JPH0646558B2 - Ｘ線マイクロアナライザにおける試料分析方法 - Google Patents
Ｘ線マイクロアナライザにおける試料分析方法Info
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- JPH0646558B2 JPH0646558B2 JP62094716A JP9471687A JPH0646558B2 JP H0646558 B2 JPH0646558 B2 JP H0646558B2 JP 62094716 A JP62094716 A JP 62094716A JP 9471687 A JP9471687 A JP 9471687A JP H0646558 B2 JPH0646558 B2 JP H0646558B2
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は試料表面の各画素における各元素の特性Ｘ線強
度値データを取得し、試料を分析するＸ線マイクロアナ
ライザにおける試料分析方法に関する。
度値データを取得し、試料を分析するＸ線マイクロアナ
ライザにおける試料分析方法に関する。
Ｘ線マイクロアナライザにおいては、試料表面を多数の
画素に分割し、これら画素に電子線を順次照射し、各画
素（ｘ，ｙ）から発生した各元素Θ１，Θ２，…，Θｎ
（ｎ≧２）の特性Ｘ線を検出することが行なわれてい
る。このような装置においては、これら検出した各元素
Θ１，Θ２，…，Θｎ（ｎ≧２）に関する特性Ｘ線強度
値データを一旦記憶装置に記憶した後、操作者の指示に
基づいて任意の元素Θｉの特性Ｘ線強度値データを読み
出し、表示装置上に展開するようにしている。
画素に分割し、これら画素に電子線を順次照射し、各画
素（ｘ，ｙ）から発生した各元素Θ１，Θ２，…，Θｎ
（ｎ≧２）の特性Ｘ線を検出することが行なわれてい
る。このような装置においては、これら検出した各元素
Θ１，Θ２，…，Θｎ（ｎ≧２）に関する特性Ｘ線強度
値データを一旦記憶装置に記憶した後、操作者の指示に
基づいて任意の元素Θｉの特性Ｘ線強度値データを読み
出し、表示装置上に展開するようにしている。
［発明が解決しようとする問題点］ このような装置によって、ある元素Θｉの特性Ｘ線強度
値をｎ値化してカラーマッピング像として観察すると、
Ｘ線強度値の分布の情況の概要は知ることができる。し
かしながら、このようなマッピング像においては、Ｘ線
強度値信号を数個の基準レベルと比較してｎ値化し、異
なった階層の値に異なったカラーを割り当ててカラーマ
ッピング像として表示しているため、同じカラーで表示
された領域をより詳細に見た場合、この領域内の画素の
Ｘ線強度値が比較的広い範囲に分散しているのか、ある
いは狭い範囲に集中しているのか、即ちこの元素の濃度
に関する前記領域内試料の均一性の程度を知ることはで
きない。このマッピング像として表示される元素の濃度
に関する前記領域内試料の均一性の程度を知ることがで
きれば、その領域の知見を深めることができる。特に、
その領域内における、マッピング像として表示されてい
る元素以外の元素の濃度の均一性を知ることができれ
ば、その部分の知見を一層深めることができる。
値をｎ値化してカラーマッピング像として観察すると、
Ｘ線強度値の分布の情況の概要は知ることができる。し
かしながら、このようなマッピング像においては、Ｘ線
強度値信号を数個の基準レベルと比較してｎ値化し、異
なった階層の値に異なったカラーを割り当ててカラーマ
ッピング像として表示しているため、同じカラーで表示
された領域をより詳細に見た場合、この領域内の画素の
Ｘ線強度値が比較的広い範囲に分散しているのか、ある
いは狭い範囲に集中しているのか、即ちこの元素の濃度
に関する前記領域内試料の均一性の程度を知ることはで
きない。このマッピング像として表示される元素の濃度
に関する前記領域内試料の均一性の程度を知ることがで
きれば、その領域の知見を深めることができる。特に、
