JPH0648973A - 1,3−シクロブタンジオン−ビスケタール、その製造方法およびその使用 - Google Patents
1,3−シクロブタンジオン−ビスケタール、その製造方法およびその使用Info
- Publication number
- JPH0648973A JPH0648973A JP5063587A JP6358793A JPH0648973A JP H0648973 A JPH0648973 A JP H0648973A JP 5063587 A JP5063587 A JP 5063587A JP 6358793 A JP6358793 A JP 6358793A JP H0648973 A JPH0648973 A JP H0648973A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cyclobutanedione
- bisketal
- formula
- lower alkyl
- butanediyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- PZQGSZRQKQZCOJ-UHFFFAOYSA-N cyclobutane-1,3-dione Chemical compound O=C1CC(=O)C1 PZQGSZRQKQZCOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 24
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 16
- -1 dyestuffs Substances 0.000 claims abstract description 32
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 20
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 11
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims abstract description 9
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 claims abstract description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 8
- WASQWSOJHCZDFK-UHFFFAOYSA-N diketene Chemical compound C=C1CC(=O)O1 WASQWSOJHCZDFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims description 5
- CUJPFPXNDSIBPG-UHFFFAOYSA-N 1,3-propanediyl Chemical group [CH2]C[CH2] CUJPFPXNDSIBPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 claims description 4
- 230000026030 halogenation Effects 0.000 claims description 4
- 238000005658 halogenation reaction Methods 0.000 claims description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 3
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 claims description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 2
- AEPRJYUWEJMQRA-UHFFFAOYSA-N (3-oxocyclobuten-1-yl) acetate Chemical compound CC(=O)OC1=CC(=O)C1 AEPRJYUWEJMQRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- XTKDAFGWCDAMPY-UHFFFAOYSA-N azaperone Chemical compound C1=CC(F)=CC=C1C(=O)CCCN1CCN(C=2N=CC=CC=2)CC1 XTKDAFGWCDAMPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- CCGKOQOJPYTBIH-UHFFFAOYSA-N ethenone Chemical compound C=C=O CCGKOQOJPYTBIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- JZVULSQIDDDMGK-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethoxycyclobutane Chemical compound COC1(OC)CC(OC)(OC)C1 JZVULSQIDDDMGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract description 4
- 239000004009 herbicide Substances 0.000 abstract description 2
- 229940079593 drug Drugs 0.000 abstract 1
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 abstract 1
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- PYOKUURKVVELLB-UHFFFAOYSA-N trimethyl orthoformate Substances COC(OC)OC PYOKUURKVVELLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 5
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 5
- YZUPZGFPHUVJKC-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-2-methoxyethane Chemical compound COCCBr YZUPZGFPHUVJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 4
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 150000000185 1,3-diols Chemical class 0.000 description 3
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QDMRCCGQLCIMLG-UHFFFAOYSA-N cyclobutane-1,2-dione Chemical class O=C1CCC1=O QDMRCCGQLCIMLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBJBBYOJXXZMAF-UHFFFAOYSA-N C=C=O.C=C=O.C=C=O.CC(=O)OC1=CC(=O)C1 Chemical compound C=C=O.C=C=O.C=C=O.CC(=O)OC1=CC(=O)C1 NBJBBYOJXXZMAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 2
