JPH0648530B2 - 磁気ヘツド - Google Patents
磁気ヘツドInfo
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- JPH0648530B2 JPH0648530B2 JP29714585A JP29714585A JPH0648530B2 JP H0648530 B2 JPH0648530 B2 JP H0648530B2 JP 29714585 A JP29714585 A JP 29714585A JP 29714585 A JP29714585 A JP 29714585A JP H0648530 B2 JPH0648530 B2 JP H0648530B2
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- JP
- Japan
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- magnetic
- thin film
- ferromagnetic
- metal thin
- forming surface
- Prior art date
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は磁気ヘッドに関するものであり、特に磁気ギャ
ップが強磁性金属薄膜同士をギャップスペーサを介して
突き合わせることにより構成されるとともに、コアの大
部分が強磁性酸化物により形成されてなる、いわゆる複
合型の磁気ヘッドに関するものである。
ップが強磁性金属薄膜同士をギャップスペーサを介して
突き合わせることにより構成されるとともに、コアの大
部分が強磁性酸化物により形成されてなる、いわゆる複
合型の磁気ヘッドに関するものである。
本発明は、強磁性酸化物よりなる磁気コア部とこの磁気
コア部の強磁性薄膜形成面上に真空薄膜形成技術により
形成される強磁性金属薄膜とから磁気コア半体が形成さ
れ、前記強磁性金属薄膜同士を直列状に対向させること
により磁気ギャップが構成されるとともに、磁気記録媒
体対接面で上記強磁性薄膜形成面と磁気ギャップ形成面
とが所定角度で傾斜してなる磁気ヘッドにおいて、 上記強磁性薄膜形成面が、磁気ギャップ近傍で磁気ギャ
ップ形成面に対して１０゜＜θ≦３５゜なる角度θで傾
斜する傾斜面と、磁気ギャップ形成面に対して４５゜≦
α≦７０゜なる角度αで傾斜する傾斜面とで構成するこ
とにより、 トラック幅の拡大を図るとともに、クロストークや擬似
ギャップの影響が少ない磁気ヘッドを提供しようとする
ものである。
コア部の強磁性薄膜形成面上に真空薄膜形成技術により
形成される強磁性金属薄膜とから磁気コア半体が形成さ
れ、前記強磁性金属薄膜同士を直列状に対向させること
により磁気ギャップが構成されるとともに、磁気記録媒
体対接面で上記強磁性薄膜形成面と磁気ギャップ形成面
とが所定角度で傾斜してなる磁気ヘッドにおいて、 上記強磁性薄膜形成面が、磁気ギャップ近傍で磁気ギャ
ップ形成面に対して１０゜＜θ≦３５゜なる角度θで傾
斜する傾斜面と、磁気ギャップ形成面に対して４５゜≦
α≦７０゜なる角度αで傾斜する傾斜面とで構成するこ
とにより、 トラック幅の拡大を図るとともに、クロストークや擬似
ギャップの影響が少ない磁気ヘッドを提供しようとする
ものである。
磁気記録の分野においては、情報信号の高密度記録化や
高周波数化等が進められており、これに対応して、磁気
記録媒体として磁性粉にＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉ等の強磁性金
属の粉末を用いた、いわゆるメタルテープや、磁性金属
材料を蒸着等の真空薄膜形成技術によりベースフィルム
上に直接被着した、いわゆる蒸着テープ等が実用化され
ている。
高周波数化等が進められており、これに対応して、磁気
記録媒体として磁性粉にＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉ等の強磁性金
属の粉末を用いた、いわゆるメタルテープや、磁性金属
材料を蒸着等の真空薄膜形成技術によりベースフィルム
上に直接被着した、いわゆる蒸着テープ等が実用化され
ている。
ところで、この種の磁気記録媒体は高い抗磁力や残留磁
束密度を有するので、記録・再生に用いる磁気ヘッドの
ヘッド材料には、高飽和磁束密度，高透磁率を有するこ
とが要求される。例えば、従来、ヘッド材料として多用