その領域内における、マッピング像として表示されてい
る元素以外の元素の濃度の均一性を知ることができれ
ば、その部分の知見を一層深めることができる。
本発明はこのような点に鑑みて成されたもので、その目
的は、カラーマッピング像中の注目する領域における、
マッピング像として表示されている元素以外の元素の画
素がとる特性Ｘ線強度の度数分布を表わすヒストグラム
を表示できるＸ線マイクロアナライザにおける試料分析
方法を提供することにある。
的は、カラーマッピング像中の注目する領域における、
マッピング像として表示されている元素以外の元素の画
素がとる特性Ｘ線強度の度数分布を表わすヒストグラム
を表示できるＸ線マイクロアナライザにおける試料分析
方法を提供することにある。
［問題点を解決するための手段］ この目的を達成する本発明のＸ線マイクロアナライザに
おける試料分析方法は、試料に電子線を照射し、試料の
二次元平面上の各画素（ｘ，ｙ）に関する各元素Θ１，
Θ２，…，Θｎ（ｎ≧２）の特性Ｘ線の強度値データＩ
１（ｘ，ｙ），Ｉ２（ｘ，ｙ），…，Ｉｎ（ｘ，ｙ）を
得、該得たデータを記憶し、該記憶されたデータの中か
ら任意の元素Θｉ（ｉは１，２，…，ｎのいずれか）の
特性Ｘ線強度値データＩｉ（ｘ，ｙ）を読み出し、この
読み出されたデータ値に応じたカラーで元素Θｉの分布
像を表示し、該分布像の任意の位置で任意の大きさの領
域Ｓを指示し、前記元素Θｉ以外の元素Θｊ（ｊは１，
２，…，ｎのｉ以外のいずれか）について前記指示され
た領域Ｓに含まれる各画素のＸ線強度値毎の度数分布を
表わすヒストグラムを表示させることを特徴としてい
る。
おける試料分析方法は、試料に電子線を照射し、試料の
二次元平面上の各画素（ｘ，ｙ）に関する各元素Θ１，
Θ２，…，Θｎ（ｎ≧２）の特性Ｘ線の強度値データＩ
１（ｘ，ｙ），Ｉ２（ｘ，ｙ），…，Ｉｎ（ｘ，ｙ）を
得、該得たデータを記憶し、該記憶されたデータの中か
ら任意の元素Θｉ（ｉは１，２，…，ｎのいずれか）の
特性Ｘ線強度値データＩｉ（ｘ，ｙ）を読み出し、この
読み出されたデータ値に応じたカラーで元素Θｉの分布
像を表示し、該分布像の任意の位置で任意の大きさの領
域Ｓを指示し、前記元素Θｉ以外の元素Θｊ（ｊは１，
２，…，ｎのｉ以外のいずれか）について前記指示され
た領域Ｓに含まれる各画素のＸ線強度値毎の度数分布を
表わすヒストグラムを表示させることを特徴としてい
る。
［実施例］ 以下、本発明を図面を参照して詳説する。
第１図は本発明を実施するための装置の要部を示した
図、第２図は本発明を実施するための装置の全体を示す
システム構成図である。
図、第２図は本発明を実施するための装置の全体を示す
システム構成図である。
第２図において、１はＸ線マイクロアナライザ（以下Ｘ
ＭＡと略記する）であり、２は試料、ＥＢは電子線、Ｃ
１，Ｃ２，Ｃ３は分光結晶、Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３はＸ線検
出器、Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３はＸ線計数器、３はＣＰＵ、４
は記憶装置、５はカラーグラフィックディスプレイ、６
はデジタイザあるいはマウス等のポインティング装置、
７はキーボード、８はバスラインである。前記分光結晶
Ｃ１，Ｃ２，Ｃ３は各々元素Θ１，Θ２，Θ３の特性Ｘ
線を選択できるように設定されている。又、前記ポイン
ティング装置６は操作者の指示に従って、カラーグラフ
ィックディスプレイ５の画面中の任意の位置，大きさ及
び形状を有する領域を輝線で描くことによりこの領域を
指示するためのものである。
ＭＡと略記する）であり、２は試料、ＥＢは電子線、Ｃ
１，Ｃ２，Ｃ３は分光結晶、Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３はＸ線検
出器、Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３はＸ線計数器、３はＣＰＵ、４