- 229910000042 hydrogen bromide Inorganic materials 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IVDFJHOHABJVEH-UHFFFAOYSA-N pinacol Chemical compound CC(C)(O)C(C)(C)O IVDFJHOHABJVEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N (+)-propylene glycol Chemical compound C[C@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 1,3-propanediol Substances OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-2-hydroxypropanoate Chemical class NCC(O)C(O)=O BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 150000007933 aliphatic carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000011260 aqueous acid Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- BMRWNKZVCUKKSR-UHFFFAOYSA-N butane-1,2-diol Chemical compound CCC(O)CO BMRWNKZVCUKKSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWBTYPJTUOEWEK-UHFFFAOYSA-N butane-2,3-diol Chemical compound CC(O)C(C)O OWBTYPJTUOEWEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 229950005499 carbon tetrachloride Drugs 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229960001701 chloroform Drugs 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 150000002168 ethanoic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000012065 filter cake Substances 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 108700039708 galantide Proteins 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Chemical class 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N monopropylene glycol Natural products CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 229920000166 polytrimethylene carbonate Polymers 0.000 description 1
- 235000013772 propylene glycol Nutrition 0.000 description 1
- 239000003586 protic polar solvent Substances 0.000 description 1
- 125000003003 spiro group Chemical group 0.000 description 1
- PWEBUXCTKOWPCW-UHFFFAOYSA-N squaric acid Chemical compound OC1=C(O)C(=O)C1=O PWEBUXCTKOWPCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GKASDNZWUGIAMG-UHFFFAOYSA-N triethyl orthoformate Chemical compound CCOC(OCC)OCC GKASDNZWUGIAMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D493/00—Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system
- C07D493/02—Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D493/10—Spiro-condensed systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C43/00—Ethers; Compounds having groups, groups or groups
- C07C43/30—Compounds having groups
- C07C43/305—Compounds having groups having acetal carbon atoms as rings members or bound to carbon atoms of rings other than six-membered aromatic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/51—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by pyrolysis, rearrangement or decomposition
- C07C45/511—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by pyrolysis, rearrangement or decomposition involving transformation of singly bound oxygen functional groups to >C = O groups
- C07C45/515—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by pyrolysis, rearrangement or decomposition involving transformation of singly bound oxygen functional groups to >C = O groups the singly bound functional group being an acetalised, ketalised hemi-acetalised, or hemi-ketalised hydroxyl group
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 1,3−シクロブタンジオン−ビスケター
ル、その製造法およびその使用法を提供する。 【構成】 この化合物は式Iの構造を有し、1,3−シ
クロブタンジオンを酸性触媒の存在下にオルトギ酸エス
テルと反応させて、ジオールでケタール変換して得られ
る。このビスケタールは、クアドラート酸の製造、1,
3−シクロブタンジオンの製造および(または)精製のた
めの中間体として、あるいはこの不安定なジオンの安定
した貯蔵形態または代用品として好適である。 [式中、R1a,R1b,R3aおよびR3bは、同一
であって、それぞれ直鎖または分枝鎖の低級アルキル基
を表わすか、またはR1aおよびR1bとR3aおよび
R3bとがそれぞれグループで同じ意味を有し、ケター
ルの酸素原子およびその間に位置する炭素原子とともに
それぞれ、場合により1個以上の低級アルキル基により
置換された、5員または6員の、シクロブタン環とスピ
ロ結合した環を形成する。]
ル、その製造法およびその使用法を提供する。 【構成】 この化合物は式Iの構造を有し、1,3−シ
クロブタンジオンを酸性触媒の存在下にオルトギ酸エス
テルと反応させて、ジオールでケタール変換して得られ
る。このビスケタールは、クアドラート酸の製造、1,
3−シクロブタンジオンの製造および(または)精製のた
めの中間体として、あるいはこの不安定なジオンの安定
した貯蔵形態または代用品として好適である。 [式中、R1a,R1b,R3aおよびR3bは、同一
であって、それぞれ直鎖または分枝鎖の低級アルキル基
を表わすか、またはR1aおよびR1bとR3aおよび
R3bとがそれぞれグループで同じ意味を有し、ケター
ルの酸素原子およびその間に位置する炭素原子とともに
それぞれ、場合により1個以上の低級アルキル基により
置換された、5員または6員の、シクロブタン環とスピ
ロ結合した環を形成する。]
Description
