JPH0649355A - 不飽和コポリマーアミドをベースとする成形材料 - Google Patents
不飽和コポリマーアミドをベースとする成形材料Info
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- JPH0649355A JPH0649355A JP5042540A JP4254093A JPH0649355A JP H0649355 A JPH0649355 A JP H0649355A JP 5042540 A JP5042540 A JP 5042540A JP 4254093 A JP4254093 A JP 4254093A JP H0649355 A JPH0649355 A JP H0649355A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 不飽和コポリアミドをベースとする成形材料
を提供する。 【構成】 該成形材料は、Ａ）少なくとも１個のオレフ
ィン系二重結合を含有するモノマー（モノマーａ1）
と、オレフィン系二重結合を含有しないモノマー（モノ
マーａ2）をベースとするコポリアミド４０〜１００重
量％、Ｂ）衝撃強さ変性ゴム０〜３５重量％、Ｃ）充填
剤及び／又は強化剤０〜５０重量％、Ｄ）防炎加工剤０
〜２０重量％及びＥ）その他の添加剤及び加工助剤０〜
１０重量％からなる。
を提供する。 【構成】 該成形材料は、Ａ）少なくとも１個のオレフ
ィン系二重結合を含有するモノマー（モノマーａ1）
と、オレフィン系二重結合を含有しないモノマー（モノ
マーａ2）をベースとするコポリアミド４０〜１００重
量％、Ｂ）衝撃強さ変性ゴム０〜３５重量％、Ｃ）充填
剤及び／又は強化剤０〜５０重量％、Ｄ）防炎加工剤０
〜２０重量％及びＥ）その他の添加剤及び加工助剤０〜
１０重量％からなる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、Ａ）少なくとも１個の
オレフィン系二重結合を含有する少なくとも１種のモノ
マー（モノマーａ1）、コポリアミドに対して１〜２０
モル％及びオレフィン系二重結合を含有しない少なくと
も１種のモノマー（モノマーａ2）、コポリアミドに対
して８０〜９９モル％をベースとするコポリアミド４０
〜１００重量％、 ａ1）前記モノマー（モノマーａ1）は、 α1）オレフィン不飽和ラクタム、 α2）オレフィン不飽和アミノカルボン酸 α3）オレフィン不飽和ジカルボン酸 α4）オレフィン不飽和ジアミン、 の群から選択される、かつ ａ2）前記モノマー（モノマーａ2）は、 β1）ラクタム、 β2）アミノカルボン酸、 β3）ジカルボン酸、 β4）ジアミン、 の群から選択される、及び Ｂ）衝撃強さ変性ゴム０〜３５重量％、及び Ｃ）充填剤及び／又は強化剤０〜５０重量％、及び Ｄ）防炎加工剤０〜２０重量％、及び Ｅ）その他の添加剤及び加工助剤０〜１０重量％の成分
からなる成形材料に関する。
オレフィン系二重結合を含有する少なくとも１種のモノ
マー（モノマーａ1）、コポリアミドに対して１〜２０
モル％及びオレフィン系二重結合を含有しない少なくと
も１種のモノマー（モノマーａ2）、コポリアミドに対
して８０〜９９モル％をベースとするコポリアミド４０
〜１００重量％、 ａ1）前記モノマー（モノマーａ1）は、 α1）オレフィン不飽和ラクタム、 α2）オレフィン不飽和アミノカルボン酸 α3）オレフィン不飽和ジカルボン酸 α4）オレフィン不飽和ジアミン、 の群から選択される、かつ ａ2）前記モノマー（モノマーａ2）は、 β1）ラクタム、 β2）アミノカルボン酸、 β3）ジカルボン酸、 β4）ジアミン、 の群から選択される、及び Ｂ）衝撃強さ変性ゴム０〜３５重量％、及び Ｃ）充填剤及び／又は強化剤０〜５０重量％、及び Ｄ）防炎加工剤０〜２０重量％、及び Ｅ）その他の添加剤及び加工助剤０〜１０重量％の成分
からなる成形材料に関する。
【０００２】更に本発明は、成形体、繊維又は平面状形
成物を製造するための成形材料の使用、並びに該成形材
料から得られる成形体、繊維及び平面状形成物に関す
る。更に、本発明は、該成形体、繊維及び平面状形成物
を製造するための方法に関する。
成物を製造するための成形材料の使用、並びに該成形材
料から得られる成形体、繊維及び平面状形成物に関す
る。更に、本発明は、該成形体、繊維及び平面状形成物
を製造するための方法に関する。
【０００３】
【従来の技術】主鎖内にオレフィン系二重結合を有する
ポリアミドは、例えば P.Corrachiniet al：Europ. Pol
ym. J.、 12（7）、463（1976）、 G.Maglio et al:Por
ymer、17（3）、185（1976）及び F.Carriere: Bull. S
oc. Chim. Fr.10、3965（1972）から公知であり、その
物理的特性については検査済みである。
ポリアミドは、例えば P.Corrachiniet al：Europ. Pol
ym. J.、 12（7）、463（1976）、 G.Maglio et al:Por
ymer、17（3）、185（1976）及び F.Carriere: Bull. S
oc. Chim. Fr.10、3965（1972）から公知であり、その
物理的特性については検査済みである。
【０００４】ドイツ国特許出願公開第３９０６６８４号
明細書から、主鎖内に及び／又は側鎖にオレフィン系二
重結合を含有する芳香族ポリアミド樹脂を高エネルギー
ビームにより架橋できることが公知である。しかしなが
ら、該特性から多数の使用目的には適さない。
明細書から、主鎖内に及び／又は側鎖にオレフィン系二
重結合を含有する芳香族ポリアミド樹脂を高エネルギー
ビームにより架橋できることが公知である。しかしなが
ら、該特性から多数の使用目的には適さない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の解決
する課題は、成形体又は平面状形成物の製造に適し、問
題なく架橋でき、かつ均質な生成物の品質により、特に
高い熱形状安定性により優れた、ポリアミドをベースと
する成形材料を提供することであった。
する課題は、成形体又は平面状形成物の製造に適し、問
題なく架橋でき、かつ均質な生成物の品質により、特に
高い熱形状安定性により優れた、ポリアミドをベースと
する成形材料を提供することであった。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題は、オレフィン
系二重結合を含有するコポリアミドをベースとする、本
発明による成形材料により解決される。
系二重結合を含有するコポリアミドをベースとする、本
発明による成形材料により解決される。
【０００７】本発明によれば、該成形材料は、オレフィ
ン系二重結合を含有するコポリアミド（成分(Ａ)）、成
形材料の全重量に対して４０〜１００重量％、有利には
５０〜９０重量％、特に６０〜８０重量％、衝撃強さ変
性ゴム（成分（Ｂ）、成形材料の全重量に対して０〜３
５重量％、有利には５〜２５、特に１０〜２０重量
％）、充填剤及び強化剤（成分(Ｃ)）、成形材料の全重
量に対して０〜５０重量％、有利には１０〜４０、特に
１５〜３５重量％、防炎加工剤（成分(Ｄ)）、成形材料
の全重量に対して０〜２０重量％、有利には５〜２０重
量％、特に５〜１５重量％及びその他の添加剤及び助剤
（成分(Ｅ)）、成形材料の全重量に対して０〜１０重量
％、有利には０〜５重量％、特に０．５〜２重量％から
なる。
ン系二重結合を含有するコポリアミド（成分(Ａ)）、成
形材料の全重量に対して４０〜１００重量％、有利には
５０〜９０重量％、特に６０〜８０重量％、衝撃強さ変
性ゴム（成分（Ｂ）、成形材料の全重量に対して０〜３
５重量％、有利には５〜２５、特に１０〜２０重量
％）、充填剤及び強化剤（成分(Ｃ)）、成形材料の全重
量に対して０〜５０重量％、有利には１０〜４０、特に
１５〜３５重量％、防炎加工剤（成分(Ｄ)）、成形材料
の全重量に対して０〜２０重量％、有利には５〜２０重
量％、特に５〜１５重量％及びその他の添加剤及び助剤
（成分(Ｅ)）、成形材料の全重量に対して０〜１０重量
％、有利には０〜５重量％、特に０．５〜２重量％から
なる。
【０００８】コポリアミド（Ａ）は、少なくとも１個の
オレフィン系二重結合を有し、それぞれオレフィン系不
飽和ラクタム、アミノカルボン酸、ジカルボン酸及びジ
アミンの群に属する少なくとも１種のモノマー
（ａ1）、成分（Ａ）に対して１〜２０モル％、有利に
は２〜１５モル％、特に２〜１０モル％をベースとして
構成されている。一般的に該不飽和モノマーは、有利に
は互いに共役しない、５個以下、特に３以下のオレフィ
ン系二重結合を有する。オレフィン系二重結合の他にモ
ノマー（ａ1）は、芳香族二重結合も有していてよく、
その際、オレフィン系及び芳香族二重結合は有利にも互
いに共役していない。芳香族環の他にモノマー（ａ1）
は、脂環式環も含有していてよい。その際、二重結合を
カルボニル官能基に対してα位に含有する化合物は、モ
ノマー（ａ1）として僅かに適している。しかしながら
二重結合をカルボニル官能基に対してα位に含有する、
６個以上の炭素原子を有する脂肪族の化合物は、モノマ
ー（α）として適している。
オレフィン系二重結合を有し、それぞれオレフィン系不
飽和ラクタム、アミノカルボン酸、ジカルボン酸及びジ
アミンの群に属する少なくとも１種のモノマー
（ａ1）、成分（Ａ）に対して１〜２０モル％、有利に
は２〜１５モル％、特に２〜１０モル％をベースとして
構成されている。一般的に該不飽和モノマーは、有利に
は互いに共役しない、５個以下、特に３以下のオレフィ
ン系二重結合を有する。オレフィン系二重結合の他にモ
ノマー（ａ1）は、芳香族二重結合も有していてよく、
その際、オレフィン系及び芳香族二重結合は有利にも互
いに共役していない。芳香族環の他にモノマー（ａ1）
は、脂環式環も含有していてよい。その際、二重結合を
カルボニル官能基に対してα位に含有する化合物は、モ
ノマー（ａ1）として僅かに適している。しかしながら
二重結合をカルボニル官能基に対してα位に含有する、
６個以上の炭素原子を有する脂肪族の化合物は、モノマ
ー（α）として適している。
【０００９】一般に６〜１２個、特に６〜７個の炭素原
子を有するオレフィン系不飽和ラクタム（α1）には、
３−ヘキセン酸ラクタム、４−ヘキセン酸ラクタム、５
−ヘキセン酸ラクタム、３−ヘプテン酸ラクタム、４−
ヘプテン酸ラクタム、５−ヘプテン酸ラクタム、６−ヘ
プテン酸ラクタム、５−メチル−４−ペンテン酸ラクタ
ムが属する。もちろん異なる不飽和ラクタムの混合物を
使用してもよい。
子を有するオレフィン系不飽和ラクタム（α1）には、