は記憶装置、５はカラーグラフィックディスプレイ、６
はデジタイザあるいはマウス等のポインティング装置、
７はキーボード、８はバスラインである。前記分光結晶
Ｃ１，Ｃ２，Ｃ３は各々元素Θ１，Θ２，Θ３の特性Ｘ
線を選択できるように設定されている。又、前記ポイン
ティング装置６は操作者の指示に従って、カラーグラフ
ィックディスプレイ５の画面中の任意の位置，大きさ及
び形状を有する領域を輝線で描くことによりこの領域を
指示するためのものである。
第１図において、９はＸ線強度値データ記憶部、１０は
書き込み読み出し制御部、１１は領域指定部、１２はマ
ッピング元素指定部、１３は後述するヒストグラム又は
相関グラフを描く対象となる元素を指定するための対象
元素指定部、１４は機能指定部、１５は機能選択部、１
６はヒストグラムデータ作成部、１８はレベル分け処理
部、１９は色分け処理部、２０は表示制御部である。前
記記憶装置４には第１図に示すように、Ｘ線強度値デー
タ記憶部９が設けられており、このＸ線強度値データ記
憶部には更に各元素Θ１，Θ２，Θ３に対応して１画面
画像記憶領域Ａ１，Ａ２，Ａ３設けられている。各１画
面画像記憶領域は前記電子線ＥＢによる試料走査領域中
の各画素（ｘ，ｙ）の各々について所定深さの記憶領域
を有している。
書き込み読み出し制御部、１１は領域指定部、１２はマ
ッピング元素指定部、１３は後述するヒストグラム又は
相関グラフを描く対象となる元素を指定するための対象
元素指定部、１４は機能指定部、１５は機能選択部、１
６はヒストグラムデータ作成部、１８はレベル分け処理
部、１９は色分け処理部、２０は表示制御部である。前
記記憶装置４には第１図に示すように、Ｘ線強度値デー
タ記憶部９が設けられており、このＸ線強度値データ記
憶部には更に各元素Θ１，Θ２，Θ３に対応して１画面
画像記憶領域Ａ１，Ａ２，Ａ３設けられている。各１画
面画像記憶領域は前記電子線ＥＢによる試料走査領域中
の各画素（ｘ，ｙ）の各々について所定深さの記憶領域
を有している。
このような構成において、電子線ＥＢを試料に照射した
状態において、試料２の水平移動機構を稼働させて試料
２を二次元的に移動させる。その結果、試料２の各画素
（ｘ，ｙ）に電子線ＥＢが順次照射される。この電子線
ＥＢの照射によって試料２の各画素（ｘ，ｙ）から発生
した特性Ｘ線のうち、元素Θ１，Θ２，Θ３の特性Ｘ線
は各々前記分光結晶Ｃ１，Ｃ２，Ｃ３を介してＸ線検出
器Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３によって検出される。従って、Ｘ線
計数器Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３より、各画素（ｘ，ｙ）におけ
る各元素Θ１，Θ２，Θ３の特性Ｘ線の計数値信号がバ
スライン８を介して記憶装置４に送られる。記憶装置４
に送られた各画素（ｘ，ｙ）の元素Θ１に関する特性Ｘ
線強度値データは、前記Ｘ線強度値データ記憶部９の画
像記憶領域Ａ１の各画素（ｘ，ｙ）に対応した記憶領域
に記憶される。同様に元素Θ２の特性Ｘ線強度値データ
は画像記憶領域Ａ２に、又、元素Θ３の特性Ｘ線強度値
データは画像記憶領域Ａ３に記憶される。そこで、操作
者がキーボード７により、元素Θ１の特性Ｘ線強度分布
のカラーマッピング表示を指示すると、マッピング元素
指定部１２は書き込み読み出し制御部１０に元素Θ１の
選択を指示する信号を送るため、書き込み読み出し制御
部１０はＸ線強度値データ記憶部９の画像記憶領域のＡ
１に記憶されている全データを順次読み出し、レベル分
け処理部１８に送る。レベル分け処理部１８は送られて
きたＸ線強度値データを予め設定された複数の基準レベ
ルと比較する。この基準レベルの個数と値は任意に設定
できるようになっている。この実施例の場合、前記基準
レベルとして４個の基準レベルが設定されているとする
と、レベル分け処理部１８は、送られて来たＸ線強度値