【0001】本発明は、新規な1,3−シクロブタンジ
オン−ビスケタール、それらの製造方法およびそれらの
使用、とくにクアドラート酸製造への使用に関する。
オン−ビスケタール、それらの製造方法およびそれらの
使用、とくにクアドラート酸製造への使用に関する。
【0002】クアドラート酸(1,2−ジヒドロキシシ
クロブテン−3,4−ジオン)は、染料、除草剤および
医薬有効成分を製造するための重要な中間体である。
長年にわたってクアドラート酸の経済的な製造方法は知
られていなかったが、最近クアドラート酸を3−アセト
キシ−2−シクロブテン−1−オン(トリケテン)か
ら、またはそれから得られる1,3−シクロブタンジオ
ンないしそのエノラートから製造することに成功した
(EP特許出願442431および444563)。
しかし、これらの方法は、トリケテンまたは安定性の低
い1,3−シクロブタンジオンの経費のかかる分離を必
要とする。
クロブテン−3,4−ジオン)は、染料、除草剤および
医薬有効成分を製造するための重要な中間体である。
長年にわたってクアドラート酸の経済的な製造方法は知
られていなかったが、最近クアドラート酸を3−アセト
キシ−2−シクロブテン−1−オン(トリケテン)か
ら、またはそれから得られる1,3−シクロブタンジオ
ンないしそのエノラートから製造することに成功した
(EP特許出願442431および444563)。
しかし、これらの方法は、トリケテンまたは安定性の低
い1,3−シクロブタンジオンの経費のかかる分離を必
要とする。
【0003】本発明の目的は、ケテンからジケテンを工
業的に製造する際に大量に発生するトリケテン含有残留
物から容易に製造および分離することができる、1,3
−シクロブタンジオンの安定した誘導体を提供するこ
と、およびそれらをクアドラート酸に変換する方法を提
供することである。
業的に製造する際に大量に発生するトリケテン含有残留
物から容易に製造および分離することができる、1,3
−シクロブタンジオンの安定した誘導体を提供するこ
と、およびそれらをクアドラート酸に変換する方法を提
供することである。
【0004】これらの目的は、請求項1の1,3−シク
ロブタンジオン−ビスケタールにより達成される。
ロブタンジオン−ビスケタールにより達成される。
【0005】本発明の1,3−シクロブタンジオン−ビ
スケタールは一般式
スケタールは一般式
【0006】
【化9】
【0007】[式中、R1a、R1b、R3aおよびR3bは同
一であって、それぞれ直鎖または分枝鎖の低級アルキル
基を表わすか、またはR1aおよびR1bとR3aおよびR3b
とがそれぞれグループで同じ意味を有し、ケタールの酸
素原子およびその間に位置する炭素原子とともにそれぞ
れ、場合により1個以上の低級アルキル基により置換さ
れた、5員または6員の、シクロブタン環とスピロ結合
した環を形成する。]を有する。
一であって、それぞれ直鎖または分枝鎖の低級アルキル
基を表わすか、またはR1aおよびR1bとR3aおよびR3b
とがそれぞれグループで同じ意味を有し、ケタールの酸
素原子およびその間に位置する炭素原子とともにそれぞ
れ、場合により1個以上の低級アルキル基により置換さ
れた、5員または6員の、シクロブタン環とスピロ結合
した環を形成する。]を有する。
【0008】したがって、第一の形は1,3−シクロブ
タンジオンと1価アルコールのビスケタールに相当し、
第二の形は1,2−ないし1,3−ジオールとのビスケ
タールに相当する。 低級アルキル基とは、以下、1〜
6、好ましくは1〜4個の炭素原子を有するアルキル
基、したがってたとえばメチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、ブチル、イソブチル、sec.−ブチル、ペン
チル、イソペンチルおよびヘキシルを意味する。 メタ
ノールまたはエタノールに由来する、したがって低級ア
ルキル基がメチルまたはエチルであるビスケタールがと
くに好ましい。1,2−および1,3−ジオールとのビ
スケタールでは、R1aおよびR1bならびにR3aおよびR
3bが共同で、それぞれ1,2−エタンジイル、1,2−
プロパンジイル、1,3−プロパンジイル、1,2−ブ
タンジイル、1,3−ブタンジイル、2,3−ブタンジ
イル、2,2−ジメチル−1,2−プロパンジイルまた
は2,3−ジメチル−2,3−ブタンジイル基を形成す
る、したがってエタンジオール、1,2−プロパンジオ
ール、1,3−プロパンジオール、1,2−ブタンジオ
ール、1,3−ブタンジオール、2,3−ブタンジオー
ル、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール(ネ
オペンチルグリコール)または2,3−ジメチル−2,
3−ブタンジオール(ピナコール)に由来するビスケタ
ールが好ましい。
タンジオンと1価アルコールのビスケタールに相当し、
第二の形は1,2−ないし1,3−ジオールとのビスケ
タールに相当する。 低級アルキル基とは、以下、1〜
6、好ましくは1〜4個の炭素原子を有するアルキル
基、したがってたとえばメチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、ブチル、イソブチル、sec.−ブチル、ペン
チル、イソペンチルおよびヘキシルを意味する。 メタ
ノールまたはエタノールに由来する、したがって低級ア
ルキル基がメチルまたはエチルであるビスケタールがと
くに好ましい。1,2−および1,3−ジオールとのビ
スケタールでは、R1aおよびR1bならびにR3aおよびR
3bが共同で、それぞれ1,2−エタンジイル、1,2−
プロパンジイル、1,3−プロパンジイル、1,2−ブ
タンジイル、1,3−ブタンジイル、2,3−ブタンジ
イル、2,2−ジメチル−1,2−プロパンジイルまた
は2,3−ジメチル−2,3−ブタンジイル基を形成す
る、したがってエタンジオール、1,2−プロパンジオ
ール、1,3−プロパンジオール、1,2−ブタンジオ
ール、1,3−ブタンジオール、2,3−ブタンジオー
ル、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール(ネ
オペンチルグリコール)または2,3−ジメチル−2,
3−ブタンジオール(ピナコール)に由来するビスケタ
ールが好ましい。
【0009】本発明のビスケタールは、たとえば1,3
−シクロブタンジオンから、酸性触媒の存在下に対応す
るオルトギ酸エステルで変換することにより製造でき
る。これに必要なオルトギ酸エステルは、一般式
−シクロブタンジオンから、酸性触媒の存在下に対応す
るオルトギ酸エステルで変換することにより製造でき
る。これに必要なオルトギ酸エステルは、一般式
【0010】
【化10】
【0011】[式中、RaおよびRbは、式IでR1aおよ
びR1bとR3aおよびR3bとに関して記載した意味を有
し、Rは低級アルキル基である。]を有する。 Raお
よびRbが同様に低級アルキル基である場合、これはト
リアルキルオルトギ酸エステルであり、その上R、Ra
およびRbは同一である。 好ましいオルトギ酸エステ
ルは、製造すべきビスケタールIから明らかになるの
で、とくに好ましいのはトリメチルオルトギ酸エステル
およびトリエチルオルトギ酸エステルである。 同様
に、RaおよびRbが共同で直接結合した酸素原子および
その間に位置するギ酸エステルの炭素原子とともに、場
合により1個以上の低級アルキル基により置換された5
員または6員環を形成する環状オルトギ酸エステルから
は、対応するスピロケタールを製造することができる。
そのようなオルトギ酸エステルの例は、エタンジオー
ルおよびメタノールの混合オルトギ酸エステルである2
−メトキシ−1,3−ジオキソランである。 トリアル
キルオルトギ酸エステルで変換する場合、R=Ra=Rb
に当てはまるので、所望により同時に溶剤としても作用
する、対応するアルコールROHの存在下で作業するの
が好ましい。 酸性触媒としては、好ましくは酸性カチ
オン交換体、たとえばアンバーリスト−15を使用す
る。 オルトギ酸エステルによる1,3−シクロブタン
ジオンの変換は、−10〜+40℃、好ましくは0〜2
0℃の温度で行なうのが有利である。 その際、オルト
ギ酸エステルは、1,3−シクロブタンジオンの1モル
に対して2〜10モルの量で使用するのが有利である。
びR1bとR3aおよびR3bとに関して記載した意味を有
し、Rは低級アルキル基である。]を有する。 Raお
よびRbが同様に低級アルキル基である場合、これはト
リアルキルオルトギ酸エステルであり、その上R、Ra
およびRbは同一である。 好ましいオルトギ酸エステ
ルは、製造すべきビスケタールIから明らかになるの
