JPH0653744B2 - アルキルシアノフタロシアニン化合物 - Google Patents
アルキルシアノフタロシアニン化合物Info
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- JPH0653744B2 JPH0653744B2 JP60252038A JP25203885A JPH0653744B2 JP H0653744 B2 JPH0653744 B2 JP H0653744B2 JP 60252038 A JP60252038 A JP 60252038A JP 25203885 A JP25203885 A JP 25203885A JP H0653744 B2 JPH0653744 B2 JP H0653744B2
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- H10K85/30—Coordination compounds
- H10K85/311—Phthalocyanine
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、アルキル基とシアノ基とを両方含むフタロシ
アニン化合物に関する。
アニン化合物に関する。
アルキル置換フタロシアニン化合物は、通常の無置換フ
タロシアニンに比べ溶解性が高くなることが知られ、導
電性、光導電性、ガスセンサー等の機能が期待されてい
る。これまで報告されているアルキル置換フタロシアニ
ンに関し、t−ブチル置換フタロシアニンがラングミユ
アープロジエツト(以下LBと略記する)法を用いて薄
膜形成できることが示されている〔コバクスG.J.(Kovac
s G.J.)ほか、カナデイアンジヤーナル オブ フイジ
クス(Can.J.Phys.)、第63巻、第346〜349頁
(1985年)、フライヤーJ.R.(fryer J.R.)ほか、
ネイチヤー(Nature)、第313巻、第382〜384
頁(1985年)、ベーカーS.(Baker s.)ほか、シン
ソリツド フイルム(Thin Solid Film)、第99
巻、第53〜59頁(1983年)〕。これらの報告に
よれば、分子極限断面積に関し、実測値と計算値とは必
ずしも一致しないし、実測値は報告者によつてまちまち
である。その原因について、本発明者等はフタロシアニ
ン環に極性の弱いt−ブチル基が置換されていることに
より、フタロシアニン溶液を水面上に展開する際、いく
らか高次の会合体が形成されているためと推定してい
る。これらのt−ブチル置換フタロシアニン薄膜の導電
性は報告されていないが、特開昭58−141246号
公報には、中心金属がCuの系で、アンモニアガスにさら
すことによつて導電率が20倍上昇するということが示
されている。t−ブチル置換ではないが、トリ(イソ−
プロピルアミノメチレン)銅フタロシアニンLB膜にお
いて、NO2ガスにさらすことによつて導電率が6倍上昇
したという報告がある〔ロバーツG.G.(Roberts G.G.)
ほか、IEE−プロシーデイング(Proceeding)I、第
130巻、第260〜263頁(1983年)〕。
タロシアニンに比べ溶解性が高くなることが知られ、導
電性、光導電性、ガスセンサー等の機能が期待されてい
る。これまで報告されているアルキル置換フタロシアニ
ンに関し、t−ブチル置換フタロシアニンがラングミユ
アープロジエツト(以下LBと略記する)法を用いて薄
膜形成できることが示されている〔コバクスG.J.(Kovac
s G.J.)ほか、カナデイアンジヤーナル オブ フイジ
クス(Can.J.Phys.)、第63巻、第346〜349頁
(1985年)、フライヤーJ.R.(fryer J.R.)ほか、
ネイチヤー(Nature)、第313巻、第382〜384
頁(1985年)、ベーカーS.(Baker s.)ほか、シン
ソリツド フイルム(Thin Solid Film)、第99
巻、第53〜59頁(1983年)〕。これらの報告に
よれば、分子極限断面積に関し、実測値と計算値とは必
ずしも一致しないし、実測値は報告者によつてまちまち
である。その原因について、本発明者等はフタロシアニ
ン環に極性の弱いt−ブチル基が置換されていることに
より、フタロシアニン溶液を水面上に展開する際、いく
らか高次の会合体が形成されているためと推定してい
る。これらのt−ブチル置換フタロシアニン薄膜の導電
性は報告されていないが、特開昭58−141246号
公報には、中心金属がCuの系で、アンモニアガスにさら
すことによつて導電率が20倍上昇するということが示
されている。t−ブチル置換ではないが、トリ(イソ−
プロピルアミノメチレン)銅フタロシアニンLB膜にお
いて、NO2ガスにさらすことによつて導電率が6倍上昇
したという報告がある〔ロバーツG.G.(Roberts G.G.)