データをこれら各基準レベルの内外に分類することによ
り５値化し、色分け処理部１９に送る。色分け処理部１
９においては、レベル分け処理部１８により送られて来
た５値化データに階層値に応じた色相を割り当て、各々
を割り当てられた色相で表示するための信号を表示制御
部２０に送る。その結果、カラーグラフィックディスプ
レイ５には、第３図（ａ）に示すように元素Θ１の特性
Ｘ線強度分布を示すカラーマッピング像が表示される。
同様に操作者が元素Θ２の特性Ｘ線強度分布像の表示を
指示すると、画像記憶領域のＡ２に記憶されているデー
タに基づいて第３図（ｂ）に示すような像がディスプレ
イ５に表示される。このようなＸ線強度分布像のうち、
例えば元素Θ２の特性Ｘ線強度分布像を観察している最
中に、興味のある領域が見つかり、この領域に含まれる
画素がとる元素Θ１の特性Ｘ線強度値の度数分布を知ろ
うとする場合には、以下のようにすれば良い。
状態において、試料２の水平移動機構を稼働させて試料
２を二次元的に移動させる。その結果、試料２の各画素
（ｘ，ｙ）に電子線ＥＢが順次照射される。この電子線
ＥＢの照射によって試料２の各画素（ｘ，ｙ）から発生
した特性Ｘ線のうち、元素Θ１，Θ２，Θ３の特性Ｘ線
は各々前記分光結晶Ｃ１，Ｃ２，Ｃ３を介してＸ線検出
器Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３によって検出される。従って、Ｘ線
計数器Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３より、各画素（ｘ，ｙ）におけ
る各元素Θ１，Θ２，Θ３の特性Ｘ線の計数値信号がバ
スライン８を介して記憶装置４に送られる。記憶装置４
に送られた各画素（ｘ，ｙ）の元素Θ１に関する特性Ｘ
線強度値データは、前記Ｘ線強度値データ記憶部９の画
像記憶領域Ａ１の各画素（ｘ，ｙ）に対応した記憶領域
に記憶される。同様に元素Θ２の特性Ｘ線強度値データ
は画像記憶領域Ａ２に、又、元素Θ３の特性Ｘ線強度値
データは画像記憶領域Ａ３に記憶される。そこで、操作
者がキーボード７により、元素Θ１の特性Ｘ線強度分布
のカラーマッピング表示を指示すると、マッピング元素
指定部１２は書き込み読み出し制御部１０に元素Θ１の
選択を指示する信号を送るため、書き込み読み出し制御
部１０はＸ線強度値データ記憶部９の画像記憶領域のＡ
１に記憶されている全データを順次読み出し、レベル分
け処理部１８に送る。レベル分け処理部１８は送られて
きたＸ線強度値データを予め設定された複数の基準レベ
ルと比較する。この基準レベルの個数と値は任意に設定
できるようになっている。この実施例の場合、前記基準
レベルとして４個の基準レベルが設定されているとする
と、レベル分け処理部１８は、送られて来たＸ線強度値
データをこれら各基準レベルの内外に分類することによ
り５値化し、色分け処理部１９に送る。色分け処理部１
９においては、レベル分け処理部１８により送られて来
た５値化データに階層値に応じた色相を割り当て、各々
を割り当てられた色相で表示するための信号を表示制御
部２０に送る。その結果、カラーグラフィックディスプ
レイ５には、第３図（ａ）に示すように元素Θ１の特性
Ｘ線強度分布を示すカラーマッピング像が表示される。
同様に操作者が元素Θ２の特性Ｘ線強度分布像の表示を
指示すると、画像記憶領域のＡ２に記憶されているデー
タに基づいて第３図（ｂ）に示すような像がディスプレ
イ５に表示される。このようなＸ線強度分布像のうち、
例えば元素Θ２の特性Ｘ線強度分布像を観察している最
中に、興味のある領域が見つかり、この領域に含まれる
画素がとる元素Θ１の特性Ｘ線強度値の度数分布を知ろ
うとする場合には、以下のようにすれば良い。
即ち、まず、操作者はポインティング装置６を操作し、
領域指定部１１の制御に基づいてこの領域Ｓを第３図
（ｃ）に示すように輝線Ｆで囲む。このようにして領域
の指定が終了した後、キーボード７により度数分布の表