されているフェライト材では、飽和磁束密度が低く、上
述の高抗磁力化に対処しきれない。
束密度を有するので、記録・再生に用いる磁気ヘッドの
ヘッド材料には、高飽和磁束密度，高透磁率を有するこ
とが要求される。例えば、従来、ヘッド材料として多用
されているフェライト材では、飽和磁束密度が低く、上
述の高抗磁力化に対処しきれない。
そこで従来、上記高抗磁力の磁気記録媒体に対応するた
めに、セラミック等の非磁性基板やフェライト等の磁性
基板上に高飽和磁束密度を有する強磁性金属薄膜を被着
し、これら強磁性金属薄膜同士を突き合わせて磁気ギャ
ップを構成するようにした、いわゆる複合型の磁気ヘッ
ドが提案されている。
めに、セラミック等の非磁性基板やフェライト等の磁性
基板上に高飽和磁束密度を有する強磁性金属薄膜を被着
し、これら強磁性金属薄膜同士を突き合わせて磁気ギャ
ップを構成するようにした、いわゆる複合型の磁気ヘッ
ドが提案されている。
しかしながら、これら従来の複合型の磁気ヘッドでは、
生産性や信頼性等の点で問題が多い。
生産性や信頼性等の点で問題が多い。
例えば、セラミックス等の非磁性基板で挟みつけた強磁
性金属薄膜同士を突き合わせ、この強磁性金属薄膜の膜
厚をトラック幅とした複合型の磁気ヘッドが提案されて
いるが、この場合には、磁路の全てが膜厚の薄い強磁性
金属薄膜のみにより構成されるので、磁気抵抗が大きく
なり効率が低下するばかりか、所定のトラック幅となる
ように強磁性金属薄膜をある程度厚く被着する必要があ
り、膜形成に長時間を要する等の問題がある。
性金属薄膜同士を突き合わせ、この強磁性金属薄膜の膜
厚をトラック幅とした複合型の磁気ヘッドが提案されて
いるが、この場合には、磁路の全てが膜厚の薄い強磁性
金属薄膜のみにより構成されるので、磁気抵抗が大きく
なり効率が低下するばかりか、所定のトラック幅となる
ように強磁性金属薄膜をある程度厚く被着する必要があ
り、膜形成に長時間を要する等の問題がある。
あるいは、磁気コア部がフェライト等の強磁性酸化物か
らなり、これら各磁気コア部の磁気ギャップ形成面に強
磁性金属薄膜を被着した複合型の磁気ヘッドも提案され
ているが、この場合には磁路と上記金属薄膜とが直交す
る方向に位置するため、擬似ギャップの影響が大きく、
また渦電流損失が発生し再生出力の低下を招く虞れがあ
り、充分な信頼性が得られない等の問題がある。
らなり、これら各磁気コア部の磁気ギャップ形成面に強
磁性金属薄膜を被着した複合型の磁気ヘッドも提案され
ているが、この場合には磁路と上記金属薄膜とが直交す
る方向に位置するため、擬似ギャップの影響が大きく、
また渦電流損失が発生し再生出力の低下を招く虞れがあ
り、充分な信頼性が得られない等の問題がある。
そこで、上述の欠点を解消すべく、先に本願出願人は、
特願昭58−250988号明細書、あるいは特願昭60−153745
号明細書において、強磁性金属薄膜を斜めめに被着し、
信頼性、生産性の改善を図った磁気ヘッドを提案した。
なかでも、特願昭60−153745号明細書に記載される磁気
ヘッドは、強磁性薄膜形成面の中途部に屈曲をもたせも
のであって、薄い強磁性金属薄膜であってもある程度の
トラック幅が確保でき、ヒビ割れによる破壊がなく、信
頼性や生産性に優れる、等の特徴を有している。
特願昭58−250988号明細書、あるいは特願昭60−153745
号明細書において、強磁性金属薄膜を斜めめに被着し、
信頼性、生産性の改善を図った磁気ヘッドを提案した。
なかでも、特願昭60−153745号明細書に記載される磁気
ヘッドは、強磁性薄膜形成面の中途部に屈曲をもたせも
のであって、薄い強磁性金属薄膜であってもある程度の
トラック幅が確保でき、ヒビ割れによる破壊がなく、信
頼性や生産性に優れる、等の特徴を有している。
本発明は、かかる磁気ヘッドの一層の改善を目的とする
ものである。
ものである。
すなわち、前述の磁気ヘッドにおいて、トラック幅拡大
の他、クロストークや擬似ギャップ，再生出力等を考慮
して、強磁性薄膜形成面の傾斜角の最適値を求め、電磁
変換特性に優れ、信頼性，生産性の点でも有利な磁気ヘ
ッドの提供を目的とする。
の他、クロストークや擬似ギャップ，再生出力等を考慮
して、強磁性薄膜形成面の傾斜角の最適値を求め、電磁
変換特性に優れ、信頼性，生産性の点でも有利な磁気ヘ
ッドの提供を目的とする。
上述のような目的を達成するために、本発明は、強磁性
酸化物よりなる磁気コア部とこの磁気コア部の強磁性薄
膜形成面上に真空薄膜形成技術により形成される強磁性
金属薄膜とから磁気コア半体が形成され、前記強磁性金