ほか、IEE−プロシーデイング(Proceeding)I、第
130巻、第260〜263頁(1983年)〕。
これらのフタロシアニン薄膜は、アクセプター性ガス、
ドナー性ガスに対する導電率変化は極めて小さく、した
がつて、感度が極めて低いという欠点を有している。ま
た、ガスセンサーとしての観点から考えると、実用的に
はガス濃度減少に対する回復応答性が重要な問題にな
る。t−ブチル置換ニツケルフタロシアニンのLB膜に
ついてのI2及びトリエチルアミンガスに対する応答性を
調べた結果では、I2ガス導入に際しては急速な立上がり
を示し、良好な応答を示すが、ガス排出に対しては、初
期の低導電状態に回復するのに60分近くの時間を要す
るという致命的な欠点がある(後記比較例参照)。ま
た、アンモニア性のトリエチルアミンのようなガスに対
しては応答性も遅く、導電率変化も高々2倍程度である
という結果が得られる。
ドナー性ガスに対する導電率変化は極めて小さく、した
がつて、感度が極めて低いという欠点を有している。ま
た、ガスセンサーとしての観点から考えると、実用的に
はガス濃度減少に対する回復応答性が重要な問題にな
る。t−ブチル置換ニツケルフタロシアニンのLB膜に
ついてのI2及びトリエチルアミンガスに対する応答性を
調べた結果では、I2ガス導入に際しては急速な立上がり
を示し、良好な応答を示すが、ガス排出に対しては、初
期の低導電状態に回復するのに60分近くの時間を要す
るという致命的な欠点がある(後記比較例参照)。ま
た、アンモニア性のトリエチルアミンのようなガスに対
しては応答性も遅く、導電率変化も高々2倍程度である
という結果が得られる。
本発明の目的は、ドナー性ガス及びアクセプター性ガス
に対する感度(ダイナミツクレンジ)を飛躍的に高める
ことのできる、均一な単分子膜又はその累積膜を形成で
きるフタロシアニン化合物を提供することにある。
に対する感度(ダイナミツクレンジ)を飛躍的に高める
ことのできる、均一な単分子膜又はその累積膜を形成で
きるフタロシアニン化合物を提供することにある。
本発明を概説すれば、本発明はアルキルシアノフタロシ
アニン化合物に関する発明であつて、 下記一般式I: (式中R1はi−プロピル基又はt−ブチル基を示し、R1
がi−プロピル基の場合には、R2はシアノ基でR3が水素
を示し、R1がt−ブチル基の場合には、R2は水素でR3が
シアノ基を示す)で表されることを特徴とする。
アニン化合物に関する発明であつて、 下記一般式I: (式中R1はi−プロピル基又はt−ブチル基を示し、R1
がi−プロピル基の場合には、R2はシアノ基でR3が水素
を示し、R1がt−ブチル基の場合には、R2は水素でR3が
シアノ基を示す)で表されることを特徴とする。
本発明は、アルキルフタロシアニン環構造にシアノ基を
導入することによつて、電子親和力、イオン化ポテンシ
ヤルを少し大きくし、そのためにアンモニアガスに対す
る導電率上昇が4×102倍、ヨウ素ガスに対する導電率
上昇が5×103倍という高い導電率変化を持ち、ドナー
性、アクセプター性の両種のガスに対して導電率変化の
度合が大きく、かつ、ガスの導入、排出に対する応答速
度が極めて速いことを最も主要な特徴としている。これ
を従来化合物と比較すると、導電率上昇がアンモニア性
ガスに対して20倍、I2ガスのようなアクセプター性ガス
に対して103倍も異なるという高感度特性を有し、更に
特にI2ガスの排出応答速度に関しては200〜500倍
も優れている点が異なつている。
導入することによつて、電子親和力、イオン化ポテンシ
ヤルを少し大きくし、そのためにアンモニアガスに対す
る導電率上昇が4×102倍、ヨウ素ガスに対する導電率
上昇が5×103倍という高い導電率変化を持ち、ドナー
性、アクセプター性の両種のガスに対して導電率変化の
度合が大きく、かつ、ガスの導入、排出に対する応答速
度が極めて速いことを最も主要な特徴としている。これ
を従来化合物と比較すると、導電率上昇がアンモニア性
ガスに対して20倍、I2ガスのようなアクセプター性ガス
に対して103倍も異なるという高感度特性を有し、更に
特にI2ガスの排出応答速度に関しては200〜500倍
も優れている点が異なつている。