３−ヘキセン酸ラクタム、４−ヘキセン酸ラクタム、５
−ヘキセン酸ラクタム、３−ヘプテン酸ラクタム、４−
ヘプテン酸ラクタム、５−ヘプテン酸ラクタム、６−ヘ
プテン酸ラクタム、５−メチル−４−ペンテン酸ラクタ
ムが属する。もちろん異なる不飽和ラクタムの混合物を
使用してもよい。
【００１０】該当するオレイン系不飽和アミノカルボン
酸（α2）は、一般に６〜２０、特に６〜７個の炭素原
子を有する。これらの化合物の例は、６−アミノ−３−
ヘキセン酸、１６−アミノ−９−ヘキサデセン酸、１８
−アミノ−９，１２−オクタデカジエン酸、２０−アミ
ノ−９−エイコセン酸である。その他に種々の不飽和ア
ミノカルボン酸の混合物も該当する。
酸（α2）は、一般に６〜２０、特に６〜７個の炭素原
子を有する。これらの化合物の例は、６−アミノ−３−
ヘキセン酸、１６−アミノ−９−ヘキサデセン酸、１８
−アミノ−９，１２−オクタデカジエン酸、２０−アミ
ノ−９−エイコセン酸である。その他に種々の不飽和ア
ミノカルボン酸の混合物も該当する。
【００１１】本発明によりオレフィン系不飽和ジカルボ
ン酸（α3）も使用することができる。一般にこれらは
６〜３０個の炭素原子を有する。有利には８〜３０個の
炭素原子を有するジカルボン酸を使用する。該ジカルボ
ン酸は線状であっても枝分かれ鎖状であってもよく、そ
の際、脂肪族ジカルボン酸が有利である。代表的なもの
として、例えば２−ヘキセン−１，６−ジカルボン酸、
３−ヘキセン−１，６−ジカルボン酸、４−オクタン−
１，８−ジカルボン酸及び５−カルボキシ−９−デセン
酸が挙げられる。特に、例えば複分解反応を用いて脂肪
酸エステルから得られる、１２〜３０個の炭素原子を有
する長鎖状のジカルボン酸が有利である。該物質として
は９−オクタデセン−１，１８−ジカルボン酸（例えば
油酸から製造可能）であり、例えばリシノール酸から得
られる１０−エイコセン−１，２０−ジカルボン酸であ
る。その他に、例えば油、リノール、リノレン酸混合物
から製造可能な９，１２−テトラコサジエン−１，２４
−ジカルボン酸、９，１２−ヘンエイコサジエン−１，
２１−ジカルボン酸、９，１２，１５−テトラコサトリ
エン−１，２４−ジカルボン酸、９，１２，１５，１８
−ヘプタコサテトラエン−１，２４−ジカルボン酸、並
びに例えば油／リシノール酸混合物から得られる９−ノ
ナデセン−１，１９−ジカルボン酸、９，１２−ドカサ
ジエン−１，２２−ジカルボン酸及び９，１２，１５−
ペンタコサトリエン−１，２５−ジカルボン酸が該当す
る。有利な不飽和カルボン酸は９−オクタデセン−１，
１８−ジカルボン酸である。全く特に３−ヘキセン−
１，６−ジカルボン酸、４−オクタン−１，８−ジカル
ボン酸及び１０−エイコセン−１，２０−ジカルボン酸
が有利である。個々の化合物もまた種々の不飽和ジカル
ボン酸の混合物も使用することができる。
ン酸（α3）も使用することができる。一般にこれらは
６〜３０個の炭素原子を有する。有利には８〜３０個の
炭素原子を有するジカルボン酸を使用する。該ジカルボ
ン酸は線状であっても枝分かれ鎖状であってもよく、そ
の際、脂肪族ジカルボン酸が有利である。代表的なもの
として、例えば２−ヘキセン−１，６−ジカルボン酸、
３−ヘキセン−１，６−ジカルボン酸、４−オクタン−
１，８−ジカルボン酸及び５−カルボキシ−９−デセン
酸が挙げられる。特に、例えば複分解反応を用いて脂肪
酸エステルから得られる、１２〜３０個の炭素原子を有
する長鎖状のジカルボン酸が有利である。該物質として
は９−オクタデセン−１，１８−ジカルボン酸（例えば
油酸から製造可能）であり、例えばリシノール酸から得
られる１０−エイコセン−１，２０−ジカルボン酸であ
る。その他に、例えば油、リノール、リノレン酸混合物
から製造可能な９，１２−テトラコサジエン−１，２４
−ジカルボン酸、９，１２−ヘンエイコサジエン−１，
２１−ジカルボン酸、９，１２，１５−テトラコサトリ
エン−１，２４−ジカルボン酸、９，１２，１５，１８
−ヘプタコサテトラエン−１，２４−ジカルボン酸、並
びに例えば油／リシノール酸混合物から得られる９−ノ
ナデセン−１，１９−ジカルボン酸、９，１２−ドカサ
ジエン−１，２２−ジカルボン酸及び９，１２，１５−
ペンタコサトリエン−１，２５−ジカルボン酸が該当す
る。有利な不飽和カルボン酸は９−オクタデセン−１，
１８−ジカルボン酸である。全く特に３−ヘキセン−
１，６−ジカルボン酸、４−オクタン−１，８−ジカル
ボン酸及び１０−エイコセン−１，２０−ジカルボン酸
が有利である。個々の化合物もまた種々の不飽和ジカル
ボン酸の混合物も使用することができる。
【００１２】モノマー（ａ1）としては、本発明による
オレフィン系不飽和ジアミン（α4）も適している。該
ジアミンは、線状でも枝分れ鎖状であってもよい。一般
に４〜２０、有利には６〜１８、特に６〜１２個の炭素
原子を有し、例えば１，４−ジアミノ−２−ブテン、
１，５−ジアミノ−２−ペンテン、１，６−ジアミノ−
２−ヘキセン、１，６−ジアミノ−３−ヘキセン、２，
７−ジアミノ−２，７−ジメチル−４−オクタン、１，
９−ジアミノ−２，７−ノナジエン、１，１０−ジアミ
ノ−２，８−デカジエンの群に属する。有利な不飽和ジ
アミンは、１，６−ジアミノ−２−ヘキセン、１，６−
ジアミノ−３−ヘキセン並びに２，７−ジアミノ−２，
７−ジメチル−４−オクタンである。更に、種々の不飽
和ジアミンの混合物を使用することができる。
オレフィン系不飽和ジアミン（α4）も適している。該
ジアミンは、線状でも枝分れ鎖状であってもよい。一般
に４〜２０、有利には６〜１８、特に６〜１２個の炭素
原子を有し、例えば１，４−ジアミノ−２−ブテン、
１，５−ジアミノ−２−ペンテン、１，６−ジアミノ−
２−ヘキセン、１，６−ジアミノ−３−ヘキセン、２，
７−ジアミノ−２，７−ジメチル−４−オクタン、１，
９−ジアミノ−２，７−ノナジエン、１，１０−ジアミ
ノ−２，８−デカジエンの群に属する。有利な不飽和ジ
アミンは、１，６−ジアミノ−２−ヘキセン、１，６−
ジアミノ−３−ヘキセン並びに２，７−ジアミノ−２，
７−ジメチル−４−オクタンである。更に、種々の不飽
和ジアミンの混合物を使用することができる。
【００１３】本発明による成形材料を含有するコポリア
ミド（Ａ）は、オレフィン系二重結合を有しない、モノ
マー（β）から誘導される単位、（Ａ）に対して８０〜
９９モル％、有利には８５〜９８モル％、特には９０〜
９８モル％を含有する。但し、モノマー（β）は芳香族
系二重結合を有する。モノマー（β）としてはラクタ
ム、アミノカルボン酸、ジカルボン酸及びジアミンの群
から選択される化合物又はこれらの混合物が該当する。
ミド（Ａ）は、オレフィン系二重結合を有しない、モノ
マー（β）から誘導される単位、（Ａ）に対して８０〜
９９モル％、有利には８５〜９８モル％、特には９０〜
９８モル％を含有する。但し、モノマー（β）は芳香族
系二重結合を有する。モノマー（β）としてはラクタ
ム、アミノカルボン酸、ジカルボン酸及びジアミンの群
から選択される化合物又はこれらの混合物が該当する。
【００１４】ラクタム（β1）は、一般に５〜１２個の
炭素原子を有する。これらのモノマーの代表的なものは
δ−バレロラクタム、ε−カプロラクタム、エナントラ
クタム、カプリルラクタム及びラウリンラクタムであ
る。これらの個々の化合物の他に、２種以上の異なるラ
クタムの混合物も適している。
炭素原子を有する。これらのモノマーの代表的なものは
δ−バレロラクタム、ε−カプロラクタム、エナントラ
クタム、カプリルラクタム及びラウリンラクタムであ
る。これらの個々の化合物の他に、２種以上の異なるラ
クタムの混合物も適している。
【００１５】一般に４〜２０、有利には５〜１２個の炭
素原子を有するアミノカルボン酸（β2）、例えば５−
アミノペンタン酸、６−アミノヘキサン酸、７−アミノ
ヘプタン酸、８−アミノオクタン酸、１１−アミノウン
デカン酸、並びに種々のアミノカルボン酸の混合物は、
同様にモノマー（β）として適している。
素原子を有するアミノカルボン酸（β2）、例えば５−
アミノペンタン酸、６−アミノヘキサン酸、７−アミノ
ヘプタン酸、８−アミノオクタン酸、１１−アミノウン
デカン酸、並びに種々のアミノカルボン酸の混合物は、
同様にモノマー（β）として適している。
【００１６】ジカルボン酸（β3）には、芳香族同様脂
肪族に属する。芳香族ジカルボン酸は有利には８〜１
６、特に８〜１０個の炭素原子を含有する、例えばイソ
フタル酸、テレフタル酸、置換されたイソフタル酸及び
テレフタル酸、例えば３−ｔ−ブチルイソフタル酸又は
フェノキシテレフタル酸、多核ジカルボン酸、例えば
４，４’−ジフェニルジカルボン酸、３，３’−ジフェ
ニルジカルボン酸、３，３’−ジフェニルメタンジカル
ボン酸、４，４’−ジフェニルメタンジカルボン酸、
３，３’−ジフェニルスルホンジカルボン酸、４，４’
−ジフェニルスルホンジカルボン酸、１，４−ナフタリ
ンジカルボン酸、２，６−ナフタリンジカルボン酸であ
り、その際、テレフタル酸及びイソフタル酸が特に有利
である。一般に４〜２０個の炭素原子、有利には６〜１
６個の炭素原子を有する脂肪族ジカルボン酸の代表的な
ものは、アジピン酸、スベリン酸、アザレイン酸、セバ
シン酸及び１，１２−ドデカン酸である。特にアジピン
酸が有利である。しかしながら種々のジカルボン酸の混
合物を使用することもできる。
肪族に属する。芳香族ジカルボン酸は有利には８〜１
６、特に８〜１０個の炭素原子を含有する、例えばイソ
フタル酸、テレフタル酸、置換されたイソフタル酸及び
テレフタル酸、例えば３−ｔ−ブチルイソフタル酸又は
フェノキシテレフタル酸、多核ジカルボン酸、例えば
４，４’−ジフェニルジカルボン酸、３，３’−ジフェ
ニルジカルボン酸、３，３’−ジフェニルメタンジカル
ボン酸、４，４’−ジフェニルメタンジカルボン酸、
３，３’−ジフェニルスルホンジカルボン酸、４，４’
−ジフェニルスルホンジカルボン酸、１，４−ナフタリ
ンジカルボン酸、２，６−ナフタリンジカルボン酸であ
り、その際、テレフタル酸及びイソフタル酸が特に有利
である。一般に４〜２０個の炭素原子、有利には６〜１
６個の炭素原子を有する脂肪族ジカルボン酸の代表的な
ものは、アジピン酸、スベリン酸、アザレイン酸、セバ
シン酸及び１，１２−ドデカン酸である。特にアジピン
酸が有利である。しかしながら種々のジカルボン酸の混
合物を使用することもできる。
【００１７】適当なジアミン（β4）は、一般に４〜２
０個、有利には６〜１２個の炭素原子を有する。１，４
−ジアミノブタン、１，５−ジアミノペンタン、１，６
−ジアミノヘキサン、ピペラジン、４，４’−ジアミノ
ジシクロヘキシルメタン、２，２−（４，４’−ジアミ
ノジシクロヘキシル）プロパン及び３，３’−ジメチル
−４，４’−ジアミノジシクロヘキシルメタンは、モノ
マーＢとして使用することができるジアミンの例であ
る。脂肪族及び脂環式ジアミンの他に、芳香族環を含有
するジアミン、例えばｍ−キシリレンジアミンが該当す
る。この他に２種以上の種々のジアミンからの混合物も
適している。
０個、有利には６〜１２個の炭素原子を有する。１，４
−ジアミノブタン、１，５−ジアミノペンタン、１，６
−ジアミノヘキサン、ピペラジン、４，４’−ジアミノ
ジシクロヘキシルメタン、２，２−（４，４’−ジアミ
ノジシクロヘキシル）プロパン及び３，３’−ジメチル
−４，４’−ジアミノジシクロヘキシルメタンは、モノ
マーＢとして使用することができるジアミンの例であ
る。脂肪族及び脂環式ジアミンの他に、芳香族環を含有
するジアミン、例えばｍ−キシリレンジアミンが該当す
る。この他に２種以上の種々のジアミンからの混合物も
適している。
【００１８】本発明によるコポリアミドは、種々のモノ
マー（α）と（β）の組み合せにより製造することがで
きる。その際、アミン及びカルボン酸の当量は、約１：
１の比で使用すべきであると解される。このような種類
の混合物の例は、オレフィン系不飽和ラクタム（α1）
とラクタム（β1）、オレフィン系不飽和ジカルボン酸
（α3）とジアミン（β4）、オレフィン系不飽和ジアミ
ン酸（α4）とジカルボン酸（β3）である。
マー（α）と（β）の組み合せにより製造することがで
きる。その際、アミン及びカルボン酸の当量は、約１：
１の比で使用すべきであると解される。このような種類
の混合物の例は、オレフィン系不飽和ラクタム（α1）
とラクタム（β1）、オレフィン系不飽和ジカルボン酸
（α3）とジアミン（β4）、オレフィン系不飽和ジアミ
ン酸（α4）とジカルボン酸（β3）である。
【００１９】特に有利には、オレフィン系不飽和ジカル
ボン酸（α3）とジカルボン酸（β3）及びジアミン（β
4）、オレフィン系不飽和ジカルボン酸（α3）とラクタ
ム（β1）及びジアミン（β4）の化合物である。
ボン酸（α3）とジカルボン酸（β3）及びジアミン（β
4）、オレフィン系不飽和ジカルボン酸（α3）とラクタ
ム（β1）及びジアミン（β4）の化合物である。
【００２０】（β1）としてε−カプロラクタム、
（β3）としてアジピン酸及び（β4）として１，６−ジ
アミノヘキサンを使用する場合には、最後に記載した両
混合物が全く特に有利である。
（β3）としてアジピン酸及び（β4）として１，６−ジ
アミノヘキサンを使用する場合には、最後に記載した両
混合物が全く特に有利である。
【００２１】有利なオレフィン系不飽和ジカルボン酸
（β3）は、これらの混合物において３−ヘキセンジカ
ルボン酸、４−オクテンジカルボン酸又は１０−エイコ
センジカルボン酸である。有利な混合物は、更にオレフ
ィン系不飽和ジアミン（β4）、特に１，６−ジアミノ
−３−ヘキセン又は２，７−ジアミノ−２，７−ジメチ
ル−４−オクタン又はそれらの混合物を含有する。
（β3）は、これらの混合物において３−ヘキセンジカ
ルボン酸、４−オクテンジカルボン酸又は１０−エイコ
センジカルボン酸である。有利な混合物は、更にオレフ
ィン系不飽和ジアミン（β4）、特に１，６−ジアミノ
−３−ヘキセン又は２，７−ジアミノ−２，７−ジメチ
ル−４−オクタン又はそれらの混合物を含有する。
【００２２】コポリアミド（成分Ａ）の製造には、不連
続的方法も連続的方法も適している。オレフィン系二重
結合の他に芳香族の単位も有し、単位が完全に又は部分
的にジカルボン酸から得られるホモ又はコポリアミドを
製造するためには、高圧で約２００〜４００℃の温度で
短い滞留時間内で、まずプレポリマーを製造し、引続き
固相で又は溶融物中で最終粘度に後縮合させる方法が特
に有利であることが判明した。短い滞留時間により、副
反応、例えばジアミンのトリアミンへの自己縮合を抑制
することができる。
続的方法も連続的方法も適している。オレフィン系二重
結合の他に芳香族の単位も有し、単位が完全に又は部分
的にジカルボン酸から得られるホモ又はコポリアミドを
製造するためには、高圧で約２００〜４００℃の温度で
短い滞留時間内で、まずプレポリマーを製造し、引続き
固相で又は溶融物中で最終粘度に後縮合させる方法が特
に有利であることが判明した。短い滞留時間により、副
反応、例えばジアミンのトリアミンへの自己縮合を抑制
することができる。
【００２３】場合により３５重量％まで、特に１０〜２
０重量％まで存在する、成形材料のゴム成分（Ｂ）を、
成形材料中、有利には該成形材料の全重量に対して５〜
２５重量％含有する。一般にこれらのゴム成分（Ｂ）
は、主成分として有利には以下のモノマー：エチレン、
プロピレン、イソブテン、イソプレン、クロロプレン、
酢酸ビニル、スチレン、アクリルニトリル及びアルコー
ル成分中１〜１８個の炭素原子を有するアクリル及びメ
タクリル酸エステルの少なくとも２個から構成されたコ
ポリマーである。
０重量％まで存在する、成形材料のゴム成分（Ｂ）を、
成形材料中、有利には該成形材料の全重量に対して５〜
２５重量％含有する。一般にこれらのゴム成分（Ｂ）
は、主成分として有利には以下のモノマー：エチレン、
プロピレン、イソブテン、イソプレン、クロロプレン、
酢酸ビニル、スチレン、アクリルニトリル及びアルコー
ル成分中１〜１８個の炭素原子を有するアクリル及びメ
タクリル酸エステルの少なくとも２個から構成されたコ
ポリマーである。
【００２４】この種のゴムは、例えばHouben-Weyl、Met
hoden der organischen Chemie、14/1 巻（Thieme Verl
ag、 Stuttgart、 1961）392-406頁及び C.B.Bucknal
l、“Toughened Plastic" (Applied Science Publisher
s、 London、 1977)の研究論文に記載されている。
hoden der organischen Chemie、14/1 巻（Thieme Verl
ag、 Stuttgart、 1961）392-406頁及び C.B.Bucknal
l、“Toughened Plastic" (Applied Science Publisher
s、 London、 1977)の研究論文に記載されている。
【００２５】このようなエラストマーの有利な種類は、
有利には４０：６０〜９０：１０の範囲内でエチレン単
位のプロピレン単位に対する比を有する、いわゆるエチ
レン−プロピレン（ＥＰＭ）ないしはエチレン−プロピ
レン−ジエン−（ＥＰＤＭ）−ゴムである。
有利には４０：６０〜９０：１０の範囲内でエチレン単
位のプロピレン単位に対する比を有する、いわゆるエチ
レン−プロピレン（ＥＰＭ）ないしはエチレン−プロピ
レン−ジエン−（ＥＰＤＭ）−ゴムである。
【００２６】このような架橋されていないＥＰＭないし
はＥＰＤＭ−ゴム（一般に１重量％未満のゲル含量）の
ムーニー粘度（ＭＬＩ＋４／１００℃）は、有利には２
５〜１００、特に３５〜９０の範囲内にある（ＤＩＮ５
３５２３により大型ローターで１００℃で４分の回転時
間後に測定）。
はＥＰＤＭ−ゴム（一般に１重量％未満のゲル含量）の
ムーニー粘度（ＭＬＩ＋４／１００℃）は、有利には２
５〜１００、特に３５〜９０の範囲内にある（ＤＩＮ５
３５２３により大型ローターで１００℃で４分の回転時
間後に測定）。
【００２７】ＥＰＭゴムは、一般的には、実際にもはや
二重結合を有さないが、一方ＥＰＤＭゴムは、１〜２０
個の二重結合／１００個の炭素原子を有することができ
る。
二重結合を有さないが、一方ＥＰＤＭゴムは、１〜２０
個の二重結合／１００個の炭素原子を有することができ
る。
【００２８】ＥＰＤＭゴムのジエン−モノマーとして
は、例えば共役したジエン、例えばイソプレン、５〜２
５個の炭素原子を有する共役していないジエン、例えば
ペンタ−１，４−ジエン、ヘキサ−１，４−ジエン、ヘ
キサ−１，５−ジエン、２，５−ジメチルヘキサ−１，
５−ジエン及びオクタ−１，４−ジエン、環式ジエン、
例えばシクロペンタジエン、シクロヘキサジエン、シク
ロオクタジエン及びジシクロペンタジエン並びにアルケ
ニルノルボルネン、例えば５−エチリデン−２−ノルボ
ルネン、５−ブチリデン−２−ノルボルネン、２−メタ
ルイル−５−ノルボルネン、２−イソプロフェニル−５
−ノルボルネン及びトリシクロジエン例えば３−メチル
−トリシクロ（５，２，１，０，２，６）−３，８−デ
カジエン又はそれらの混合物が挙げられる。ヘキサ−
１，５−ジエン−５−エチリデン−ノルボルネン及びジ
シクロペンタジエンが有利である。ＥＰＤＭゴムのジエ
ン含量は、ゴムの全重量に対して有利には０．５〜５
０、特に１〜８重量％である。
は、例えば共役したジエン、例えばイソプレン、５〜２
５個の炭素原子を有する共役していないジエン、例えば
ペンタ−１，４−ジエン、ヘキサ−１，４−ジエン、ヘ
キサ−１，５−ジエン、２，５−ジメチルヘキサ−１，
５−ジエン及びオクタ−１，４−ジエン、環式ジエン、
例えばシクロペンタジエン、シクロヘキサジエン、シク
ロオクタジエン及びジシクロペンタジエン並びにアルケ
ニルノルボルネン、例えば５−エチリデン−２−ノルボ
ルネン、５−ブチリデン−２−ノルボルネン、２−メタ
ルイル−５−ノルボルネン、２−イソプロフェニル−５
−ノルボルネン及びトリシクロジエン例えば３−メチル
−トリシクロ（５，２，１，０，２，６）−３，８−デ
カジエン又はそれらの混合物が挙げられる。ヘキサ−
１，５−ジエン−５−エチリデン−ノルボルネン及びジ
シクロペンタジエンが有利である。ＥＰＤＭゴムのジエ
ン含量は、ゴムの全重量に対して有利には０．５〜５
０、特に１〜８重量％である。
【００２９】ＥＰＭないしはＥＰＤＭゴムは、有利には
反応性カルボン酸又はその誘導体とグラフトさせてもよ
い。その際、例えばアクリル酸、メタクリル酸及びその
誘導体並びに無水マレイン酸が挙げられる。
反応性カルボン酸又はその誘導体とグラフトさせてもよ
い。その際、例えばアクリル酸、メタクリル酸及びその
誘導体並びに無水マレイン酸が挙げられる。
【００３０】有利なゴムの別の群は、エチレンとアクリ
ル酸及び／又はメタクリル酸及び／又はこれらの酸のエ
ステルとのコポリマーである。付加的にゴムはなおジカ
ルボン酸、例えばマレイン酸及びフマル酸又はこれらの
酸の誘導体、例えばエステル及び無水物及び／又はエポ
キシ基を含有するモノマーを含有していてもよい。これ
らのジカルボン酸誘導体ないしはエポキシ基を含有する
モノマーは、有利には、一般式ＩＩ：
ル酸及び／又はメタクリル酸及び／又はこれらの酸のエ
ステルとのコポリマーである。付加的にゴムはなおジカ
ルボン酸、例えばマレイン酸及びフマル酸又はこれらの
酸の誘導体、例えばエステル及び無水物及び／又はエポ
キシ基を含有するモノマーを含有していてもよい。これ
らのジカルボン酸誘導体ないしはエポキシ基を含有する
モノマーは、有利には、一般式ＩＩ：
【００３１】
【化１】
【００３２】又はＩＩＩ：
【００３３】
【化２】
【００３４】又はＩＶ：
【００３５】
【化３】
【００３６】又はＶ：
【００３７】
【化４】
【００３８】［式中、Ｒ1〜Ｒ9は水素又は１〜６個の炭
素原子を有するアルキル基であり、ｍは０〜２０の整
数、ｎは０〜１０の整数及びｐは０〜５の整数である］
の、ジカルボン酸ないしはエポキシ基を含有するモノマ
ーを添加して、モノマー混合物にするためにゴムに組み
込まれる。
素原子を有するアルキル基であり、ｍは０〜２０の整
数、ｎは０〜１０の整数及びｐは０〜５の整数である］
の、ジカルボン酸ないしはエポキシ基を含有するモノマ
ーを添加して、モノマー混合物にするためにゴムに組み
込まれる。
【００３９】有利には、基Ｒ1〜Ｒ7は水素を表し、その
際、ｍは０又は１及びｎは１を表す。適当な化合物は、
マレイン酸、フマル酸、無水マレイン酸、アリルグリシ
ジルエーテル及びビニルグリシジルエーテルである。
際、ｍは０又は１及びｎは１を表す。適当な化合物は、
マレイン酸、フマル酸、無水マレイン酸、アリルグリシ
ジルエーテル及びビニルグリシジルエーテルである。
【００４０】式ＩＩ、ＩＩＩ及びＶの有利な化合物は、
マレイン酸、無水マレイン酸、エポキシ基を含有するア
クリル酸及び／又はメタクリル酸のエステルであり、そ
の際、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレ
ート及び第３級アルコールとのエステル、例えばｔ−ブ
チルアクリレートが特に有利である。最後に記載したも
のは、確かに遊離カルボキシル基を有しないが、しかし
ながらその特性は遊離酸に近い、従って潜在するカルボ
キシル基を有するモノマーと称される。
マレイン酸、無水マレイン酸、エポキシ基を含有するア
クリル酸及び／又はメタクリル酸のエステルであり、そ
の際、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレ
ート及び第３級アルコールとのエステル、例えばｔ−ブ
チルアクリレートが特に有利である。最後に記載したも
のは、確かに遊離カルボキシル基を有しないが、しかし
ながらその特性は遊離酸に近い、従って潜在するカルボ
キシル基を有するモノマーと称される。
【００４１】コポリマーのエチレン含量は、一般に５０
〜９８重量％の範囲内にあり、メタクリル酸エステルの
割合は２〜５０重量％である。有利にはコポリマーは、
エチレン５０〜９８重量％、エポキシ基を含有するモノ
マー及び／又はメタクリル酸及び／又は無水酸基を含有
するモノマー０．１〜２０重量％並びに残量のメタクリ
ル酸エステルからなる。
〜９８重量％の範囲内にあり、メタクリル酸エステルの
割合は２〜５０重量％である。有利にはコポリマーは、
エチレン５０〜９８重量％、エポキシ基を含有するモノ
マー及び／又はメタクリル酸及び／又は無水酸基を含有
するモノマー０．１〜２０重量％並びに残量のメタクリ
ル酸エステルからなる。
【００４２】エチレン５０〜９８、特に６０〜９５重量
％、グリシジルアクリレート及び／又はグリシジルメタ
クリレート、アクリル酸及び／又は無水マレイン酸０．
１〜４０、特に０．３〜２０重量％及びｎ−ブチルアク
リレート及び／又は２−エチルヘキシルアクリレート１
〜４５、特に１０〜３５重量％からなるコポリマーが特
に有利である。
％、グリシジルアクリレート及び／又はグリシジルメタ
クリレート、アクリル酸及び／又は無水マレイン酸０．
１〜４０、特に０．３〜２０重量％及びｎ−ブチルアク
リレート及び／又は２−エチルヘキシルアクリレート１
〜４５、特に１０〜３５重量％からなるコポリマーが特
に有利である。
【００４３】アクリル及び／又はメタクリル酸の更に有
利なエステルは、メチル、エチル、プロピル及びｉ−な
いしはｔ−ブチルエステルである。
利なエステルは、メチル、エチル、プロピル及びｉ−な
いしはｔ−ブチルエステルである。
【００４４】その他に、ビニルエステル及びビニルエー
テルもコポリマーとして使用することができる。
テルもコポリマーとして使用することができる。
【００４５】前記エチレンコポリマーは、自体公知の方
法で、有利には高圧及び高温でのランダム共重合により
製造することができる。適当な方法は周知である。
法で、有利には高圧及び高温でのランダム共重合により
製造することができる。適当な方法は周知である。
【００４６】エチレンコポリマーの溶融指数は、一般に
１〜８０ｇ／１０分である（１９０℃及び２．１６ｋｇ
負荷で測定）。
１〜８０ｇ／１０分である（１９０℃及び２．１６ｋｇ
負荷で測定）。
【００４７】別の有利なエマストマー（Ｂ）は、エマル
ジョンポリマーであり、その製造は例えばHouben-Wey
l、 Methoden der organischen Chemie、12/1 巻（196
1）並びに研究論文中、 Blackley において “Emulusio
n Polymerization" に記載されている。使用可能な乳化
剤及び触媒は自体公知である。
ジョンポリマーであり、その製造は例えばHouben-Wey
l、 Methoden der organischen Chemie、12/1 巻（196
1）並びに研究論文中、 Blackley において “Emulusio
n Polymerization" に記載されている。使用可能な乳化
剤及び触媒は自体公知である。
【００４８】基本的には均質に構成されたエラストマー
又はシェル構造を有するものであっても使用することが
できる。シェル様構造は、個々のモノマーの添加順序に
より決定する；ポリマーの形態もこれらの添加順序によ
り影響される。
又はシェル構造を有するものであっても使用することが
できる。シェル様構造は、個々のモノマーの添加順序に
より決定する；ポリマーの形態もこれらの添加順序によ
り影響される。
【００４９】ただ代表的に、ここではエラストマーのゴ
ムを製造するためのモノマーとして、アクリレート、例
えばｎ−ブチルアクリレート及び２−エチルヘキシルア
クリレート、適当なメタクリレート及びイソプレン並び
にそれらの混合物が挙げられる。これらのモノマーは、
別のモノマー例えばスチレン、アクリルニトリル、ビニ
ルエチレン及びその他のアクリレート又はメタクリレー
ト、例えばメチルメタクリレート、メチルアクリレー
ト、エチルアクリレート及びプロピルアクリレートで共
重合させることができる。
ムを製造するためのモノマーとして、アクリレート、例
えばｎ−ブチルアクリレート及び２−エチルヘキシルア
クリレート、適当なメタクリレート及びイソプレン並び
にそれらの混合物が挙げられる。これらのモノマーは、
別のモノマー例えばスチレン、アクリルニトリル、ビニ
ルエチレン及びその他のアクリレート又はメタクリレー
ト、例えばメチルメタクリレート、メチルアクリレー
ト、エチルアクリレート及びプロピルアクリレートで共
重合させることができる。
【００５０】エラストマーの（ガラス転移温度０℃未満
を有する）軟質相又はゴム相は、（２つより多いシェル
の構造を有するエラストマーにおいて）コア、外側のシ
ェル又は中間シェルを作ることができ、複数シェルのエ
ラストマーにおいてはより多くのシェルもゴム相からな
っていてよい。
を有する）軟質相又はゴム相は、（２つより多いシェル
の構造を有するエラストマーにおいて）コア、外側のシ
ェル又は中間シェルを作ることができ、複数シェルのエ
ラストマーにおいてはより多くのシェルもゴム相からな
っていてよい。
【００５１】ゴムの他に、なお１種以上の硬質成分（２
０℃より高いガラス転移温度）がエラストマーの構成に
関与する場合には、該エラストマーは一般にスチレン、
アクリルニトリル、メタクリルニトリル、α−メチルス
チレン、ｐ−メチルスチレン、アクリル酸エステル及び
メタクリル酸エステル、例えばメタクリレート、エチル
アクリレート及びメチルメタクリレートを主要モノマー
として重合することにより製造する。ここでは更に僅か
な割合の別のコモノマーを使用することもできる。
０℃より高いガラス転移温度）がエラストマーの構成に
関与する場合には、該エラストマーは一般にスチレン、
アクリルニトリル、メタクリルニトリル、α−メチルス
チレン、ｐ−メチルスチレン、アクリル酸エステル及び
メタクリル酸エステル、例えばメタクリレート、エチル
アクリレート及びメチルメタクリレートを主要モノマー
として重合することにより製造する。ここでは更に僅か
な割合の別のコモノマーを使用することもできる。
【００５２】若干の場合に、表面に反応性基を有するエ
マルジョンポリマーを使用することが有利であることが
判明した。このような基は、例えばエポキシ、カルボキ
シル、潜在するカルボキシル、アミノ又はアミド基並び
に一般式ＶＩ：
マルジョンポリマーを使用することが有利であることが
判明した。このような基は、例えばエポキシ、カルボキ
シル、潜在するカルボキシル、アミノ又はアミド基並び
に一般式ＶＩ：
【００５３】
【化５】
【００５４】［式中、置換基は以下のもの；Ｒ10は、水
素又はＣ1〜Ｃ4−アルキル基、Ｒ11は、水素又はＣ1〜
Ｃ8−アルキル基又はアリール基、特にフェニル基、Ｒ
12は、水素、Ｃ1〜Ｃ10−アルキル基、Ｃ6〜Ｃ12−アリ
ール基又は−OR13、Ｒ13は、Ｃ1〜Ｃ8−アルキル基又は
Ｃ6〜Ｃ12−アリール基（場合によりＯ又はＮを含有す
る基で置換されていてもよい）、Ｘは、化学結合、Ｃ1
〜Ｃ10−アルキレン基又はＣ6〜Ｃ12−アリーレン基又
は
素又はＣ1〜Ｃ4−アルキル基、Ｒ11は、水素又はＣ1〜
Ｃ8−アルキル基又はアリール基、特にフェニル基、Ｒ
12は、水素、Ｃ1〜Ｃ10−アルキル基、Ｃ6〜Ｃ12−アリ
ール基又は−OR13、Ｒ13は、Ｃ1〜Ｃ8−アルキル基又は
Ｃ6〜Ｃ12−アリール基（場合によりＯ又はＮを含有す
る基で置換されていてもよい）、Ｘは、化学結合、Ｃ1
〜Ｃ10−アルキレン基又はＣ6〜Ｃ12−アリーレン基又
は
【００５５】
【化６】
【００５６】Ｙは、Ｏ−Ｚ−又はＮＨ−Ｚ及びＺは、Ｃ
1〜Ｃ10−アルキレン基又はＣ6〜Ｃ12−アリーレン基を
表す］のモノマーと一緒に使用することにより導入する
ことができる官能性基である。
1〜Ｃ10−アルキレン基又はＣ6〜Ｃ12−アリーレン基を
表す］のモノマーと一緒に使用することにより導入する
ことができる官能性基である。
【００５７】ヨーロッパ特許出願公開第２０８１８７号
明細書にも記載されたグラフトモノマーは表面に反応性
基を導入するのに適している。
明細書にも記載されたグラフトモノマーは表面に反応性
基を導入するのに適している。
【００５８】別の例としては、なおアクリルアミド、メ
タクリルアミド及びアクリル酸又はメタクリル酸の置換
されたエステル、例えば（Ｎ−ｔ−ブチルアミノ）−エ
チルメタクリレート、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチ
ルアクリレート、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−メチル
アクリレート及び（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチルア
クリレートが挙げられる。
タクリルアミド及びアクリル酸又はメタクリル酸の置換
されたエステル、例えば（Ｎ−ｔ−ブチルアミノ）−エ
チルメタクリレート、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチ
ルアクリレート、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−メチル
アクリレート及び（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチルア
クリレートが挙げられる。
【００５９】更に、ゴム相の粒子は架橋していてもよ
い。架橋剤として作用するモノマーは、例えばジビニル
ベンジン、ジアリルフタレート及びジヒドロジシクロペ
ントジエニルアクリレート並びにヨーロッパ特許出願公
開第５０２６５号明細書に記載された化合物が挙げられ
る。
い。架橋剤として作用するモノマーは、例えばジビニル
ベンジン、ジアリルフタレート及びジヒドロジシクロペ
ントジエニルアクリレート並びにヨーロッパ特許出願公
開第５０２６５号明細書に記載された化合物が挙げられ
る。
【００６０】更に、いわゆるグラフト架橋するモノマー
（グラフト環状モノマー）、すなわち重合の際に異なる
速度で反応する２つ以上の重合可能な二重結合を有する
モノマーを使用することもできる。有利には、少なくと
も１つの反応性基を通常のモノマーと同じ速度で重合さ
せ、一方ではもう１つの反応性基（又は複数の反応性
基）を、例えば明らかにより緩慢に重合させる化合物を
使用する。異なる重合速度は、ゴム中の不飽和二重結合
のある特定の割合を必要とする。引続き、このようなゴ
ム上にもう１つの相をグラフトすると、ゴム中に存在す
る二重結合を少なくとも部分的にグラフトモノマーと化
学結合を形成しながら反応する、すなわちグラフトした
相は、少なくとも部分的に化学結合を介してグラフト幹
と結合する。
（グラフト環状モノマー）、すなわち重合の際に異なる
速度で反応する２つ以上の重合可能な二重結合を有する
モノマーを使用することもできる。有利には、少なくと
も１つの反応性基を通常のモノマーと同じ速度で重合さ
せ、一方ではもう１つの反応性基（又は複数の反応性
基）を、例えば明らかにより緩慢に重合させる化合物を
使用する。異なる重合速度は、ゴム中の不飽和二重結合
のある特定の割合を必要とする。引続き、このようなゴ
ム上にもう１つの相をグラフトすると、ゴム中に存在す
る二重結合を少なくとも部分的にグラフトモノマーと化
学結合を形成しながら反応する、すなわちグラフトした
相は、少なくとも部分的に化学結合を介してグラフト幹
と結合する。
【００６１】このようなグラフト架橋モノマーの例は、
アリル基を含有するモノマー、特にエチレン系不飽和カ
ルボン酸のアリルエステル、例えばアリルアクリレー
ト、アリルメタクリレート、ジアリルマレエート、ジア
リルフマレート、ジアリルイタコネート又はこれらのジ
カルボン酸の適当なモノアリル化合物である。その他に
多数の他の適当なグラフト架橋モノマーがある。詳細な
点に関しては、例えば米国特許第４１４８８４６号明細
書に記載されている。
アリル基を含有するモノマー、特にエチレン系不飽和カ
ルボン酸のアリルエステル、例えばアリルアクリレー
ト、アリルメタクリレート、ジアリルマレエート、ジア
リルフマレート、ジアリルイタコネート又はこれらのジ
カルボン酸の適当なモノアリル化合物である。その他に
多数の他の適当なグラフト架橋モノマーがある。詳細な
点に関しては、例えば米国特許第４１４８８４６号明細
書に記載されている。
【００６２】一般的に、成分（Ｂ）におけるこれらの架
橋するモノマーの割合は、（Ｂ）に対して５重量％ま
で、有利には３重量％以下である。
橋するモノマーの割合は、（Ｂ）に対して５重量％ま
で、有利には３重量％以下である。
【００６３】以下に若干の有利なエマルジョンポリマー
を記載する。
を記載する。
【００６４】まず、以下の構成；型 コアのためのモノマー シェルのためのモノマー Ｍ1 イソプレン、ｎ−ブチルアクリレート、 スチレン、アクリルニトリル、 エチルヘキシルアクリレート又は メチルメタクリレート それらの混合物 Ｍ2 Ｍ1に同様、（但し架橋剤を一緒に Ｍ1に同様 使用して） Ｍ3 Ｍ1又はＭ2に同様 ｎ−ブチルアクリレート、エチ ルアクリレート、メチルアクリ レート、イソプレン、エチルヘ キシルアクリレート Ｍ4 Ｍ1又はＭ2に同様 Ｍ1又はＭ3に同様（但し、ここ に記載された反応性基を有する モノマーを一緒に使用して） Ｍ5 スチレン、アクリルニトリル、メ 第１のシェル、コアに関してＭ1 チルメタクリレート又はそれらの混合物 及びＭ2に記載されたモノマーか らなる 第２のシェル、シェルに関して Ｍ1又はＭ3に記載されたものと 同様 を有する、１つのコア及び外側に少なくとも１つのシェ
ルを有するグラフトポリマーが挙げられる。
ルを有するグラフトポリマーが挙げられる。
【００６５】複数シェル構造を有するグラフトポリマー
の他に、イソプレン及びｎ−ブチルアクリレート又はそ
れらのコポリマーからなる均質の、すなわちシェルが１
つのエラストマーも使用することができる。これらの生
成物は、架橋モノマー又は反応性基を有するモノマーに
より製造することもできる。
の他に、イソプレン及びｎ−ブチルアクリレート又はそ
れらのコポリマーからなる均質の、すなわちシェルが１
つのエラストマーも使用することができる。これらの生
成物は、架橋モノマー又は反応性基を有するモノマーに
より製造することもできる。
【００６６】有利なエマルジョンポリマーの例は、ｎ−
ブチルアクリレート／（メタ）−アクリル酸コポリマ
ー、ｎ−ブチルアクリレート／グリシジルアクリレート
又はｎ−ブチルアクリレート／グリシジルメタクリレー
トコポリマー、ｎ−ブチルアクリレートからなる内側の
コアと前述のコポリマーからなる外側のシェルとを有す
るグラフトポリマー、及びエチレンと反応性基を生じる
コモノマーとのコポリマーである。
ブチルアクリレート／（メタ）−アクリル酸コポリマ
ー、ｎ−ブチルアクリレート／グリシジルアクリレート
又はｎ−ブチルアクリレート／グリシジルメタクリレー
トコポリマー、ｎ−ブチルアクリレートからなる内側の
コアと前述のコポリマーからなる外側のシェルとを有す
るグラフトポリマー、及びエチレンと反応性基を生じる
コモノマーとのコポリマーである。
【００６７】記載されたエラストマー（Ｂ）は、他の一
般的な方法、例えば懸濁重合によっても製造することが
できる。
般的な方法、例えば懸濁重合によっても製造することが
できる。
【００６８】もちろん、前記ゴムの型の混合物も使用す
ることができる。
ることができる。
【００６９】本発明による成形材料は、成分（Ｃ）とし
て繊維又は粒子状の充填剤又は強化剤又はこのような材
料の混合物、該成形材料の全重量に対して０〜５０重量
％、有利には１０〜４０重量％、特に１５〜３５重量％
を含有してもよい。
て繊維又は粒子状の充填剤又は強化剤又はこのような材
料の混合物、該成形材料の全重量に対して０〜５０重量
％、有利には１０〜４０重量％、特に１５〜３５重量％
を含有してもよい。
【００７０】その際、繊維状の充填剤としては、例とし
てガラス繊維、炭素繊維、アラミド繊維、チタン酸カリ
ウム繊維及び繊維状ケイ酸塩、例えばケイ炭石が挙げら
れる。特にガラス繊維及びケイ炭石を使用するのが有利
である。
てガラス繊維、炭素繊維、アラミド繊維、チタン酸カリ
ウム繊維及び繊維状ケイ酸塩、例えばケイ炭石が挙げら
れる。特にガラス繊維及びケイ炭石を使用するのが有利
である。
【００７１】炭素又はガラス繊維を使用する場合には、
これらはコポリアミドとの相容性をより良好にするため
にサイズ及び接着助剤で加工されていてもよい。
これらはコポリアミドとの相容性をより良好にするため
にサイズ及び接着助剤で加工されていてもよい。
【００７２】一般的には、使用したガラス繊維は、６〜
２０μｍの範囲の直径を有する。加工の際にガラス繊維
の平均的な繊維の長さが短くなるので、ガラス繊維の配
合は、エンドレスストランド（ロービング）の形でも、
一般に１〜１０ｍｍの長さを有するステープルガラス繊
維の形でも又は一般に０．０５〜１．５ｍｍの長さを有
する短いガラス繊維の形でも実施することができる。加
工後、０．０５〜５ｍｍの平均的な繊維の長さが最適で
ある。
２０μｍの範囲の直径を有する。加工の際にガラス繊維
の平均的な繊維の長さが短くなるので、ガラス繊維の配
合は、エンドレスストランド（ロービング）の形でも、
一般に１〜１０ｍｍの長さを有するステープルガラス繊
維の形でも又は一般に０．０５〜１．５ｍｍの長さを有
する短いガラス繊維の形でも実施することができる。加
工後、０．０５〜５ｍｍの平均的な繊維の長さが最適で
ある。
【００７３】粒子状の充填剤としては、代表的なガラス
球、石英粉末、窒化硼素、カオリン、カルボン酸カルシ
ウム、雲母、カルボン酸マグネシウム（チョーク）及び
二酸化チタンが挙げられる。
球、石英粉末、窒化硼素、カオリン、カルボン酸カルシ
ウム、雲母、カルボン酸マグネシウム（チョーク）及び
二酸化チタンが挙げられる。
【００７４】本発明による成形材料は、更に成分（Ｄ）
として防炎加工剤を該成形材料の全重量に対して０〜２
０重量％、有利には５〜２０重量％、特に有利には５〜
１５重量％の量で含有してもよい。
として防炎加工剤を該成形材料の全重量に対して０〜２
０重量％、有利には５〜２０重量％、特に有利には５〜
１５重量％の量で含有してもよい。
【００７５】周知の防炎加工剤、例えばポリハロゲンジ
フェニル、ポリハロゲンジフェニルエーテル、ポリハロ
ゲンフタル酸及びその誘導体、ポリハロゲンオリゴ−及
び−ポリカーボネートが該当するが、その際、適当な臭
素化合物が特に効果的である。
フェニル、ポリハロゲンジフェニルエーテル、ポリハロ
ゲンフタル酸及びその誘導体、ポリハロゲンオリゴ−及
び−ポリカーボネートが該当するが、その際、適当な臭
素化合物が特に効果的である。
【００７６】これらの例としては、テトラブロムフタル
酸、２，６−ジブロムフェノール及び２，４，６−トリ
ブロムフェノール及びそれらの誘導体の２，６，２′，
６′−テトラブロムビスフェノールＡのポリマーであ
る。
酸、２，６−ジブロムフェノール及び２，４，６−トリ
ブロムフェノール及びそれらの誘導体の２，６，２′，
６′−テトラブロムビスフェノールＡのポリマーであ
る。
【００７７】更に、ハロゲン含有防炎加工剤は、テトラ
ブロムベンゼン、ヘキサクロルベンゼン及びヘキサブロ
ムベンゼン並びにハロゲン化ポリスチレン及びポリフェ
ニレンエーテルである。ハロゲン化フタルイミドも使用
することができる。これらのうち特にＮ，Ｎ′−エチレ
ンビステトラブロムフタルイミドが重要である。
ブロムベンゼン、ヘキサクロルベンゼン及びヘキサブロ
ムベンゼン並びにハロゲン化ポリスチレン及びポリフェ
ニレンエーテルである。ハロゲン化フタルイミドも使用
することができる。これらのうち特にＮ，Ｎ′−エチレ
ンビステトラブロムフタルイミドが重要である。
【００７８】特に、成形材料がガラス繊維強化している
場合には、有利な防炎加工剤（Ｄ）は元素赤燐である。
場合には、有利な防炎加工剤（Ｄ）は元素赤燐である。
【００７９】赤燐を未処理で使用することもできるが、
但し燐が表面的に低分子の液状物質、例えばシリコン
油、パラフィン油又はフタル酸又はアジピン酸のエステ
ルで、又はポリマー又はオリゴマー化合物で、例えばフ
ェノール樹脂又はアミノプラスト並びにポリウレタンで
被覆されている防炎加工剤が特に適している。
但し燐が表面的に低分子の液状物質、例えばシリコン
油、パラフィン油又はフタル酸又はアジピン酸のエステ
ルで、又はポリマー又はオリゴマー化合物で、例えばフ
ェノール樹脂又はアミノプラスト並びにポリウレタンで
被覆されている防炎加工剤が特に適している。
【００８０】更に、赤燐の濃縮物は、ポリアミド又はエ
ラストマーにおいて防炎加工剤として適している。特に
ポリオレフィンホモ−及び−コポリマーは濃縮ポリマー
として適している。できるだけ高い燐の割合を有する濃
縮物が有利である。一般的には濃縮物中燐の割合は、濃
縮物の重量に対して３０重量％以上である。
ラストマーにおいて防炎加工剤として適している。特に
ポリオレフィンホモ−及び−コポリマーは濃縮ポリマー
として適している。できるだけ高い燐の割合を有する濃
縮物が有利である。一般的には濃縮物中燐の割合は、濃
縮物の重量に対して３０重量％以上である。
【００８１】成形材料中に分散した燐物質の平均粒度
（ｄ50）は、０．０００１〜０．５ｍｍ、特に０．００
１〜０．２ｍｍの範囲内にある。
（ｄ50）は、０．０００１〜０．５ｍｍ、特に０．００
１〜０．２ｍｍの範囲内にある。
【００８２】防炎加工剤として適当な燐化合物は有機燐
化合物であり、例えばホスフォネート、ホスフィネー
ト、ホスフィニート、ホスフォニンオキシド、ホスフィ
ン、ホスフィト又はフォスフェートは同様に有利であ
る。例としては、トリフェニルホスフィンオキシドが挙
げられる。該物質は単独でもヘキサブロムベンゼン又は
塩化ビフェニル又は赤燐及び選択的には酸化アンチモン
と混合して使用することができる。
化合物であり、例えばホスフォネート、ホスフィネー
ト、ホスフィニート、ホスフォニンオキシド、ホスフィ
ン、ホスフィト又はフォスフェートは同様に有利であ
る。例としては、トリフェニルホスフィンオキシドが挙
げられる。該物質は単独でもヘキサブロムベンゼン又は
塩化ビフェニル又は赤燐及び選択的には酸化アンチモン
と混合して使用することができる。
【００８３】本発明により使用することができる有利な
燐化合物は、以下の一般式：
燐化合物は、以下の一般式：
【００８４】
【化７】
【００８５】［式中、Ｑは水素又は同じか又は異なる炭
素原子基又はハロゲン炭素原子基、例えば、アルキル
基、シクロアルキル基、アリール基、アルキル置換され
たアリール基及びアリール置換されたアルキル基を表す
が、但し、Ｑの表す基の少なくとも１つがアリール基で
ある］のようなものである。このような適当なホスフェ
ートの例は、例えば以下のものである：フェニルビスド
デシルホスフェート、フェニルビスネオペンチルホスフ
ェート、フェニルエチレンヒドロゲンホスフェート、フ
ェニル−ビス−（３−５，５′−トリメチルヘキシルホ
スフェート）、エチルジフェニルホスフェート、２−エ
チルヘキシルジ（ｐ−トルイル）ホスフェート、ジフェ
ニルヒドロゲンホスフェート、ビス−（２−エチルヘキ
シル）フェニルホスフェート、トリ（ノニルフェニル）
ホスフェート、フェニルメチルヒドロゲンホスフェー
ト、ジ（ドデシル）−ｐ−トルイルホスフェート、トリ
クレシルホスフェート、トリフェニルホスフェート、ジ
ブチルフェニルホスフェート及びジフェニルヒドロゲン
ホスフェートである。有利なホスフェートは、それぞれ
Ｑがアリールであるようなものである。最も有利なホス
フェートは、トリフェニルホスフェートである。更にト
リフェニルホスフェートとヘキサブロムベンゼン及び三
酸化アンチモンとの混合物が有利である。
素原子基又はハロゲン炭素原子基、例えば、アルキル
基、シクロアルキル基、アリール基、アルキル置換され
たアリール基及びアリール置換されたアルキル基を表す
が、但し、Ｑの表す基の少なくとも１つがアリール基で
ある］のようなものである。このような適当なホスフェ
ートの例は、例えば以下のものである：フェニルビスド
デシルホスフェート、フェニルビスネオペンチルホスフ
ェート、フェニルエチレンヒドロゲンホスフェート、フ
ェニル−ビス−（３−５，５′−トリメチルヘキシルホ
スフェート）、エチルジフェニルホスフェート、２−エ
チルヘキシルジ（ｐ−トルイル）ホスフェート、ジフェ
ニルヒドロゲンホスフェート、ビス−（２−エチルヘキ
シル）フェニルホスフェート、トリ（ノニルフェニル）
ホスフェート、フェニルメチルヒドロゲンホスフェー
ト、ジ（ドデシル）−ｐ−トルイルホスフェート、トリ
クレシルホスフェート、トリフェニルホスフェート、ジ
ブチルフェニルホスフェート及びジフェニルヒドロゲン
ホスフェートである。有利なホスフェートは、それぞれ
Ｑがアリールであるようなものである。最も有利なホス
フェートは、トリフェニルホスフェートである。更にト
リフェニルホスフェートとヘキサブロムベンゼン及び三
酸化アンチモンとの混合物が有利である。
【００８６】防炎加工剤としては、燐／窒素結合を含有
する化合物、例えばホスホンニトリルクロリド、燐酸エ
ステルアミド、燐酸エステルアミン、燐酸アミド、ホス
ホン酸アミド、ホスフィン酸アミド、トリス（アジリジ
ニル）−ホスフィンオキシド又はテトラキス（ヒドロキ
シメチル）ホスフィニウムクロリドである。これら引火
抑制添加物は大体において入手可能である。
する化合物、例えばホスホンニトリルクロリド、燐酸エ
ステルアミド、燐酸エステルアミン、燐酸アミド、ホス
ホン酸アミド、ホスフィン酸アミド、トリス（アジリジ
ニル）−ホスフィンオキシド又はテトラキス（ヒドロキ
シメチル）ホスフィニウムクロリドである。これら引火
抑制添加物は大体において入手可能である。
【００８７】主成分の他に本発明による成形材料は、成
分（Ｅ）として添加物質及び加工助剤を含有することが
できる。該割合は、成形材料の全重量に対して一般に１
０重量％まで、有利には５重量％まで、特に有利には
０．５〜２重量％である。
分（Ｅ）として添加物質及び加工助剤を含有することが
できる。該割合は、成形材料の全重量に対して一般に１
０重量％まで、有利には５重量％まで、特に有利には
０．５〜２重量％である。
【００８８】一般的に使用される添加物質は、例えば酸
化遅延剤、熱安定剤、光による分解防止剤、染料、顔
料、軟化剤、滑剤及び離型助剤並びに防炎加工剤用の相
乗剤である。
化遅延剤、熱安定剤、光による分解防止剤、染料、顔
料、軟化剤、滑剤及び離型助剤並びに防炎加工剤用の相
乗剤である。
【００８９】熱可塑的材料を本発明により添加すること
ができる酸化遅延剤及び熱安定剤は、例えば周期系の第
１族の金属のハロゲン化物、例えばナトリウム、カリウ
ム、リチウムハロゲン化物であり、これらは場合により
銅（Ｉ）ハロゲン化物、例えば塩化物、臭化物又はヨウ
化物と組み合わせることができる。更に、フッ化亜鉛及
び塩化亜鉛を使用することができる。更に立体障害フェ
ノール、ドリップ防止剤、例えばポリテトラフルオルエ
チレン、ヒドロキノン、これらの群の置換された代表物
及びこれらの化合物の混合物を、有利には該混合物の重
量に対して１重量％以下の濃度で使用可能である。
ができる酸化遅延剤及び熱安定剤は、例えば周期系の第
１族の金属のハロゲン化物、例えばナトリウム、カリウ
ム、リチウムハロゲン化物であり、これらは場合により
銅（Ｉ）ハロゲン化物、例えば塩化物、臭化物又はヨウ
化物と組み合わせることができる。更に、フッ化亜鉛及
び塩化亜鉛を使用することができる。更に立体障害フェ
ノール、ドリップ防止剤、例えばポリテトラフルオルエ
チレン、ヒドロキノン、これらの群の置換された代表物
及びこれらの化合物の混合物を、有利には該混合物の重
量に対して１重量％以下の濃度で使用可能である。
【００９０】更に、特にオレフィン二重結合の他に芳香
族の単位を有するコポリアミド（Ａ）として、芳香族第
二アミン、例えばジフェニルアミン及びその誘導体をベ
ースとする安定剤が該当する。
族の単位を有するコポリアミド（Ａ）として、芳香族第
二アミン、例えばジフェニルアミン及びその誘導体をベ
ースとする安定剤が該当する。
【００９１】ＵＶ安定剤の例は、種々の置換されたレゾ
ルシン、サリシレート、ベンゾトリアゾール、ベンゾフ
ェノン及びまた立体障害アミン、いわゆるＨＡＬＳであ
り、これらは一般に２重量％以下の量で使用することが
できる。
ルシン、サリシレート、ベンゾトリアゾール、ベンゾフ
ェノン及びまた立体障害アミン、いわゆるＨＡＬＳであ
り、これらは一般に２重量％以下の量で使用することが
できる。
【００９２】一般に成形材料の１重量％までの量で使用
される滑剤及び離型剤は、例えば長鎖状の脂肪酸、例え
ばパルミチン酸又はステアリン酸及びそれらの塩ないし
はアルキルエステル及びアルキルアミド、長鎖状のアル
コール、例えばステアリルアルコール、並びに長鎖状の
脂肪酸とぺンタエリトリットとのエステルである。
される滑剤及び離型剤は、例えば長鎖状の脂肪酸、例え
ばパルミチン酸又はステアリン酸及びそれらの塩ないし
はアルキルエステル及びアルキルアミド、長鎖状のアル
コール、例えばステアリルアルコール、並びに長鎖状の
脂肪酸とぺンタエリトリットとのエステルである。
【００９３】添加物には、防炎加工剤用の相乗剤、例え
ば湿分及び空気酸素の存在下での赤燐の分解を阻止する
安定剤もある。例としては、カドミウム、亜鉛、アルミ
ニウム、銀、鉄、銅、アンチモン、スズ、マグネシウ
ム、マンガン、バナジウム及び硼素の化合物が挙げられ
る。特に適当な化合物は、例えば上記金属の酸化物、更
に炭酸塩又はオキシ炭酸塩、水酸化物並びに有機又は無
機酸の塩、例えば酢酸又は燐酸塩ないしは燐酸水素塩及
び硫酸塩である。
ば湿分及び空気酸素の存在下での赤燐の分解を阻止する
安定剤もある。例としては、カドミウム、亜鉛、アルミ
ニウム、銀、鉄、銅、アンチモン、スズ、マグネシウ
ム、マンガン、バナジウム及び硼素の化合物が挙げられ
る。特に適当な化合物は、例えば上記金属の酸化物、更
に炭酸塩又はオキシ炭酸塩、水酸化物並びに有機又は無
機酸の塩、例えば酢酸又は燐酸塩ないしは燐酸水素塩及
び硫酸塩である。
【００９４】コポリアミド（Ａ）を製造するためには不
連続的方法も連続的方法もまた適している。オレフィン
二重結合の他に芳香族単位、有利には５０モル％以上を
有し、該単位は完全に又は部分的にジカルボン酸から得
られるコポリアミドを製造するためには、高圧及び約２
００〜４００℃の温度で、及び短い滞留時間、有利には
１５分以内で、まずプレポリマーを製造し、引続き固相
又は液相で最終粘度に後縮合させる方法が特に有利であ
ることが立証された。この短い滞留時間により副反応、
例えばジアミンのトリアミンへの自己縮合を抑制するこ
とができる。
連続的方法も連続的方法もまた適している。オレフィン
二重結合の他に芳香族単位、有利には５０モル％以上を
有し、該単位は完全に又は部分的にジカルボン酸から得
られるコポリアミドを製造するためには、高圧及び約２
００〜４００℃の温度で、及び短い滞留時間、有利には
１５分以内で、まずプレポリマーを製造し、引続き固相
又は液相で最終粘度に後縮合させる方法が特に有利であ
ることが立証された。この短い滞留時間により副反応、
例えばジアミンのトリアミンへの自己縮合を抑制するこ
とができる。
【００９５】本発明による成形材料は、例えば自体公知
の方法に基づき、出発成分を通常の混合装置、例えばス
クリュウ押出機、有利には２軸スクリュウ押出機、ブラ
ベンダーミル並びにニーダで混合し、引続き押出すこと
により製造することができる。押出後に、押出物を冷却
しかつ粉砕する。
の方法に基づき、出発成分を通常の混合装置、例えばス
クリュウ押出機、有利には２軸スクリュウ押出機、ブラ
ベンダーミル並びにニーダで混合し、引続き押出すこと
により製造することができる。押出後に、押出物を冷却
しかつ粉砕する。
【００９６】できるだけ均質な成形材料を得るために
は、激しい混和が有利である。このためには一般に２８
０〜３８０℃の温度で０．２〜２０分間の平均混合時間
が必要である。該成分の混合順序は変更することができ
る、例えば２種又は所望の場合には３種の成分を予め混
合することもできるが、全ての成分を一緒に混合するこ
ともできる。
は、激しい混和が有利である。このためには一般に２８
０〜３８０℃の温度で０．２〜２０分間の平均混合時間
が必要である。該成分の混合順序は変更することができ
る、例えば２種又は所望の場合には３種の成分を予め混
合することもできるが、全ての成分を一緒に混合するこ
ともできる。
【００９７】このようにして得られた成形材料から、成
形体又は平面上形成物、例えば繊維又はフィルムを製造
することができ、そのためには例えば公知の方法、例え
ば押出し成形又は射出成形を用いてよい。これらをベー
スとする成形材料を架橋することにより、引続き、成形
材料又は表面形成物を高エネルギービームに曝すことが
できる。一般的に架橋生成物は、最初のオレイン二重結
合の５０％未満、特に３０％未満を含有する。高エネル
ギービームは、例えばベータ線、ガンマ線又は電気線並
びにＸ線であると解される。その際、ビームは成形体中
への所望の侵入深さにより選択する。ＵＶ光線は、その
部分結晶質、ひいては不透明な成形体中への低い侵入深
さに基づき不適当である。２０〜２００、特に５０〜１
００ｋＧｒａｙの電気線を使用するのが有利である。電
気線は、例えば３００〜３０００、有利には８００〜２
０００ＫｅＶの放射エネルギを有するバン・デア・グラ
ーフゼネレータを発生させることができ、この場合、エ
ネルギは必要な成形品への侵入深さが大きい程に、高く
選択する。
形体又は平面上形成物、例えば繊維又はフィルムを製造
することができ、そのためには例えば公知の方法、例え
ば押出し成形又は射出成形を用いてよい。これらをベー
スとする成形材料を架橋することにより、引続き、成形
材料又は表面形成物を高エネルギービームに曝すことが
できる。一般的に架橋生成物は、最初のオレイン二重結
合の５０％未満、特に３０％未満を含有する。高エネル
ギービームは、例えばベータ線、ガンマ線又は電気線並
びにＸ線であると解される。その際、ビームは成形体中
への所望の侵入深さにより選択する。ＵＶ光線は、その
部分結晶質、ひいては不透明な成形体中への低い侵入深
さに基づき不適当である。２０〜２００、特に５０〜１
００ｋＧｒａｙの電気線を使用するのが有利である。電
気線は、例えば３００〜３０００、有利には８００〜２
０００ＫｅＶの放射エネルギを有するバン・デア・グラ
ーフゼネレータを発生させることができ、この場合、エ
ネルギは必要な成形品への侵入深さが大きい程に、高く
選択する。
【００９８】全照射時間は、一般に１〜６０、有利には
５〜３０秒の範囲内にある。その際、成形体又は平面状
形成物は、所望の全照射時間に達するまで、中断せずに
照射するか又は短時間数回照射することができる。電気
線を使用すると一般に成形品は約２０ｃｍ、有利には１
０ｃｍの厚さまで硬化させることができる。このこと
は、両面照射で約１０ないしは約５ｃｍの侵入深さに相
当する。
５〜３０秒の範囲内にある。その際、成形体又は平面状
形成物は、所望の全照射時間に達するまで、中断せずに
照射するか又は短時間数回照射することができる。電気
線を使用すると一般に成形品は約２０ｃｍ、有利には１
０ｃｍの厚さまで硬化させることができる。このこと
は、両面照射で約１０ないしは約５ｃｍの侵入深さに相
当する。
【００９９】成形体又は平面状形成物を、放射性核種か
ら発生されるガンマ光線に曝すことも可能である。ガン
マ線を用いると数メートルの侵入深さが達成されるの
で、架橋すべき成形品の厚さは実際に制限されない。ガ
ンマ線での照射時間は、一般に０．１〜１００時間、有
利には１〜２０時間である。
ら発生されるガンマ光線に曝すことも可能である。ガン
マ線を用いると数メートルの侵入深さが達成されるの
で、架橋すべき成形品の厚さは実際に制限されない。ガ
ンマ線での照射時間は、一般に０．１〜１００時間、有
利には１〜２０時間である。
【０１００】架橋した生成物は、特に極めて良好な熱形
状安定性を示す。従って、本発明による方法で製造した
形成体、繊維又はフィルムは、特に、高い熱負荷に耐え
るべきである使用分野、例えばエレクトロニクス分野に
適している。
状安定性を示す。従って、本発明による方法で製造した
形成体、繊維又はフィルムは、特に、高い熱負荷に耐え
るべきである使用分野、例えばエレクトロニクス分野に
適している。
【０１０１】
【実施例】次に、本発明を以下の実施例につき詳細に説
明する。
明する。
【０１０２】例 略語 ＡＳ アジピン酸 ＨＭＤ ヘキサメチレンジアミン ＣＬ ε−カプロラクタム ＨＤＳ ３−ヘキセンジカルボン酸 ＯＳ ４−オクタン−１，８−ジカルボン酸 ＤＤＯ ２，７−ジアミノ−２，７−ジメチル−４−オ
クタン ＥＳ １０−エイコセン−１，２０−ジカルボン酸 作業工程 例Ｉａ ３−ヘキセン−１，６−ジカルボン酸（ＨＤＳ）１４４
ｇ（１モル）及びヘキサメチレンジアミン（ＨＭＤ）１
１６ｇ（１モル）を、熱湯３００ｍｌ中に溶解した。冷
却の際に、ＨＤＳ／ＨＭＤ−１：１付加物が晶出した。
相応してアジピン酸（ＡＳ）とヘキサメチレンジアミン
ＨＭＤからの反応生成物を製造した。
クタン ＥＳ １０−エイコセン−１，２０−ジカルボン酸 作業工程 例Ｉａ ３−ヘキセン−１，６−ジカルボン酸（ＨＤＳ）１４４
ｇ（１モル）及びヘキサメチレンジアミン（ＨＭＤ）１
１６ｇ（１モル）を、熱湯３００ｍｌ中に溶解した。冷
却の際に、ＨＤＳ／ＨＭＤ−１：１付加物が晶出した。
相応してアジピン酸（ＡＳ）とヘキサメチレンジアミン
ＨＭＤからの反応生成物を製造した。
【０１０３】実験用オートクレーブ１リットル中にＨＤ
Ｓ／ＨＭＤ１３ｇ、ＡＳ／ＨＭＤ１１８ｇ及び水２０ｇ
を装入した。次いで、オートクレーブを１時間以内で２
８０℃に加熱し、その際、圧力は２０バールに達してか
ら水蒸気の弛暖により一定に維持した。引続き、なお２
時間２８０℃及び２０バールで縮合した。次いで２時間
以内で引続き周囲圧に弛暖した。このようにして得られ
た生成物を取り出し、ストランド状にし、ペレットにし
更に８０℃で８時間真空中で乾燥した。
Ｓ／ＨＭＤ１３ｇ、ＡＳ／ＨＭＤ１１８ｇ及び水２０ｇ
を装入した。次いで、オートクレーブを１時間以内で２
８０℃に加熱し、その際、圧力は２０バールに達してか
ら水蒸気の弛暖により一定に維持した。引続き、なお２
時間２８０℃及び２０バールで縮合した。次いで２時間
以内で引続き周囲圧に弛暖した。このようにして得られ
た生成物を取り出し、ストランド状にし、ペレットにし
更に８０℃で８時間真空中で乾燥した。
【０１０４】例１ｂ〜５ 該ポリアミドを、上記工程に相応して製造した。その
際、カプロラクタム含有生成物を縮合した後、それぞれ
８時間で３回熱湯９０℃で抽出した。
際、カプロラクタム含有生成物を縮合した後、それぞれ
８時間で３回熱湯９０℃で抽出した。
【０１０５】成形体１〜５の照射 成形体から射出した試料成形体（１０×１０×３ｍｍ）
を、一方側から３ＭＶ加速電圧でバン・デア・グラーフ
ゼネレータで発生させた、１００ｋＧｒａｙの線量で照
射した。試料成形体をそれぞれ１０秒間で３回照射し
た。照射は室温で実施した。照射中に試料成形体は約６
０℃に温まった。
を、一方側から３ＭＶ加速電圧でバン・デア・グラーフ
ゼネレータで発生させた、１００ｋＧｒａｙの線量で照
射した。試料成形体をそれぞれ１０秒間で３回照射し
た。照射は室温で実施した。照射中に試料成形体は約６
０℃に温まった。
【０１０６】試験 照射しなかった試料の粘度数（ＶＺ）は、ＩＳＯ３０７
により９６％の硫酸中０．５％の溶液で測定した。
により９６％の硫酸中０．５％の溶液で測定した。
【０１０７】照射により得られた架橋度の尺度は、照射
した試料からの可溶性成分を抽出した後に残留する不溶
性成分である。そのためには、まずチップ試料（０．０
２ｍｍ以下の厚さ、重量約０．２ｇ）又は切片試料をで
きるだけ大きな平面（重量約１．０ｇ）に製造し、精度
１ｍｇで計った。引続き、チップ試料をギ酸５０ｍｌ
で、切片試料をギ酸１５０ｍｌで６時間抽出した。その
後、該溶液を除去し、不溶成分を捕集し、乾燥して計っ
た。
した試料からの可溶性成分を抽出した後に残留する不溶
性成分である。そのためには、まずチップ試料（０．０