属薄膜同士を直列状に対向させることにより磁気ギャッ
プが構成されるとともに、磁気記録媒体対接面で上記強
磁性薄膜形成面と磁気ギャップ形成面とが所定角度で傾
斜してなる磁気ヘッドであって、上記強磁性薄膜形成面
が、磁気ギャップ近傍で磁気ギャップ形成面に対して１
０゜＜θ≦３５゜なる角度θで傾斜する傾斜面と、磁気
ギャップ形成面に対して４５゜≦α≦７０゜なる角度α
で傾斜する傾斜面とから構成されることを特徴とするも
のである。
酸化物よりなる磁気コア部とこの磁気コア部の強磁性薄
膜形成面上に真空薄膜形成技術により形成される強磁性
金属薄膜とから磁気コア半体が形成され、前記強磁性金
属薄膜同士を直列状に対向させることにより磁気ギャッ
プが構成されるとともに、磁気記録媒体対接面で上記強
磁性薄膜形成面と磁気ギャップ形成面とが所定角度で傾
斜してなる磁気ヘッドであって、上記強磁性薄膜形成面
が、磁気ギャップ近傍で磁気ギャップ形成面に対して１
０゜＜θ≦３５゜なる角度θで傾斜する傾斜面と、磁気
ギャップ形成面に対して４５゜≦α≦７０゜なる角度α
で傾斜する傾斜面とから構成されることを特徴とするも
のである。
強磁性薄膜形成面の傾斜角を磁気ギャップ近傍部で、磁
気ギャップ形成面に対して１０゜＜θ≦３５゜なる角度
θに設定しているので、強磁性金属薄膜の膜厚が薄くて
もトラック幅が確保される。
気ギャップ形成面に対して１０゜＜θ≦３５゜なる角度
θに設定しているので、強磁性金属薄膜の膜厚が薄くて
もトラック幅が確保される。
また、上記強磁性薄膜形成面の傾斜角を上記角度θに設
定することにより、強磁性金属薄膜と強磁性酸化物の界
面が擬似ギャップとして作用することはない。
定することにより、強磁性金属薄膜と強磁性酸化物の界
面が擬似ギャップとして作用することはない。
さらに、磁気ギャップから遠方の傾斜面の角度を４５゜
≦α≦７０゜に設定することにより、磁気ギャップ近傍
部における磁気コア部の体積が確保されるとともに、強
磁性金属薄膜と強磁性酸化物との接触面積が拡大し、再
生特性が向上する。
≦α≦７０゜に設定することにより、磁気ギャップ近傍
部における磁気コア部の体積が確保されるとともに、強
磁性金属薄膜と強磁性酸化物との接触面積が拡大し、再
生特性が向上する。
以下、本発明の実施例を図面を参照しながら説明する。
第１図は本発明を適用した複合型の磁気ヘッドの一例を
示す外観斜視図であり、第２図はその磁気記録媒体対接
面を示す要部拡大平面図である。
示す外観斜視図であり、第２図はその磁気記録媒体対接
面を示す要部拡大平面図である。
この磁気ヘッドにおいては、磁気コア部(11),(12) が強
磁性酸化物、たとえばＭｎ−Ｚｎ系フェライトで形成さ
れ、これら磁気コア部(11),(12) の接合面を斜めに切り
欠いた強磁性薄膜形成面(13),(14) には、フロントギャ
ップ形成面からバックギャップ形成面に至るまで連続し
て高透磁率合金、たとえばＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金膜で
ある強磁性金属薄膜(15),(19) が真空薄膜形成技術によ
り被着形成され、それぞれ磁気コア半体(21),(22) が構
成されている。そして、これら一対の磁気コア半体(2
1),(22) をＳｉＯ２等のギャップ材を介して突き合わ
せ、上記強磁性金属薄膜(15),(19) の当接面がトラック
幅Ｔｗの磁気ギャップｇとなるように構成されている。
磁性酸化物、たとえばＭｎ−Ｚｎ系フェライトで形成さ
れ、これら磁気コア部(11),(12) の接合面を斜めに切り
欠いた強磁性薄膜形成面(13),(14) には、フロントギャ
ップ形成面からバックギャップ形成面に至るまで連続し
て高透磁率合金、たとえばＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金膜で
ある強磁性金属薄膜(15),(19) が真空薄膜形成技術によ
り被着形成され、それぞれ磁気コア半体(21),(22) が構
成されている。そして、これら一対の磁気コア半体(2
1),(22) をＳｉＯ２等のギャップ材を介して突き合わ
せ、上記強磁性金属薄膜(15),(19) の当接面がトラック
幅Ｔｗの磁気ギャップｇとなるように構成されている。
ここで、上記強磁性金属薄膜形成面(13),(14) は、磁気
記録媒体対接面から見たときに、磁気コア半体(21),(2
2) の突き合わせ面である接合面、すなわち磁気ギャッ