以下本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本
発明はこれら実施例に限定されない。
発明はこれら実施例に限定されない。
実施例1 テトラt−ブチルテトラシアノフタロシアニン化合物の
合成 反応式を以下に示す。(Bu:ブチル) (a)化合物(2)(3)の合成:出発原料(1)274g、二硫化
炭素500m中に鉄粉及びヨウ素を各1g加え、0〜
5℃にて、臭素115mを徐々に滴下した。HBrのガ
ス発生終了後、常法に従つて洗浄中和処理し、減圧蒸留
した。沸点71〜72℃/3mmHg。収量366g(86
%)。1H−及び13C−NMRスペクトルより(2)/(3)=
88/12の混合物であることを確認した。
合成 反応式を以下に示す。(Bu:ブチル) (a)化合物(2)(3)の合成:出発原料(1)274g、二硫化
炭素500m中に鉄粉及びヨウ素を各1g加え、0〜
5℃にて、臭素115mを徐々に滴下した。HBrのガ
ス発生終了後、常法に従つて洗浄中和処理し、減圧蒸留
した。沸点71〜72℃/3mmHg。収量366g(86
%)。1H−及び13C−NMRスペクトルより(2)/(3)=
88/12の混合物であることを確認した。
(b)化合物(4)の合成:(2)/(3)の混合物66g、二
硫化炭素250m、鉄粉及びヨウ素を各1g加え、0
〜5℃にて臭素60mを徐々に滴下した。HBrのガス
発生終了後、常法に従つて洗浄中和し、減圧蒸留した。
沸点93〜94.5℃/1mmHg。収量86g(60%)。1H−
及び13C-NMRスペクトルより純品であることを確認し
た。
硫化炭素250m、鉄粉及びヨウ素を各1g加え、0
〜5℃にて臭素60mを徐々に滴下した。HBrのガス
発生終了後、常法に従つて洗浄中和し、減圧蒸留した。
沸点93〜94.5℃/1mmHg。収量86g(60%)。1H−
及び13C-NMRスペクトルより純品であることを確認し
た。
(c)化合物(5)の合成:(4)59g、二硫化炭素100m
に鉄及びヨウ素を各0.5g加え、室温にて臭素26m
を徐々に加えた。反応終了後、洗浄中和し、減圧蒸留
した。沸点127〜128℃/3mmHg。粗収量61g
(82%)。1 H−及び-13C−NMRスペクトルより、以下に示すトリブ
ロモ体の混合物であることが明らかとなつた。化合物
(5)は トリブロモ体粗生成物よりエタノール再結晶法により白
色結晶を得、1H−及び13C−NMRスペクトルより(5)の純
品であることを確認した。分析値(%):実測値C32.49、
H3.12、計算値(C10H11Br3)C32.38、H2.99 化合物(5)以外のトリブロモt−ブチルベンゼンは、(5)
の液より回収できたが、液体であつた。この液体のト
リブロモt−ブチルベンゼン混合物は次の実施例2に示
すように、同様にシアノ化ができ、対応するトリシアノ
t−ブチルベンゼンが生成した。これを適当な金属塩化
物と1−クロロナフタレン中反応させることによつて、
構造(18)に対応するアルキルシアノフタロシアニンを得
た。中心金属がCu(II)の場合、塩化第一銅を用いて、テ
トラt−ブチルテトラシアノフタロシアニン銅(II)錯体
(構造18)を得た。
に鉄及びヨウ素を各0.5g加え、室温にて臭素26m
を徐々に加えた。反応終了後、洗浄中和し、減圧蒸留
した。沸点127〜128℃/3mmHg。粗収量61g
(82%)。1 H−及び-13C−NMRスペクトルより、以下に示すトリブ
ロモ体の混合物であることが明らかとなつた。化合物
(5)は トリブロモ体粗生成物よりエタノール再結晶法により白
色結晶を得、1H−及び13C−NMRスペクトルより(5)の純
品であることを確認した。分析値(%):実測値C32.49、
H3.12、計算値(C10H11Br3)C32.38、H2.99 化合物(5)以外のトリブロモt−ブチルベンゼンは、(5)
の液より回収できたが、液体であつた。この液体のト
リブロモt−ブチルベンゼン混合物は次の実施例2に示
すように、同様にシアノ化ができ、対応するトリシアノ
t−ブチルベンゼンが生成した。これを適当な金属塩化
物と1−クロロナフタレン中反応させることによつて、
構造(18)に対応するアルキルシアノフタロシアニンを得
た。中心金属がCu(II)の場合、塩化第一銅を用いて、テ
