JPH0653082A - アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法 - Google Patents
アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法Info
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- JPH0653082A JPH0653082A JP4204860A JP20486092A JPH0653082A JP H0653082 A JPH0653082 A JP H0653082A JP 4204860 A JP4204860 A JP 4204860A JP 20486092 A JP20486092 A JP 20486092A JP H0653082 A JPH0653082 A JP H0653082A
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- Japan
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- aqueous solution
- etching
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 安定した高い静電容量が得られるアルミニウ
ム電解コンデンサ用電極箔の製造方法を提供することを
目的とする。 【構成】 アルミニウム箔の交流電流によるエッチング
処理を行う前工程として、硝酸、リン酸、硫酸、シュウ
酸のいずれか一種類の水溶液中へ浸漬して処理する工程
と、この工程の後、塩酸を主体とし、かつリン酸、硫
酸、シュウ酸およびクロム酸のうち少なくとも１種類を
含ませた水溶液中で直流電流によるエッチング処理を行
う工程を設けることにより、高い静電容量をもつアルミ
ニウム電解コンデンサ用電極箔を得ることができる。
ム電解コンデンサ用電極箔の製造方法を提供することを
目的とする。 【構成】 アルミニウム箔の交流電流によるエッチング
処理を行う前工程として、硝酸、リン酸、硫酸、シュウ
酸のいずれか一種類の水溶液中へ浸漬して処理する工程
と、この工程の後、塩酸を主体とし、かつリン酸、硫
酸、シュウ酸およびクロム酸のうち少なくとも１種類を
含ませた水溶液中で直流電流によるエッチング処理を行
う工程を設けることにより、高い静電容量をもつアルミ
ニウム電解コンデンサ用電極箔を得ることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はアルミニウム電解コンデ
ンサ用電極箔の製造方法に関するものである。
ンサ用電極箔の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に、アルミニウム電解コンデンサに
おけるコンデンサ素子は、一対のアルミニウム箔を絶縁
紙とともに巻回し、かつ駆動用電解液を含浸させること
により構成されている。アルミニウム電解コンデンサ用
電極箔は、塩素イオンを含む溶液中でその表面に電気化
学的あるいは化学的エッチング処理を施すことによって
粗面化を行い、単位面積当りの静電容量を大きくするこ
とにより、アルミニウム電解コンデンサの小形化・軽量
化を実現してきた。特に低圧用電極箔のエッチングにお
いては交流電流によるエッチング処理が行われており、
高い拡面倍率が得られている。
おけるコンデンサ素子は、一対のアルミニウム箔を絶縁
紙とともに巻回し、かつ駆動用電解液を含浸させること
により構成されている。アルミニウム電解コンデンサ用
電極箔は、塩素イオンを含む溶液中でその表面に電気化
学的あるいは化学的エッチング処理を施すことによって
粗面化を行い、単位面積当りの静電容量を大きくするこ
とにより、アルミニウム電解コンデンサの小形化・軽量
化を実現してきた。特に低圧用電極箔のエッチングにお
いては交流電流によるエッチング処理が行われており、
高い拡面倍率が得られている。
【０００３】ここで、エッチング開始前のアルミニウム
箔の表面状態が交流エッチングによる粗面化に与える影
響は大きく、エッチング後のアルミニウム箔の静電容量
を左右することもある。
箔の表面状態が交流エッチングによる粗面化に与える影
響は大きく、エッチング後のアルミニウム箔の静電容量
を左右することもある。
【０００４】実際のエッチング処理においては、多くの