プ形成面(16)に対してθなる角度で傾斜する第１の傾斜
面(13a),(14a) と、上記磁気ギャップ形成面(16)に対し
てαなる角度をもって傾斜する第２の傾斜面(13b),(14
b) とから構成され、その中途部に鈍角からなる屈曲部
(13c),(14c) を有している。
記録媒体対接面から見たときに、磁気コア半体(21),(2
2) の突き合わせ面である接合面、すなわち磁気ギャッ
プ形成面(16)に対してθなる角度で傾斜する第１の傾斜
面(13a),(14a) と、上記磁気ギャップ形成面(16)に対し
てαなる角度をもって傾斜する第２の傾斜面(13b),(14
b) とから構成され、その中途部に鈍角からなる屈曲部
(13c),(14c) を有している。
そして、上記磁気ギャップ形成面(16)に対してθなる角
度で傾斜する第１の傾斜面(13a),(14a) 上に被着される
部分の強磁性金属薄膜(15),(19) 同士が突き合わされ
て、磁気ギャップｇが構成されている。
度で傾斜する第１の傾斜面(13a),(14a) 上に被着される
部分の強磁性金属薄膜(15),(19) 同士が突き合わされ
て、磁気ギャップｇが構成されている。
上記磁気ギャップｇ近傍部に配置される第１の傾斜面
（13a),(14a) と磁気ギャップ形成面(16)とがなす角度
θは、１０゜＜θ≦３５゜の範囲内に設定される。この
傾斜角度θが３５゜を越えると、広いトラック幅のヘッ
ドとするために上記強磁性金属薄膜(15),(19) の膜厚を
充分に確保しなくてはならず、生産性が劣化し好ましく
ない。逆に、傾斜角度θが１０゜以下では、磁気ギャッ
プｇと第１の傾斜面(13a),(14a) とが平行に近づくた
め、クロストークや擬似ギャップが発生し、記録再生特
性が劣化する。
（13a),(14a) と磁気ギャップ形成面(16)とがなす角度
θは、１０゜＜θ≦３５゜の範囲内に設定される。この
傾斜角度θが３５゜を越えると、広いトラック幅のヘッ
ドとするために上記強磁性金属薄膜(15),(19) の膜厚を
充分に確保しなくてはならず、生産性が劣化し好ましく
ない。逆に、傾斜角度θが１０゜以下では、磁気ギャッ
プｇと第１の傾斜面(13a),(14a) とが平行に近づくた
め、クロストークや擬似ギャップが発生し、記録再生特
性が劣化する。
また、上記第１の傾斜面(13a),(14a) と連続して形成さ
れる第２の傾斜面(13b),(14b) と、磁気ギャップ形成面
(16)とがなす角度αは、４５゜≦α≦７０゜の範囲内に
設定される。この傾斜角度αが７０゜を越えると、磁気
ギャップｇ近傍で磁気コア部(11),(12) の体積が減少し
再生出力が低下したり、あるいは耐摩耗性が劣化する等
の不都合が生じる。逆に、上記傾斜角度αが４５゜未満
に形成されると、クロストークが大きくなり、ヘッドの
信頼性が低下し好ましくない。
れる第２の傾斜面(13b),(14b) と、磁気ギャップ形成面
(16)とがなす角度αは、４５゜≦α≦７０゜の範囲内に
設定される。この傾斜角度αが７０゜を越えると、磁気
ギャップｇ近傍で磁気コア部(11),(12) の体積が減少し
再生出力が低下したり、あるいは耐摩耗性が劣化する等
の不都合が生じる。逆に、上記傾斜角度αが４５゜未満
に形成されると、クロストークが大きくなり、ヘッドの
信頼性が低下し好ましくない。
また、上記磁気ギャップｇ近傍、すなわち磁気記録媒体
対接面における磁気ギャップｇの両側部には、トラック
幅を規制し上記強磁性金属薄膜(15),(19) の摩耗を防止
するための非磁性材(17),(18) が溶融充填されている。
対接面における磁気ギャップｇの両側部には、トラック
幅を規制し上記強磁性金属薄膜(15),(19) の摩耗を防止
するための非磁性材(17),(18) が溶融充填されている。
なお、本実施例においては、上記磁気コア部(11),(12)
に形成されるトラック幅規制溝(11b),(12b) は、上記非
磁性材(18)と強磁性酸化物との界面の形状が屈曲する如
く形成されているが、たとえば磁気ヘッドを磁気記録媒
体対接面から見たときに上記界面の形状が略円弧状とな
るような曲面をもって切削加工し、このトラック幅規制
溝(11b),(12b) に臨む強磁性酸化物とこれに対向する強
磁性金属薄膜(15),(19) との距離を確保するとともに、
この溝の対称バランスによって加工時の強磁性酸化物に
対するストレスを小さなものとなし、磁気コア部(11),
(12) のマイクロクラックの発生を防止するようにして
もよい。