トラt−ブチルテトラシアノフタロシアニン銅(II)錯体
(構造18)を得た。
分析値(%):実測値C68.77、H5.35、N18.75、計算値
(C52H44N12Cu)C69.36、H4.92、N18.66 λmax(CHC3)684nm(ε=1.9×10
5M−1cm−1)以上、分析値より目的生成物と確認
でき、可視スペクトルが、(5)を出発原料にして合成し
たフタロシアニンと異なり、長波長シフトし、かつ、分
子吸光係数εは、テトラ(i−プロピル)テトラシアノ
フタロシアニン銅(II)錯体とほぼ等しいことから、構造
(18)を持つテトラ(t−ブチル)テトラシアノフタロシ
アニン銅(II)錯体と同定できた。
(C52H44N12Cu)C69.36、H4.92、N18.66 λmax(CHC3)684nm(ε=1.9×10
5M−1cm−1)以上、分析値より目的生成物と確認
でき、可視スペクトルが、(5)を出発原料にして合成し
たフタロシアニンと異なり、長波長シフトし、かつ、分
子吸光係数εは、テトラ(i−プロピル)テトラシアノ
フタロシアニン銅(II)錯体とほぼ等しいことから、構造
(18)を持つテトラ(t−ブチル)テトラシアノフタロシ
アニン銅(II)錯体と同定できた。
(d)化合物(6)の合成:(5)3.6g、シアン化第1銅5.49g
DMF40mを18時間還流し、常法に従つて後処理し
た。真空昇華精製(100℃)し、白色粉末を得た。1H、
13C−NMRスペクトル、IRスペクトルにより目的生成物で
あることを確認した。
DMF40mを18時間還流し、常法に従つて後処理し
た。真空昇華精製(100℃)し、白色粉末を得た。1H、
13C−NMRスペクトル、IRスペクトルにより目的生成物で
あることを確認した。
分析値(%):実測値C74.28、H5.25、N19.75、計算値
(C13H11N3)C74.62、H5.30、N20.08 (e)テトラt−ブチルテトラシアノフタロシアニン銅錯
体(7)の合成:(方法1)化合物(6)8.2g塩化第一銅0.9
9gを1−クロロナフタレン中6時間加熱し、メタノー
ル中に注いで再沈した。析出固体をクロロホルムに溶か
し、カラム精製した。(シリカゲルカラム、クロロホル
ム/メタノール=100/2)収量3.2g(35%) λmax(CHC3)676nm(ε1.2×105
M−1cm−1) 分析値(%):実測値C68.86、H5.21、N18.65、計算
値(C52H44N12Cu)C69.36、H4.92、N18.66可視スペク
トル、元素分析値より目的生成物であると確認した。
(C13H11N3)C74.62、H5.30、N20.08 (e)テトラt−ブチルテトラシアノフタロシアニン銅錯
体(7)の合成:(方法1)化合物(6)8.2g塩化第一銅0.9
9gを1−クロロナフタレン中6時間加熱し、メタノー
ル中に注いで再沈した。析出固体をクロロホルムに溶か
し、カラム精製した。(シリカゲルカラム、クロロホル
ム/メタノール=100/2)収量3.2g(35%) λmax(CHC3)676nm(ε1.2×105
M−1cm−1) 分析値(%):実測値C68.86、H5.21、N18.65、計算
値(C52H44N12Cu)C69.36、H4.92、N18.66可視スペク
トル、元素分析値より目的生成物であると確認した。
(方法2)化合物(5)は(1)を出発原料にして(a)〜(c)と
同様の方法で(1)に対し、3倍モルの臭素を使用するこ
とによつて、1ポツトで合成することができた。化合物
(5)と大過剰のシアン化第一銅を反応させることによつ
て直接(7)を1ポツトで合成できた。(5)3.6g、シアン
化第一銅5.4g、DMF40mを18時間還流した。
希アンモニア水を加え、生じた沈殿を別し、クロロホ
ルムに再溶解したのち、希アンモニア水で洗浄した。溶
媒を減圧留去したのち、残渣をクロマトグラフイ法(シ
リカゲル、クロロホルム/エタノール=98/2)で分離精
製した。収量0.43g(19%)λmax、元素分析値共に
方法(1)と同様であつた。
同様の方法で(1)に対し、3倍モルの臭素を使用するこ
とによつて、1ポツトで合成することができた。化合物
(5)と大過剰のシアン化第一銅を反応させることによつ