場合、アルミニウム原箔表面に残存している箔圧延時の
潤滑油等の汚れや自然酸化皮膜の除去、あるいはエッチ
ングの腐食開始点の生成を目的として、例えばリン酸や
アルカリ水溶液等への浸漬処理がエッチング前処理とし
て行われている。
場合、アルミニウム原箔表面に残存している箔圧延時の
潤滑油等の汚れや自然酸化皮膜の除去、あるいはエッチ
ングの腐食開始点の生成を目的として、例えばリン酸や
アルカリ水溶液等への浸漬処理がエッチング前処理とし
て行われている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな浸漬処理による方法ではアルミニウム原箔の表面状
態、すなわち汚れや自然酸化皮膜のつき方によって処理
ムラを生じたり、その効果が不十分であるために、十分
な静電容量が得られていないという問題点があった。
うな浸漬処理による方法ではアルミニウム原箔の表面状
態、すなわち汚れや自然酸化皮膜のつき方によって処理
ムラを生じたり、その効果が不十分であるために、十分
な静電容量が得られていないという問題点があった。
【０００６】本発明はこのような従来の問題点を解決す
るもので、従来よりも安定した高い静電容量が得られる
アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法を提供
することを目的とするものである。
るもので、従来よりも安定した高い静電容量が得られる
アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法を提供
することを目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明のアルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造
方法は、アルミニウム箔の交流電流によるエッチング処
理を行う前工程として、硝酸、リン酸、硫酸、シュウ酸
のいずれか一種類の水溶液中へ浸漬して処理する工程
と、この工程の後、塩酸を主体とし、かつリン酸、硫
酸、シュウ酸およびクロム酸のうち少なくとも１種類を
含ませた水溶液中で直流電流によるエッチング処理を行
う工程を設けたものである。
に本発明のアルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造
方法は、アルミニウム箔の交流電流によるエッチング処
理を行う前工程として、硝酸、リン酸、硫酸、シュウ酸
のいずれか一種類の水溶液中へ浸漬して処理する工程
と、この工程の後、塩酸を主体とし、かつリン酸、硫
酸、シュウ酸およびクロム酸のうち少なくとも１種類を
含ませた水溶液中で直流電流によるエッチング処理を行
う工程を設けたものである。
【０００８】
【作用】上記製造方法によれば、アルミニウム箔の交流
電流によるエッチング処理を行う前工程として、硝酸、
リン酸、硫酸、シュウ酸のいずれか一種類の水溶液中へ
浸漬して処理する工程と、この工程の後、塩酸を主体と
し、かつリン酸、硫酸、シュウ酸およびクロム酸のうち
少なくとも１種類を含ませた水溶液中で直流電流による
エッチング処理を行う工程を設けているもので、硝酸、
リン酸、硫酸、シュウ酸の水溶液はアルミニウム原箔の
表面の汚れや自然酸化皮膜を除去するとともに、皮膜を
形成して表面を均質化させる作用を有しており、この後
に、直流電流によるエッチング処理を行うと、表面の汚
れや自然酸化皮膜の除去をさらに均一かつ十分に行うこ
とができるため、電極箔の表面に均一な保護皮膜を形成
することができる。この保護皮膜は多孔質のものであ
り、孔以外の部分は皮膜に覆われているために不活性で
あるが、孔の部分は塩素イオンにより浸食されて活性と
なる。したがって、この後に交流電流によるエッチング
処理を行うと、アルミニウム箔の表面上の活性部分、す
なわち孔の部分からの腐食が均一かつ高密度に起こり、
不活性な部分からの腐食は起こらないため、高い静電容
量を安定して得ることができる。
電流によるエッチング処理を行う前工程として、硝酸、
リン酸、硫酸、シュウ酸のいずれか一種類の水溶液中へ
浸漬して処理する工程と、この工程の後、塩酸を主体と
し、かつリン酸、硫酸、シュウ酸およびクロム酸のうち
少なくとも１種類を含ませた水溶液中で直流電流による
エッチング処理を行う工程を設けているもので、硝酸、
リン酸、硫酸、シュウ酸の水溶液はアルミニウム原箔の
表面の汚れや自然酸化皮膜を除去するとともに、皮膜を
