の説明から明らかなように
本発明は、グリーンシートの穴あけとその穴への導電ペ
ーストの充填を一度に行ったようにできる。そのうえに
穴があいたかの管理やペーストの充填具合いなどの品質
を落とす要因が少なく、またバイアホールに導電ペース
トを使用しないので脱バインダー、還元などの工程で生
ずるペーストの導通不良が発生しない。したがってプロ
セスの簡略化、信頼性の向上およびコスト削減に寄与で
きる多層セラミック基板およびその製造方法を提供でき
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例のセラミック基板のグリ
ーンシートの断面図
【図2】同はとめ状構造体の斜視図
【図3】同多層セラミック基板の積層体の断面図
【図4】本発明の第2の実施例のセラミック基板のグリ
ーンシート形成用型の断面図
【図5】同金属構造体の斜視図
【図6】従来例の多層セラミック基板の断面図
【符号の説明】
1 グリーンシート 3 はとめ状構造体 4 電極パターン

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ガラス・セラミック低温焼結基板材料に少
    なくとも有機バインダ、可塑剤を含むグリーンシートを
    作製し、そのグリーンシートに金属でできた微小なはと
    め状構造体を圧入し、さらに前記シート上に導体ペース
    ト組成物で電極パターンを形成し、前記グリーンシート
    と別の電極パターン形成済みグリーンシートとを所望枚
    数積層し、前記積層体を焼成してなる多層セラミック基
    板。
  2. 【請求項2】ガラス・セラミック低温焼結基板材料に少
    なくとも有機バインダ、可塑剤を含むグリーンシートを
    作製し、そのグリーンシートに金属でできた微小なはと
    め状構造体を圧入し、さらに前記シート上に導体ペース
    ト組成物で電極パターンを形成し、前記グリーンシート
    と別の電極パターン形成済みグリーンシートとを所望枚
    数積層し、前記積層体を焼成する多層セラミック基板の
    製造方法。
  3. 【請求項3】一定の深さの型にあらかじめ所望の位置に
    はとめ状構造体を固定し、そこにグリーンシート組成物
    を流し込んで、前記構造体を含んだグリーンシートを作
    製し、さらに前記シート上に導体ペースト組成物で電極
    パターンを形成し、前記グリーンシートと別の電極パタ
    ーン形成済みグリーンシートとを所望枚数積層し、前記
    積層体を焼成してなる多層セラミック基板。
  4. 【請求項4】一定の深さの型にあらかじめ所望の位置に
    はとめ状構造体を固定し、そこにグリーンシート組成物
    を流し込んで、前記構造体を含んだグリーンシートを作
    製し、さらに前記シート上に導体ペースト組成物で電極
    パターンを形成し、前記グリーンシートと別の電極パタ
    ーン形成済みグリーンシートとを所望枚数積層し、前記
    積層体を焼成する多層セラミック基板の製造方法。
JP4198126A 1992-07-24 1992-07-24 多層セラミック基板とその製造方法 Pending JPH0645762A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4198126A JPH0645762A (ja) 1992-07-24 1992-07-24 多層セラミック基板とその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4198126A JPH0645762A (ja) 1992-07-24 1992-07-24 多層セラミック基板とその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0645762A true JPH0645762A (ja) 1994-02-18

Family

ID=16385887

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4198126A Pending JPH0645762A (ja) 1992-07-24 1992-07-24 多層セラミック基板とその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0645762A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100692061B1 (ko) * 2004-12-24 2007-03-12 엘지전자 주식회사 플라즈마 표시 패널의 적층 세라믹 기판 제조방법

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100692061B1 (ko) * 2004-12-24 2007-03-12 엘지전자 주식회사 플라즈마 표시 패널의 적층 세라믹 기판 제조방법

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3669255B2 (ja) セラミック多層基板の製造方法および未焼成セラミック積層体
JP2785544B2 (ja) 多層セラミック基板の製造方法
JP2001060767A (ja) セラミック基板の製造方法および未焼成セラミック基板
EP2129201B1 (en) Multilayer wiring substrate
JP2006060147A (ja) セラミック電子部品及びコンデンサ
EP0535711A2 (en) Method for producing multilayered ceramic substrate
US7009114B2 (en) Wiring substrate, method of producing the same, and electronic device using the same
JP3003413B2 (ja) 多層セラミック基板の製造方法
JP3351043B2 (ja) 多層セラミック基板の製造方法
JPH06237081A (ja) 多層セラミック基板の製造方法
JP2003031948A (ja) セラミック多層基板の製造方法
JP2803414B2 (ja) 多層セラミック基板の製造方法
JP3948411B2 (ja) 多層セラミック基板およびその製造方法
JP2005268672A (ja) 基板
JP3994795B2 (ja) 積層型セラミック電子部品およびその製造方法
JPH0645762A (ja) 多層セラミック基板とその製造方法
JP4826253B2 (ja) セラミック多層基板の製造方法およびセラミック多層基板
JP4900227B2 (ja) 多層セラミック基板の製造方法及び多層セラミック基板、これを用いた電子部品
JPH05327220A (ja) 多層セラミック基板の製造方法
JPH05167253A (ja) 多層セラミック基板の製造方法
JP2000323806A (ja) バンプ付セラミック回路基板及びその製造方法
JPH06326470A (ja) 多層セラミック基板の製造方法
JPS63239999A (ja) セラミツク多層積層体の製造方法
JP2812605B2 (ja) 多層セラミック基板の製造方法
JP3898653B2 (ja) ガラスセラミック多層配線基板の製造方法