に形成されるトラック幅規制溝(11b),(12b) は、上記非
磁性材(18)と強磁性酸化物との界面の形状が屈曲する如
く形成されているが、たとえば磁気ヘッドを磁気記録媒
体対接面から見たときに上記界面の形状が略円弧状とな
るような曲面をもって切削加工し、このトラック幅規制
溝(11b),(12b) に臨む強磁性酸化物とこれに対向する強
磁性金属薄膜(15),(19) との距離を確保するとともに、
この溝の対称バランスによって加工時の強磁性酸化物に
対するストレスを小さなものとなし、磁気コア部(11),
(12) のマイクロクラックの発生を防止するようにして
もよい。
一方、上記強磁性金属薄膜(15),(19) の材質としては、
強磁性非晶質金属合金、いわゆるアモルファス合金（例
えばＦｅ，Ｎｉ，Ｃｏの１つ以上の元素とＰ，Ｃ，Ｂ，
Ｓｉの１つ以上の元素とからなる合金、またはこれを主
成分としＡｌ，Ｇｅ，Ｂｅ，Ｓｎ，Ｉｎ，Ｍｏ，Ｗ，Ｔ
ｉ，Ｍｎ，Ｃｒ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｎｂ等を含んだ合金等の
メタル−メタロイド系アモルファス合金、あるいはＣ
ｏ，Ｈｆ，Ｚｒ等の遷移元素や希土類元素を主成分とす
るメタル−メタル系アモルファス合金）、Ｆｅ−Ａｌ−
Ｓｉ系合金であるセンダスト合金、Ｆｅ−Ａｌ系合金、
Ｆｅ−Ｓｉ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｃｏ系合金、パーマロ
イ等が使用可能であり、その膜付け方法としても、フラ
ッシュ蒸着，真空蒸着，イオンプレーティング，スパッ
タリング，クラスター・イオンビーム法等に代表される
真空薄膜形成技術が採用される。
強磁性非晶質金属合金、いわゆるアモルファス合金（例
えばＦｅ，Ｎｉ，Ｃｏの１つ以上の元素とＰ，Ｃ，Ｂ，
Ｓｉの１つ以上の元素とからなる合金、またはこれを主
成分としＡｌ，Ｇｅ，Ｂｅ，Ｓｎ，Ｉｎ，Ｍｏ，Ｗ，Ｔ
ｉ，Ｍｎ，Ｃｒ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｎｂ等を含んだ合金等の
メタル−メタロイド系アモルファス合金、あるいはＣ
ｏ，Ｈｆ，Ｚｒ等の遷移元素や希土類元素を主成分とす
るメタル−メタル系アモルファス合金）、Ｆｅ−Ａｌ−
Ｓｉ系合金であるセンダスト合金、Ｆｅ−Ａｌ系合金、
Ｆｅ−Ｓｉ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｃｏ系合金、パーマロ
イ等が使用可能であり、その膜付け方法としても、フラ
ッシュ蒸着，真空蒸着，イオンプレーティング，スパッ
タリング，クラスター・イオンビーム法等に代表される
真空薄膜形成技術が採用される。
上記Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金を使用する場合に、その主
成分であるＦｅ，Ａｌ，Ｓｉの組成範囲としては、Ａｌ
の含有量が２〜１０重量％、Ｓｉの含有量が４〜１５
％、残部がＦｅであることが好ましい。すなわち、上記
Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金を ＦｅａＡｌｂＳｉｃ （ａ，ｂ，ｃは各成分の重量比を表す。） で表したときに、その組成範囲が ７０≦ａ＜９５ ２≦ｂ≦１０ ４≦ｃ≦１５ であることが望ましい。上記ＡｌやＳｉが少なすぎて
も、また逆に多すぎてもＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金の磁気
特性が劣化してしまう。
成分であるＦｅ，Ａｌ，Ｓｉの組成範囲としては、Ａｌ
の含有量が２〜１０重量％、Ｓｉの含有量が４〜１５
％、残部がＦｅであることが好ましい。すなわち、上記
Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金を ＦｅａＡｌｂＳｉｃ （ａ，ｂ，ｃは各成分の重量比を表す。） で表したときに、その組成範囲が ７０≦ａ＜９５ ２≦ｂ≦１０ ４≦ｃ≦１５ であることが望ましい。上記ＡｌやＳｉが少なすぎて
も、また逆に多すぎてもＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金の磁気
特性が劣化してしまう。
また、上記Ｆｅの一部をＣｏあるいはＮｉのうち少なく
とも１種と置換することも可能である。
とも１種と置換することも可能である。
上記Ｆｅの一部をＣｏと置換することにより飽和磁束密
度を上げることができる。特に、Ｆｅの４０重量％をＣ
