JPH0646541B2

JPH0646541B2 - 陰極線管螢光面の製造方法

Info

Publication number: JPH0646541B2
Application number: JP21579585A
Authority: JP
Inventors: 博加藤; 玲子斎藤
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1985-09-28
Filing date: 1985-09-28
Publication date: 1994-06-15
Anticipated expiration: 2009-06-15
Also published as: JPS6276131A

Description

【発明の詳細な説明】本発明を以下の順序で説明する。

Ａ産業上の利用分野Ｂ発明の概要Ｃ従来の技術Ｄ発明が解決しようとする問題点Ｅ問題点を解決するための手段Ｆ作用Ｇ実施例Ｇ−１反射形のビームインデックス方式カラー陰極線
管装置における螢光面の製造に適用された例（第１図Ａ
〜Ｈ）Ｇ−２他の適用例及び変形例Ｈ発明の効果Ａ産業上の利用分野本発明は、陰極線管のスクリーンパネル部の内面側に金
属薄膜を伴って配される螢光面の製造方法に関する。

Ｂ発明の概要本発明は、陰極線管を構成するスクリーンパネル部の内
面側に金属薄膜を伴うものとされて配される螢光面の製
造方法において、金属薄膜に酸化剤を用いて表面処理を
施した後、金属薄膜上にフォトレジストを含む螢光体ス
ラリーを塗布して螢光体層を形成し、その螢光体層に所
定のフォトマスクを介して露光及び現像処理を施して、
表面処理が施された金属薄膜上に所定の螢光体配置パタ
ーンを形成するようになすことにより、螢光体層に対す
る露光後の現像処理工程において、所定の螢光体配置パ
ターンを形成するもの以外の不所望な螢光体を金属薄膜
上から充分に除去することができるようにしたものであ
る。

Ｃ従来の技術比較的小形のカラーテレビジョン受像機等を構成するこ
とができるものとなる偏平型とされたビームインデック
ス方式カラー陰極線管装置において、フロントパネル部
とそれに対向するスクリーンパネル部とが設けられ、ス
クリーンパネル部の内面側に、複数のインデックス螢光
体ストライプと複数の３原色カラー螢光体ストライプと
を含む螢光面部が形成され、フロントパネル部を通して
カラー画像が観視されるとともに、スクリーンパネル部
の外面側に螢光面部に対応して配された受光部により各
インデックス螢光体ストライプからの光、即ち、インデ
ックス光が受けられるようになされた、所謂、反射形と
称されるものが知られている。

斯かる偏平型とされた反射形のビームインデックス方式
カラー陰極線管装置は、例えば、第２図及び第３図に示
される如く、フロントパネル部１１と、フロントパネル
部１１に対向するスクリーンパネル部１３と、これらフ
ロントパネル部１１及びスクリーンパネル部１３に絞り
部１５を介して連結されたネック部１７とを有して偏平
に形成された管体１９を備えるものとされる。そして、
フロントパネル部１１が色光を透過させるものとされ、
スクリーンパネル部１３の内面側には、複数のインデッ
クス螢光体ストライプと複数の３原色カラー螢光体スト
ライプとを含むものとされた螢光面２１が配される。ま
た、ネック部１７には電子銃構体２３が内蔵され、この
電子銃構体２３からの電子ビームによって、螢光面２１
がフロントパネル部１１側から走査される。

管体１９を構成するスクリーンパネル部１３の外面側に
は、スクリーンパネル部１３の内面側に配された螢光面
２１に対応して受光板２５が配されており、その一端面
部に、フォトダイオード等の光検出素子を内蔵するイン
デックス光検出部２７が取り付けられている。受光板２
５は、螢光面２１における各インデックス螢光体ストラ
イプからの光、即ち、インデックス光をスクリーンパネ
ル部１３を通して受け、受けたインデックス光に応じ
て、インデックス光検出部２７におけるフォトダイオー
ド等の光検出素子にとって好都合な２次インデックス光
を発し、それをインデックス光検出部２７のフォトダイ
オード等の光検出素子に導く。そして、インデックス光
検出部２７から、フォトダイオード等の光検出素子に導
かれる受光板２５からの２次インデックス光に基づい
て、螢光面２１を走査する電子銃構体２３からの電子ビ
ームをカラー映像信号によりその螢光面２１上での走査
位置に応じて適正に変調する制御を行うためのインデッ
クス信号が得られる。