で、とくに好ましいのはトリメチルオルトギ酸エステル
およびトリエチルオルトギ酸エステルである。 同様
に、RaおよびRbが共同で直接結合した酸素原子および
その間に位置するギ酸エステルの炭素原子とともに、場
合により1個以上の低級アルキル基により置換された5
員または6員環を形成する環状オルトギ酸エステルから
は、対応するスピロケタールを製造することができる。
そのようなオルトギ酸エステルの例は、エタンジオー
ルおよびメタノールの混合オルトギ酸エステルである2
−メトキシ−1,3−ジオキソランである。 トリアル
キルオルトギ酸エステルで変換する場合、R=Ra=Rb
に当てはまるので、所望により同時に溶剤としても作用
する、対応するアルコールROHの存在下で作業するの
が好ましい。 酸性触媒としては、好ましくは酸性カチ
オン交換体、たとえばアンバーリスト−15を使用す
る。 オルトギ酸エステルによる1,3−シクロブタン
ジオンの変換は、−10〜+40℃、好ましくは0〜2
0℃の温度で行なうのが有利である。 その際、オルト
ギ酸エステルは、1,3−シクロブタンジオンの1モル
に対して2〜10モルの量で使用するのが有利である。
【0012】本発明のビスケタールは熱的に安定してお
り、減圧蒸留により容易に分離および(または)精製する
ことができる。
り、減圧蒸留により容易に分離および(または)精製する
ことができる。
【0013】さらに、本発明のビスケタール、とくに
1,2−ないし1,3−ジオールに由来するビスケター
ルの製造方法は、2工程で行ない、まず上記のようにし
て、1,3−シクロブタンジオンを、一般式
1,2−ないし1,3−ジオールに由来するビスケター
ルの製造方法は、2工程で行ない、まず上記のようにし
て、1,3−シクロブタンジオンを、一般式
【0014】
【化11】
【0015】[式中、Rは低級アルキル基である。]の
トリアルキルオルトギ酸エステルにより、一般式
トリアルキルオルトギ酸エステルにより、一般式
【0016】
【化12】
【0017】の対応するビスケタールに変換し、続いて
一般式
一般式
【0018】
【化13】
【0019】[式中、Qは、場合により1個以上の低級
アルキル基により置換されたエタンジイル基またはプロ
パンジイル基である。]のジオールでケタール変換する
ことにより、それに対応するスピロケタールに変換す
る。 この方法では、好ましくはまずトリメチル−また
はトリエチルオルトギ酸エステルにより、ビス−ジメチ
ル−ないしビス−ジエチルケタールを製造する。
アルキル基により置換されたエタンジイル基またはプロ
パンジイル基である。]のジオールでケタール変換する
ことにより、それに対応するスピロケタールに変換す
る。 この方法では、好ましくはまずトリメチル−また
はトリエチルオルトギ酸エステルにより、ビス−ジメチ
ル−ないしビス−ジエチルケタールを製造する。
【0020】基Qは、好ましくは1,2−エタンジイ
ル、1,2−プロパンジイル、1,3−プロパンジイ
ル、1,2−ブタンジイル、2,3−ブタンジイル、
2,2−ジメチル−2,3−プロパンジイルまたは2,
3−ジメチル−2,3−ブタンジイルである。
ル、1,2−プロパンジイル、1,3−プロパンジイ
ル、1,2−ブタンジイル、2,3−ブタンジイル、
2,2−ジメチル−2,3−プロパンジイルまたは2,
3−ジメチル−2,3−ブタンジイルである。
【0021】本発明のビスケタールを製造するための、
本発明のもう一つの方法では、式
本発明のもう一つの方法では、式
【0022】
【化14】
【0023】の3−アセトキシ−2−シクロブテン−1
−オン(トリケテン)から出発する。ここでは、1,3
−シクロブタンジオンのモノエノール酢酸エステルが重
要である。 これには、このトリケテンを、1,3−シ
クロブタンジオンに関して上に記載した方法により、オ
ルトギ酸エステルで変換するのが有利である。 その
際、純粋なトリケテンではなく、工業的なジケテン蒸留
のトリケテン含有残留物を使用するのが有利である。
−オン(トリケテン)から出発する。ここでは、1,3
−シクロブタンジオンのモノエノール酢酸エステルが重
要である。 これには、このトリケテンを、1,3−シ
クロブタンジオンに関して上に記載した方法により、オ
ルトギ酸エステルで変換するのが有利である。 その
際、純粋なトリケテンではなく、工業的なジケテン蒸留
のトリケテン含有残留物を使用するのが有利である。
【0024】とくに、オルトギ酸エステルとしてとくに
好ましいトリメチルオルトギ酸エステルを使用する場
合、これによってトリケテンを残留物からほとんど定量
的に分離し、利用することができる。 その際、ビスケ
タールの分離は、たとえば薄層蒸発装置で、簡単な減圧
蒸留により行なうことができる。
好ましいトリメチルオルトギ酸エステルを使用する場
合、これによってトリケテンを残留物からほとんど定量
的に分離し、利用することができる。 その際、ビスケ
タールの分離は、たとえば薄層蒸発装置で、簡単な減圧
蒸留により行なうことができる。
【0025】本発明の1,3−シクロブタンジオン−ビ
スケタールは、クアドラート酸製造のための原料として
使用するのが好ましい。 これには、ケタールをまずハ
ロゲン化し、続いて中間体として形成されたハロゲン化
合物を加水分解する。
スケタールは、クアドラート酸製造のための原料として
使用するのが好ましい。 これには、ケタールをまずハ
ロゲン化し、続いて中間体として形成されたハロゲン化
合物を加水分解する。
【0026】このハロゲン化は、水の存在下に、ないし
水を添加しながら行なうのが有利である。 その際おそ
らく、ケタール官能基が完全に、または部分的に加水分
解され、その加水分解生成物がその場でハロゲン化され
る。 好ましくはハロゲン化を元素状の塩素または臭素
で、とくに好ましくは臭素で行なう。 その際、ハロゲ
ンは、原料1モルあたり2.5〜4モル、好ましくは3
〜3.5モルの量で使用する。 ハロゲン化は、0〜8
0℃、好ましくは10〜40℃の温度で行なうのが有利
である。 溶剤としては、元素状のハロゲンに対して安
定したすべてのプロトン性および非プロトン性溶剤、と
くに低級脂肪族カルボン酸、それらのエステルおよび無
水物、ならびにハロゲン化アルカンが適している。 こ
れらの溶剤の例としては、酢酸、酢酸エチル、無水酢
酸、ジクロロメタン、トリクロロメタンおよびテトラク
ロロメタンを挙げることができる。 溶剤としては酢酸
がとくに好ましい。
水を添加しながら行なうのが有利である。 その際おそ
らく、ケタール官能基が完全に、または部分的に加水分
解され、その加水分解生成物がその場でハロゲン化され
る。 好ましくはハロゲン化を元素状の塩素または臭素
で、とくに好ましくは臭素で行なう。 その際、ハロゲ
ンは、原料1モルあたり2.5〜4モル、好ましくは3
〜3.5モルの量で使用する。 ハロゲン化は、0〜8
0℃、好ましくは10〜40℃の温度で行なうのが有利
である。 溶剤としては、元素状のハロゲンに対して安
定したすべてのプロトン性および非プロトン性溶剤、と
くに低級脂肪族カルボン酸、それらのエステルおよび無
水物、ならびにハロゲン化アルカンが適している。 こ
れらの溶剤の例としては、酢酸、酢酸エチル、無水酢
酸、ジクロロメタン、トリクロロメタンおよびテトラク
ロロメタンを挙げることができる。 溶剤としては酢酸
がとくに好ましい。
【0027】クアドラート酸への加水分解は、必要量の
水(クアドラート酸1モルあたり2モル)または過剰の
水を含む硫酸で行なうのが好ましい。 また、加水分解
を水単独で、または他の水性酸つまり酸の水溶液で行な
うこともできる。 そのような酸の例としては、塩酸、
臭化水素酸、水性リン酸のような鉱酸、水性ギ酸または
水性トリフルオロ酢酸のような強カルボン酸、あるいは
メタンスルホン酸またはp−トルエンスルホン酸のよう
な水性スルホン酸がある。 加水分解は、50〜150
℃、好ましくは80〜120℃の温度で行なうのが有利
である。
水(クアドラート酸1モルあたり2モル)または過剰の
水を含む硫酸で行なうのが好ましい。 また、加水分解
を水単独で、または他の水性酸つまり酸の水溶液で行な
うこともできる。 そのような酸の例としては、塩酸、
臭化水素酸、水性リン酸のような鉱酸、水性ギ酸または
水性トリフルオロ酢酸のような強カルボン酸、あるいは
メタンスルホン酸またはp−トルエンスルホン酸のよう
な水性スルホン酸がある。 加水分解は、50〜150
℃、好ましくは80〜120℃の温度で行なうのが有利
である。
【0028】本発明の1,3−シクロブタンジオン−ビ
スケタールのもう一つの好ましい用途は、1,3−シク