ｏで置換したもので最大の飽和磁束密度が得られる。こ
のＣｏの置換量としては、Ｆｅに対して０〜６０重量％
の範囲内であることが好ましい。
度を上げることができる。特に、Ｆｅの４０重量％をＣ
ｏで置換したもので最大の飽和磁束密度が得られる。こ
のＣｏの置換量としては、Ｆｅに対して０〜６０重量％
の範囲内であることが好ましい。
上記Ｆｅの一部をＮｉと置換することにより、飽和磁束
密度を減少することなく透磁率を高い状態に保つことが
できる。このＮｉの置換量としては、Ｆｅに対して０〜
４０重量％の範囲内であることが好ましい。
密度を減少することなく透磁率を高い状態に保つことが
できる。このＮｉの置換量としては、Ｆｅに対して０〜
４０重量％の範囲内であることが好ましい。
さらに、上述のＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金には、耐蝕性や
耐摩耗性を改善するために各種元素を添加剤として加え
てもよい。上記添加剤として使用される元素としては、
Ｓｃ，Ｙ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｎｄ，Ｇｄ等のランタン系列を
含むIIIａ族元素、Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ等のIVａ族元素、
Ｖ，Ｎｂ，Ｔａ等のＶａ族元素、Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ等のVI
ａ族元素、Ｍｎ，Ｔｃ，Ｒｅ等のVIIａ族元素、Ｃｕ，
Ａｇ，Ａｕ等のＩｂ族元素、Ｇａ，Ｉｎ，Ｇｅ，Ｓｎ，
Ｓｂ等が挙げられる。
耐摩耗性を改善するために各種元素を添加剤として加え
てもよい。上記添加剤として使用される元素としては、
Ｓｃ，Ｙ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｎｄ，Ｇｄ等のランタン系列を
含むIIIａ族元素、Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ等のIVａ族元素、
Ｖ，Ｎｂ，Ｔａ等のＶａ族元素、Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ等のVI
ａ族元素、Ｍｎ，Ｔｃ，Ｒｅ等のVIIａ族元素、Ｃｕ，
Ａｇ，Ａｕ等のＩｂ族元素、Ｇａ，Ｉｎ，Ｇｅ，Ｓｎ，
Ｓｂ等が挙げられる。
ところで、上記強磁性金属薄膜(15),(19) は、この例で
は真空薄膜形成技術により単層として形成しているが、
例えばＳｉＯ2，Ｔａ2Ｏ5，Ａｌ2Ｏ3，ＺｒＯ2，Ｓｉ3
Ｎ4等の高耐摩耗性絶縁膜を介して複数層積層形成して
もよい。この場合、強磁性金属薄膜の積層数は任意に設
定することができる。
は真空薄膜形成技術により単層として形成しているが、
例えばＳｉＯ2，Ｔａ2Ｏ5，Ａｌ2Ｏ3，ＺｒＯ2，Ｓｉ3
Ｎ4等の高耐摩耗性絶縁膜を介して複数層積層形成して
もよい。この場合、強磁性金属薄膜の積層数は任意に設
定することができる。
なお、上記磁気コア半体(21),(22) のうち、一方の磁気
コア半体(22)には、巻線溝(20)が穿設され、この巻線溝
(20)にコイルを巻回することによって、磁気ヘッドに信
号を供給し、あるいは信号を取り出すようになってい
る。
コア半体(22)には、巻線溝(20)が穿設され、この巻線溝
(20)にコイルを巻回することによって、磁気ヘッドに信
号を供給し、あるいは信号を取り出すようになってい
る。
このように構成される磁気ヘッドにおいては、磁気ギャ
ップｇ近傍の第１の傾斜面(13a),(14a)が磁気ギャップ
形成面(16)と１０゜＜θ≦３５゜となるように形成され
ているので、強磁性金属薄膜(15),(19) が薄くても広い
トラック幅の磁気ヘッドが形成できる。したがって、生
産性が大幅に向上する。
ップｇ近傍の第１の傾斜面(13a),(14a)が磁気ギャップ
形成面(16)と１０゜＜θ≦３５゜となるように形成され
ているので、強磁性金属薄膜(15),(19) が薄くても広い
トラック幅の磁気ヘッドが形成できる。したがって、生
産性が大幅に向上する。
また、上述の如く強磁性酸化物と強磁性金属薄膜との界
面部、すなわち第１の傾斜面(13a),(14a) は、磁気ギャ
ップｇに対して所定の角度をもって形成されるので、隣
接トラックあるいは隣々トラックからのクロストークが
減少され、しかも擬似ギャップの影響も低減される。
面部、すなわち第１の傾斜面(13a),(14a) は、磁気ギャ