示の対象が元素Θ１であることを指示する。この指示に
基づいて対象元素指定部１３は書き込み読み出し制御部
１０に画像記憶領域Ａ１のデータが読み出すべきデータ
として選ばれていることを伝える。更にキーボード７に
よりヒストグラムの形式でグラフィック表示することを
指示すると、機能指定部１４は機能選択部１５を制御
し、Ｘ線強度値データ記憶部９から送られるデータをヒ
ストグラムデータ作成部１６に導くように機能選択部１
５をセットする。そこで、前記度数分布の表示を指示す
ると、Ｘ線強度値データ記憶部９の画像記憶領域Ａ１に
記憶されているデータのうち、領域指定部１１よりの領
域指示信号に基づいて前記指示した領域Ｓに含まれる画
素のデータのみが書き込み読み出し制御部１６により読
み出され、機能選択部１５を介してヒストグラムデータ
作成部１６に送られる。ヒストグラムデータ作成部１６
においては、送られて来た各々のデータが予め設定され
ている等間隔に区切られた多数の階層のうちのどこに入
るかを判定し、各階層にデータが分類される毎にその階
層に対応した計数値をカウントアップすることにより、
Ｘ線強度値の度数分布データを作成する。ヒストグラム
データ作成部１６によって作成されたデータは表示制御
部２０に送られるため、表示制御部２０の制御に基づい
てグラフィックディスプレイ５上には、第４図に示すよ
うな元素Θ１のＸ線強度値の度数分布を示すヒストグラ
ムが表示される。操作者はこの表示を見ることにより、
もしヒストグラムの幅が狭いものであるならば、指示し
た領域に分布する元素Θ１の量のバラツキは小さく、試
料が元素Θ１の濃度に関して比較的均質であることを知
ることができ、ヒストグラムの幅が広ければ、元素Θ１
の濃度は部分的に僅かずつ異なり、試料の均質性の程度
が低いことを知ることができる。
領域指定部１１の制御に基づいてこの領域Ｓを第３図
（ｃ）に示すように輝線Ｆで囲む。このようにして領域
の指定が終了した後、キーボード７により度数分布の表
示の対象が元素Θ１であることを指示する。この指示に
基づいて対象元素指定部１３は書き込み読み出し制御部
１０に画像記憶領域Ａ１のデータが読み出すべきデータ
として選ばれていることを伝える。更にキーボード７に
よりヒストグラムの形式でグラフィック表示することを
指示すると、機能指定部１４は機能選択部１５を制御
し、Ｘ線強度値データ記憶部９から送られるデータをヒ
ストグラムデータ作成部１６に導くように機能選択部１
５をセットする。そこで、前記度数分布の表示を指示す
ると、Ｘ線強度値データ記憶部９の画像記憶領域Ａ１に
記憶されているデータのうち、領域指定部１１よりの領
域指示信号に基づいて前記指示した領域Ｓに含まれる画
素のデータのみが書き込み読み出し制御部１６により読
み出され、機能選択部１５を介してヒストグラムデータ
作成部１６に送られる。ヒストグラムデータ作成部１６
においては、送られて来た各々のデータが予め設定され
ている等間隔に区切られた多数の階層のうちのどこに入
るかを判定し、各階層にデータが分類される毎にその階
層に対応した計数値をカウントアップすることにより、
Ｘ線強度値の度数分布データを作成する。ヒストグラム
データ作成部１６によって作成されたデータは表示制御
部２０に送られるため、表示制御部２０の制御に基づい
てグラフィックディスプレイ５上には、第４図に示すよ
うな元素Θ１のＸ線強度値の度数分布を示すヒストグラ
ムが表示される。操作者はこの表示を見ることにより、
もしヒストグラムの幅が狭いものであるならば、指示し
た領域に分布する元素Θ１の量のバラツキは小さく、試
料が元素Θ１の濃度に関して比較的均質であることを知
ることができ、ヒストグラムの幅が広ければ、元素Θ１
の濃度は部分的に僅かずつ異なり、試料の均質性の程度
が低いことを知ることができる。
また、例えば元素Θ３のヒストグラムを表示しようとす
る際には、キーボード７により対象元素がΘ３であるこ
とを指示すればよく、この指示に基づいて対象元素指定