スクリーンパネル部１３の内面側に配される螢光面２１
は、例えば、第４図に示される如く、スクリーンパネル
部１３の内面上に複数のインデックス螢光体ストライプ
２９が所定の間隔をおいて配列されるとともに、各イン
デックス螢光体ストライプ２９の間におけるスクリーン
パネル部１３の内面上に、多孔質の無機物質層３１が配
され、これらインデックス螢光体ストライプ２９の夫々
及び無機物質層３１の夫々の表面を覆う金属薄膜３３が
設けられ、さらに、金属薄膜３３上に３原色カラー螢光
体ストライプを構成する緑色螢光体ストライプ３５Ｇ，
赤色螢光体ストライプ３５Ｒ及び青色螢光体ストライプ
３５Ｂが、所定の配列パターンをもって配されるものと
される。各インデックス螢光体ストライプ２９は、例え
ば、電子ビームにより励起されて紫外線領域に亙る光を
発する短残光性の螢光物質（Ｙ_２ＳｉＯ_５：Ｃｅ）で形
成され、斯かるインデックス螢光体ストライプ２９の隣
合う２本の間となる位置に、緑色螢光体ストライプ３５
Ｇ，赤色螢光体ストライプ３５Ｒ及び青色螢光体ストラ
イプ３５Ｂからなる３原色螢光体ストライプが２本ずつ
配されている。

多孔質の無機物質層３１の夫々は、例えば、インデック
ス螢光体ストライプ２９を形成する螢光物質の粒子径と
略同程度の粒子径を有するものとされた酸化アルミニウ
ムで形成され、その層厚が、その表面と各インデックス
螢光体ストライプ２９の表面とが略平坦な面を形成する
ようにされている。また、金属薄膜３３は、例えば、ア
ルミニウム膜とされ、電子銃構体２３からの電子ビーム
の３原色螢光体ストライプ側からインデックス螢光体ス
トライプ２９側への透過率が適正なものとなるように設
定される。この金属薄膜３３の存在により、各インデッ
クス螢光体ストライプ２９が発する光が、直接及び金属
薄膜のスクリーンパネル部１３側の面で反射されてスク
リーンパネル部１３の外面側に配された受光部２５に効
率よく入射せしめられるとともに、フロントパネル部１
１側に対して充分に減衰されるものとされ、また、緑色
螢光体ストライプ３５Ｇ，赤色螢光体ストライプ３５Ｒ
及び青色螢光体ストライプ３５Ｂの夫々が発する色光
が、直接及び金属薄膜３３のフロントパネル部１１側の
面で反射されてフロントパネル部１１側に効率よく放射
されることになる。そして、金属薄膜３３は、微細な破
口等を伴わない平坦な表面を有するものとすべく、イン
デックス螢光体ストライプ２９及び無機物質層３１上に
形成された樹脂材料からなる中間膜上に、例えば、真空
蒸着により形成されるものとされ、斯かる中間膜は螢光
面２１の形成後に行われるスクリーンパネル部１３の加
熱処理時の蒸発せしめられるが、無機物質層３１は中間
膜が蒸発せしめられて生じる蒸気の逃場を提供する役目
を果たす。