ロブタンジオンの製造および(または)精製のための使用
である。 この目的には、ビスケタールを酸の存在下に
加水分解する。 この使用は、とくにトリケテンを含む
ジケテン蒸留残留物から1,3−シクロブタンジオンを
製造するのに有用である。 というのは、これによって
トリケテンの分離および精製を行なわずに済むからであ
る。
スケタールのもう一つの好ましい用途は、1,3−シク
ロブタンジオンの製造および(または)精製のための使用
である。 この目的には、ビスケタールを酸の存在下に
加水分解する。 この使用は、とくにトリケテンを含む
ジケテン蒸留残留物から1,3−シクロブタンジオンを
製造するのに有用である。 というのは、これによって
トリケテンの分離および精製を行なわずに済むからであ
る。
【0029】本発明のビスケタールは、1,3−シクロ
ブタンジオンに容易に変換できること、およびその安定
性のために、まったく一般的に、不安定な1,3−シク
ロブタンジオンの貯蔵形態としても好適である。
ブタンジオンに容易に変換できること、およびその安定
性のために、まったく一般的に、不安定な1,3−シク
ロブタンジオンの貯蔵形態としても好適である。
【0030】以下に、実施例により本発明を説明する。
【0031】
【実施例1】1,3−シクロブタンジオンから1,1,3,3−テト
ラメトキシシクロブタンの製造 メタノール25ml中に1,3−シクロブタンジオン
3.12g(純度94.2%、33mmol)を溶解さ
せ、0℃に冷却した。 この溶液にアンバーリスト−1
5を0.78g加え、続いて20分以内に、トリメチル
オルトギ酸エステル37.9g(98%、350mmo
l)を滴下して加えた。 0℃でさらに16時間撹拌し
た後、触媒を濾別し、濾液を30℃/15mbarで濃
縮した。残留物(5.9g)を球管型の装置中で、55
〜65℃/0.8mbarで蒸留した。
ラメトキシシクロブタンの製造 メタノール25ml中に1,3−シクロブタンジオン
3.12g(純度94.2%、33mmol)を溶解さ
せ、0℃に冷却した。 この溶液にアンバーリスト−1
5を0.78g加え、続いて20分以内に、トリメチル
オルトギ酸エステル37.9g(98%、350mmo
l)を滴下して加えた。 0℃でさらに16時間撹拌し
た後、触媒を濾別し、濾液を30℃/15mbarで濃
縮した。残留物(5.9g)を球管型の装置中で、55
〜65℃/0.8mbarで蒸留した。
【0032】収量:4.79g、純度(GC)98.4
%、理論値の76.4%に相当1 H−NMR(CDCl3,300MHz)δ 3.19
(s,12H);2.34(s,4H) MS:m/z(%) 161(8,M−15),145
(11),113(8),88(50),71(5),
58(31),43(100)。
%、理論値の76.4%に相当1 H−NMR(CDCl3,300MHz)δ 3.19
(s,12H);2.34(s,4H) MS:m/z(%) 161(8,M−15),145
(11),113(8),88(50),71(5),
58(31),43(100)。
【0033】
【実施例2】1,3−シクロブタンジオンから1,1,3,3−テト
ラエトキシシクロブタンの製造 エタノール25ml中に1,3−シクロブタンジオン
3.12g(純度94.2%、35mmol)を溶解さ
せ、アンバーリスト−15を0.78g投入し、トリエ
チルオルトギ酸エステル52.9g(98%、350m
mol)とともに室温で24時間撹拌した。 続いて触
媒を濾別し、濾液を20℃/0.2mbarで濃縮し
た。 残留物(8.1g)を球管型の装置中で60〜7
0℃/0.15mbarで蒸留した。
ラエトキシシクロブタンの製造 エタノール25ml中に1,3−シクロブタンジオン
3.12g(純度94.2%、35mmol)を溶解さ
せ、アンバーリスト−15を0.78g投入し、トリエ
チルオルトギ酸エステル52.9g(98%、350m
mol)とともに室温で24時間撹拌した。 続いて触
媒を濾別し、濾液を20℃/0.2mbarで濃縮し
た。 残留物(8.1g)を球管型の装置中で60〜7
0℃/0.15mbarで蒸留した。
【0034】収量:7.22g、純度(GC)94.7
%、理論値の84.1%に相当1 H−NMR(CDCl3,300MHz)δ 3.44(q,8H);2.38(s,4H);1.2
1(t,12H) MS:m/z(%) 203(5,M−29),187
(5),129(11),116(15),101
(8),89(28),85(27),60(25),
43(100)。
%、理論値の84.1%に相当1 H−NMR(CDCl3,300MHz)δ 3.44(q,8H);2.38(s,4H);1.2
1(t,12H) MS:m/z(%) 203(5,M−29),187
(5),129(11),116(15),101
(8),89(28),85(27),60(25),
43(100)。
【0035】
【実施例3】1,3−シクロブタンジオンから1,1,3,3−テト
ラブトキシシクロブタンの製造 ブタノール15ml中に1,3−シクロブタンジオン
1.77g(純度95.0%、20mmol)を溶解さ
せ、アンバーリスト−15を0.44g投入し、トリブ
チルオルトギ酸エステル10.33g(99%、44m
mol)とともに25℃で7時間撹拌した。 続いて触
媒を濾別し、濾液を50℃/15mbarで濃縮した。
残留物(7.7g)を球管型の装置中で120〜13
5℃/0.03mbarで蒸留した。
ラブトキシシクロブタンの製造 ブタノール15ml中に1,3−シクロブタンジオン
1.77g(純度95.0%、20mmol)を溶解さ
せ、アンバーリスト−15を0.44g投入し、トリブ
チルオルトギ酸エステル10.33g(99%、44m
mol)とともに25℃で7時間撹拌した。 続いて触
媒を濾別し、濾液を50℃/15mbarで濃縮した。
残留物(7.7g)を球管型の装置中で120〜13
5℃/0.03mbarで蒸留した。
【0036】収量:3.87g、純度(GC)97.0
%、理論値の54.5%に相当1 H−NMR(CDCl3,300MHz)δ 3.35(t,8H);2.34(s,4H);1.5
4(m,8H);1.49(m,8H);0.93
(t,12H) MS:m/z(%) 287(9,M−57),271
(17),231(10),215(1),175
(2),157(54),117(40),103(6
0),101(65),85(22),61(10
0),56(64),43(23),41(59)
%、理論値の54.5%に相当1 H−NMR(CDCl3,300MHz)δ 3.35(t,8H);2.34(s,4H);1.5
4(m,8H);1.49(m,8H);0.93
(t,12H) MS:m/z(%) 287(9,M−57),271
(17),231(10),215(1),175
(2),157(54),117(40),103(6
0),101(65),85(22),61(10
0),56(64),43(23),41(59)
【0037】
【実施例4】ジケテン蒸留残留物から1,1,3,3−テトラメトキ
シシクロブタンの製造 メタノール250g中に、3−アセトキシ−2−シクロ
ブテン−1−オン(トリケテン)52.5g(0.41
6mol)およびジケテン15.0g(0.178mo
l)を溶解させ、0℃に冷却した。 続いてアンバーリ
スト−15を12.49g投入し、トリメチルオルトギ
酸エステル113.7g(98%、1.05mol)を
加え、この混合物を10℃で20時間撹拌した。 触媒
を濾別し、濾液を20℃/5mbarで濃縮した。 残
留物(235.7g)を「SAMBAY」薄層蒸発装置
中で100℃/1〜2mbarで蒸留した。
シシクロブタンの製造 メタノール250g中に、3−アセトキシ−2−シクロ
ブテン−1−オン(トリケテン)52.5g(0.41
6mol)およびジケテン15.0g(0.178mo
l)を溶解させ、0℃に冷却した。 続いてアンバーリ
スト−15を12.49g投入し、トリメチルオルトギ
酸エステル113.7g(98%、1.05mol)を
加え、この混合物を10℃で20時間撹拌した。 触媒
を濾別し、濾液を20℃/5mbarで濃縮した。 残
留物(235.7g)を「SAMBAY」薄層蒸発装置
中で100℃/1〜2mbarで蒸留した。
【0038】収量:89.9g、純度(GC)77.1
%、原料中の3−アセトキシ−2−シクロブテン−1−
オンに対して、理論値の94.6%に相当。
%、原料中の3−アセトキシ−2−シクロブテン−1−
オンに対して、理論値の94.6%に相当。
【0039】
【実施例5】1,4,8,11−テトラオキサジスピロ[4.1.
