JPH0650574B2 - 光デイスク - Google Patents
光デイスクInfo
- Publication number
- JPH0650574B2 JPH0650574B2 JP60187280A JP18728085A JPH0650574B2 JP H0650574 B2 JPH0650574 B2 JP H0650574B2 JP 60187280 A JP60187280 A JP 60187280A JP 18728085 A JP18728085 A JP 18728085A JP H0650574 B2 JPH0650574 B2 JP H0650574B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- weight
- parts
- recording
- metal film
- optical disk
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は光ディスクに係り、とくにデジタルオーディオ
ディスク，光学式ビデオディスク、メモリーディスクな
どの如く光で読みとる方式の光ディスクに関するもので
ある。
ディスク，光学式ビデオディスク、メモリーディスクな
どの如く光で読みとる方式の光ディスクに関するもので
ある。
従来よりディスクはたとえば第１図に示すようにガラ
ス，透明プラスチックス（ポリメチルメタクリレート，
ポリカーボネートなど）などの透明基体１と、この上に
形成されたサーボトラック用などの溝状や穴状の凹凸を
有する下地層２と、この下地層２の上に形成されたBi,I
n,Te,Se,As,Pb,Sn系などの記録用金属膜３とからなる光
ディスク基板二枚を、きょう体４で記録用金属膜３が互
いに一定間隔で対向するように保持し、このきょう体と
透明基体間を接着剤（図示せず）で封着させたものであ
る。
ス，透明プラスチックス（ポリメチルメタクリレート，
ポリカーボネートなど）などの透明基体１と、この上に
形成されたサーボトラック用などの溝状や穴状の凹凸を
有する下地層２と、この下地層２の上に形成されたBi,I
n,Te,Se,As,Pb,Sn系などの記録用金属膜３とからなる光
ディスク基板二枚を、きょう体４で記録用金属膜３が互
いに一定間隔で対向するように保持し、このきょう体と
透明基体間を接着剤（図示せず）で封着させたものであ
る。
そして、光ビームを記録用金属膜３上に照射し、照射部
分の記録用金属膜を除去し、情報の単位としている。
分の記録用金属膜を除去し、情報の単位としている。
このような光ディスクは従来より第２図(a)〜(c)に示す
ように製造されている。すなわち、所定の凹凸を有する
ニッケルなどの金属製スタンパ５と透明基体１との間に
紫外線硬化型レジンをはさみ込み、これを紫外線硬化さ
せて、下地層２を形成し（第２図(a)）、金属製スタン
パ５をはがし（第２図(b)）、凹凸を有する下地層の上
に記録用金属膜３を形成し（第２図(c)）、これら２枚
の光ディスク基板を、きょう体により記録用金属膜が互
いに一定間隔になるようにして対向させ、きょう体と光
ディスク基板を接着して得ていた。
ように製造されている。すなわち、所定の凹凸を有する
ニッケルなどの金属製スタンパ５と透明基体１との間に
紫外線硬化型レジンをはさみ込み、これを紫外線硬化さ
せて、下地層２を形成し（第２図(a)）、金属製スタン
パ５をはがし（第２図(b)）、凹凸を有する下地層の上
に記録用金属膜３を形成し（第２図(c)）、これら２枚
の光ディスク基板を、きょう体により記録用金属膜が互
いに一定間隔になるようにして対向させ、きょう体と光
ディスク基板を接着して得ていた。
上記の下地層に用いる紫外線硬化レジン組成物は、次の
諸条件を満たさなければならない。すなわち、 (イ) 硬化物が光学的に透明であること。
諸条件を満たさなければならない。すなわち、 (イ) 硬化物が光学的に透明であること。
(ロ) ガラス，透明プラスチックなどの透明基体に良く
接着すること。
接着すること。
(ハ) スタンパとはく離し易いこと。
(ニ) 光ビームの照射により記録用金属膜が速かに溶融
して除去され丸い良好な穴があき易いこと。
して除去され丸い良好な穴があき易いこと。
(ホ) 長期間使用によって吸湿により記録用金属膜の形
成が変化したり、金属膜が膨潤しクラックを発生するよ
うなことがないこと、また吸湿により硬化物から溶出し
た腐食性物質が記録用金属膜を酸化し、金属膜の透過率
を増大するようなことがないこと。すなわち、吸湿環境
下においても、記録した信号を正確に読みとれること。
成が変化したり、金属膜が膨潤しクラックを発生するよ
うなことがないこと、また吸湿により硬化物から溶出し
た腐食性物質が記録用金属膜を酸化し、金属膜の透過率
を増大するようなことがないこと。すなわち、吸湿環境
下においても、記録した信号を正確に読みとれること。
(ヘ) 記録用金属膜を蒸着した凹凸の溝の熱安定性が優
れ、溝の深さや形状が変化せず、また金属膜にクラック
が発生しないこと。
れ、溝の深さや形状が変化せず、また金属膜にクラック
が発生しないこと。
(ト) 500rpm以上の高速回転に耐える機械強度のあるこ
と。
と。
が必要である。
しかし、従来の紫外線硬化レジン組成物は、上記(イ)〜
(ト)の条件を同時に満たさなかった。
(ト)の条件を同時に満たさなかった。
代表的な従来例は、光ディスクに関する特開昭56−1279
46号がある。
46号がある。
本発明の目的は、上記した従来技術の欠点をなくし、性
能の安定した光ディスクを提供することにある。
能の安定した光ディスクを提供することにある。
本発明は前記の目的を達成するため、下地層に下記一般
式(1)で示される化合物20〜80重量部、下記一般式(2)で
示される化合物80〜20重量部よりなる混合物100重量部
と、この混合物100重量部に対して光重合開始剤0.1〜5.
0重量部を配合した紫外線硬化型レジン組成物を硬化さ
せたものを用いることを特徴とするものである。
式(1)で示される化合物20〜80重量部、下記一般式(2)で
示される化合物80〜20重量部よりなる混合物100重量部
と、この混合物100重量部に対して光重合開始剤0.1〜5.
0重量部を配合した紫外線硬化型レジン組成物を硬化さ
せたものを用いることを特徴とするものである。
（但し、R1，R2は水素又はメチル基、ｎは整数で ｎ＝
５〜12） 配合量は上記一般式(1)の化合物が80重量部より多い
と、スタンパとの離型性，硬化物の耐湿性，耐熱性が低
下する。また、上記一般式(1)の化合物が20重量部より
少ないと、硬化収縮により成型歪が大きくなるととも
に、硬化物はもろくない機械強度の弱いものとなる。
５〜12） 配合量は上記一般式(1)の化合物が80重量部より多い
と、スタンパとの離型性，硬化物の耐湿性，耐熱性が低
下する。また、上記一般式(1)の化合物が20重量部より
少ないと、硬化収縮により成型歪が大きくなるととも
に、硬化物はもろくない機械強度の弱いものとなる。
さらに、上記組成物を速かに硬化するのに必要な光重合
開始剤としては、たとえば以下に示すようなものが有効
である。すなわち、 ベンジル類， ベンゾイン，ベンゾインエチルエーテル，ベンゾインイ
ソプロピルエーテル，ベンゾインイソブチルエーテルな
どのベンゾイン類， １−ヒドロキシシクロヘキシルベンゾフェノンなどのベ
ンゾフェノン類， アセトフェノン類， ２−クロロチオキサントン，２−メチルチオキサントン
などのチオキサントン類， ２−エチルアントラキノン，２−メチルアントラキノン
などのアントラキノン類， ベンジルジメチルケタールなどのベンジルケタール類， などである。光重合開始剤の配合量は上記一般式(1)と
(2)の合計100重量部に対して0.1〜5.0重量部が有効であ
る。0.1重量部より少ないと反応性が低下し硬化物の諸
特性が低下する。また、5.0重量部より多いと反応が速
すぎ発熱が大きく硬化物にクラックを発生したり不均一
に硬化し諸特性が低下する。
開始剤としては、たとえば以下に示すようなものが有効
である。すなわち、 ベンジル類， ベンゾイン，ベンゾインエチルエーテル，ベンゾインイ
ソプロピルエーテル，ベンゾインイソブチルエーテルな
どのベンゾイン類， １−ヒドロキシシクロヘキシルベンゾフェノンなどのベ
ンゾフェノン類， アセトフェノン類， ２−クロロチオキサントン，２−メチルチオキサントン
などのチオキサントン類， ２−エチルアントラキノン，２−メチルアントラキノン
などのアントラキノン類， ベンジルジメチルケタールなどのベンジルケタール類， などである。光重合開始剤の配合量は上記一般式(1)と
(2)の合計100重量部に対して0.1〜5.0重量部が有効であ
る。0.1重量部より少ないと反応性が低下し硬化物の諸
特性が低下する。また、5.0重量部より多いと反応が速
すぎ発熱が大きく硬化物にクラックを発生したり不均一
に硬化し諸特性が低下する。
なお、上記光重合開始剤は単独もしくは二種類以上混合
して用いる。
して用いる。
また、粘度調節，硬度調節，熱膨張係数の調節，吸湿性
の低減，スタンパとのはく離性向上などを目的として、
例えば以下に示すようなアクリレートやメタクリレート
を用いても良い。すなわち、ラウリルアクリレート，ラ
ウリルメタクリレート，トリデシルメタクリレート，イ
ソボルニルアクリレート，イソボルニルメタクリレー
ト，トリメチロールエタントリアクリレート，トリメチ
ロールエタントリメタクリレート，トリメチロールプロ
パントリアクリレート，トリメチロールプロパントリメ
タクリレートなどが有用である。
の低減，スタンパとのはく離性向上などを目的として、
例えば以下に示すようなアクリレートやメタクリレート
を用いても良い。すなわち、ラウリルアクリレート，ラ
ウリルメタクリレート，トリデシルメタクリレート，イ
ソボルニルアクリレート，イソボルニルメタクリレー
ト，トリメチロールエタントリアクリレート，トリメチ
ロールエタントリメタクリレート，トリメチロールプロ
パントリアクリレート，トリメチロールプロパントリメ
タクリレートなどが有用である。
これらは、単独もしくは二種類以上混合して用いる。配
合割合は前記一般式(1)と(2)の合計100重量部に対して
０〜40重量部である。
合割合は前記一般式(1)と(2)の合計100重量部に対して
０〜40重量部である。
さらに、上記レジンの吸湿時の接着性をさらに安定化す
るために、例えば以下に示すようなシランカップリング
剤を添加することができる。すなわち、γ−アクリロキ
シプロピルトリメトキシシラン，γ−メタクリロキシプ
ロピルトリメトキシシラン，ビニルトリメトキシシラ
ン，ビニルトリエトキシシラン，Ｎ−β−（Ｎ−ビニル
ベンジルアミノ）エチル−γ−アミノプロピルトリメト
キシシラン・モノハロゲンクロライドなどが有用であ
る。これらは単独もしくは二種類以上混合して使用す
る。配合割合は前記一般式(1)と(2)の合計100重量部に
対して０〜6.0重量部である。
るために、例えば以下に示すようなシランカップリング
剤を添加することができる。すなわち、γ−アクリロキ
シプロピルトリメトキシシラン，γ−メタクリロキシプ
ロピルトリメトキシシラン，ビニルトリメトキシシラ
ン，ビニルトリエトキシシラン，Ｎ−β−（Ｎ−ビニル
ベンジルアミノ）エチル−γ−アミノプロピルトリメト
キシシラン・モノハロゲンクロライドなどが有用であ
る。これらは単独もしくは二種類以上混合して使用す
る。配合割合は前記一般式(1)と(2)の合計100重量部に
対して０〜6.0重量部である。
以下、本発明を実施例に基いて更に詳述する。
前記一般式(2)で示される紫外線硬化型レジン成分は、
以下(A),(B)の化学式で表わされるものを用いた。
以下(A),(B)の化学式で表わされるものを用いた。
また、比較例には本発明用成分（前記一般式(1)，(2)の
もの）の配合範囲を越えたものの他に以下の(X),(Y),
(Z)の化学式で表わされるものを用いた。
もの）の配合範囲を越えたものの他に以下の(X),(Y),
(Z)の化学式で表わされるものを用いた。
（分子量：約400） 次に、レジン硬化物の各種特性の測定法を以下に示す。
(1) 記録感度：ガラス基体の光ディスクを用いて信号
を記録した。下記の条件でレーザ光ビームをTe系記録膜
に照射して溶融して除去し記録膜に直径約１μｍの丸い
良好な穴があき、実用に耐えるものと「〇」，穴がきれ
いにあかず実用に耐えないものを「×」とした。
を記録した。下記の条件でレーザ光ビームをTe系記録膜
に照射して溶融して除去し記録膜に直径約１μｍの丸い
良好な穴があき、実用に耐えるものと「〇」，穴がきれ
いにあかず実用に耐えないものを「×」とした。
ディスク回転数：960rpm 記録周波数 ：2.5MHz 半導体レーザ ：波長830nm 記録パワー ：約７mW（膜面） (2) 耐湿性：60℃，95％RH中、100時間光ディスクを放
置して判定した。
置して判定した。
吸湿によって、記録用金属膜の溝の形状変化や、金属膜
膨潤による膜面クラック発生，レジン硬化物から溶出す
る腐食性物質による金属膜の酸化で生ずる金属膜の透過
率増大などが起らず実用に耐えるものを「〇」，上記変
化を生じ実用に耐えないものを「×」とした。
膨潤による膜面クラック発生，レジン硬化物から溶出す
る腐食性物質による金属膜の酸化で生ずる金属膜の透過
率増大などが起らず実用に耐えるものを「〇」，上記変
化を生じ実用に耐えないものを「×」とした。
(3) 耐熱性：１００℃，４時間光ディスクを放置して
判定した。
判定した。
記録用金属膜を蒸着した凹凸の溝の熱安定性が優れ、溝
の深さや形状が変化せず、金属膜にクラックが発生しな
い実用に耐えるものを「〇」，上記変化を生じ実用に耐
えないものを「×」とした。
の深さや形状が変化せず、金属膜にクラックが発生しな
い実用に耐えるものを「〇」，上記変化を生じ実用に耐
えないものを「×」とした。
(4) 光透過率：厚さ１mmのレジン板を作り、分光光度
計で830nmの光の透過率を測定して求めた。
計で830nmの光の透過率を測定して求めた。
(5) 引張り強さ：光ディスクが500rpm以上の高速回転
に耐える機械強度の目安として必要なもので、レジン硬
化物について250℃でJISＫ6911に準じて求めた。
に耐える機械強度の目安として必要なもので、レジン硬
化物について250℃でJISＫ6911に準じて求めた。
(6) 接着性：光ディスクを60℃，95％RH中100時間放置
した後、あるいは100℃，４時間加熱した後に、ガラス
または透明プラスチック（エポキシ系，アクリル系）な
どの透明基体と接着していて実用上問題がないものを
「〇」問題があるものを「×」とした。これに使用した
レジン組成を第１表に示す。No.１〜12は本発明の実施
例であり、No.13〜22は比較例である。
した後、あるいは100℃，４時間加熱した後に、ガラス
または透明プラスチック（エポキシ系，アクリル系）な
どの透明基体と接着していて実用上問題がないものを
「〇」問題があるものを「×」とした。これに使用した
レジン組成を第１表に示す。No.１〜12は本発明の実施
例であり、No.13〜22は比較例である。
これら紫外線硬化型レジン組成物を紫外線硬化した場合
の特性を第２表にまとめた。なお、上記特性のうえで
(1)，(2)，(3)，(6)の特性は実機を用いて測定した。す
なわち、溝およびピットを有するニッケルスタンパと直
径300mm、厚さ1.2mmのガラス板との間に第１表に示す組
成No.１〜22の紫外線硬化レジン組成物をはさみ込み10g
／cm2（２〜20g／cm2，好ましくは５〜15g／cm2）で加
圧した後、高圧水銀灯で150mW／cm2（50〜400mW／cm2，
好ましくは100〜250mW／cm2）の紫外線を照射してレジ
ン組成物を硬化させた。そして、ガラス板をスタンパか
らはがしたところスタンパと硬化した紫外線硬化型レジ
ン組成物との間ではがれ、硬化した紫外線硬化型レジン
組成物面上にはスタンパ上の凹凸加工部が正確に転写さ
れた。
の特性を第２表にまとめた。なお、上記特性のうえで
(1)，(2)，(3)，(6)の特性は実機を用いて測定した。す
なわち、溝およびピットを有するニッケルスタンパと直
径300mm、厚さ1.2mmのガラス板との間に第１表に示す組
成No.１〜22の紫外線硬化レジン組成物をはさみ込み10g
／cm2（２〜20g／cm2，好ましくは５〜15g／cm2）で加
圧した後、高圧水銀灯で150mW／cm2（50〜400mW／cm2，
好ましくは100〜250mW／cm2）の紫外線を照射してレジ
ン組成物を硬化させた。そして、ガラス板をスタンパか
らはがしたところスタンパと硬化した紫外線硬化型レジ
ン組成物との間ではがれ、硬化した紫外線硬化型レジン
組成物面上にはスタンパ上の凹凸加工部が正確に転写さ
れた。
ガラス板に接着したレジンの凹凸面上にTe系記録膜を蒸
着法により約250Åの厚さに付着せしめた後、二枚を記
録膜面を向い合わせにして約１mmの空間をとりながらガ
ラス板周辺部分をエポキシ系接着剤を用いて接着し、光
ディスクを作成し、実機の特性を求めた。
着法により約250Åの厚さに付着せしめた後、二枚を記
録膜面を向い合わせにして約１mmの空間をとりながらガ
ラス板周辺部分をエポキシ系接着剤を用いて接着し、光
ディスクを作成し、実機の特性を求めた。
第１表と第２表を比較すると、本発明の一般式(1)で示
される化合物が20重量部より少ない比較例No.13,15は、
ともに引張り強さが実施例No.１〜12に比べて悪く、も
ろいものであった。また、一般式(1)で示される化合物
が80重量部より多い比較例No.14,16は、ともに耐湿性，
耐熱性が実施例No.１〜12に比べて悪く、スタンパとの
離型性も悪いものであった。
される化合物が20重量部より少ない比較例No.13,15は、
ともに引張り強さが実施例No.１〜12に比べて悪く、も
ろいものであった。また、一般式(1)で示される化合物
が80重量部より多い比較例No.14,16は、ともに耐湿性，
耐熱性が実施例No.１〜12に比べて悪く、スタンパとの
離型性も悪いものであった。
また、光重合開始剤の配合量が本発明範囲より少ない比
較例No.17と多い比較例No.18は、ともに実施例No.１〜1
2に比べて耐湿性だけでなく耐熱性，引張り強さ，接着
性も著しく劣るものであった。
較例No.17と多い比較例No.18は、ともに実施例No.１〜1
2に比べて耐湿性だけでなく耐熱性，引張り強さ，接着
性も著しく劣るものであった。
また、従来品を用いた比較例No.19,21は、記録感度，耐
湿性，耐熱性，接着性が実施例No.１〜12に比べて著し
く劣るものであった。さらに従来品を用いた比較例No.2
0,22は、記録感度，耐湿性，耐熱性が実施例No.１〜12
に比べて著しく劣るものであった。
湿性，耐熱性，接着性が実施例No.１〜12に比べて著し
く劣るものであった。さらに従来品を用いた比較例No.2
0,22は、記録感度，耐湿性，耐熱性が実施例No.１〜12
に比べて著しく劣るものであった。
すなわち、これらのすべての特性を満足する紫外線硬化
型レジン組成物は実施例No.１〜12のものであり、光デ
ィスクとしての実機の動作特性，寿命特性を満足するレ
ジン組成物は実施例のNo.１〜12のみであった。
型レジン組成物は実施例No.１〜12のものであり、光デ
ィスクとしての実機の動作特性，寿命特性を満足するレ
ジン組成物は実施例のNo.１〜12のみであった。
以上述べたように、本発明によれば下地層に上記した紫
外線硬化型レジン組成物を硬化したものを用いることに
より高記録感度，高密度，高信頼性の光ディスクが得ら
れる。
外線硬化型レジン組成物を硬化したものを用いることに
より高記録感度，高密度，高信頼性の光ディスクが得ら
れる。
第１図は本発明が適用される光ディスクの説明図、第２
図は第１図の光ディスクの作製方法を示す説明図であ
る。 １……透明基体 ２……下地層 ３……記録用金属膜 ４……きょう体 ５……金属製スタンパ
図は第１図の光ディスクの作製方法を示す説明図であ
る。 １……透明基体 ２……下地層 ３……記録用金属膜 ４……きょう体 ５……金属製スタンパ
フロントページの続き (72)発明者 須藤 亮一 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所生産技術研究所内 (72)発明者 堀籠 信吉 東京都国分寺市東恋ヶ窪１丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内
Claims (1)
- 【請求項１】透明基体と、その上に設けられた情報信号
と対応した凹凸を有する下地層と、この上に設けられた
記録膜層が順次積層されてなる光ディスクにおいて、上
記下地層が下記の一般式(1)で示される化合物20〜80重
量部、下記の一般式(2)で示される化合物80〜20重量部
よりなる混合物100重量部と、この混合物100重量部に対
して光重合開始剤0.1〜5.0重量部を配合した紫外線硬化
型レジン組成物を硬化させたものであることを特徴とす
る光ディスク。 （但し、R1,R2は水素又はメチル基、ｎは整数で ｎ＝
５〜12）
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60187280A JPH0650574B2 (ja) | 1985-08-28 | 1985-08-28 | 光デイスク |
| US06/879,013 US4668550A (en) | 1985-08-28 | 1986-06-26 | Optical disc |
| EP19860108789 EP0213307A3 (en) | 1985-08-28 | 1986-06-27 | Optical disc |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60187280A JPH0650574B2 (ja) | 1985-08-28 | 1985-08-28 | 光デイスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6247842A JPS6247842A (ja) | 1987-03-02 |
| JPH0650574B2 true JPH0650574B2 (ja) | 1994-06-29 |
Family
ID=16203231
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60187280A Expired - Lifetime JPH0650574B2 (ja) | 1985-08-28 | 1985-08-28 | 光デイスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0650574B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19814872A1 (de) | 1998-04-02 | 1999-10-07 | Basf Ag | Strahlungshärtbare Zubereitungen |
-
1985
- 1985-08-28 JP JP60187280A patent/JPH0650574B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6247842A (ja) | 1987-03-02 |
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