斯かる螢光面２１は、次の如くにして製造される。

即ち、先ず、スクリーンパネル部１３上に、フォトレジ
スト（例えば、重クロム酸アンモニウム〔（ＮＨ₄）₂Ｃ
ｒ_２Ｏ_７〕が添加されたポリビニルアルコール）と、イ
ンデックス螢光体ストライプ２９を形成する蛍光物質の
粒子径と略同程度の粒子径を有するものとされた酸化ア
ルミニウムとを含むものとされたスラリーが塗布され、
それがインデックス螢光体ストライプ２９が形成される
べき位置に対応する部分を覆うフォトマスクが用いられ
て露光され、その後現像され、乾燥されて、スクリーン
パネル部１３の内面上に複数の酸化アルミニウムの層、
即ち、無機物質層３１が形成される。次に、無機物質層
３１の表面及び各無機物質層３１の間におけるスクリー
ンパネル部１３の内面上にフォトレジストを含むインデ
ックス螢光体スラリーが塗布され、それがスクリーンパ
ネル部１３の外面側から各無機物質層３１をフォトマス
クとして露光され、その後現像され、乾燥されて、各無
機物質層３１の間におけるスクリーンパネル部１３の内
面上に複数のインデックス螢光体ストライプ２９が固着
される。その後、複数の無機物質層３１及び複数のイン
デックス螢光体ストライプ２９が形成する全体として略
平坦な表面の全面が、例えば、アクリル系樹脂等の有機
物質からなる中間膜３７（第５図Ａ〜Ｃに示される）で
覆われ、その中間膜３７上に、アルミニウムが真空蒸着
されて平坦な面を有する金属薄膜３３が形成される。

そして、第５図Ａに示される如く、金属薄膜３３上にフ
ォトレジストを含むものとされた緑色螢光体スラリーが
直接塗布されて、緑色螢光体層ＧＬが形成される。次
に、第５図Ｂに示される如く、緑色螢光体層ＧＬに対す
る緑色螢光体用フォトマスク３９を介しての露光が行わ
れ、緑色螢光体層ＧＬにおける緑色螢光体用フォトマス
ク３９の開口部３９ａに対応する部分が所定の光の照射
を受けて不溶性硬化部とされる。その後、露光がなされ
た緑色螢光体層ＧＬに対する現像処理が施され、緑色螢
光体層ＧＬの不溶性硬化部とされた部分以外の部分が溶
解除去されて、第５図Ｃに示される如く、金属薄膜３３
上に緑色螢光体用フォトマスク３９の開口部３９ａに応
じて配列された複数の緑色螢光体ストライプ３５Ｇが固
着される。

続いて、緑色螢光体ストライプ３５Ｇが配された金属薄
膜３３上にフォトレジストを含むものとされた赤色螢光
体スラリーが塗布されて、赤色螢光体層が形成され、緑
色螢光体層ＧＬの場合と同様にして、赤色螢光体層に対
する赤色螢光体用フォトマスクを介しての露光が行わ
れ、現像処理が施されて、金属薄膜３３上の各緑色螢光
体ストライプ３５Ｇ間の位置に複数の赤色螢光体ストラ
イプ３５Ｒが固着される。さらに、緑色螢光体ストライ
プ３５Ｇと赤色螢光体ストライプ３５Ｒが配された金属
薄膜３３上にフォトレジストを含むものとされた青色螢
光体スラリーが塗布されて、青螢光体層が形成され、斯
かる青色螢光体層に対する青色螢光体用フォトマスクを
介して露光が行われ、現像処理が施されて、金属薄膜３
３上の赤色螢光体ストライプ３５Ｒと緑色螢光体ストラ
イプ３５Ｇとの間の位置に、複数の青色螢光体ストライ
プ３５Ｂが固着される。

このようにして、インデックス螢光体ストライプ２９
と、緑色螢光体ストライプ３５Ｇ，赤色螢光体ストライ
プ３５Ｒ及び青色螢光体ストライプ３５Ｂとを有し、金
属薄膜３３を伴う螢光面２１が形成されるが、上述の中
間膜３７は、その後のスクリーンパネル部１３に対する
熱処理工程において蒸発飛散せしめられ、完成された管
体１９の螢光面２１には存在しないものとなる。