4.1]ドデカン エタンジオール19.7g中で、1,1,3,3−テト
ラメトキシシクロブタン(純度96.7%、25mmo
l)4.56gを135℃に加熱した。 その際、生じ
たメタノールが最初に常圧で分離し、続いて(2時間
後)軽揮発性の成分の残りが留別された。 室温に冷却
することにより残留物から生成物の結晶が析出したの
で、これを濾過し、20℃/0.005mbarで乾燥
させた。
4.1]ドデカン エタンジオール19.7g中で、1,1,3,3−テト
ラメトキシシクロブタン(純度96.7%、25mmo
l)4.56gを135℃に加熱した。 その際、生じ
たメタノールが最初に常圧で分離し、続いて(2時間
後)軽揮発性の成分の残りが留別された。 室温に冷却
することにより残留物から生成物の結晶が析出したの
で、これを濾過し、20℃/0.005mbarで乾燥
させた。
【0040】収量:2.11g、純度(GC)82.8
%、理論値の40.6%に相当 融点:95〜103℃1 H−NMR(CDCl3,300MHz)δ 3.93(s,8H);2.69(s,4H) MS:m/z(%) 173(0.1,M+1),14
1(2),112(3),100(23),86(10
0),68(7),56(3),55(4),42(9
4)。
%、理論値の40.6%に相当 融点:95〜103℃1 H−NMR(CDCl3,300MHz)δ 3.93(s,8H);2.69(s,4H) MS:m/z(%) 173(0.1,M+1),14
1(2),112(3),100(23),86(10
0),68(7),56(3),55(4),42(9
4)。
【0041】
【実施例6】1,5,9,13−テトラオキサジスピロ[5.1.
5.1]テトラデカン 1,3−プロパンジオール23.5g中で、1,1,
3,3−テトラメトキシシクロブタン(純度96.7
%、25mmol)4.56gを、140℃に加熱し
た。 生成したメタノールを100mbarの圧力下に
6時間以内に留別し、続いて反応混合物を室温に冷却す
ることにより、生成物が析出した。 結晶を濾過し、7
0℃/0.02mbarで乾燥させた。
5.1]テトラデカン 1,3−プロパンジオール23.5g中で、1,1,
3,3−テトラメトキシシクロブタン(純度96.7
%、25mmol)4.56gを、140℃に加熱し
た。 生成したメタノールを100mbarの圧力下に
6時間以内に留別し、続いて反応混合物を室温に冷却す
ることにより、生成物が析出した。 結晶を濾過し、7
0℃/0.02mbarで乾燥させた。
【0042】収量:2.10g、純度(GC)87.4
%、理論値の36.6%に相当 融点:147〜151℃1 H−NMR(CDCl3,300MHz)δ 3.86(t,8H);2.53(s,4H);1.7
(quint,4H) MS:m/z(%) 201(0.5,M+1),17
2(2),157(6),140(1),113(2
5),100(100),72(18),70(1
4),57(9),42(75)。
%、理論値の36.6%に相当 融点:147〜151℃1 H−NMR(CDCl3,300MHz)δ 3.86(t,8H);2.53(s,4H);1.7
(quint,4H) MS:m/z(%) 201(0.5,M+1),17
2(2),157(6),140(1),113(2
5),100(100),72(18),70(1
4),57(9),42(75)。
【0043】
【実施例7】3,3,11,11−テトラメチル−1,5,9,13
−テトラオキサジスピロ[5.1.5.1]テトラデカ
ン 2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール31.8
8g中で、1,1,3,3−テトラメトキシシクロブタ
ン(純度96.7%、25mmol)4.56gを14
0℃に加熱した。 2時間以内に生じたメタノールを2
00mbarで留別した。 続いて昇華装置中、140
℃/50mbarで過剰のジオールを分離したところ、
生成物が残留物として残った。
−テトラオキサジスピロ[5.1.5.1]テトラデカ
ン 2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール31.8
8g中で、1,1,3,3−テトラメトキシシクロブタ
ン(純度96.7%、25mmol)4.56gを14
0℃に加熱した。 2時間以内に生じたメタノールを2
00mbarで留別した。 続いて昇華装置中、140
℃/50mbarで過剰のジオールを分離したところ、
生成物が残留物として残った。
【0044】収量:3.95g、純度(GC)93.5
%、理論値の52.4%に相当 融点:166〜171℃1 H−NMR(CDCl3,300MHz)δ 3.44(s,8H);2.52(s,4H);0.9
8(s,12H) MS:m/z(%) 257(1,M+1),241
(5),200(2),186(5),171(2),
141(32),128(100),86(11),8
5(11),69(90),57(38),55(3
2),43(49),42(36),41(70)。
%、理論値の52.4%に相当 融点:166〜171℃1 H−NMR(CDCl3,300MHz)δ 3.44(s,8H);2.52(s,4H);0.9
8(s,12H) MS:m/z(%) 257(1,M+1),241
(5),200(2),186(5),171(2),
141(32),128(100),86(11),8
5(11),69(90),57(38),55(3
2),43(49),42(36),41(70)。
【0045】
【実施例8】クアドラート酸 水36.6gを含む酢酸1000ml中に、1,1,
3,3−テトラメトキシシクロブタン104.6g(純
度85.9%、0.50mol)を溶解させた。この溶
液に、臭化水素4.07g(50mmol)を酢酸8.
