JPH0648700B2 - 導電性層の剥離防止構造を有するtabテープ - Google Patents
導電性層の剥離防止構造を有するtabテープInfo
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Landscapes
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- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、TABテープを構成す
る複数の材料層の界面における剥離強度を向上させて、
チップ実装工程において加えられる熱ストレスや、リー
ドフレーム形成時に加えられる曲げ加工などの外的スト
レスにより発生する導電性層の剥離を防止する導電性層
の剥離防止構造を有するTABテープに関する。
る複数の材料層の界面における剥離強度を向上させて、
チップ実装工程において加えられる熱ストレスや、リー
ドフレーム形成時に加えられる曲げ加工などの外的スト
レスにより発生する導電性層の剥離を防止する導電性層
の剥離防止構造を有するTABテープに関する。
【0002】
【従来の技術】現在では半導体素子の高集積化が一段と
進み、電極数すなわち接続点数が増加するに伴い、接続
に要する時間、信頼性などの面から、半導体チップを実
装するための技術として、従来のワイヤボンデイングに
代わり、TAB(テープ自動化ボンデイング)やフリップ
チップ方式などのワイヤレス接続方式の採用が活発化し
ている。
進み、電極数すなわち接続点数が増加するに伴い、接続
に要する時間、信頼性などの面から、半導体チップを実
装するための技術として、従来のワイヤボンデイングに
代わり、TAB(テープ自動化ボンデイング)やフリップ
チップ方式などのワイヤレス接続方式の採用が活発化し
ている。
【0003】上記TAB技術とフリップチップ方式とを
組み合わせた半導体チップ接続工程は、はんだバンプを
付着したチップが、例えば、ポリイミドから成る支持層
と、当該支持層上に接着層を介在させることなく、スパ
ッタリング若しくは無電解めっきにより付着させた、例
えば、銅から成る導電性層の2層からなるTABテープ
上にマウントされ、リフロー、洗浄、樹脂封止、樹脂乾
燥、導電性テスト、リードカットの工程の順序にしたが
って行われる。
組み合わせた半導体チップ接続工程は、はんだバンプを
付着したチップが、例えば、ポリイミドから成る支持層
と、当該支持層上に接着層を介在させることなく、スパ
ッタリング若しくは無電解めっきにより付着させた、例
えば、銅から成る導電性層の2層からなるTABテープ
上にマウントされ、リフロー、洗浄、樹脂封止、樹脂乾
燥、導電性テスト、リードカットの工程の順序にしたが
って行われる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記リ
フロー工程においては、300゜C以上で加熱されるた
め、熱膨張係数の異なる銅層とポリイミド層の界面にお
いてストレスが発生し、上記両層の界面で銅層の剥離が
発生する可能性がある。この傾向は、とりわけポリイミ
ド層と銅層との接触面積が大きい部分ほど強い。又銅層
の終端部では一旦剥離すると近隣の銅層部による押えが
効かないのでこの傾向は一層顕著になる。その代表的事
例はテストパッド部である。
フロー工程においては、300゜C以上で加熱されるた
め、熱膨張係数の異なる銅層とポリイミド層の界面にお
いてストレスが発生し、上記両層の界面で銅層の剥離が
発生する可能性がある。この傾向は、とりわけポリイミ
ド層と銅層との接触面積が大きい部分ほど強い。又銅層
の終端部では一旦剥離すると近隣の銅層部による押えが
効かないのでこの傾向は一層顕著になる。その代表的事
例はテストパッド部である。
【0005】そして、このような銅層の剥離の状態を示
しているのが図7である。符号7は、半導体チップの上
記導電性テスト時に使用されるテストパッド部であり、
銅層1の端部に形成されている。このテストパッド部7
を構成する銅層1と当該銅層1の支持層であるポリイミ
ド層2との間には接着層を介在させておらず、界面に生
じた熱ストレスにより上記テストパッド部7は、ポリイ
ミド層2から離れる方向に反り返るような形で浮き上が
っている。
しているのが図7である。符号7は、半導体チップの上
記導電性テスト時に使用されるテストパッド部であり、
銅層1の端部に形成されている。このテストパッド部7
を構成する銅層1と当該銅層1の支持層であるポリイミ
ド層2との間には接着層を介在させておらず、界面に生
じた熱ストレスにより上記テストパッド部7は、ポリイ
ミド層2から離れる方向に反り返るような形で浮き上が
っている。
【0006】このようにテストパッド部が剥離すると次
のような問題が発生する。 (1)導電性テスト工程において、接触不良が起こり製品
ロスにつながる。 (2)リードカット工程において、ポリイミド層から剥離
したテストパッド部のカットした残りが、カット金型に
噛み込まれることによって金型が破損する。 (3)ポリイミド層によって支持されなくなりチップ回路