Ｄ発明が解決しようとする問題点上述の如くにして、スクリーンパネル部１３の内面側に
設けられた金属薄膜３３、例えば、アルミニウム膜の表
面上に直接緑色螢光体ストライプ３５Ｇ、赤色螢光体ス
トライプ３５Ｒ及び青色螢光体ストライプ３５Ｂが順次
形成される螢光面の製造方法が採られるもとでは、３原
色螢光体ストライプのうちの金属薄膜３３上に最初に配
される、例えば、緑色螢光体ストライプ３５Ｇの形成工
程にあって、金属薄膜３３上に複数の緑色螢光体ストラ
イプ３５Ｇを固着すべくなされる、露光がなされた緑色
螢光体層ＧＬに対する現像処理が施された後において、
第５図Ｃに示される如く、各緑色螢光体ストライプ３５
Ｇの間の金属薄膜３３上に残存緑色螢光体ＧＬ′が薄い
粗膜を形成する如くに取り残される現象が生じる。これ
は、例えば、真空蒸着により形成されたアルミニウム膜
とされる金属薄膜３３の表面は比較的活性化された状態
にあって、その上に直接設けられる緑色螢光体層ＧＬと
の結合が比較的強いものとなり、緑色螢光体層ＧＬに対
する露光後の現像処理工程において、緑色螢光体層ＧＬ
の非露光部分の金属薄膜３３の表面からの除去が充分に
行われないことに起因する。

このように金属薄膜３３上に残存緑色螢光体ＧＬ′が取
り残されると、実質的に、緑色螢光体ストライプ３５Ｇ
の配列が明確に形成されないことになる。そして、金属
薄膜３３上のその後赤色螢光体ストライプ３５Ｒあるい
は青色螢光体ストライプ３５Ｂが固着されるべき位置に
も緑色螢光体が付着していて、赤色螢光体ストライプ３
５Ｒあるいは青色螢光体ストライプ３５Ｂはその上に形
成されることになり、螢光面で発せられる色光の色純度
の低下がもたらされてしまう。

このような金属薄膜上の残存螢光体を低減させる手法と
して、金属薄膜上に設けられた螢光体層に対する露光後
の現像処理における現像時間を長くする、あるいは、現
像水圧を高める等のことが考えられるが、現像時間の長
時間化や現像水圧の増大は、金属薄膜が破壊されること
になるという不都合を伴う。

また、斯かる問題は、金属薄膜上にインデックス螢光体
ストライプが形成される場合にも発生し、金属薄膜上に
残存インデックス螢光体が取り残されると、螢光面上に
おける電子ビームの走査位置の検出が不明瞭となる、信
号対雑音比（Ｓ／Ｎ）が低下したインデックス信号しか
得られないことになる。このため、特願昭59-187367号
により、金属薄膜上にインデックス螢光体ストライプを
形成するにあたって金属薄膜上の残存インデックス螢光
体を低減させるべく、金属薄膜上に感光性樹脂層を形成
し、さらに、感光性樹脂層上にインデックス螢光体層を
形成した後、インデックス螢光体層を介して感光性樹脂
層に対する所定のマスクを用いての露光及び現像処理を
行うことによってインデックス螢光体ストライプを得る
方法が提案されている。しかしながら、斯かる方法は、
金属薄膜上に感光性樹脂層と螢光体層とを別個に設ける
ものであり、金属薄膜上にフォトレジストを含む螢光体
スラリーを塗布して螢光体層を形成し、その螢光体層に
対する所定のフォトマスクを介しての露光及びその後の
現像処理を行って螢光体ストライプを得る場合には適用
できない。

斯かる点に鑑み、本発明は、陰極線管を形成するスクリ
ーンパネルの内面側に配された螢光面に伴われる金属薄
膜上にフォトレジストを含む螢光体スラリーを塗布して
螢光体層を設け、その螢光体層に対する露光及びその後
の現像処理を行って所定の螢光体配置パターンを得るに
あたり、現像処理工程において所定の螢光体配置パター
ンを形成するもの以外の不所望な螢光体を金属薄膜上か
ら充分に除去することができるようにした、陰極線管螢
光面の製造方法を提供することを目的とする。