2gに溶解した液を加え、10℃で30分間撹拌した。
続いて臭素284.4g(1.78mol)を1.5
時間内に滴下して加え、この混合物を15℃でさらに
1.25時間撹拌した。 この反応混合物を40℃/1
5mbarで300mlに濃縮し、100℃で1.5時
間以内に、硫酸250mlおよび水18.0g(1mo
l)の混合物に滴下した。 その際、激しいガス発生
(HBr)が起り、懸濁液が生じた。 この懸濁液を1
00℃でさらに13時間撹拌し、冷却し、濾過した。フ
ィルターケーキを各100mlのアセトンで3回洗浄
し、続いて20℃/0.1mbarで乾燥させた。
3,3−テトラメトキシシクロブタン104.6g(純
度85.9%、0.50mol)を溶解させた。この溶
液に、臭化水素4.07g(50mmol)を酢酸8.
2gに溶解した液を加え、10℃で30分間撹拌した。
続いて臭素284.4g(1.78mol)を1.5
時間内に滴下して加え、この混合物を15℃でさらに
1.25時間撹拌した。 この反応混合物を40℃/1
5mbarで300mlに濃縮し、100℃で1.5時
間以内に、硫酸250mlおよび水18.0g(1mo
l)の混合物に滴下した。 その際、激しいガス発生
(HBr)が起り、懸濁液が生じた。 この懸濁液を1
00℃でさらに13時間撹拌し、冷却し、濾過した。フ
ィルターケーキを各100mlのアセトンで3回洗浄
し、続いて20℃/0.1mbarで乾燥させた。
【0046】収量:51.46g、純度(HPLC)9
3.3%、理論値の84.2%に相当
3.3%、理論値の84.2%に相当
【0047】
【実施例9】1,3−シクロブタンジオン ギ酸−水の混合物(95:5)16.4g中に、1,
1,3,3−テトラメトキシシクロブタン1.82g
(純度85.9%、0.50mol)を溶解させ、この
溶液を0℃で2時間撹拌した。 続いてこの混合物を2
0℃/0.1mbarで蒸発させた。 残留物(0.6
6g)を酢酸エチル1.5mlで洗浄し、乾燥させた。
1,3,3−テトラメトキシシクロブタン1.82g
(純度85.9%、0.50mol)を溶解させ、この
溶液を0℃で2時間撹拌した。 続いてこの混合物を2
0℃/0.1mbarで蒸発させた。 残留物(0.6
6g)を酢酸エチル1.5mlで洗浄し、乾燥させた。
【0048】収量:0.32g、純度(HPLC)9
4.1%、理論値の35.8%に相当 融点:112℃(分解)
4.1%、理論値の35.8%に相当 融点:112℃(分解)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // C07B 61/00 300
Claims (15)
- 【請求項1】 一般式 【化1】 [式中、R1a、R1b、R3aおよびR3bは、同一であっ
て、それぞれ直鎖または分枝鎖の低級アルキル基を表わ
すか、またはR1aおよびR1bとR3aおよびR3bとがそれ
ぞれグループで同じ意味を有し、ケタールの酸素原子お
よびその間に位置する炭素原子とともにそれぞれ、場合
により1個以上の低級アルキル基により置換された、5
員または6員の、シクロブタン環とスピロ結合した環を
形成する。]の1,3−シクロブタンジオン−ビスケタ
ール。 - 【請求項2】 R1a、R1b、R3aおよびR3bが、メチ
ル、エチル、プロピルおよびブチルからなるグループか
ら選択されることを特徴とする請求項1の化合物。 - 【請求項3】 R1aおよびR1bならびにR3aおよびR3b
が共同で、1,2−エタンジイル、1,2−プロパンジ
イル、1,3−プロパンジイル、1,2−ブタンジイ
ル、1,3−ブタンジイル、2,3−ブタンジイル、
2,2−ジメチル−1,3−プロパンジイルおよび2,
3−ジメチル−2,3−ブタンジイルからなるグループ
から選択された炭素鎖を形成していることを特徴とする
請求項1の化合物。 - 【請求項4】 請求項1の1,3−シクロブタンジオン
−ビスケタール(I)を製造する方法において、1,3−
シクロブタンジオンを、酸性触媒の存在下に、一般式 【化2】 [式中、RaおよびRbは、式IでR1aおよびR1bとR3a
およびR3bとに関して記載した意味を有し、Rは低級ア
ルキル基であり、RaおよびRbが同様に低級アルキル基
である限り、R、RaおよびRbは同一である。]のオル
トギ酸エステルで変換することを特徴とする製造方法。 - 【請求項5】 R、RaおよびRbが同一であり、対応す
るアルコールROHの存在下にオルトギ酸エステルを用
いて変換を行なうことを特徴とする請求項4の製造方
法。 - 【請求項6】 酸性触媒として強酸性カチオン交換体を
使用することを特徴とする請求項4または5の製造方
法。 - 【請求項7】 請求項1の1,3−シクロブタンジオン
−ビスケタール(I)を製造する方法において、1,3−
シクロブタンジオンを、酸性触媒の存在下に、第一工程
で、一般式 【化3】 [式中、Rは低級アルキル基である。]のオルトギ酸エ
ステルにより、一般式 【化4】 [式中、Rは上記の意味を有する。]のビスケタールに
変換し、第二工程で、一般式 【化5】 [式中、Qは、場合により1個以上の低級アルキル基に
より置換されたエタンジイル基またはプロパンジイル基
である。]のジオールでケタール変換することを特徴と
する製造方法。 - 【請求項8】 Rがメチルまたはエチルであることを特
徴とする請求項7の製造方法。 - 【請求項9】 Qが、1,2−エタンジイル、1,2−
プロパンジイル、1,3−プロパンジイル、1,2−ブ
タンジイル、1,3−ブタンジイル、2,3−ブタンジ
イル、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジイルおよ
び2,3−ジメチル−2,3−ブタンジイルからなるグ
ループから選択されたものであることを特徴とする請求
項7または8の製造方法。 - 【請求項10】 請求項1の1,3−シクロブタンジオ
ン−ビスケタール(I)を製造する方法において、式 【化6】 の3−アセトキシ−2−シクロブテン−1−オンを、酸
性触媒の存在下に、一般式 【化7】 [式中、RaおよびRbは、式IでR1aおよびR1bとR3a
およびR3bとに関して記載した意味を有し、Rは低級ア
ルキル基であり、RaおよびRbが同様に低級アルキル基
である限り、R、RaおよびRbは同一である。]のオル
トギ酸エステルで変換することを特徴とする製造方法。 - 【請求項11】 3−アセトキシ−2−シクロブテン−
1−オンを、ケテンからジケテンを製造する際に生じる
蒸留残留物の形で使用することを特徴とする請求項10
の製造方法。 - 【請求項12】 R、RaおよびRbが同一であり、対応
するアルコールROHの存在下にオルトギ酸エステルを
用いて変換を行なうことを特徴とする請求項10または
11の製造方法。 - 【請求項13】 式Iの1,3−シクロブタンジオン−
ビスケタールの、式 【化8】 のクアドラート酸製造のための使用において、1,3−
シクロブタンジオン−ビスケタールをまずハロゲン化
し、次いでクアドラート酸に加水分解することを特徴と
する使用。 - 【請求項14】 ハロゲン化を元素状の塩素または臭素
により行なうことを特徴とする請求項13の使用。 - 【請求項15】 式Iの1,3−シクロブタンジオン−
ビスケタールの、1,3−シクロブタンジオンの製造お
よび(または)精製のための使用において、1,3−シク
ロブタンジオン−ビスケタールを酸の存在下に加水分解
することを特徴とする使用。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH92992 | 1992-03-24 | ||