部１３は画像記憶領域Ａ３のデータが読み出し対象であ
ることを書き込み読み出し制御部１０に伝えるため、画
像記憶領域Ａ３のデータのうち前記領域Ｓに含まれるデ
ータが読み出されて処理され、元素Θ３に関するヒスト
グラムをグラフィックディスプレイ５上に表示すること
ができる。上述した実施例は本発明の一実施例に過ぎ
ず、本発明は変形して実施することができる。
る際には、キーボード７により対象元素がΘ３であるこ
とを指示すればよく、この指示に基づいて対象元素指定
部１３は画像記憶領域Ａ３のデータが読み出し対象であ
ることを書き込み読み出し制御部１０に伝えるため、画
像記憶領域Ａ３のデータのうち前記領域Ｓに含まれるデ
ータが読み出されて処理され、元素Θ３に関するヒスト
グラムをグラフィックディスプレイ５上に表示すること
ができる。上述した実施例は本発明の一実施例に過ぎ
ず、本発明は変形して実施することができる。
例えば上述した実施例においては、ポインティング装置
により任意の位置及び大きさを有するだけでなく、任意
の形状を有する領域を指示するようにしたが、ディスプ
レイ５の画面上に第５図においてＫ１，Ｋ２，Ｋ３で示
すように大きさがステップ状に変えられ、且つ位置が任
意に変えられる矩形を表示し、この矩形の位置及び大き
さを指示することにより前記領域を指定するようにして
も良い。
により任意の位置及び大きさを有するだけでなく、任意
の形状を有する領域を指示するようにしたが、ディスプ
レイ５の画面上に第５図においてＫ１，Ｋ２，Ｋ３で示
すように大きさがステップ状に変えられ、且つ位置が任
意に変えられる矩形を表示し、この矩形の位置及び大き
さを指示することにより前記領域を指定するようにして
も良い。
又、上述した実施例においては、説明を簡単にするた
め、３種類の元素の特性Ｘ線を検出する場合を示した
が、３種類に限らず、より多くの元素の特性Ｘ線を検出
して記憶装置に記憶させるようにしても良い。
め、３種類の元素の特性Ｘ線を検出する場合を示した
が、３種類に限らず、より多くの元素の特性Ｘ線を検出
して記憶装置に記憶させるようにしても良い。
又、上述した実施例においては、特性Ｘ線強度データを
直接に用いてヒストグラムや相関グラフ表示するように
したが、特性Ｘ線強度データを検量線法等を用いて濃度
値に変換した後、ヒストグラムや相関グラフ表示を行な
うようにしても良い。
直接に用いてヒストグラムや相関グラフ表示するように
したが、特性Ｘ線強度データを検量線法等を用いて濃度
値に変換した後、ヒストグラムや相関グラフ表示を行な
うようにしても良い。
［発明の効果］ 本発明においては、マッピング像中の注目する領域にお
ける、マッピング像として表示されている元素以外の元
素のＸ線強度値毎の度数分布を表わすヒストグラムを表
示させるので、マッピング像して表示されている元素以
外の元素の濃度の均一性を知ることができ、その領域の
知見を一層深めることができる。
ける、マッピング像として表示されている元素以外の元
素のＸ線強度値毎の度数分布を表わすヒストグラムを表
示させるので、マッピング像して表示されている元素以
外の元素の濃度の均一性を知ることができ、その領域の
知見を一層深めることができる。
また、本発明においては、例えば表示画面上の元素Θｊ
の分布の場所的な変化が少ない場合、分布像のカラーが
表示画面上の全域にわたってほぼ同一となるため、注目
する領域を指示することができず、注目する領域の元素
Θｊの濃度に関する均一性の程度を知ることができない
という問題を解決することができる。なぜなら、表示画
面上で元素分布の場所的な変化が大きい元素Θｉのカラ
ー分布像を表示させ、その像を観察して注目する領域を
指示し、その領域における前記元素ΘｊのＸ線強度値毎
の度数分布を表わすヒストグラムを表示させれば、注目
する領域における元素Θｊの濃度に関する均一性の程度
を知ることができるからである。
の分布の場所的な変化が少ない場合、分布像のカラーが
表示画面上の全域にわたってほぼ同一となるため、注目
する領域を指示することができず、注目する領域の元素
Θｊの濃度に関する均一性の程度を知ることができない
という問題を解決することができる。なぜなら、表示画
面上で元素分布の場所的な変化が大きい元素Θｉのカラ
ー分布像を表示させ、その像を観察して注目する領域を
指示し、その領域における前記元素ΘｊのＸ線強度値毎
の度数分布を表わすヒストグラムを表示させれば、注目
する領域における元素Θｊの濃度に関する均一性の程度
を知ることができるからである。
第１図は本発明を実施するための装置の要部を示した
図、第２図は本発明を実施するための装置のシステム構
成を示すための図、第３図はカラーグラフィックディス
プレイに表示された画面中における任意領域の指示を説
明するための図、第４図はグラフィックディスプレイの
表示例を説明するための図、第５図は本発明の他の一実
施例を示すための図である。 １：Ｘ線マイクロアナライザ ２：試料、ＥＢ：電子線 Ｃ１，Ｃ２，Ｃ３：分光結晶 Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３：Ｘ線検出器 Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３：Ｘ線計数器 ３：ＣＰＵ、４：記憶装置 ５：カラーグラフィックディスプレイ ６：ポインティング装置 ７：キーボード、８：バスライン ９…Ｘ線強度値データ記憶部 １０：書き込み読み出し制御部 １１：領域指定部 １２：マッピング元素指定部 １３：対象元素指定部 １４：機能指定部、１５：機能選択部 １６：ヒストグラムデータ作成部 １８：レベル分け処理部 １９：色分け処理部、２０：表示制御部
図、第２図は本発明を実施するための装置のシステム構
成を示すための図、第３図はカラーグラフィックディス
プレイに表示された画面中における任意領域の指示を説
明するための図、第４図はグラフィックディスプレイの
表示例を説明するための図、第５図は本発明の他の一実
施例を示すための図である。 １：Ｘ線マイクロアナライザ ２：試料、ＥＢ：電子線 Ｃ１，Ｃ２，Ｃ３：分光結晶 Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３：Ｘ線検出器 Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３：Ｘ線計数器 ３：ＣＰＵ、４：記憶装置 ５：カラーグラフィックディスプレイ ６：ポインティング装置 ７：キーボード、８：バスライン ９…Ｘ線強度値データ記憶部 １０：書き込み読み出し制御部 １１：領域指定部 １２：マッピング元素指定部 １３：対象元素指定部 １４：機能指定部、１５：機能選択部 １６：ヒストグラムデータ作成部 １８：レベル分け処理部 １９：色分け処理部、２０：表示制御部
Claims (1)
- 【請求項１】試料に電子線を照射し、試料の二次元平面
上の各画素（ｘ，ｙ）に関する各元素Θ１，Θ２，…，
Θｎ（ｎ≧２）の特性Ｘ線の強度値データＩ１（ｘ，
ｙ），Ｉ２（ｘ，ｙ），…，Ｉｎ（ｘ，ｙ）を得、該得
たデータを記憶し、該記憶されたデータの中から任意の
元素Θｉ（ｉは１，２，…，ｎのいずれか）の特性Ｘ線
強度値データＩｉ（ｘ，ｙ）を読み出し、この読み出さ
れたデータ値に応じたカラーで元素Θｉの分布像を表示
し、該分布像の任意の位置で任意の大きさの領域Ｓを指
示し、前記元素Θｉ以外の元素Θｊ（ｊは１，２，…，
ｎのｉ以外のいずれか）について前記指示された領域Ｓ
に含まれる各画素のＸ線強度値毎の度数分布を表わすヒ
ストグラムを表示させることを特徴とするＸ線マイクロ
アナライザにおける試料分析方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62094716A JPH0646558B2 (ja) | 1987-04-17 | 1987-04-17 | Ｘ線マイクロアナライザにおける試料分析方法 |
| US07/180,891 US4857731A (en) | 1987-04-17 | 1988-04-13 | Instrument for analyzing specimen |
| FR888805037A FR2614103B1 (fr) | 1987-04-17 | 1988-04-15 | Instrument pour l'analyse d'un echantillon |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62094716A JPH0646558B2 (ja) | 1987-04-17 | 1987-04-17 | Ｘ線マイクロアナライザにおける試料分析方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5296335A Division JPH06231717A (ja) | 1993-11-26 | 1993-11-26 | Ｘ線マイクロアナライザにおける試料分析方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63259950A JPS63259950A (ja) | 1988-10-27 |
| JPH0646558B2 true JPH0646558B2 (ja) | 1994-06-15 |
Family
ID=14117860
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62094716A Expired - Lifetime JPH0646558B2 (ja) | 1987-04-17 | 1987-04-17 | Ｘ線マイクロアナライザにおける試料分析方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0646558B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005201640A (ja) * | 2004-01-13 | 2005-07-28 | Jeol Ltd | 試料評価方法及び試料評価装置 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2573053B2 (ja) * | 1989-03-23 | 1997-01-16 | 株式会社堀場製作所 | 微小部ｘ線分析における二元素化合物の分析方法 |
| JP2573052B2 (ja) * | 1989-03-23 | 1997-01-16 | 株式会社堀場製作所 | 微小部ｘ線分析における三元素化合物の分析方法 |
| JP2539270B2 (ja) * | 1989-07-21 | 1996-10-02 | 株式会社堀場製作所 | 微小部ｘ線分析におけるデ―タ処理方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0721466B2 (ja) * | 1984-07-18 | 1995-03-08 | 新日本製鐵株式会社 | 自動多機能分析装置 |
| JPS6270740A (ja) * | 1985-09-24 | 1987-04-01 | Shimadzu Corp | Ｘ線分光定量分析方法 |
-
1987
- 1987-04-17 JP JP62094716A patent/JPH0646558B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005201640A (ja) * | 2004-01-13 | 2005-07-28 | Jeol Ltd | 試料評価方法及び試料評価装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63259950A (ja) | 1988-10-27 |
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