２ｍｍ以下の厚さ、重量約０．２ｇ）又は切片試料をで
きるだけ大きな平面（重量約１．０ｇ）に製造し、精度
１ｍｇで計った。引続き、チップ試料をギ酸５０ｍｌ
で、切片試料をギ酸１５０ｍｌで６時間抽出した。その
後、該溶液を除去し、不溶成分を捕集し、乾燥して計っ
た。
【０１０８】照射前及びまた後での熱形状安定性を、Ｄ
ＩＮ５３４６０により圧縮試料成形体（１０×１０×３
ｍｍ）で測定した。そのために試料成形体を最大２５０
℃まで加熱可能な油浴中で加熱し、１０Ｎ（Ｖｉｃａｔ
Ａ）の負荷をかけ、１ｍｍのゾル侵入深さで温度を測定
した。
ＩＮ５３４６０により圧縮試料成形体（１０×１０×３
ｍｍ）で測定した。そのために試料成形体を最大２５０
℃まで加熱可能な油浴中で加熱し、１０Ｎ（Ｖｉｃａｔ
Ａ）の負荷をかけ、１ｍｍのゾル侵入深さで温度を測定
した。
【０１０９】それぞれの組成及び試験の結果を以下の表
に示す。
に示す。
【０１１０】
【表１】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 (Ｃ０８Ｌ 77/00 23:16） (72)発明者 アンドレアス デッカース ドイツ連邦共和国 ルートヴィッヒスハー フェン エシェンバッハシュトラーセ 48 (72)発明者 ペトラ バイアーヴェック ドイツ連邦共和国 シファーシュタット ゼバスティアーン−クナイプ−シュトラー セ 19
Claims (1)
- 【請求項１】Ａ）少なくとも１個のオレフィン系二重結
合を含有する少なくとも１種のモノマー（モノマー
ａ1）、コポリアミドに対して１〜２０モル％及びオレ
フィン系二重結合を含有しない少なくとも１種のモノマ
ー（モノマーａ2）、コポリアミドに対して８０〜９９
モル％をベースとするコポリアミド４０〜１００重量
％、 ａ1）前記モノマー（モノマーａ1）は、 α1）オレフィン不飽和ラクタム、 α2）オレフィン不飽和アミノカルボン酸 α3）オレフィン不飽和ジカルボン酸 α4）オレフィン不飽和ジアミン、 の群から選択される、かつ ａ2）前記モノマー（モノマーａ2）は、 β1）ラクタム、 β2）アミノカルボン酸、 β3）ジカルボン酸、 β4）ジアミン、 の群から選択される、及び Ｂ）衝撃強さ変性ゴム０〜３５重量％、及び Ｃ）充填剤及び／又は強化剤０〜５０重量％、及び Ｄ）防炎加工剤０〜２０重量％、及び Ｅ）その他の添加剤及び加工助剤０〜１０重量％、から
なることを特徴とする、不飽和コポリマーアミドをベー
スとする成形材料。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4206949A DE4206949A1 (de) | 1992-03-05 | 1992-03-05 | Formmassen auf der basis ungesaettigter copolyamide |
| DE4206949.1 | 1992-03-05 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0649355A true JPH0649355A (ja) | 1994-02-22 |
Family
ID=6453292
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5042540A Withdrawn JPH0649355A (ja) | 1992-03-05 | 1993-03-03 | 不飽和コポリマーアミドをベースとする成形材料 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5326850A (ja) |
| EP (1) | EP0560130A1 (ja) |
| JP (1) | JPH0649355A (ja) |
| DE (1) | DE4206949A1 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013015440A1 (ja) * | 2011-07-25 | 2013-01-31 | 住友化学株式会社 | ゴム組成物 |
| JP2015059207A (ja) * | 2013-09-20 | 2015-03-30 | セルヴィシオス アドミニストラティヴォス ペニョーレス ソシエダッド アノニマ デ キャピタル ヴァリアブルＳｅｒｖｉｃｉｏｓ Ａｄｍｉｎｉｓｔｒａｔｉｖｏｓ Ｐｅｎｏｌｅｓ Ｓ．Ａ．ｄｅ Ｃ．Ｖ． | 構造修飾添加剤を添加した高耐衝撃性のビニル芳香族材料の組成物 |
| JP2017538805A (ja) * | 2014-10-28 | 2017-12-28 | ミリアント・コーポレイションＭｙｒｉａｎｔ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ | ムコン酸異性体およびその誘導体からのポリマー |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19501998A1 (de) * | 1995-01-24 | 1996-07-25 | Basf Ag | Thermoplastische Polyamidformmassen |
| DE19513848A1 (de) * | 1995-04-12 | 1996-10-17 | Basf Ag | Thermoplastische Formmassen auf der Basis von teilaromatischen Polyamiden und Polyetheramiden |
| DE10117107A1 (de) * | 2001-04-06 | 2002-10-17 | Degussa | Formteil mit hoher Kurzzeitwärmeformbeständigkeit |
| WO2012068264A2 (en) | 2010-11-17 | 2012-05-24 | Frx Polymers, Inc. | Phosphonate polymers, copolymers, and their respective oligomers as flame retardants for polyester fibers |
| KR20150032514A (ko) * | 2011-11-10 | 2015-03-26 | 에프알엑스 폴리머스, 인코포레이티드 | 난연성 폴리아미드 조성물 |
| TW201439222A (zh) | 2013-01-22 | 2014-10-16 | Frx Polymers Inc | 含磷環氧化合物及源自其之組成物 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2858259A (en) * | 1952-12-06 | 1958-10-28 | Gen Electric | Electron irradiation of preformed polyamide resin |
| US2967137A (en) * | 1956-11-21 | 1961-01-03 | Gen Electric | Irradiation of nylon |
| IT1125445B (it) * | 1979-10-05 | 1986-05-14 | Snia Viscosa | Poliammidi insature |
| EP0087385B1 (de) * | 1982-01-29 | 1986-09-17 | Ciba-Geigy Ag | Vernetzbare transparente Polyamide |
| JPS60191237A (ja) * | 1984-03-13 | 1985-09-28 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 露光硬化後非粘着性感光性樹脂組成物 |
| IT1228515B (it) * | 1988-03-03 | 1991-06-20 | Central Glass Co Ltd | Resine poliammidi aromatiche resistenti al calore e fotosensibili e metodo per la loro preparazione |
| JPH079677A (ja) * | 1993-06-14 | 1995-01-13 | Canon Inc | インクジェットプリント装置とプリント物及びその方法とその加工品 |
-
1992
- 1992-03-05 DE DE4206949A patent/DE4206949A1/de not_active Withdrawn
-
1993
- 1993-02-25 EP EP93102914A patent/EP0560130A1/de not_active Withdrawn
- 1993-03-03 JP JP5042540A patent/JPH0649355A/ja not_active Withdrawn
- 1993-03-03 US US08/025,864 patent/US5326850A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013015440A1 (ja) * | 2011-07-25 | 2013-01-31 | 住友化学株式会社 | ゴム組成物 |
| JP2015059207A (ja) * | 2013-09-20 | 2015-03-30 | セルヴィシオス アドミニストラティヴォス ペニョーレス ソシエダッド アノニマ デ キャピタル ヴァリアブルＳｅｒｖｉｃｉｏｓ Ａｄｍｉｎｉｓｔｒａｔｉｖｏｓ Ｐｅｎｏｌｅｓ Ｓ．Ａ．ｄｅ Ｃ．Ｖ． | 構造修飾添加剤を添加した高耐衝撃性のビニル芳香族材料の組成物 |
| JP2017538805A (ja) * | 2014-10-28 | 2017-12-28 | ミリアント・コーポレイションＭｙｒｉａｎｔ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ | ムコン酸異性体およびその誘導体からのポリマー |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE4206949A1 (de) | 1993-09-09 |
| EP0560130A1 (de) | 1993-09-15 |
| US5326850A (en) | 1994-07-05 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
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