ップｇに対して所定の角度をもって形成されるので、隣
接トラックあるいは隣々トラックからのクロストークが
減少され、しかも擬似ギャップの影響も低減される。
さらに、強磁性酸化物である磁気コア半体(21),(22) 上
に被着される強磁性金属薄膜(15),(19) は、強磁性金属
薄膜形成面(13),(14) の屈曲部(13c),(14c) において、
磁気コア部(11),(12) と強磁性金属薄膜(15),(19) との
熱膨張係数の差に起因する応力が緩和・分散されるの
で、ヒビ割れ等の破壊が生ずることもなくなっている。
に被着される強磁性金属薄膜(15),(19) は、強磁性金属
薄膜形成面(13),(14) の屈曲部(13c),(14c) において、
磁気コア部(11),(12) と強磁性金属薄膜(15),(19) との
熱膨張係数の差に起因する応力が緩和・分散されるの
で、ヒビ割れ等の破壊が生ずることもなくなっている。
さらに、強磁性薄膜形成面(13),(14) が、その中途部に
鈍角からなる屈曲部(13c),(14c) を有することより、磁
気ギャップｇ近傍において、強磁性酸化物の占める体積
が大きくなり耐摩耗性が改善されるとともに、強磁性金
属薄膜(15),(19) と磁気コア部(11),(12) との接触面積
が拡大され記録再生特性が向上する。
鈍角からなる屈曲部(13c),(14c) を有することより、磁
気ギャップｇ近傍において、強磁性酸化物の占める体積
が大きくなり耐摩耗性が改善されるとともに、強磁性金
属薄膜(15),(19) と磁気コア部(11),(12) との接触面積
が拡大され記録再生特性が向上する。
ところで、本発明は上述の実施例に限定されるものでは
なく、本発明の趣旨を逸脱することなくその他種々の構
造をとり得る。
なく、本発明の趣旨を逸脱することなくその他種々の構
造をとり得る。
例えば、第３図に示すように、磁気ギャップｇ近傍の第
１の傾斜面(13a),(14a) の一部を切り欠くようにトラッ
ク幅規制溝(31a),(32a) を形成しても良い。このような
構成とすることにより、例えば一方の磁気コア半体(35)
の強磁性金属薄膜(15)と他方の磁気コア半体(36)の磁気
コア部(32)との距離が確保されるので、クロストークの
影響をより低減できる。なお、この第３図において、第
１図及び第２図と同一部材には同一符号を付し、詳細な
説明は省略した。
１の傾斜面(13a),(14a) の一部を切り欠くようにトラッ
ク幅規制溝(31a),(32a) を形成しても良い。このような
構成とすることにより、例えば一方の磁気コア半体(35)
の強磁性金属薄膜(15)と他方の磁気コア半体(36)の磁気
コア部(32)との距離が確保されるので、クロストークの
影響をより低減できる。なお、この第３図において、第
１図及び第２図と同一部材には同一符号を付し、詳細な
説明は省略した。
以上の説明からも明らかなように、本発明においては、
強磁性金属薄膜形成面を磁気ギャップ形成面に対してこ
となる角度で傾斜する２つの傾斜面から構成しているの
で、磁気ギャップ近傍部において、強磁性金属薄膜の突
き当て幅（トラック幅）を拡大することができる。した
がって、例えば所定のトラック幅を確保するための強磁
性金属薄膜の膜厚は薄くて済み、生産性の点で有利であ
る。
強磁性金属薄膜形成面を磁気ギャップ形成面に対してこ
となる角度で傾斜する２つの傾斜面から構成しているの
で、磁気ギャップ近傍部において、強磁性金属薄膜の突
き当て幅（トラック幅）を拡大することができる。した
がって、例えば所定のトラック幅を確保するための強磁
性金属薄膜の膜厚は薄くて済み、生産性の点で有利であ
る。
また、本発明においては、上記各傾斜面の傾斜角度を磁
気ギャップ近傍部で１０゜＜θ≦３５゜とし、磁気ギャ
ップから遠方の傾斜角度を４５゜≦α≦７０゜と設定し
たので、クロストークや擬似ギャップの影響を抑えるこ
とができる。したがって、良好な電磁変換特性が得られ
る。
気ギャップ近傍部で１０゜＜θ≦３５゜とし、磁気ギャ
ップから遠方の傾斜角度を４５゜≦α≦７０゜と設定し
たので、クロストークや擬似ギャップの影響を抑えるこ
とができる。したがって、良好な電磁変換特性が得られ
る。
さらに、強磁性金属薄膜形成面に鈍角の屈曲部が形成さ
れるので、この部分で強磁性金属薄膜と強磁性酸化物と
の熱膨張率の差等に起因する歪が分散，吸収され、ヒビ
割れがなく信頼性の高い磁気ヘッドとなる。
れるので、この部分で強磁性金属薄膜と強磁性酸化物と