製品自体の品質が低下してしまう。
のような問題が発生する。 (1)導電性テスト工程において、接触不良が起こり製品
ロスにつながる。 (2)リードカット工程において、ポリイミド層から剥離
したテストパッド部のカットした残りが、カット金型に
噛み込まれることによって金型が破損する。 (3)ポリイミド層によって支持されなくなりチップ回路
製品自体の品質が低下してしまう。
【0007】また、銅層1から形成された導体リードに
対して、図8に示すような曲げ加工を施すなど外部応力
によって、上記熱膨張係数の違いに起因して発生したポ
リイミド層2からの銅層1の剥離がさらに進行してしま
う。
対して、図8に示すような曲げ加工を施すなど外部応力
によって、上記熱膨張係数の違いに起因して発生したポ
リイミド層2からの銅層1の剥離がさらに進行してしま
う。
【0008】したがって、本発明の目的は、熱膨張係数
の異なる材料層から成るTABテープにおいて、高温加
熱後に発生する熱ストレスによって生じる層界面の剥離
の進行を停止させ、さらに剥離するのを防止する構造を
有するTABテープを提供することにある。
の異なる材料層から成るTABテープにおいて、高温加
熱後に発生する熱ストレスによって生じる層界面の剥離
の進行を停止させ、さらに剥離するのを防止する構造を
有するTABテープを提供することにある。
【0009】さらに、別の目的は、リードフレームを形
成するために、導体の一部を曲げたときの曲げ応力に対
して、導体を構成する導電性層とこれに隣接する支持層
との間の接触面積の広い部分で、導電性層が上記支持層
から剥離しないようにする構造を有するTABテープを
提供することにある。
成するために、導体の一部を曲げたときの曲げ応力に対
して、導体を構成する導電性層とこれに隣接する支持層
との間の接触面積の広い部分で、導電性層が上記支持層
から剥離しないようにする構造を有するTABテープを
提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の課題を
解決するために、導体を構成する導電性層と、該導電性
層と隣接し上記導電性層を支持する支持層を含む多層か
ら成るTABテープにおいて、上記導電性層との接触面
積が大きく上記導体が剥離し易い部分、例えば上記導電
性層の端部に近接した上記支持層部分にスリットを形成
している。このような構成にすることによって、そのス
リットを境界として、剥離の進行を停止させることがで
きる。
解決するために、導体を構成する導電性層と、該導電性
層と隣接し上記導電性層を支持する支持層を含む多層か
ら成るTABテープにおいて、上記導電性層との接触面
積が大きく上記導体が剥離し易い部分、例えば上記導電
性層の端部に近接した上記支持層部分にスリットを形成
している。このような構成にすることによって、そのス
リットを境界として、剥離の進行を停止させることがで
きる。
【0011】そして、前記スリットの断面形状をテーパ
状に形成することによってスリットに近接した層界面に
おける付着強度を増加させることができる。
状に形成することによってスリットに近接した層界面に
おける付着強度を増加させることができる。
【0012】また、スリットがテストパッド部の外側端
部に沿って又はテストパッド部と接触する前記支持層部
分に形成することによって、導電性テスト工程における
接触不良を防止することができる。
部に沿って又はテストパッド部と接触する前記支持層部
分に形成することによって、導電性テスト工程における
接触不良を防止することができる。
【0013】さらに、銅層とポリイミド層の接触面積の
広い部分で銅層の剥離が発生するのを防ぐことができ
る。
広い部分で銅層の剥離が発生するのを防ぐことができ
る。
【0014】
【実施例】図1は、本発明の実施例に係るTABテープ
の部分拡大断面図を示したものである。当該TABテー
プは従来技術で示したのと同様、銅層1とポリイミド層
2の2層から成り立っている。上記のように、符号7
は、銅層1に形成されたテストパッド部を示している。
当該実施例では、上記銅層1とポリイミド層2との間で
接触部分が多く、剥離し易い部分、とりわけテストパッ
ド部7が直接接触する部分のポリイミド層2に、エッチ
ング等の技術を用いてスリット3を形成している。この
点について、テストパッド部分を示した拡大部分平面図
である図2を参照すると、ちょうどテストパッド部7の
真下にスリット3が形成されているように見える。スリ
ット3の断面プロファイルは、例えば、RIEエッチン
グ技術を用いた異方性エッチングを行えば、図1に示す
ような垂直方向に形成されたスリットを得ることができ
る。
の部分拡大断面図を示したものである。当該TABテー
プは従来技術で示したのと同様、銅層1とポリイミド層
2の2層から成り立っている。上記のように、符号7
は、銅層1に形成されたテストパッド部を示している。
当該実施例では、上記銅層1とポリイミド層2との間で
接触部分が多く、剥離し易い部分、とりわけテストパッ
ド部7が直接接触する部分のポリイミド層2に、エッチ
ング等の技術を用いてスリット3を形成している。この
点について、テストパッド部分を示した拡大部分平面図
