JPH0649430Y2 - レーザ印字装置 - Google Patents
レーザ印字装置Info
- Publication number
- JPH0649430Y2 JPH0649430Y2 JP1988152065U JP15206588U JPH0649430Y2 JP H0649430 Y2 JPH0649430 Y2 JP H0649430Y2 JP 1988152065 U JP1988152065 U JP 1988152065U JP 15206588 U JP15206588 U JP 15206588U JP H0649430 Y2 JPH0649430 Y2 JP H0649430Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- laser
- laser light
- present
- pipe
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案はレーザ加工機に関し、特にレーザ印字装置の印
字用のマスクの冷却に関する。
字用のマスクの冷却に関する。
従来、この種のレーザ印字装置は全てマスクを有してお
りマスクの基板となる材質は種類も多くそれぞれ特徴が
ある。ステンレス板を用い、文字部分をエッチング等で
ぬいたものは低コストであるが“0"（ゼロ）の文字の場
合、中の部分を保持する必要が生じる。またステンレス
板はレーザ光を吸収し、熱伝導が悪い。金属蒸着を行な
ったガラスマスクの場合はマスクの製作精度も良く、最
も一般的に用いられている。
りマスクの基板となる材質は種類も多くそれぞれ特徴が
ある。ステンレス板を用い、文字部分をエッチング等で
ぬいたものは低コストであるが“0"（ゼロ）の文字の場
合、中の部分を保持する必要が生じる。またステンレス
板はレーザ光を吸収し、熱伝導が悪い。金属蒸着を行な
ったガラスマスクの場合はマスクの製作精度も良く、最
も一般的に用いられている。
上述した従来のレーザ印字装置に用いられるマスクは、
長時間レーザ光路中に挿入されるため劣化するという欠
点を有している。この劣化は主にマスクがレーザ光を吸
収し、マスクの温度が上昇することに起因する。
長時間レーザ光路中に挿入されるため劣化するという欠
点を有している。この劣化は主にマスクがレーザ光を吸
収し、マスクの温度が上昇することに起因する。
したがって、上述した従来のレーザ印字装置のマスクは
使用するレーザ光源に対して吸収の最も少ないもの，耐
久性の高いものを選ぶ必要がある。しかし、レーザ光源
の出力が高くなると限界が生じる。
使用するレーザ光源に対して吸収の最も少ないもの，耐
久性の高いものを選ぶ必要がある。しかし、レーザ光源
の出力が高くなると限界が生じる。
これに対し本考案のレーザ印字装置はマスクの表面を周
囲から空気を吹き掛けることによりマスクの温度上昇を
おさえ、より高出力レーザ又は高くり返しに耐えること
ができるという相違点を有する。
囲から空気を吹き掛けることによりマスクの温度上昇を
おさえ、より高出力レーザ又は高くり返しに耐えること
ができるという相違点を有する。
本考案のレーザ印字装置は、使用するマスクの周囲にレ
ーザ光路を遮えぎらないように角形又は円形状にパイプ
を設置し、そのパイプの内周側に直径0.5〜2mmの穴をあ
ける。この穴はマスクの表面の各部に空気を吹き掛ける
ことができるように異なった向きにする。このパイプは
マスクに対してレーザ光が当たる面に設置する。そし
て、このパイプに空気を通すことによってマスクの表面
を空気が流れ、マスクを冷却することができる。
ーザ光路を遮えぎらないように角形又は円形状にパイプ
を設置し、そのパイプの内周側に直径0.5〜2mmの穴をあ
ける。この穴はマスクの表面の各部に空気を吹き掛ける
ことができるように異なった向きにする。このパイプは
マスクに対してレーザ光が当たる面に設置する。そし
て、このパイプに空気を通すことによってマスクの表面
を空気が流れ、マスクを冷却することができる。
次に、本考案の実施例を図面を参照して説明する。
第１図は本考案の実施例の断面図、第２図は本考案の実
施例の正面図、第３図は本考案の実施例に使用するパイ
プの展開図である。
施例の正面図、第３図は本考案の実施例に使用するパイ
プの展開図である。
各図において、マスク１はレーザ光照射範囲４に挿入さ
れている。パイプ２はレーザ光照射範囲４に当たらない
ように設置されている。パイプ２のノズル３はマスク１
に向かって空気が吹き出すように開けられている。この
ように構成することにより、マスク１はノズル３の空気
により冷却される。
れている。パイプ２はレーザ光照射範囲４に当たらない
ように設置されている。パイプ２のノズル３はマスク１
に向かって空気が吹き出すように開けられている。この
ように構成することにより、マスク１はノズル３の空気
により冷却される。
以上説明したように本考案は、マスクに空気を吹き掛け
ることによりマスクの温度を低下させ劣化を防ぐことが
できる。
ることによりマスクの温度を低下させ劣化を防ぐことが
できる。
また常に空気の流れがあるためにマスクに付いたゴミを
吹きとばし、マスクのゴミによる加工を防ぐこともでき
るという効果がある。
吹きとばし、マスクのゴミによる加工を防ぐこともでき
るという効果がある。
第１図は本考案の実施例の断面図、第２図は本考案の実
施例の正面図、第３図は本考案の実施例に使用するパイ