の熱膨張率の差等に起因する歪が分散，吸収され、ヒビ
割れがなく信頼性の高い磁気ヘッドとなる。
さらに、上記屈曲部を形成することにより、磁気ギャッ
プ近傍での強磁性酸化物の占める体積が大きくなり、再
生出力が確保されるとともに、耐摩耗性が向上し信頼性
に優れた磁気ヘッドとなる。
プ近傍での強磁性酸化物の占める体積が大きくなり、再
生出力が確保されるとともに、耐摩耗性が向上し信頼性
に優れた磁気ヘッドとなる。
第１図は本発明を適用した磁気ヘッドの一例を示す外観
斜視図であり、第２図はその磁気記録媒体対接面を示す
要部拡大平面図である。 第３図は本発明の他の例を示すものであり、磁気ギャッ
プ近傍で強磁性金属薄膜の一部がトラック幅規制溝によ
り切り欠かれている磁気ヘッドの磁気記録媒体対接面を
示す要部拡大平面図である。 11，12……磁気コア部 13，14……強磁性薄膜形成面 13a,14a……第１の傾斜面 13b,14b……第２の傾斜面 15，19……強磁性金属薄膜 16……磁気ギャップ形成面 21,22……磁気コア半体
斜視図であり、第２図はその磁気記録媒体対接面を示す
要部拡大平面図である。 第３図は本発明の他の例を示すものであり、磁気ギャッ
プ近傍で強磁性金属薄膜の一部がトラック幅規制溝によ
り切り欠かれている磁気ヘッドの磁気記録媒体対接面を
示す要部拡大平面図である。 11，12……磁気コア部 13，14……強磁性薄膜形成面 13a,14a……第１の傾斜面 13b,14b……第２の傾斜面 15，19……強磁性金属薄膜 16……磁気ギャップ形成面 21,22……磁気コア半体
Claims (1)
- 【請求項１】強磁性酸化物よりなる磁気コア部とこの磁
気コア部の強磁性薄膜形成面上に真空薄膜形成技術によ
り形成される強磁性金属薄膜とから磁気コア半体が形成
され、前記強磁性金属薄膜同士を直列状に対向させるこ
とにより磁気ギャップが構成されるとともに、磁気記録
媒体対接面で上記強磁性薄膜形成面と磁気ギャップ形成
面とが所定角度で傾斜してなる磁気ヘッドであって、 上記強磁性薄膜形成面が、磁気ギャップ近傍で磁気ギャ
ップ形成面に対して１０゜＜θ≦３５゜なる角度θで傾
斜する傾斜面と、磁気ギャップ形成面に対して４５゜≦
α≦７０゜なる角度αで傾斜する傾斜面とから構成され
ることを特徴とする磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29714585A JPH0648530B2 (ja) | 1985-12-28 | 1985-12-28 | 磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29714585A JPH0648530B2 (ja) | 1985-12-28 | 1985-12-28 | 磁気ヘツド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62157307A JPS62157307A (ja) | 1987-07-13 |
| JPH0648530B2 true JPH0648530B2 (ja) | 1994-06-22 |
Family
ID=17842785
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29714585A Expired - Lifetime JPH0648530B2 (ja) | 1985-12-28 | 1985-12-28 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0648530B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2586050B2 (ja) * | 1987-07-28 | 1997-02-26 | ソニー株式会社 | 複合磁気ヘッドの製造方法 |
| JPH02168404A (ja) * | 1988-09-02 | 1990-06-28 | Sanyo Electric Co Ltd | 磁気ヘッド |
-
1985
- 1985-12-28 JP JP29714585A patent/JPH0648530B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62157307A (ja) | 1987-07-13 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |