JPH06505774A - 表面を化学蒸着により抵抗性仕上材で被覆するための方法及び手段 - Google Patents
表面を化学蒸着により抵抗性仕上材で被覆するための方法及び手段Info
- Publication number
- JPH06505774A JPH06505774A JP5511904A JP51190493A JPH06505774A JP H06505774 A JPH06505774 A JP H06505774A JP 5511904 A JP5511904 A JP 5511904A JP 51190493 A JP51190493 A JP 51190493A JP H06505774 A JPH06505774 A JP H06505774A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- gaseous mixture
- hard material
- mixtures
- titanium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 58
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 49
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 41
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 title claims description 19
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 102
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 96
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 69
- 239000008246 gaseous mixture Substances 0.000 claims description 58
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 44
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 40
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 36
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 36
- -1 germanium aluminum Chemical compound 0.000 claims description 27
- 239000000376 reactant Substances 0.000 claims description 27
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 26
- 239000003570 air Substances 0.000 claims description 23
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 20
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- YMLFYGFCXGNERH-UHFFFAOYSA-K butyltin trichloride Chemical group CCCC[Sn](Cl)(Cl)Cl YMLFYGFCXGNERH-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 19
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 18
- AHXGRMIPHCAXFP-UHFFFAOYSA-L chromyl dichloride Chemical compound Cl[Cr](Cl)(=O)=O AHXGRMIPHCAXFP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 17
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 15
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 14
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 229910001868 water Inorganic materials 0.000 claims description 12
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 11
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 11
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 10
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 claims description 10
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 10
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 10
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 9
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910003074 TiCl4 Inorganic materials 0.000 claims description 8
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 claims description 8
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 8
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 8
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims description 8
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910021552 Vanadium(IV) chloride Inorganic materials 0.000 claims description 7
- UBZYKBZMAMTNKW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrabromide Chemical compound Br[Ti](Br)(Br)Br UBZYKBZMAMTNKW-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims description 7
- JTJFQBNJBPPZRI-UHFFFAOYSA-J vanadium tetrachloride Chemical compound Cl[V](Cl)(Cl)Cl JTJFQBNJBPPZRI-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims description 7
- 229910019929 CrO2Cl2 Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000001845 chromium compounds Chemical class 0.000 claims description 6
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 230000001706 oxygenating effect Effects 0.000 claims description 6
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 6
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- BWKCCRPHMILRGD-UHFFFAOYSA-N chloro hypochlorite;tungsten Chemical compound [W].ClOCl BWKCCRPHMILRGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 5
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims description 5
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910006109 GeBr4 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 4
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 claims description 4
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 4
- 229910052756 noble gas Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000002835 noble gases Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 claims description 4
- VJHDVMPJLLGYBL-UHFFFAOYSA-N tetrabromogermane Chemical compound Br[Ge](Br)(Br)Br VJHDVMPJLLGYBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000011135 tin Substances 0.000 claims description 4
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims description 3
- 150000003755 zirconium compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910021627 Tin(IV) chloride Inorganic materials 0.000 claims 5
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims 5
- KWTSZCJMWHGPOS-UHFFFAOYSA-M chloro(trimethyl)stannane Chemical compound C[Sn](C)(C)Cl KWTSZCJMWHGPOS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 5
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims 5
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 claims 3
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 claims 3
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 claims 3
- VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N triethylaluminium Chemical compound CC[Al](CC)CC VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- JLZWQNRGNMXIJY-UHFFFAOYSA-N triethylstannane Chemical compound CC[SnH](CC)CC JLZWQNRGNMXIJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- JRPGMCRJPQJYPE-UHFFFAOYSA-N zinc;carbanide Chemical compound [CH3-].[CH3-].[Zn+2] JRPGMCRJPQJYPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- GGAUUQHSCNMCAU-ZXZARUISSA-N (2s,3r)-butane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C[C@H](C(O)=O)[C@H](C(O)=O)CC(O)=O GGAUUQHSCNMCAU-ZXZARUISSA-N 0.000 claims 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229910021623 Tin(IV) bromide Inorganic materials 0.000 claims 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 238000004064 recycling Methods 0.000 claims 2
- 235000011150 stannous chloride Nutrition 0.000 claims 2
- 150000003606 tin compounds Chemical group 0.000 claims 2
- AXZWODMDQAVCJE-UHFFFAOYSA-L tin(II) chloride (anhydrous) Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Sn+2] AXZWODMDQAVCJE-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 2
- LTSUHJWLSNQKIP-UHFFFAOYSA-J tin(iv) bromide Chemical compound Br[Sn](Br)(Br)Br LTSUHJWLSNQKIP-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims 2
- QPBYLOWPSRZOFX-UHFFFAOYSA-J tin(iv) iodide Chemical compound I[Sn](I)(I)I QPBYLOWPSRZOFX-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 150000003658 tungsten compounds Chemical class 0.000 claims 2
- QMMFVYPAHWMCMS-UHFFFAOYSA-N Dimethyl sulfide Chemical compound CSC QMMFVYPAHWMCMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910010066 TiC14 Inorganic materials 0.000 claims 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims 1
- SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);titanium(4+) Chemical class [O-2].[O-2].[Ti+4] SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 claims 1
- 229910001018 Cast iron Inorganic materials 0.000 description 12
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 10
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 6
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 4
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 4
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 4
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 3
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 230000009970 fire resistant effect Effects 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001844 chromium Chemical class 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 2
- 229910000851 Alloy steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000287462 Phalacrocorax carbo Species 0.000 description 1
- ROJKPKOYARNFNB-UHFFFAOYSA-N Propyl pentanoate Chemical compound CCCCC(=O)OCCC ROJKPKOYARNFNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUXAGJRMSWHCIL-UHFFFAOYSA-N [Sn+2]=O.[O-2].[Al+3] Chemical compound [Sn+2]=O.[O-2].[Al+3] IUXAGJRMSWHCIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DEEQPZOJZBJNDS-UHFFFAOYSA-N [Sn+2]=O.[O-2].[Cr+3] Chemical compound [Sn+2]=O.[O-2].[Cr+3] DEEQPZOJZBJNDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229910052810 boron oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- ZDVUHAMBHUYTNW-UHFFFAOYSA-N chromium(3+) oxygen(2-) titanium(4+) Chemical compound [O-2].[Ti+4].[O-2].[Cr+3] ZDVUHAMBHUYTNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 238000003197 gene knockdown Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 125000001475 halogen functional group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000383 hazardous chemical Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000013011 mating Effects 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 238000006213 oxygenation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 1
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 239000011819 refractory material Substances 0.000 description 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 210000002784 stomach Anatomy 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 description 1
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000002912 waste gas Substances 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/40—Oxides
- C23C16/405—Oxides of refractory metals or yttrium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/40—Oxides
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
- Cylinder Crankcases Of Internal Combustion Engines (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
表面を化学蒸着により抵抗性仕上材で被覆するための方法及び手段
λユニ1遣
11皿1
この出願は、1992年12月26日付は米国特許出願第814367号の一部
継続出願である。
11夏玉■
本発明は、抵抗性表面被覆を提供することによって材料の耐摩耗性及び耐薬品性
を提供する分野に関する。特に、本発明は、蒸気相から被覆を蒸着させることに
よって耐摩耗性の、一般的には硬質の金属酸化物又はその他の仕上材を適用する
分野に関する。
支&抜生二且j
工業上の機能を目的として選定される材料は、必ず、選定された用途に適した機
械的特性を持っていなければならない。これらの材料には、例えば、ガラス、ア
ルミニウム、鋼、黄銅、各種の重合体が含まれる。しかし、特定の材料が、特定
の製品又は部品が受ける操作パラメーターの全てに対して最適な特性を持ってい
ることは稀である。従って、最終製品に対して最適な加工特性を提供するために
は基材に対して何らかの変性が要求されよう。
例えば、プラスチック部品は、基材に特有でない導電性、反射性の又は装飾的な
表面を提供するために真空スパッタリングによって金属被覆することができ、ま
たポンプハウジング又は往復エンジンブロックは強度を得るために鋳鉄、アルミ
ニウム又は鋼から作成することができるが、しかし、シリンダ一部分の耐摩耗性
がめったに適合しないため、その目的に対して何らかの変性をしなければならな
かった。
特に、鋳鉄及びアルミニウム製のエンジンブロックにおいては、ユニットの満足
できる摩耗寿命と嵌合部品の間の比較的低い滑り摩擦から生じる作動効率の二つ
の点から、例えば、硬質合金鋼製のインサートシリンダースリーブ(その中をピ
ストンが移動しかつそれに対してピストンリングが支える)を提供することが普
通である。
ロータリーエンジンにおける燃焼室の壁や先端シールについても同じ原理が当て
はまる。
燃焼エンジンに関しては、構成部品の熱移動特性も重要である。エンジンの作動
温度があまりに低い温度に保持されるならば、作動効率は悪く成り、廃棄ガスの
放出量は増加する。正味のエネルギー効率の観点からは、高いほどエンジンは走
行することができ、寄生熱を捨てるための要件は低くなり、またエンジン効率は
高い。しかし、ピストンリングとシリンダーの壁との間の界面が熱くなりすぎる
と、潤滑膜は薄くなり、それぞれ表面の焼は付き及び磨り減りを生じさせ、これ
に付随して摩耗を急速に増加させ、エンジンの有効作動寿命を低下させるであろ
う。
燃焼エンジンの作動温度を上昇させることの問題に対する一つの解決策は、低い
摩擦係数を持つ硬質の耐火性で耐腐蝕性の表面を持つシリンダー(これに対して
ピストンリングがその表面と平行して走行する)を作成することであった。従来
技術において知られた方法は、シリンダーの壁にクロム塩の水溶液を適用し、そ
の後に壁を加熱して水を追い出し、塩をCr2O5に転化することである。この
ように処理されたエンジンは、未処理のものよりも高い温度で走行することがで
き、作動効率の向上が図られる。
クロム塩溶液の適用による被覆方法は上記のような目的に対しては有効であるが
、しかし溶液を適用し次いで加熱するという工程を10回以上反復することを必
要とする。その結果、この方法は比較的労働が激しく、時間を消費し、軽質も高
い。
また化学蒸着法(CVD)としても知られている気相蒸着法が斯界において知ら
れている。ステムラ−他は、米国特許第4525389号において、揮発性のク
ロム化合物と水によって加工片を被覆することを記載している。また、米国特許
第4310567号において、タサ゛り他は、加熱された基材上に、被覆又は反
応がその表面上で起こるような条件下で材料又はその先駆物質の流れを向けるこ
とによって該材料を該基材上に付着させることを開示している。
さらに、英国特許第1408294号の第3頁第100以下には、ハロゲン化ク
ロム化合物の酸化によって接着型炭化物バイト上にCr2O5被覆を付着させる
ことが記載されている。
パラエル他は、Vapor Deposition(ジョンウイリーアンドソン
ズ社、1966、p、402)において、酸化硼素と酸化クロムの共付着が密着
性及び凝集性を向上させるが、ある程度の水溶性を持った被覆を与えることを報
告している。
しかし、上記した従来技術においては、どの系も経済性を満足する機能的に耐摩
耗性又は耐薬品性の、特に耐腐蝕性の被覆を生じなかった。
λ肛ff1
本発明は、基材に硬質又は耐摩耗性の材料をCVDにより被覆するにあたり、促
進剤及び1種以上のキャリアー又は反応性流体の存在下に基材を該材料の先駆物
質のガス状混合物によって処理し、次いで副生物及び未反応物質を除去すること
からなる被覆方法である。好ましい具体例によれば、基材は加熱される。
図面の簡単な説明
添付の図面は、本発明の方法の該略図を示す。
色扛皇且j
本発明は、基材上に硬質又は耐摩耗性の材料を被覆するにあたり、基材表面を酸
素のような物質の存在下に少なくとも1種の該材料の先駆物質と少なくとも1種
の促進剤との混合物により該表面上で反応又は分解を起こさせるのに充分な温度
で処理して硬質材料を形成させることからなる基材上に硬質又は耐摩耗性の材料
を被覆する方法並びにそのための組成物に係る。材料を基材表面上に輸送するた
めにキャリアー流体を使用することができる。
本発明で有用な耐摩耗性の材料(本明細書では「硬質材料」ともいう)は、硬質
金属化合物、一般的には、例えば、金属の酸化物、窒化物、酸化窒化物(オキシ
ナイトライド)などからなる。金属酸化物の好ましい場合には、先駆物質の反応
は酸素化性物質により行われる。この場合には、硬質材料の先駆物質の反応によ
り酸化物が基材表面上で又はその付近に形成され、付着する。さらに、硬質材料
は種々の酸化物、窒化物、酸化窒化物、その他の付看した硬質材料の混合物であ
ってよい。空気のようなキャリアー流体は反応体を基材表面に輸送し、反応生成
物及び未反応の反応体を除去する働きをする。
付着のための先駆物質には、一般に、基材表面上に所望の材料を与えるように反
応することができる金属化合物が含まれる。本発明において有用な先駆物質は、
例えば、アルミニウム、カドミウム、クロム、コバルト、ゲルマニウム、インジ
ウム、イリジウム、モリブデン、ニッケル、タンタル、チタン、タングステン、
バナジウム、亜鉛及びジルコニウムの各化合物を包含する。
本発明の硬質材料を付着させることができる化合物は、例えば、アルミニウムア
ルキル、アルミニウムアルコキシド、カドミウムアルキル、塩化クロミル、ハロ
ゲン化ゲルマニウム、ゲルマニウムアルコキシド、ニッケルアルキル、ニッケル
カルボニル、インジウムアルキル、チタンアルコキシド、ハロゲン化チタン、オ
キシ塩化タングステン、ハロゲン化バナジウム、亜鉛アルキル、ジルコニウムア
ルコキシド、そしてこれらの混合物を含む。このような化合物の特定の例として
は、例えば、A1(C2H11)3.Cr02C1z、GeBr4、Ti (○
C3H7) 4.TiCl4 、TiBr4、ri (CaH20)4.Zr
(ocs Hll)4、Ni (Co)4、VCl4、Zn (cHa ’)t
、WOCIsなど、そしてこれの材料の混合物が含まれるが、これらに限られ
ない。好ましい化合物は、塩化クロミル、チタンアルコキシド、ハロゲン化チタ
ン及びオキシ塩化タングステンである。
当業者であれば、本明細書に開示した先駆物質が単独で又はその他の材料と共に
、所望の硬質材料が付着する組成物の一部であるように充分に揮発性であり且つ
プロセス条件下で充分に安定でなければならないことを理解するであろう。
本発明の好ましい硬質材料は、塩化クロミルを含有する先駆物質の混合物から付
看される酸化クロムからなる本発明のCVD被覆方法は、基材を少なくとも1種
の硬質材料の先駆物質と共反応体及び随意としての促進剤とのガス状混合物によ
り処理し、反応副生物及び未反応物質を除去することからなり、これによりその
ように処理された基材上で先駆物質及び共反応体の反応又は分解により硬質材料
が形成される。「共反応体」とは、本明細書で使用するときは、先駆物質と共に
付着条件下で基材上に付着された硬質材料を与える物質を意味する。本発明のた
めには、「促進剤」とは、系におけるその存在が基材上への硬質材料の付着速度
を増大させるように働く物質、即ち、商業的な実施においてこれまでに達成され
たよりも高い速度を与えるように働く物質であると定義される。
促進剤も成分金属の酸化物を含む付着物を与えるように共反応体として働くこと
ができる。しかして、基材上又はその付近におけるガス状混合物の組成物はキャ
リアー流体中に先駆物質及び共反応体を含むことができ、又はキャリアー流体中
に先駆物質、共反応体及び促進剤を含むことができる。共反応体が促進剤として
も働く場合には、組成物はキャリアー流体の他に2種又はそれ以上の成分を含む
ことができる。
共反応体及び付着速度促進剤のいずれかとして又は双方として有用な物質には、
錫、チタン、ニッケル、バナジウム及びジルコニウムの各化合物及びこれらの混
合物が包含される。上述したように、このような物質は、また、所望の被覆のC
VDについて基材表面において適切な量の物質を与えるのに充分に揮発性でなけ
ればならない。促進剤及び共反応体の例としては、5nC14、SnBr4.5
nln、(CHs )* 5nC1a、(CHs)ssncl、(CI H8)
3SnH,(Cs Hs )2 S n C12、(Ca Hs )z Sn
C1m、(C4H。
)SnC1s 、TiCl4、TiBr4、Ti (Cs H2O2)4、Ti
(OC3H7)4、Ni (Co)4、VCl、など、そしてこれらの混合物
が含まれるが、これらに限らない。好ましい化合物はS n C14、(CH、
)3SnCL、MBTC−T i C14、T t (OC5H7)4及びN1
(CO)4である。
当業者であれば、キャリアー流体が基材表面の近傍では高められた温度のために
その領域では大部分がおそらく気相中に存在するこことを理解しよう、キャリア
ー流体は好ましくは酸素化能力を有するが、先駆物質、共反応耐及び促進剤又は
それらのうちのいずれかを反応個所輸送することができる任意の物質であってよ
く、プロセス条件下でガス状である。
キャリアー流体は、空気、窒素、酸素、CO,、水、希ガス及びそれらの混合物
よりなる群から選択される物質であってよい。
先駆物質の酸素化は、酸素源をそのままか又は空気中に入れて又は分子内に酸素
を含む物質中に入れて供給することによって行なうことができる。後者の物質は
、次R,C(OR’。)。
(ここで、R及びR゛はそれぞれ水素、1〜約6個の炭素原子を有する置換及び
非置換の直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキル又はアルケニル、フェニル、置換
フェニル或いはR” CH2CH2−(ここで、R−はMe○2C−1Et○2
C−1CH,CO−又はHog C−である)のうちから選択され、mは1.2
又は3であり、nは0又は1であり、pは1又は2である。ただし、m+pは4
を超えることはできない)
を有する。
酸素源は、1〜約8個の炭素原子を有するアルコール、1〜約8個の炭素原子を
有するアルデヒド及びケトン、並びに分子の各部分に1〜約6個の炭素原子を有
するエーテル、エステル及び酸無水物よりなる群から選択することができる。
当業者であれば、本発明に従って製造される被覆が被覆された表面上での一般的
な薬品及び腐蝕による攻撃に対して抵抗性を与え得ることも理解するであろう。
本発明によって行なわれる被覆は、硬質材料の金属先駆物質の揮発性化合物の少
なくとも1種、促進剤、共反応体又ハソノ両者(7)0.1−110.1−11
0.1−1のモル比の組成物から基材へ付着させることからなる。この組成物は
キャリアー流体中に約0.05〜約1モルの量で混合され、約150℃から基材
物質の分解又は変形によてのみ制限される高い温度までの間の温度で基材に適用
される。
女ましい の1日
本発明の好ましい具体例は、耐火性又は耐摩耗性の材料による基材のCVD被覆
である。さらに好ましくは、本発明は、耐火性又は耐摩耗性の材料の先駆物質の
少なくとも1種と促進材とのガス状混合物から基材表面上に該材料を付着させ、
反応副生物及び未反応物質を除去することからなり、そして少なくとも付着工程
の間は基材の表面を、例えば基材を直接加熱することにより又はプラズマ付着に
より基材表面上で又はその付近で先駆物質の分解を生じさせるのに十分に高い有
効温度に保持するするようにした方法である。また、別法として、先駆物質又は
先駆物質、共反応体及び促進剤の混合物の温度は基材表面で又はその付近で先駆
物質又はその混合物の分解を生じさせるように設定することができる。プラント
で通常実施するには、本発明の方法は、反応生成物及び未反応物質を分離し、未
反応物質を循環させる工程を包含する。
最も好ましくは、本発明の成分は、揮発性のクロム化合物と、少なくとも1種の
揮発性の錫又はチタン化合物又はこれらの化合物の混合物よりなる群から選択さ
れる共反応体ガスと、促進剤とからなり、高められた温度で基材上に付着される
。促進剤は要すれば酸素化性であり、またキャリアー流体はビヒクルとして使用
することができる、促進剤とキャリアーはある場合には同じ物質であってよい。
さらに、促進剤の組合せも本発明の範囲内である。蒸着は大気圧よりも低い圧力
で、又は大気圧で又は大気圧よりも高い圧力で実施することができる。
本発明の好ましい具体例は、硬質材料の金属先駆物質の揮発性化合物の少なくと
も1種、促進剤、共反応体又はその両者を0.1−110.1−110.1−1
のモル比で含む組成物から基材上に付着せることにより形成された硬質の被覆か
らなり、該組成物はキャリアー流体に約0.05〜約1モルの割合で混合され、
約150℃から基材物質の分解又は変形によってのみ制限される高い温度までの
温度で基材に適用される。
本発明の最も好ましい具体例は、1:1:1のモル比のCrO2Cl2 、メチ
ルイソブチルケトン(MIBK)及び三塩化モノブチル錫(MBTC)の組成物
からなり、約り00℃〜約700”Cの温度に保持された基材上に、乾燥空気中
の1:1:1混合物の0.2モル%のガス状溶液から約25標準17m i n
(SLM)の流量で約0.1〜約10m/secのガス流量で適用される。
本明細書において、用語「揮発性の化合物」は、前記した方法の過程において大
きな分解を受けることなくそれを蒸気相まで転化させるのに十分に高い蒸気圧を
有する化合物を意味するように定義される。蒸気圧は、水蒸気又はその他の共蒸
留により得ることができるようなその他の物質と併用された場合の分圧であって
もよい。
また、本発明の被覆は、先駆物質を基材上にイオンスパッタリングすることによ
り、また比較的低い揮発性を有する先駆物質を使用してそれらをキャリアー流体
の流れに連行させることにより適用することができる。キャリアー流体は好まし
くはガス状である。被覆用組成物は、酸化クロムと酸化錫との混合物であり、ま
たX線に対して結晶質か又は非晶質のいずれかである固溶体であってもよい。
添付の図面において、本発明に従う具体例としての硬質材料のCVDを実施する
ための装置は、蒸着される耐火性物質の先駆物質のための容器102、促進剤の
ための容器104及び使用するならば共反応体のための容器106を含む。移送
管202.204及び2o6がそれぞれの物質を適当な流量計112.114及
び116を介して気化器110に移送させる。また、キャリアー流体が供給源1
08から計量器118により具合よく計量されて移送管208を介して気化器1
10に送られる。
供給源108には、例えば、圧縮空気、水蒸気又は窒素、容器に積めたCO2な
どを収納できる。
移送管210は、反応体、共反応体及びキャリアー流体の混合物を反応器120
に運ぶものである。この反応器は、約150℃以上の高められた温度を確立し維
持するための手段(図示してないが、当業者には周知のものである)を有する。
反応体は、反応器120において又はそのなかに収納された物品の上で加熱され
た基材表面と出会うと、反応して例えば錫又はチタンの硬質被覆(場合により化
合物、典型的には酸化物との混合物の状態で)を生成する。移送管220は反応
器120において反応から生じた廃棄生成物を水処理手段122に移送する働き
をする。処理手段122は好ましくはスクラツバー又は有害物質を大気中に放出
させないようにするその他の装置である。所望ならばプロセスの全体効率を向上
させるために反応体及びキャリアーガスを循環させるためにダクト240及びブ
ロワ−140が備えられる。
一般的には、本発明の方法は1回の適用で所望の被覆厚を与えるのに十分である
が、基材上に未被覆の領域が残らないように或いはプロセス又は生成物の要求に
応じて特定の厚さを与えるように連続層を形成するために所望に応じて適用をし
ばしば反復することができる。
本発明の有用性を例示するために、単一シリンダー鋳鉄製ジーゼルエンジンブロ
ックを、シリンダーを酸で腐蝕させ、これを水道水ですすぎ、次いで好ましくは
加熱により乾燥することにより準備する。次いで、シリンダーを反応器120と
して、当業者に知られた気密取り付けにより移送管210に接続する。容器10
2からの塩化クロミルCr0z C1iを気化器110において容器104から
のMIBK及び容器106からのMBTC及び供給源108からの空気と気相で
混合する。ガスのそれぞれはそれぞれの移送管を介して導入する。次いで、気化
器110からのガス上混合物を450℃に保持したシリンダー120の表面に通
じさせる。シリンダーの加熱された表面において酸化反応が起こり厚さが約20
μmの混合酸化アルミニウムー酸化錫の層が形成される。
反応副生物及び未反応物質を移送管220を経て水処理手段122に向けて除去
する。
本発明の方法において有用な化合物は、その蒸気圧が単独で又は他の物質と併用
して被処理物品の表面で有用な量の耐火性又は耐摩耗性の被覆を与えるのに適切
である硬質材料の先駆物質である。このような物質は、C■Dプロセス条件下で
反応すると硬質材料を与える広い範囲に入る金属化合物である。
促進剤の組合せも本発明の範囲内に入る。しかして、例えばMBTCとN1(C
○)4の双方を含有する混合物は、例えば、鋼、鋳鉄又はその他の基材上に硬質
被覆のCVDにおいて有用性を有する。
本発明の有用性をさらに例示すれば、シリンダーライナーの表面を陽極酸化によ
り腐蝕させ、次いで水洗する。シリンダーライナーを150”Cに加熱し、次い
で1:1=1モル比のCr○2C1,、MIBK及びMBTCを0.2モルで空
気と混合して前記のような加熱された表面上に通じさせる。得られたCrzOs
層は厚さが約25μmであることがわかった。
以上の記載から、当業者であれば、本明細書に開示した被覆方法及び材料は、例
えば、黄銅、ブロンズ、アルミニウム、鋳鉄、注型性のステンレス綱、チタン、
重合体材料などを含めて各種の基材に適用できることを理解するであろう、さら
に、当業者であれば、所定の基材の表面は一般に前記の被覆方法の前に準備をし
なければならないこと、この準備は被処理材料又は被覆の種類に応じて変わり得
ることを理解しよう。
本発明の一具体例は、Cr○、cta、MIBK及びMBTCを約0.01〜約
1モルのCr0zC1z、約0.01〜約20モル(7)M I B K及び約
0.01〜約20モルのMBTCのモル比で含み、この組成物は約0゜01〜約
10モルで空気と混合され、約150℃以上の温度で基材に適用される。最も好
ましい具体例は、約600〜約700℃の表面温度を有する基材にほぼ大気圧で
乾燥空気中で0.2モル%のガス状溶液から適用されるCr0z C1z 、M
IBK及びMBTCからなる。
ここで、本発明の有用性を下記の実施例により例示する。
去」L刑
倒」。
鋳鉄製シリンダーライナーを酸で腐蝕させ、すすぎを行い、次いで乾燥すること
によって準備する。ライナーを400〜650℃の間の温度に加熱し、熱平衡に
至らせる。次いで加熱された表面上にMIBK、MBTC及び空気と気相で混合
したC r O2Cl 2を通じることによってその表面を処理する。酸化反応
がシリンダーの加熱された表面で起こり、厚さがほぼ25μmの混合酸化クロム
−酸化錫の層が付着した。
髭1
例1のシリンダーライナーの表面を陽極酸化により腐蝕させ、次いで水洗し、乾
燥することによって準備する。ライナーを400〜650’Cの間の温度に加熱
し、熱平衡に至らせる。次いで、MIBK、MBTC及び空気と気相で混合した
CrO2Cl2を加熱された表面上に通じる。酸化反応がシリンダーの加熱され
た表面で起こり、厚さがほぼ25μmの混合酸化クロム−酸化錫の屡が付着した
。
匠ユ
3.2mm厚X 32 m m直径の鋳鉄製円盤を陽極酸化により腐蝕させ、次
いで空気中で700℃に20分間加熱する。次いで基材を反応器であってその温
度が基材の温度が625℃であるようなものでる反応器に入れる。
塩化クロミル、MrBK及びMBTCの1:1:1モル混合物を乾燥空気、中で
0.2モル%としたものを気化させ、表面上に40SLMで25分間衝突させる
。厚さが約25μmの密着性被覆が得られた。
基材を冷却し、分析する。被覆は酸化クロムと酸化錫とからなることがわかった
。
丑A
3.2mm厚X32mm直径の17−4ステンレス鋼製円盤を液体ホーニングし
、空気中で加熱する。基材を625℃に加熱し、1容量部の水素原子、44容量
部の窒素ガス、5容量部の1/1/1モル空気−アセトンー塩化クロミル混合物
からなる気相によって被覆する。得られた被覆は酸化クロムからなることがわか
った。
匠j
3.2mm厚X32mm直径の鋳鉄製円盤をクロムメッキする。試料を750℃
の炉において酸化する。次いで、円盤を650℃に加熱したニッケルブロック上
に置く。100℃に保持した例3に記載のような被覆用蒸気を基材の表面上に通
じ、これにより例2及び3に記載のような付着物を生じた。
丑互
3.2mm厚X32mm直径の黄銅製円盤なで液体ホーニングし、空気中で加熱
する。基材を例3に記載のようなガス状混合物を適用することにより被覆する。
550℃の被覆温度で例3に記載のような付着物を与えた。
丑ユ
窒素、MIBK及び塩化クロミルからなるガス状混合物を例6で準備したような
ステンレス鋼製基村上に通した。基材の温度は625℃である。得られた1被覆
は平滑で、硬質で密着性であった。
匠溢
95mmX540mmの鋳鉄製基材を陽極酸化により腐蝕させ、空気中で500
℃に加熱する。基材上に例3に記載のようなガス状組成物を通じる。試料をジル
コニアに対して摩耗試験を行い、摩耗速度を約30分の1に低下させることによ
り鋳鉄に大きな耐摩耗性を付与することがわかった。
当業者であれば、表面の適切な前処理が基材に対する被覆の最適密着性を保証す
るために必要であること、そして前記のシリンダー壁を陽極酸化により腐蝕させ
る工程が例示に過ぎないことを容易に理解しよう、その他の方法、例えば、予備
メッキ物質の無電解又は電解付着、酸洗、表面アブレージヨン等も使用できよう
。
匠旦
3.2mm厚X32mm直径の鋳鉄製円盤を例3におけるように準備する。Cr
(NOs )s ・7HHz OlS n C14及びペンタン酸プロピルの1
:1:1モル混合物を0.2モル%で乾燥空気中で気化させ、表面上に403L
Mで25分間衝突させる。分析は、酸化クロムと酸化錫からなる厚さが約25μ
mの密着性被覆を示した。
例」一旦
例1のシリンダーライナーの表面を陽極酸化により腐蝕させ、次いで水洗し、乾
燥する。ライナーを400〜650℃の間の温度に加熱し、熱的平衡に至らせる
。MI BK、 T i (Cs H702) a及び空気と気相で混合したC
rO2C1gを加熱された表面上に通じさせる。
酸化反応がシリンダーの加熱された表面で起こり、厚さがほぼ25μmの混合酸
化クロム−酸化チタンの層が付着した。
皿」−しご二し旦
3.2mm厚X32mm直径の鋳鉄製円盤を例3におけるように準備する。下記
の表に示す金属化合物、共反応体及び酸素含有化合物の1:1:1モル混合物を
0゜2モル%で乾燥空気中で気化させ、表面上に403LMで25分間衝突させ
る。厚さが約20〜約30μmの密着性被覆が得られた。被覆はそれぞれの例で
使用した金属の酸化物の混合物を含有した。
表
上記した本発明の好ましい形態についての変更及び改善が可能であろう。従って
、本発明は前記した具体例のみによって制限されるのではい。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.基材上に硬質材料を付着させることにより基材を被覆するにあたり、基材を 該硬質材料の先駆物質の少なくとも1種と促進剤の少なくとも1種とを含むガス 状混合物により処理することからなる基材の被覆方法。 2.付着が化学蒸着による請求の範囲第1項に記載の方法。 3.ガス状混合物がさらにキャリアー流体を含む請求の範囲第2項に記載の方法 。 4.ガス状混合物が金属化合物を含む請求の範囲第2項に記載の方法。 5.ガス状混合物がアルミニウム、カドミウム、クロム、コバルト、ゲルマニウ ム、インジウム、イリジウム、モリブデン、ニッケル、タンタル、チタン、タン グステン、バナジウム、亜鉛及びジルコニウムの各化合物を含む請求の範囲第2 項に記載の方法。 6.ガス状混合物がアルミニウムアルキル、アルミニウムアルコキシド、カドミ ウムアルキル、塩化クロミル、ハロゲン化ゲルマニウム、ゲルマニウムアルコキ シド、ニッケルアルキル、ニッケルカルボニル、インジウムアルキル、チタンア ルコキシド、ハロゲン化チタン、オキシ塩化タングステン、ハロゲン化バナジウ ム、亜鉛アルキル、ジルコニウムアルコキシド及びこれらの混合物よりなる群か ら選択される少なくとも1種の物質を含む請求の範囲第2項に記載の方法。 7.ガス状混合物がAl(C2H5)3、CrO2Cl2、GeBr4、Ti( OC3H7)4、TiCl4TiBr4、Ti(C6H9O)4、Zr(OC5 H11)4、Ni(CO)4、VCl4、Zn(CH3)2、WOCl3及びこ れらの混合物よりなる群から選択される少なくとも1種の物質を含む請求の範囲 第2項に記載の方法。 8.ガス状混合物がさらに共反応体を含む請求の範囲第2項に記載の方法。 9.ガス状混合物がさらに錫、チタン、ニッケル、バナジウム及びジルコニウム の各化合物及びこれらの混合物よりなる群から選択される物質を含む請求の範囲 第2項に記載の方法。 10.ガス状混合物がさらにSnCl4、SnBr4、SnI4、(CH3)2 SnCl2、(CH3)3SnCl、(C2H5)3SnH、(C6H5)2S nCl2、(C2H5)2SnCl2、(C4H9)SnCl3、TiCl4、 TiBr4、Ti(C6H9O2)4、Ti(OC3H7)4、Ni(CO)4 、VCl4及びそれらの混合物よりなる群から選択される物質を含む請求の範囲 第2項に記載の方法。 11.ガス状混合物がさらに次式 RmC(OR′n)P (ここで、R及びR′はそれぞれ水素、1〜約6個の炭素原子を有する置換及び 非置換の直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキル又はアルケニル、フェニル、置換 フェニル或いはR′′CH2CH2−(ここで、R′′はMeO2C−、EtO 2C−、CH3CO−又はHO2C−である)のうちから選択され、mは1、2 又は3であり、nはO又は1であり、pは1又は2である。ただし、m+pは4 を超えることはできない) を有する物質を含む請求の範囲第2項に記載の方法。 12.ガス状混合物がさらに1〜約8個の炭素原子を有するアルコール、1〜約 8個の炭素原子を有するアルデヒド及びケトン、並ひに分子の各部分に1〜約6 個の炭素原子を有するエーテル、エステル及び酸無水物よりなる群から選択され る物質を含む請求の範囲第2項に記載の方法。 13.ガス状混合物がさらに空気、窒素、酸素、CO2、水、希ガス及びそれら の混合物よりなる群から選択される少なくとも1種のキャリアー流体を含む請求 の範囲第2項に記載の方法。 14.ガス状混合物がクロム、チタン又はタングステン化合物と、SnCl4、 (CH3)3SnC1、MBTC、TiCl4、Ti(OCH7)4、Ni(C O)4及びこれらの化合物の混合物よりなる群から選択される共反応体と、酸素 化性のキャリアー流体とを含む請求の範囲第3項に記載の方法。 15.ガス状混合物がクロム化合物と、揮発性の錫化合物及びチタン化合物及び これらの混合物よりなる群がら選択される共反応体と、酸素化性のキャリアー流 体とを含む請求の範囲第3項に記載の方法。 16.基材の処理が基材上にガス状混合物を通じることからなり、その際に基材 の表面温度を約150℃以上から該基材の変形又は分解温度以下に保持すること を特徴とする請求の範囲第2項に記載の方法。 17.基材をガス状混合物により処理する工程の前に清浄する請求の範囲第2項 に記載の方法。 18.硬質材料が酸化クロムを含む請求の範囲第2項に記載の方法。 19.硬質材料が酸化クロム及び酸化錫又は酸化チタンからなるX線に対して結 晶質の混合物である請求の範囲第2項に記載の方法。 20.硬質材料の先駆物質がクロム化合物である請求の範囲第2項に記載の方法 。 21.硬質材料の先駆物質が塩化クロミルである請求の範囲第2項に記載の方法 。 22.共反応体が錫化合物である請求の範囲第2項に記載の方法。 23.共反応体が三塩化モノブチル錫である請求の範囲第2項に記載の方法。 24.先駆物質が塩化クロミルを含み、共反応体が三塩化モノブチル錫を含む請 求の範囲第2項に記載の方法25.さらに反応副生物及び未反応物質を除去する 工程を含む請求の範囲第2項に記載の方法。 26.さらに反応副生物及び未反応物質を分離し、未反応物質を循環させる工程 を含む請求の範囲第2項に記載の方法。 27.硬質材料の先駆物質の少なくとも1種を食むガス状混合物から基材上に硬 質材料を付着させることにより得られた基材上の被覆。 28.付着が化学蒸着による請求の範囲第27項に記載の被覆。 29.ガス状混合物がさらにキャリアー流体を含む請求の範囲第27項に記載の 被覆。 30.ガス状混合物が金属化合物を含む請求の範囲第27項に記載の被覆。 31.ガス状混合物がアルミニウム、カドミウム、クロム、コバルト、ゲルマニ ウム、インジウム、イリジウム、モリブデン、ニッケル、タンタル、チタン、タ ングステン、バナジウム、亜鉛及びジルコニウムの各化合物を含む請求の範囲第 27項に記載の被覆。 32.ガス状混合物がアルミニウムアルキル、アルミニウムアルコキシド、カド ミウムアルキル、塩化クロミル、ハロゲン化ゲルマニウム、ゲルマニウムアルコ キシド、ニッケルアルキル、ニッケルカルボニル、インジウムアルキル、チタン アルコキシド、ハロゲン化チタン、オキシ塩化タングステン、ハロゲン化バナジ ウム、亜鉛アルキル、ジルコニウムアルコキシド及びこれらの混合物よりなる群 から選択される少なくとも1種の物質を含む請求の範囲第27項に記載の被覆。 33.ガス状混合物がAl(C2H5)3、CrO2Cl2、GeBr4、Ti (OC3H7)4、TiC14、TiBr4、Ti(C6H9O)4、Zr(O CsH11)4、Ni(CO)4、VCl4、Zn(CH3)2、WOCl3及 びこれらの混合物よりなる群から選択される少なくとも1種の物質を含む請求の 範囲第27項に記載の被覆。 34.ガス状混合物がさらに共反応体を含む請求の範囲第27項に記載の被覆。 35.ガス状混合物がさらに錫、チタン、ニッケル、バナジウム及びジルコニウ ムの各化合物及びこれらの混合物よりなる群から選択される物質を含む請求の範 囲第27項に記載の被覆。 36.ガス状混合物がさらにSnCl4、SnBr4、Sn14、(CH3)2 SnCl2、(CH3)3SnCl、(C2H5)3SnH、(C6H5)2S nCl2、(C2H5)2SnCl2、(C4H9)SnCl3、TiCl4、 TiBr4、Ti(C6H9O2)4、Ti(OC3H7)4、Ni(CO)4 、VCl4及びそれらの混合物よりなる群から選択される物質を含む請求の範囲 第27項に記載の被覆。 37.ガス状混合物がさらに次式 RmC(OR′n〕p (ここで、R及びR′はそれぞれ水素、1〜約6個の炭素原子を有する置換及び 非置換の直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキル又はアルケニル、フェニル、置換 フェニル或いはR′′CH2CH2−(ここで、R′′はMeO2C−、EtO 2C−、CH3CO−又はHO2C−である)のうちから選択され、mは1、2 又は3であり、nはO又は1であり、pは1又は2である。ただし、m+pは4 を超えることはできない) を有する物質を含む請求の範囲第27項に記載の被覆。 38.ガス状混合物がさらに1〜約8個の炭素原子を有するアルコール、1〜約 8個の炭素原子を有するアルデヒド及びケトン、並びに分子の各部分に1〜約6 個の炭素原子を有するエーテル、エステル及び酸無水物よりなる群から選択され る物質を含む請求の範囲第27項に記載の被覆。 39.ガス状混合物がさらに空気、窒素、酸素、CO2、水、希ガス及びそれら の混合物よりなる群から選択される少なくとも1種のキャリアー流体を含む請求 の範囲第27項に記載の被覆。 40.ガス状混合物がクロム、チタン又はタングステン化合物と、SnCl4、 (CH3)3SnCl、MBTC、TiCl4、Ti(OCH7)4、Ni(C O)4及びこれらの混合物よりなる群から選択される共反応体と、酸素化性のキ ャリアー流体とを含む請求の範囲第27項に記載の被覆。 41.ガス状混合物がクロム化合物と、揮発性の錫化合物及びチタン化合物及び これらの混合物よりなる群から選択される共反応体と、酸素化性のキャリアー流 体とを含む請求の範囲第27項に記載の被覆。 42.基材の処理が基材上にガス状混合物を通じることからなり、その際に基材 の表面温度を約150℃以上から該基材の変形又は分解温度以下に保持すること を特徴とする請求の範囲第27項に記載の被覆。 43.基材をガス状混合物により処理する工程の前に清浄する請求の範囲第27 項に記載の被覆。 44.硬質材料が酸化クロムを含む請求の範囲第27項に記載の被覆。 45.硬質材料が酸化クロム及び酸化錫又は酸化チタンからなるX線に対して結 晶質の混合物である請求の範囲第27項に記載の被覆。 46.硬質材料の先駆物質がクロム化合物である請求の範囲第27項に記載の被 覆。 47.硬質材料の先駆物質が塩化クロミルである請求の範囲第27項に記載の被 覆。 48.共反応体が錫化合物である請求の範囲第27項に記載の被覆。 49.共反応体が三塩化モノブチル錫である請求の範囲第27項に記載の被覆。 50.先駆物質が塩化クロミルを含み、共反応体が三塩化モノブチル錫を含む請 求の範囲第27項に記載の被覆。 51.さらに反応副生物及び未反応物質を除去する工程を含む請求の範囲第27 項に記載の被覆。 52.さらに反応副生物及び未反応物質を分離し、未反応物質を循環させる工程 を含む請求の範囲第27項に記載の被覆。 53.硬質材料の先駆物質の少なくとも1種を含むガス状混合物から基材上に硬 質材料を付着させることにより得られる基材上の被覆。 54.硬質材料の先駆物質の少なくとも1種を含む混合物から基材上に硬質材料 を付着させることにより得られる被覆された基材。 55.ガス状混合物がアルミニウム、カドミウム、クロム、コバルト、ゲルマニ ウム、インジウム、イリジウム、モリブデン、ニッケル、タンタル、チタン、タ ングステン、バナジウム、亜鉛及びジルコニウムの各化合物を含む請求の範囲第 54項に記載の基材。 56.ガス状混合物がアルミニウムアルキル、アルミニウムアルコキシド、カド ミウムアルキル、塩化クロミル、ハロゲン化ゲルマニウム、ゲルマニウムアルコ キシド、ニッケルアルキル、ニッケルカルボニル、インジウムアルキル、チタン アルコキシド、ハロゲン化チタン、オキシ塩化タングステン、ハロゲン化バナジ ウム、亜鉛アルキル、ジルコニウムアルコキシド及びこれらの混合物よりなる群 から選択される少なくとも1種の物質を含む請求の範囲第54項に記載の基材。 57.ガス状混合物がAl(C2H5)3、CrO2Cl2、GeBr4、Ti (OC3H7)4、TiCl4、TiBr4、Ti(C6H9O)4、Zr(O C5H11)4、Ni(CO)4、VCl4、Zn(CH3)2、WOCl3及 びこれらの混合物よりなる群から選択される少なくとも1種の物質を含む請求の 範囲第54項に記載の基材。 58.ガス状混合物がさらに共反応体を含む請求の範囲第54項に記載の基材。 59.ガス状混合物がさらに錫、チタン、ニッケル、バナジウム及びジルコニウ ムの各化合物及びこれらの混合物よりなる群から選択される物質を含む請求の範 囲第54項に記載の基材。 60.ガス状混合物がさらにSnCl4、SnBr4SnI4、(CH3)2S nCl2、(CH3)3SnCl、(C2H5)3SnH、(C6H5)2Sn C12、(C2H5)2SnCl2、(C4H9)SnCl3、TiCl4、T iBr4、Ti(C6H9O2)4、Ti(OC3H7)4、Ni(CO)4、 VCl4及びそれらの混合物よりなる群から選択される物質を含む請求の範囲第 54項に記載の基材。 61.ガス状混合物がさらに次式 RmC(OR′n)p (ここで、R及びR′はそれぞれ水素、1〜約6個の炭素原子を有する置換及び 非置換の直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキル又はアルケニル、フェニル、置換 フェニル或いはR′′CH2CH2−(ここで、R′′はMeO2C−、EtO 2C−、CH3CO−又はHO2C−である)のうちから選択され、mは1、2 又は3であり、nはO又は1であり、pは1又は2である。ただし、m+pは4 を超えることはできない) を有する物質を含む請求の範囲第54項に記載の基材。 62.ガス状混合物がさらに1〜約8個の炭素原子を有するアルコール、1〜約 8個の炭素原子を有するアルデヒド及びケトン、並びに分子の各部分に1〜約6 個の炭素原子を有するエーテル、エステル及び酸無水物よりなる群から選択され る物質を含む請求の範囲第54項に記載の基材。 63.ガス状混合物がさらに空気、窒素、酸素、CO2、水、希ガス及びそれら の混合物よりなる群から選択される少なくとも1種のキャリアー流体を含む請求 の範囲第54項に記載の基材。 64.硬質材料のガス状先駆物質から基材上に硬質材料を化学蒸着させることに より得られる請求の範囲第54項に記載の基材。 65.硬質材料の先駆物質と共反応体とのガス状混合物から基材上に硬質材料を 化学蒸着させることにより得られる請求の範囲第54項に記載の基材。 66.硬質材料の先駆物質と促進剤とのガス状混合物から基材上に硬質材料を化 学蒸着させることにより得られた請求の範囲第54項に記載の基材。 67.硬質材料の先駆物質と共反応体と促進剤とのガス状混合物から基材上に硬 質材料を化学蒸着させることにより得られる請求の範囲第54項に記載の基材。 68.ガス状混合物がクロム化合物、促進剤、キャリアー流体及び錫又はチタン 化合物からなる共反応体を含む請求の範囲第54項に記載の基材。 69.キャリアー流体が空気である請求の範囲第54項に記載の基材。 70.基材の処理が基材上にガス状混合物を通じることからなり、その際に基材 の表面温度を約150℃以上から該基材の変形又は分解温度以下に保持すること を特徴とする請求の範囲第54項に記載の基材。 71.基材をガス状混合物により処理する工程の前に清浄する請求の範囲第54 項に記載の基材。 72.硬質材料が酸化クロムを含む請求の範囲第54項に記載の基材。 73.硬質材料が酸化クロム及び酸化錫を含む混合物である請求の範囲第54項 に記載の基材。 74.硬質材料の先駆物質が酸化クロムと酸化チタン化合物を含む混合物である 請求の範囲第54項に記載の基材。 75.硬質材料の先駆物質が塩化クロミルである請求の範囲第54項に記載の基 材。 76.共反応体が三塩化モノブチル錫である請求の範囲第54項に記載の基材。 77.先駆物質が塩化クロミルであり、三塩化モノブチル錫が促進剤として存在 する請求の範囲第54項に記載の基材。 78.酸化クロムと酸化錫との混合物からなる組成物。 79.基材上に化学蒸着によって生成されるた請求の範囲第78項に記載の組成 物。 80.酸化クロム及び酸化錫の先駆物質のガス状混合物から基材上に酸化クロム 及び酸化錫を化学蒸着することにより生成される請求の範囲第78項に記載の組 成物。 81.酸化クロム及び酸化錫の先駆物質と促進剤とのガス状混合物から基材上に 酸化クロム及び酸化錫を化学蒸着することにより生成される請求の範囲第78項 に記載の組成物。 82.塩化クロミル、三塩化モノブチル錫及びメチルイソブチルケトンのガス状 混合物から基材上に硬質材料を化学蒸着することにより生成される請求の範囲第 78項に記載の組成物。 83.塩化クロミル、三塩化モノブチル錫及びメチルイソブチルケトンのガス状 混合物をキャリアー流体に連行させて基材上に硬質材料を化学蒸着することによ り生成される請求の範囲第78項に記載の組成物。 84.酸化クロムと酸化錫を真空蒸着することにより生成される請求の範囲第7 8項に記載の組成物。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US81436791A | 1991-12-26 | 1991-12-26 | |
| US07/814,367 | 1991-12-26 | ||
| PCT/US1992/011213 WO1993013243A1 (en) | 1991-12-26 | 1992-12-23 | Method and means for coating a surface with a resistant facing by chemical-vapor deposition |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06505774A true JPH06505774A (ja) | 1994-06-30 |
Family
ID=25214853
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5511904A Pending JPH06505774A (ja) | 1991-12-26 | 1992-12-23 | 表面を化学蒸着により抵抗性仕上材で被覆するための方法及び手段 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0573645B1 (ja) |
| JP (1) | JPH06505774A (ja) |
| AT (1) | ATE164634T1 (ja) |
| CA (1) | CA2104589A1 (ja) |
| DE (1) | DE69224984T2 (ja) |
| DK (1) | DK0573645T3 (ja) |
| ES (1) | ES2114034T3 (ja) |
| GR (1) | GR3026493T3 (ja) |
| WO (1) | WO1993013243A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR960015375B1 (ko) * | 1994-06-08 | 1996-11-11 | 현대전자산업 주식회사 | 강유전체 박막 제조장치 및 그를 사용한 강유전체 박막 제조방법 |
| DE19652633A1 (de) * | 1996-09-13 | 1998-03-19 | Euromat Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Innenbeschichten metallischer Bauteile |
| DE19730119A1 (de) * | 1997-07-14 | 1999-01-21 | Siemens Ag | Verfahren zur Herstellung von Dünnfilmen aus oxidischer Keramik |
| US6613385B2 (en) | 2001-04-23 | 2003-09-02 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Highly spin-polarized chromium dioxide thin films prepared by CVD using chromyl chloride precursor |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3898672A (en) * | 1972-01-28 | 1975-08-05 | Ricoh Kk | Electrosensitive recording member |
| US4077808A (en) * | 1973-08-31 | 1978-03-07 | Kaman Sciences Corporation | Chromia-bonded refractory body devoid of vitreous and sintered bonding |
| DE2648373C2 (de) * | 1976-10-26 | 1986-01-02 | Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart | Halbleiter für Sensoren zur Bestimmung des Gehaltes an Sauerstoff und/oder oxydierbaren Bestandteilen in Abgasen |
| JPS5930709A (ja) * | 1982-08-13 | 1984-02-18 | Toa Nenryo Kogyo Kk | 炭素膜及び/又は炭素粒子の製造方法 |
| US4971843A (en) * | 1983-07-29 | 1990-11-20 | Ppg Industries, Inc. | Non-iridescent infrared-reflecting coated glass |
| JPH0618074B2 (ja) * | 1984-10-25 | 1994-03-09 | 住友化学工業株式会社 | 磁気記録媒体 |
| US4743506A (en) * | 1984-12-28 | 1988-05-10 | M&T Chemicals Inc. | Tin oxide coated article |
| US4668528A (en) * | 1986-04-09 | 1987-05-26 | Massachusetts Institute Of Technology | Method and apparatus for photodeposition of films on surfaces |
| GB8619456D0 (en) * | 1986-08-08 | 1986-09-17 | Ti Group Services Ltd | Vehicle exhaust systems |
| US5112693A (en) * | 1988-10-03 | 1992-05-12 | Ppg Industries, Inc. | Low reflectance, highly saturated colored coating for monolithic glazing |
| US5132165A (en) * | 1990-06-19 | 1992-07-21 | Commerical Decal, Inc. | Wet printing techniques |
-
1992
- 1992-12-23 DK DK93902757T patent/DK0573645T3/da active
- 1992-12-23 AT AT93902757T patent/ATE164634T1/de not_active IP Right Cessation
- 1992-12-23 CA CA002104589A patent/CA2104589A1/en not_active Abandoned
- 1992-12-23 DE DE69224984T patent/DE69224984T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-12-23 EP EP93902757A patent/EP0573645B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-12-23 WO PCT/US1992/011213 patent/WO1993013243A1/en not_active Ceased
- 1992-12-23 JP JP5511904A patent/JPH06505774A/ja active Pending
- 1992-12-23 ES ES93902757T patent/ES2114034T3/es not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-04-02 GR GR980400558T patent/GR3026493T3/el unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO1993013243A1 (en) | 1993-07-08 |
| DE69224984T2 (de) | 1998-07-30 |
| EP0573645B1 (en) | 1998-04-01 |
| EP0573645A1 (en) | 1993-12-15 |
| DK0573645T3 (da) | 1998-10-19 |
| EP0573645A4 (en) | 1995-11-29 |
| ES2114034T3 (es) | 1998-05-16 |
| DE69224984D1 (de) | 1998-05-07 |
| ATE164634T1 (de) | 1998-04-15 |
| GR3026493T3 (en) | 1998-07-31 |
| CA2104589A1 (en) | 1993-06-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US8431190B2 (en) | Method for depositing hard metallic coatings | |
| JP6945622B2 (ja) | 被覆プロセスおよび被覆された材料 | |
| Du et al. | Fabrication of multiscale structured hydrophobic NiCrZrN coating with high abrasion resistance using multi-arc ion plating | |
| HU200727B (en) | Reactor for producing chlorine gas | |
| US3375129A (en) | Aluminum plating employing amine complex of aluminum hydride | |
| US3018194A (en) | Metal plating process | |
| JPH06505774A (ja) | 表面を化学蒸着により抵抗性仕上材で被覆するための方法及び手段 | |
| Wood et al. | Coating particles by chemical vapor deposition in fluidized bed reactors | |
| US3253946A (en) | Vapor plating with manganese, chromium, molybdenum or tungsten employing cyclopentadienyl metal carbonyl | |
| Maury et al. | Selection of metalorganic precursors for MOCVD of metallurgical coatings: application to Cr-based coatings | |
| US3061464A (en) | Method of metal plating with a group iv-b organometallic compound | |
| Pochet et al. | CVD coatings: from cutting tools to aerospace applications and its future potential | |
| Luo et al. | Deposition characteristics of titanium coating deposited on SiC fiber by cold-wall chemical vapor deposition | |
| US3449144A (en) | Method of aluminum plating with diethylaluminum hydride | |
| Grigoriev et al. | Electrochemical corrosion of composite ceramics and thermal spray coatings in the ZrB2–SiC–AlN system | |
| Maury | Organochromium precursors for low‐temperature OMCVD of chromium‐based coatings | |
| Beckloff et al. | Process‐Structure‐Reflectance Correlations for TiB2 Films Prepared by Chemical Vapor Deposition | |
| JP4206747B2 (ja) | 酸化チタン膜の製造方法 | |
| Khoee | Ergimiş boraks banyosunda çeliklere vanadyum karbür kaplama | |
| Martinez et al. | YSZ protective coatings elaborated by MOCVD on nickel-based alloys | |
| JPH1111981A (ja) | 酸化チタン薄膜の形成方法 | |
| Araki et al. | Aluminide diffusion coatings on Inconel 738 using a pre-heated AlCl3+ H2 gas mixture | |
| KR960012734B1 (ko) | Ti과 Cr 탄화물의 동시 확산 피복 방법 | |
| Kapat et al. | Chemical vapor deposition of intermetallic and ceramic coatings | |
| Tabaza et al. | Microstructure and Microhardness of Chrome-Oxide Coating Precipitating from Gases Phase Using Liquid of Metal Organic Chrome Compositions |