である図2を参照すると、ちょうどテストパッド部7の
真下にスリット3が形成されているように見える。スリ
ット3の断面プロファイルは、例えば、RIEエッチン
グ技術を用いた異方性エッチングを行えば、図1に示す
ような垂直方向に形成されたスリットを得ることができ
る。
【0015】TABテープにおける上記スリット3の形
成位置についての理解を助けるために、ポリイミド層2
側から見たTABテープの部分平面図を図3として表し
た。
成位置についての理解を助けるために、ポリイミド層2
側から見たTABテープの部分平面図を図3として表し
た。
【0016】図1に示すように、テストパッド部7の端
部4において剥離が発生した場合、その一部の剥離部分
がトリガーになってさらに剥離が導体リードの中心に向
かって進行する。しかし、上記のように銅層(導体)1と
接したポリイミド層2にスリット3を形成しているの
で、そのスリットを境界として、剥離の進行を停止させ
ることができる。なお、当該第1実施例において、上記
スリットの断面プロファイルは、必ずしも上記垂直方向
に形成される場合に限定されるものではなく、要は、剥
離の進行を停止させるのに十分なスリットであることが
重要である。
部4において剥離が発生した場合、その一部の剥離部分
がトリガーになってさらに剥離が導体リードの中心に向
かって進行する。しかし、上記のように銅層(導体)1と
接したポリイミド層2にスリット3を形成しているの
で、そのスリットを境界として、剥離の進行を停止させ
ることができる。なお、当該第1実施例において、上記
スリットの断面プロファイルは、必ずしも上記垂直方向
に形成される場合に限定されるものではなく、要は、剥
離の進行を停止させるのに十分なスリットであることが
重要である。
【0017】上記スリット3の形成位置についての他の
実施例として、図4に示すように、テストパッド部7の
外側端部に沿って形成するようにしてもよい。
実施例として、図4に示すように、テストパッド部7の
外側端部に沿って形成するようにしてもよい。
【0018】もっとも、本発明は、TABテープにおい
て、上記導電性層との接触面積が大きく上記導体が剥離
し易い部分に近接した上記支持層部分にスリットを形成
する場合に広く適用することにより、導電性層が支持層
から剥離するのを防止することができる。
て、上記導電性層との接触面積が大きく上記導体が剥離
し易い部分に近接した上記支持層部分にスリットを形成
する場合に広く適用することにより、導電性層が支持層
から剥離するのを防止することができる。
【0019】図5は、本発明の他の実施例に係るTAB
テープの一部拡大断面図を示したものである。当該実施
例では、前記実施例と同様、上記銅層1とポリイミド層
2との間で接触部分が多く剥離し易い部分を、例えば、
プラズマエッチング等の化学的エッチングを用いてテー
パ部5を有するスリット3を形成している。このように
テーパ部5を有するスリット3を形成することにより、
図6に示すように銅層1により構成された導体部に曲げ
加工を施すと、それによって発生する曲げ応力に対して
ポリイミド層2が追従する。このとき、上記スリット3
に近接する銅層1とポリイミド層2との接触部6の付着
強度が増し銅層1がポリイミド層2から剥離するのを防
止している。
テープの一部拡大断面図を示したものである。当該実施
例では、前記実施例と同様、上記銅層1とポリイミド層
2との間で接触部分が多く剥離し易い部分を、例えば、
プラズマエッチング等の化学的エッチングを用いてテー
パ部5を有するスリット3を形成している。このように
テーパ部5を有するスリット3を形成することにより、
図6に示すように銅層1により構成された導体部に曲げ
加工を施すと、それによって発生する曲げ応力に対して
ポリイミド層2が追従する。このとき、上記スリット3
に近接する銅層1とポリイミド層2との接触部6の付着
強度が増し銅層1がポリイミド層2から剥離するのを防
止している。
【0020】以下に示した表1は、TABテープにおけ
る銅層の剥離強度をを比較したものである。すなわち、
フリップチップ方式で、テーパ上にスリットを形成した
TABテープ上にマウントされたチップと上記スリット
を形成していないTABテープを用意し、プルゲージを
用いて銅層の端部を引張ることによって、リフロー前後
の銅層の剥離強度の測定結果を示している。
る銅層の剥離強度をを比較したものである。すなわち、
フリップチップ方式で、テーパ上にスリットを形成した
TABテープ上にマウントされたチップと上記スリット
を形成していないTABテープを用意し、プルゲージを
用いて銅層の端部を引張ることによって、リフロー前後
の銅層の剥離強度の測定結果を示している。
【0021】
【表1】
【0022】当該表1によると、リフロー前後の剥離強
度を比較すると、スリットの有無に関係なく銅層の剥離
強度が急激に低下しているのがわかる。しかし、リフロ
ー後において、スリットを設けている場合とそうでない
場合とを比べると、スリットを設けた場合の方が約2倍
の強度を保持することができる。
度を比較すると、スリットの有無に関係なく銅層の剥離
強度が急激に低下しているのがわかる。しかし、リフロ
ー後において、スリットを設けている場合とそうでない
場合とを比べると、スリットを設けた場合の方が約2倍
の強度を保持することができる。
【0023】
【発明の効果】本発明によると、TABテープを構成す
る材料層の界面における剥離強度を著しく向上させ、導
電性層が支持層から剥離するのを防止および剥離の進行
を停止させることができる。
る材料層の界面における剥離強度を著しく向上させ、導
電性層が支持層から剥離するのを防止および剥離の進行
を停止させることができる。
【図1】本発明の実施例を示したTABテープの部分拡
大断面図である。
大断面図である。
【図2】テストパッド部分を示した拡大部分平面図であ
る。
る。
【図3】ポリイミド層2側から見たTABテープの部分
平面図である。
平面図である。
【図4】テストパッド部分を示した拡大部分平面図であ
る。
る。
【図5】本発明の第2実施例を示したTABテープの部
分拡大断面図である。
分拡大断面図である。
【図6】上記第2実施例において導体に曲げ加工を施し
た状態を示したTABテープの部分拡大断面図である。
た状態を示したTABテープの部分拡大断面図である。
【図7】従来のテストパッド部が剥離した状態を示した
TABテープの部分拡大断面図である。
TABテープの部分拡大断面図である。
【図8】導電性層が剥離した状態を示した従来のTAB
テープの部分拡大断面図である。
テープの部分拡大断面図である。
1 銅層 2 ポリイミド層 3 スリット 4 テストパッド部の端部 5 テーパ部 6 接触部 7 テストパッド部
Claims (8)
- 【請求項1】導体を構成する導電性層と、該導電性層と
隣接し上記導電性層を支持する支持層を含む多層から成
るTABテープにおいて、上記導電性層との接触面積が
大きく上記導体が剥離し易い部分に近接した上記支持層
部分にスリットを形成したことを特徴とする導電性層の
剥離防止構造を有するTABテープ。 - 【請求項2】前記スリットの断面がテーパ状になるよう
に形成されていることを特徴とする請求項1記載の導電
性層の剥離防止構造を有するTABテープ。 - 【請求項3】前記導電性層との接触面積が大きく前記導
体が剥離し易い部分が、前記導電性層の端部であること
を特徴とする請求項1又は請求項2記載の導電性層の剥
離防止構造を有するTABテープ。 - 【請求項4】前記導電性層との接触面積が大きく前記導
体が剥離し易い部分が、テストパッド部であることを特
徴とする請求項1又は請求項2記載の導電性層の剥離防
止構造を有するTABテープ。 - 【請求項5】前記スリットがテストパッド部の外側端部
に沿って形成されていることを特徴とする請求項4記載
の導電性層の剥離防止構造を有するTABテープ。 - 【請求項6】前記スリットがテストパッド部と接触する
前記支持層部分に形成されていることを特徴とする請求
項4記載の導電性層の剥離防止構造を有するTABテー
プ。 - 【請求項7】前記導電性層が銅層であることを特徴とす
る請求項1又は請求項2記載の導電性層の剥離防止構造
を有するTABテープ。 - 【請求項8】前記支持層がポリイミド層であることを特
徴とする請求項1又は請求項2記載の導電性層の剥離防
止構造を有するTABテープ。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2415178A JPH0648700B2 (ja) | 1990-12-27 | 1990-12-27 | 導電性層の剥離防止構造を有するtabテープ |
| US07/802,178 US5288539A (en) | 1990-12-27 | 1991-12-04 | Tab tape with a peeling-prevention structure for the conductive layer |
| EP91312005A EP0499748A1 (en) | 1990-12-27 | 1991-12-23 | TAB tape |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2415178A JPH0648700B2 (ja) | 1990-12-27 | 1990-12-27 | 導電性層の剥離防止構造を有するtabテープ |
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|---|---|
| JPH04234140A JPH04234140A (ja) | 1992-08-21 |
| JPH0648700B2 true JPH0648700B2 (ja) | 1994-06-22 |
Family
ID=18523575
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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Country Status (3)
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