Ｅ問題点を解決するための手段上述の目的を達成すべく、本発明に係る陰極線管螢光面
の製造方法は、スクリーンパネル部の内面側に配された
金属薄膜に酸化剤を用いて表面処理を施し、その後、表
面処理が施された金属薄膜上にフォトレジストを含む螢
光体スラリーを塗布して螢光体層を形成し、その螢光体
層に所定のフォトマスクを介しての露光を行い、さら
に、現像処理を施して、表面処理が施された金属薄膜上
にフォトマスクに応じた螢光体配置パターンを形成する
ようになすものとされる。

Ｆ作用このような本発明に係る陰極線管螢光面の製造方法によ
れば、スクリーンパネル部の内面側に配されてその上に
螢光体配置パターンが形成される金属薄膜の表面が、酸
化剤を用いて表面処理されることにより不活性化され、
それに接して設けられる螢光体層の不溶性硬化部以外の
部分との結合が弱められるものとされる。このため、表
面処理が施された金属薄膜上にフォトレジストを含む螢
光体スラリーが塗布されて形成された螢光体層に所定の
フォトマスクを介しての露光が行われた後施される現像
処理工程において、格別の現像時間の長時間化や現像水
圧の増大が図られることなく、金属薄膜上における螢光
体層の露光工程を経て不溶性硬化部とされた部分以外の
部分が金属薄膜上から充分に除去される。

Ｇ実施例Ｇ−１反射のビームインデックス方式カラー陰極線管
装置における螢光面の製造に適用された例（第１図Ａ〜
Ｈ）以下、本発明の実施例について、第２図及び第３図に示
される如くの偏平型とされた反射形のビームインデック
ス方式カラー陰極線管装置に備えられる第４図に示され
る如くの螢光面の製造に適用された場合を挙げ、第１図
Ａ〜Ｈを参照して説明する。

本発明に係る陰極線管螢光面の製造方法の一例に従っ
て、第４図に示される如くの螢光面２１を作成するにあ
たっては、先ず、螢光面２１の製造に係る前述された方
法の場合と同様にして、陰極線管の管体１９を構成する
スクリーンパネル部１３の内面上に、複数の酸化アルミ
ニウムの層で成る無機物質層３１及び複数のインデック
ス螢光体ストライプ２９を形成し、さらに、それら無機
物質層３１及びインデックス螢光体ストライプ２９上
に、中間膜３７を介して真空蒸着により形成されたアル
ミニウム膜で成る金属薄膜３３を設ける。

そして、第１図Ａに示される如く、金属薄膜３３に対し
て酸化剤を用いての表面処理を施し、金属薄膜３３の表
面に酸化層３３Ｆを形成する。このとき、酸化剤として
は、例えば、過マンガン酸カリウム（ＫＭｎＯ_４）の0.
0001〜0.0002重量パーセント水溶液、もしくは、重クロ
ム酸アンモニウムの0.001重量パーセント水溶液が用い
られ、金属薄膜３３の表面処理に際しては、金属薄膜３
３を斯かる過マンガン酸カリウムもしくは重クロム酸ア
ンモニウムの水溶液に、例えば、約３０秒間浸漬した
後、水洗して乾燥させる。

次に、第１図Ｂに示される如く、金属薄膜３３の酸化層
３３Ｆが形成された表面上に、フォトレジスト（例え
ば、重クロム酸アンモニウムが添加されたポリビニルア
ルコール）を含むものとされた緑色螢光体スラリーを塗
布して、緑色螢光体層ＧＬを形成する。続いて、第１図
Ｃに示される如く、緑色螢光体層ＧＬに対する緑色螢光
体用フォトマスク３９を介しての露光を行ない、緑色螢
光体層ＧＬにおける緑色螢光体用フォトマスク３９の開
口部３９ａに対応する部分を不溶性硬化部とする。その
後、露光がなされた緑色螢光体層ＧＬに現像処理を施し
て緑色螢光体層ＧＬの不溶性硬化部以外の部分を溶解除
去し、第１図Ｄに示される如く、表面に酸化層３３Ｆが
形成された金属薄膜３３上に緑色螢光体用フォトマスク
３９の開口部３９ａに応じて配列された複数の緑色螢光
体ストライプ３５Ｇを得る。

このとき、金属薄膜３３の表面は、酸化層３３Ｆが形成
されて不活性化されているので、それに接して設けられ
た緑色螢光体層ＧＬの露光により不溶性硬化部とされた
部分以外の部分との結合は比較的弱く、現像処理工程に
おいて、格別の現像時間の長時間化や現像水圧の増大を
図ることなく、緑色螢光体層ＧＬの不溶性硬化部とされ
た部分以外の部分を金属薄膜３３の表面上から充分に除
去することができる。

次に、第１図Ｅに示される如く、緑色螢光体ストライプ
３５Ｇが配された金属薄膜３３上にフォトレジストを含
むものとされた赤色螢光体スラリーを塗布して赤色螢光
体層ＲＬを形成し、緑色螢光体層ＧＬの場合と同様にし
て、赤色螢光体層ＲＬに対する赤色螢光体用フォトマス
ク４１を介しての露光を行い、赤色螢光体層ＲＬにおけ
る赤色螢光体用フォトマスク４１の開口部４１ａに対応
する部分を不溶性硬化部とする。その後、露光がなされ
た赤色蛍光体層ＲＬに現像処理を施して赤色螢光体層Ｒ
Ｌの不溶性硬化部以外の部分を溶解除去し、第１図Ｆに
示される如く、表面に酸化層３３Ｆが形成された金属薄
膜３３上の各緑色螢光体ストライプ３５Ｇ間の位置に複
数の赤色螢光体ストライプ３５Ｒを得る。

この場合にも、金属薄膜３３の表面が酸化層３３Ｆを有
して不活性化されていることにより、現像処理工程にお
いて、赤色螢光体層ＲＬの不溶性硬化部以外の部分を金
属薄膜３３の表面上から充分に除去することができる。

さらに、第１図Ｇに示される如く、緑色螢光体ストライ
プ３５Ｇ及び赤色螢光体ストライプ３５Ｒが配された金
属薄膜３３上にフォトレジストを含むものとされた青色
螢光体スラリーを塗布して青色螢光体層ＢＬを形成し、
緑色螢光体層ＧＬ及び赤色螢光体層ＲＬの場合と同様に
して、青色螢光体層ＢＬに対する赤色螢光体用フォトマ
スク４３を介しての露光を行い、青色螢光体層ＢＬにお
ける青色螢光体用フォトマスク４３の開口部４３ａに対
応する部分を不溶性硬化部とする。その後、露光がなさ
れた青色螢光体層ＢＬに現像処理を施して青色螢光体層
ＢＬの不溶性硬化部以外の部分を溶解除去し、第１図Ｈ
に示される如く、表面に酸化層３３Ｆが形成された金属
薄膜３３上の赤色螢光体ストライプ３５Ｒと緑色螢光体
ストライプ３５Ｇと間の位置に複数の青色螢光体ストラ
イプ３５Ｂを得る。

この場合においても、金属薄膜３３の表面が酸化層３３
Ｆを有して不活性化されていることより、現像処理工程
において、青色螢光体層ＢＬの不溶性硬化部以外の部分
を金属薄膜３３の表面上から充分に除去することができ
る。

このようにして、複数の無機物質層３１及び複数のイン
デックス螢光体ストライプ２９上に配された金属薄膜３
３上に、不要な螢光体が充分に除去され、緑色螢光体ス
トライプ３５Ｇ、赤色螢光体ストライプ３５Ｒ及び青色
螢光体ストライプ３５Ｂが夫々極めて明確なパターンを
もって配列されたものとなる螢光面２１が形成される。
なお、中間膜３７は、その後の螢光面２１が加熱される
ことになる熱処理工程において蒸発飛散せしめられ、完
成された螢光面２１には存在しないものとなる。

Ｇ−２他の適用例及び変形例上述の例は、反射形のビームインデックス方式カラー陰
極線管装置に備えらる螢光面の製造に適用され、金属薄
膜上に３原色カラー螢光体ストライプを形成する工程を
含むものであるが、本発明に係る製造方法は、他の形式
の陰極線管における螢光面の製造にも適用され得、例え
ば、金属薄膜に対する酸化剤を用いての表面処理を施し
た後、金属薄膜の表面上に複数のインデックス螢光体ス
トライプを所定の間隔をおいて形成する工程を含むもの
とすることができる。

また、上述の例においては、金属薄膜の表面処理のため
の酸化剤として過マンガン酸カリウムあるいは重クロム
酸アンモニウムの水溶液が用いられるが、斯かる酸化剤
として、過沃素酸（ＨＩＯ₄）もしくは過酸化水素（Ｈ
_２Ｏ₂）の水溶液を用いることもできる。但し、過沃素
酸あるいは過酸化水素の水溶液が用いられる場合には、
それらに金属薄膜を浸漬する時間の設定に微妙な調整が
要求され、浸漬時間が若干過剰となる際にも、金属薄膜
で被われたインデックス螢光体ストライプ（もしくは、
３原色カラー螢光体ストライプ）が溶解除去されること
になる虞がある。

Ｈ発明の効果以上の説明から明らかな如く、本発明に係る陰極線管螢
光面の製造方法によれば、陰極線管を形成するスクリー
ンパネルの内面側に配された螢光面に伴われる金属薄膜
上にフォトレジストを含む螢光体スラリーを塗布して形
成した螢光体層に対し、所定のフォトマスクを介しての
露光を行った後現像処理を施して、フォトマスクを応じ
た螢光体配置パターンを得るにあたり、現像処理工程に
おいて、現像時間の長時間化や現像水圧の増大を格別に
図ることなく、所定の螢光体配置パターンを形成するも
の以外の不所望な螢光体を金属薄膜上から充分に除去す
ることができる。従って、金属薄膜が破壊される事態を
伴うことなく、現像処理工程後において金属薄膜上に不
要な残存螢光体が取り残される状態を回避して、金属薄
膜上に極めて明確なく螢光体配置パターンを得ることが
できる。そして、そのパターンが３原色螢光体パターン
である場合には、螢光面で発せられる色光の色純度が向
上することになり、また、そのパターンがインデックス
螢光体パターンである場合には、螢光面上における電子
ビームの走査位置の検出が正確になされる信号対雑音比
に優れたインデックス信号が得られることになる。

【図面の簡単な説明】

第１図Ａ〜Ｈは本発明に係る陰極線管螢光面の製造方法
の一例に含まれる工程の説明に供される工程図、第２図
及び第３図は偏平型とされた反射式のビームインデック
ス方式カラー陰極線管装置の一例を示す一部断面を含む
側面図及び平面図、第４図は第１図及び第２図に示され
る陰極線管装置における螢光面を示す断面図、第５図は
第４図に示される螢光面についての従来の製造方法の説
明に供される工程図である。図中、１３はスクリーンパネル部、１９は管体、２１は
螢光面、２９はインデックス螢光体ストライプ、３１は
無機物質層、３３は金属薄膜、３３Ｆは酸化層、３５
Ｇ、３５Ｒ及び３５Ｂは夫々緑色、赤色及び青色螢光体
ストライプ、３９、４１及び４３は夫々緑色、赤色及び
青色螢光体用フォトマスクである。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】陰極線管を構成するスクリーンパネル部の
内面側に配された金属薄膜に酸化剤を用いて表面処理を
施す工程と、上記表面処理が施された金属薄膜上にフォトレジストを
含む螢光体スラリーを塗布して螢光体層を形成する工程
と、上記螢光体層を所定のフォトマスクを介して露光する工
程と、露光された上記螢光体層に現像処理を施して上記表面処
理が施された金属薄膜上に上記フォトマスクに応じた螢
光体配置パターンを形成する工程と、を含む陰極線管螢光面の製造方法。