形成して表面を均質化させる作用を有しており、この後
に、直流電流によるエッチング処理を行うと、表面の汚
れや自然酸化皮膜の除去をさらに均一かつ十分に行うこ
とができるため、電極箔の表面に均一な保護皮膜を形成
することができる。この保護皮膜は多孔質のものであ
り、孔以外の部分は皮膜に覆われているために不活性で
あるが、孔の部分は塩素イオンにより浸食されて活性と
なる。したがって、この後に交流電流によるエッチング
処理を行うと、アルミニウム箔の表面上の活性部分、す
なわち孔の部分からの腐食が均一かつ高密度に起こり、
不活性な部分からの腐食は起こらないため、高い静電容
量を安定して得ることができる。
【０００９】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。
【００１０】本発明の実施例では、交流電流によるエッ
チング処理を行う前工程として、アルミニウム箔を２ｗ
ｔ％ Ｈ3ＰＯ4、液温６０℃の水溶液中に１８０秒間浸
漬する処理を行い、この工程の後、７ｗｔ％ ＨＣｌ，
１５ｗｔ％ Ｈ2ＳＯ4，１０ｗｔ％ ＡｌＣｌ3、液温
８０℃の水溶液中で、直流電流によるエッチング処理と
して、電流密度０．３Ａ／cm2の直流電流を１０秒間印
加した。この後、交流電流によるエッチング処理を８ｗ
ｔ％ ＨＣｌ，２ｗｔ％ ＡｌＣｌ3、液温３５℃の水
溶液中で、電流密度０．３Ａ／cm2、周波数６０Hzの交
流電流で４２０秒間行った。
チング処理を行う前工程として、アルミニウム箔を２ｗ
ｔ％ Ｈ3ＰＯ4、液温６０℃の水溶液中に１８０秒間浸
漬する処理を行い、この工程の後、７ｗｔ％ ＨＣｌ，
１５ｗｔ％ Ｈ2ＳＯ4，１０ｗｔ％ ＡｌＣｌ3、液温
８０℃の水溶液中で、直流電流によるエッチング処理と
して、電流密度０．３Ａ／cm2の直流電流を１０秒間印
加した。この後、交流電流によるエッチング処理を８ｗ
ｔ％ ＨＣｌ，２ｗｔ％ ＡｌＣｌ3、液温３５℃の水
溶液中で、電流密度０．３Ａ／cm2、周波数６０Hzの交
流電流で４２０秒間行った。
【００１１】その比較例としては、交流電流によるエッ
チング処理を行う前に、アルミニウム箔を３ｗｔ％ Ｎ
ａＯＨ、液温５０℃の水溶液中で、１８０秒間浸漬する
浸漬処理を行い、この後、交流電流によるエッチング処
理を８ｗｔ％ ＨＣｌ，２ｗｔ％ ＡｌＣｌ3、液温３
５℃の水溶液中で、電流密度０．３Ａ／cm2、周波数６
０Hzの交流電流で４２０秒間行った。
チング処理を行う前に、アルミニウム箔を３ｗｔ％ Ｎ
ａＯＨ、液温５０℃の水溶液中で、１８０秒間浸漬する
浸漬処理を行い、この後、交流電流によるエッチング処
理を８ｗｔ％ ＨＣｌ，２ｗｔ％ ＡｌＣｌ3、液温３
５℃の水溶液中で、電流密度０．３Ａ／cm2、周波数６
０Hzの交流電流で４２０秒間行った。
【００１２】上記した本発明の実施例および比較例でエ
ッチングされたそれぞれのアルミニウム箔について、７
０Ｖで化成処理を実施したときの両者の静電容量を比較
すると、比較例では１６．３μＦ／cm2であるのに対
し、本発明の実施例では１８．１μＦ／cm2であった。
ッチングされたそれぞれのアルミニウム箔について、７
０Ｖで化成処理を実施したときの両者の静電容量を比較
すると、比較例では１６．３μＦ／cm2であるのに対
し、本発明の実施例では１８．１μＦ／cm2であった。
【００１３】上記のように本発明の実施例におけるアル
ミニウム電解コンデンサ用電極箔は比較例に対し、１０
％以上高い静電容量を得ることができる。これは交流電
流によるエッチング処理の前工程として行われる本発明
の実施例のリン酸水溶液中への浸漬処理と直流電流によ
るエッチング処理の方が、比較例のアルカリ水溶液中へ
の浸漬処理のみの場合に比べ、アルミニウム原箔の表面
の汚れや自然酸化皮膜の除去を電気化学的に、均一かつ
十分に行うことができ、そして、直流電流によるエッチ
ング処理液中に含まれる皮膜形成作用を有する硫酸によ
り、均一で高密度の腐食開始点を生成しうる保護皮膜を
形成するからである。
ミニウム電解コンデンサ用電極箔は比較例に対し、１０
％以上高い静電容量を得ることができる。これは交流電
流によるエッチング処理の前工程として行われる本発明
の実施例のリン酸水溶液中への浸漬処理と直流電流によ
るエッチング処理の方が、比較例のアルカリ水溶液中へ
の浸漬処理のみの場合に比べ、アルミニウム原箔の表面
の汚れや自然酸化皮膜の除去を電気化学的に、均一かつ