プの展開図である。 １……マスク、２……パイプ、３……ノズル、４……レ
ーザ光照射範囲。
施例の正面図、第３図は本考案の実施例に使用するパイ
プの展開図である。 １……マスク、２……パイプ、３……ノズル、４……レ
ーザ光照射範囲。
Claims (1)
- 【請求項１】レーザ光を、所定のパターンの部分だけが
前記レーザ光が透過できるように加工されたマスクに対
し透過させることで、被加工物上に前記パターンの印字
を行うレーザ印字装置において、 前記マスクの周囲であって、前記レーザ光を遮らない位
置に設けられ、前記マスクのレーザ光が照射される面に
気体を吹き付ける孔を備えたパイプを有することを特徴
とするレーザ印字装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988152065U JPH0649430Y2 (ja) | 1988-11-21 | 1988-11-21 | レーザ印字装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988152065U JPH0649430Y2 (ja) | 1988-11-21 | 1988-11-21 | レーザ印字装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0276683U JPH0276683U (ja) | 1990-06-12 |
| JPH0649430Y2 true JPH0649430Y2 (ja) | 1994-12-14 |
Family
ID=31426662
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1988152065U Expired - Lifetime JPH0649430Y2 (ja) | 1988-11-21 | 1988-11-21 | レーザ印字装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0649430Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3553116B2 (ja) * | 1994-02-25 | 2004-08-11 | 三菱電機株式会社 | 光処理装置 |
-
1988
- 1988-11-21 JP JP1988152065U patent/JPH0649430Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0276683U (ja) | 1990-06-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI374070B (en) | Laser processing apparatus and laser processing method as well as debris extraction mechanism and debris extraction method | |
| JPH0649430Y2 (ja) | レーザ印字装置 | |
| JPH01259530A (ja) | 被処理体の処理装置 | |
| JP2005123651A (ja) | レジスト膜の処理装置、およびレジストパターン形成方法 | |
| JP3395140B2 (ja) | レーザマーキング方法 | |
| JPS6356389A (ja) | レ−ザ加工機の加工ヘツド | |
| JP2000280086A (ja) | レーザ加工機 | |
| JP3248771B2 (ja) | レンズホルダ | |
| JP3641320B2 (ja) | 露光装置に用いられるシャッター装置 | |
| JPS5970486A (ja) | レ−ザエネルギ−分布変換方法 | |
| JPH09285887A (ja) | 穴加工方法および穴加工装置ならびに穴加工用マスク | |
| JPH09271974A (ja) | レーザ加工機の集光レンズ冷却装置 | |
| JPH07284976A (ja) | 光加工装置 | |
| JPH0626177B2 (ja) | 露光装置における焼枠の冷却方法およびその冷却装置 | |
| JPH11277280A (ja) | レーザ加工用マスク装置 | |
| JPS6224220A (ja) | レ−ザマ−キング装置 | |
| US7924302B2 (en) | Image recording apparatus with gas blowing device | |
| JPH052111U (ja) | レーザ出射光学機構 | |
| JPH0435025Y2 (ja) | ||
| JPH0845798A (ja) | レ−ザマ−キング用金属マスクの保持装置 | |
| US20020137353A1 (en) | Method and device for delacquering an area on a mask substrate | |
| JP2008194708A (ja) | レーザー加工用マスクホルダー及びレーザー加工装置 | |
| JPH07232292A (ja) | 光処理装置 | |
| JPH10156572A (ja) | レーザ加工装置 | |
| JPS5977585U (ja) | レ−ザ光伝送装置 |