| CH929/92-4 | 1992-03-24 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0648973A true JPH0648973A (ja) | 1994-02-22 |
Family
ID=4198457
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5063587A Pending JPH0648973A (ja) | 1992-03-24 | 1993-03-23 | 1,3−シクロブタンジオン−ビスケタール、その製造方法およびその使用 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5360937A (ja) |
| EP (1) | EP0562530A1 (ja) |
| JP (1) | JPH0648973A (ja) |
| CA (1) | CA2092353A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19711758C2 (de) * | 1997-03-21 | 2003-06-18 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von 1,3-Dioxanverbindungen |
| US7498265B2 (en) | 2006-10-04 | 2009-03-03 | Micron Technology, Inc. | Epitaxial silicon growth |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3129248A (en) * | 1960-07-18 | 1964-04-14 | Du Pont | Preparation of fluorocyclobutanones |
| US3402181A (en) * | 1965-03-31 | 1968-09-17 | Givaudan Corp | Lower alkylene ketals of cyclopentanedione |
| US3468848A (en) * | 1965-07-08 | 1969-09-23 | Montedison Spa | Polyoxymethylene copolymers from trioxane an cyclic ketals |
| IE64516B1 (en) * | 1990-02-12 | 1995-08-09 | Lonza Ag | A process for the preparation of quadratic acid |
| IE65907B1 (en) * | 1990-02-26 | 1995-11-29 | Lonza Ag | New 3-hydroxy-2-cyclobuten-1-one salts their preparation and use |
-
1993
- 1993-03-22 US US08/035,089 patent/US5360937A/en not_active Expired - Fee Related
- 1993-03-22 EP EP93104703A patent/EP0562530A1/de not_active Withdrawn
- 1993-03-23 JP JP5063587A patent/JPH0648973A/ja active Pending
- 1993-03-24 CA CA002092353A patent/CA2092353A1/en not_active Abandoned
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0562530A1 (de) | 1993-09-29 |
| US5360937A (en) | 1994-11-01 |
| CA2092353A1 (en) | 1993-09-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| IL192213A (en) | Methods for making an ester of unsaturated cyclic acid having a catalytic functional group or salts thereof | |
| JPS623141B2 (ja) | ||
| JPH0648973A (ja) | 1,3−シクロブタンジオン−ビスケタール、その製造方法およびその使用 | |
| JPS6412261B2 (ja) | ||
| JPH021827B2 (ja) | ||
| RU2015966C1 (ru) | Способ получения алкил-(не)замещенных 2-[4-(1-оксо-2-изоиндолинил)фенил]уксусных кислот или их нитрилов | |
| US5183908A (en) | Process for the preparation of substituted furanones | |
| JPS6248648A (ja) | ジアルコキシ酢酸エステル化合物の製造法 | |
| JP2001521036A (ja) | スワインソニン塩の合成 | |
| JPS6126556B2 (ja) | ||
| US2474715A (en) | Process of preparing substituted propionic acids | |
| US5849949A (en) | Process for preparing alkyl- and arylmalonic acids | |
| CS196365B2 (en) | Process for preparing di-n-propylacetonitrile | |
| US2459059A (en) | Method for preparing alkyl acyloxy acrylates | |
| KR100515922B1 (ko) | 디벤조티에핀 유도체의 개선된 제조방법 | |
| JP2755368B2 (ja) | ピリミジン誘導体及びチアミンの製造方法 | |
| SU295424A1 (ru) | Способ получени алифатических эфиров трихлоруксусной кислоты | |
| SU396343A1 (ru) | Ан ссср | |
| KR900001173B1 (ko) | 2-알콕시카르보닐-4-(4-피리딜)시클로헥사논의 제조방법 | |
| WO2025022637A1 (ja) | カルボン酸エステル誘導体の脱水縮合をともなう環化反応による環化生成物の製造方法、および1,3,4-置換-ピラゾール-5-カルボン酸エステル類の製造方法 | |
| EP0348549A1 (en) | Improved process for the preparation of substituted furanones | |
| SU793380A3 (ru) | Способ получени замещенных индануксусных кислот или из солей или эфиров | |
| SU787410A1 (ru) | Способ получени 2-метил-2,2- бидиоксацикланов-1,3 | |
| JPH0159266B2 (ja) | ||
| JPS588375B2 (ja) | プロピオン酸誘導体化合物 |