十分に行うことができ、そして、直流電流によるエッチ
ング処理液中に含まれる皮膜形成作用を有する硫酸によ
り、均一で高密度の腐食開始点を生成しうる保護皮膜を
形成するからである。
【００１４】本発明の実施例で用いられる直流エッチン
グ処理液の塩酸濃度は１〜２０ｗｔ％で、好ましくは３
〜１０ｗｔ％がよく、かつ、硫酸を０．１〜３０ｗｔ
％、好ましくは３〜２５ｗｔ％を含むものがよい。また
直流エッチング処理の条件としては０．０５〜１Ａ／cm
2の直流電流を１０〜９０秒間印加する。そしてまた、
処理液の温度としては２０〜９０℃がよく、好ましくは
６０〜９０℃がよい。
グ処理液の塩酸濃度は１〜２０ｗｔ％で、好ましくは３
〜１０ｗｔ％がよく、かつ、硫酸を０．１〜３０ｗｔ
％、好ましくは３〜２５ｗｔ％を含むものがよい。また
直流エッチング処理の条件としては０．０５〜１Ａ／cm
2の直流電流を１０〜９０秒間印加する。そしてまた、
処理液の温度としては２０〜９０℃がよく、好ましくは
６０〜９０℃がよい。
【００１５】なお、上記本発明の実施例では、塩酸を主
体とする水溶液に硫酸を用いたものについて説明した
が、硫酸の代わりにリン酸、シュウ酸、クロム酸のいず
れか一つを用いても上記実施例と同様の効果を有するも
のである。
体とする水溶液に硫酸を用いたものについて説明した
が、硫酸の代わりにリン酸、シュウ酸、クロム酸のいず
れか一つを用いても上記実施例と同様の効果を有するも
のである。
【００１６】
【発明の効果】以上のように本発明のアルミニウム電解
コンデンサ用電極箔の製造方法によれば、アルミニウム
箔の交流電流によるエッチング処理を行う前工程とし
て、硝酸、リン酸、硫酸、シュウ酸のいずれか一種類の
水溶液中へ浸漬して処理する工程と、この工程の後、塩
酸を主体とし、かつリン酸、硫酸、シュウ酸およびクロ
ム酸のうち少なくとも１種類を含ませた水溶液中で直流
電流によるエッチング処理を行う工程を設けているた
め、高い静電容量をもつアルミニウム電解コンデンサ用
電極箔を得ることができるものである。
コンデンサ用電極箔の製造方法によれば、アルミニウム
箔の交流電流によるエッチング処理を行う前工程とし
て、硝酸、リン酸、硫酸、シュウ酸のいずれか一種類の
水溶液中へ浸漬して処理する工程と、この工程の後、塩
酸を主体とし、かつリン酸、硫酸、シュウ酸およびクロ
ム酸のうち少なくとも１種類を含ませた水溶液中で直流
電流によるエッチング処理を行う工程を設けているた
め、高い静電容量をもつアルミニウム電解コンデンサ用
電極箔を得ることができるものである。
Claims (1)
- 【請求項１】アルミニウム箔の交流電流によるエッチン
グ処理を行う前工程として、硝酸、リン酸、硫酸、シュ
ウ酸のいずれか一種類の水溶液中へ浸漬して処理する工
程と、この工程の後、塩酸を主体としかつリン酸、硫
酸、シュウ酸およびクロム酸のうち少なくとも１種類を
含ませた水溶液中で直流電流によるエッチング処理を行
う工程を設けたアルミニウム電解コンデンサ用電極箔の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4204860A JPH0653082A (ja) | 1992-07-31 | 1992-07-31 | アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4204860A JPH0653082A (ja) | 1992-07-31 | 1992-07-31 | アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0653082A true JPH0653082A (ja) | 1994-02-25 |
Family
ID=16497596
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4204860A Pending JPH0653082A (ja) | 1992-07-31 | 1992-07-31 | アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0653082A (ja) |
-
1992
- 1992-07-31 JP JP4204860A patent/JPH0653082A/ja active Pending
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