て直接(7)を1ポツトで合成できた。(5)3.6g、シアン
化第一銅5.4g、DMF40mを18時間還流した。
希アンモニア水を加え、生じた沈殿を別し、クロロホ
ルムに再溶解したのち、希アンモニア水で洗浄した。溶
媒を減圧留去したのち、残渣をクロマトグラフイ法(シ
リカゲル、クロロホルム/エタノール=98/2)で分離精
製した。収量0.43g(19%)λmax、元素分析値共に
方法(1)と同様であつた。
実施例2 テトラi−プロピルテトラシアノフタロシアニン化合物
の合成 反応式を以下に示す。(Pr:プロピル) 化合物(13)は実施例1中(a)〜(c)に示したのと同様の方
法で得ることができた。また化合物(15)は実施例1(e)
方法1、方法2と全く同様の方法で合成できた。
の合成 反応式を以下に示す。(Pr:プロピル) 化合物(13)は実施例1中(a)〜(c)に示したのと同様の方
法で得ることができた。また化合物(15)は実施例1(e)
方法1、方法2と全く同様の方法で合成できた。
元素分析(%):実測値C67.48、H4.86、N19.45、計算
値(C48H36N12Cu)C68.27、H4.30、N19.90λmax
(CHC3)684nm(ε1.8×105M−1c
m−1) ここで、アルキルシアノ置換フタロシアニンの原料であ
るトリブロモ置換アルキルベンゼンであるが、t−ブチ
ル基のような3級炭素がベンゼン環に置換されている
と、臭素のフリーデルークラフト反応の際、t−ブチル
の立体障害により、3、4、5一位に優先的に置換される。
一方、2級、あるいは1級炭素がベンゼン環に置換され
ると、臭素のフリーデル−クラフト反応の際、2、4、5−
位に優先的に置換されるという事実が今回本発明者等の
知見として得られた。特に、t−ブチル基の場合、t−
ブチルが1方向に置換された対称性の高いフタロシアニ
ンが得られる。これは3(あるいは5)位のBr(CN)基の
立体効果がフタロシアニン環化時に影響するためであ
る。
値(C48H36N12Cu)C68.27、H4.30、N19.90λmax
(CHC3)684nm(ε1.8×105M−1c
m−1) ここで、アルキルシアノ置換フタロシアニンの原料であ
るトリブロモ置換アルキルベンゼンであるが、t−ブチ
ル基のような3級炭素がベンゼン環に置換されている
と、臭素のフリーデルークラフト反応の際、t−ブチル
の立体障害により、3、4、5一位に優先的に置換される。
一方、2級、あるいは1級炭素がベンゼン環に置換され
ると、臭素のフリーデル−クラフト反応の際、2、4、5−
位に優先的に置換されるという事実が今回本発明者等の
知見として得られた。特に、t−ブチル基の場合、t−
ブチルが1方向に置換された対称性の高いフタロシアニ
ンが得られる。これは3(あるいは5)位のBr(CN)基の
立体効果がフタロシアニン環化時に影響するためであ
る。
この構造を(17)に示す。
一方、t−ブチル以外の立体障害の小さなアルキル基
(i−プロピル、n−オクチル、シクロヘキシル、n−
オクタデシル等)では、環化時の立体特異性はなく、フ
タロシアニンは種々の異性体の混合物であつた。これら
は液体クロマトグラフイーより確認した。構造を(18)に
示す。
(i−プロピル、n−オクチル、シクロヘキシル、n−
オクタデシル等)では、環化時の立体特異性はなく、フ
タロシアニンは種々の異性体の混合物であつた。これら
は液体クロマトグラフイーより確認した。構造を(18)に
示す。
中心金属は、実施例1及び2で示したCu(II)イオンのみ
ならず、例えばニユーヨーク市 アカデミツク プレス
社1971年発行、K.ベンカタラマン(K.Venkatarama
n)編、“ザ ケミストリー オブ シンセチツク ダ
イス”(The Chemistry of Synthetic Dyes)第V巻、
第250〜253頁に記載されているような種々の金属
をフタロシアニン環内に取込むことができる。
ならず、例えばニユーヨーク市 アカデミツク プレス
社1971年発行、K.ベンカタラマン(K.Venkatarama
n)編、“ザ ケミストリー オブ シンセチツク ダ
イス”(The Chemistry of Synthetic Dyes)第V巻、
第250〜253頁に記載されているような種々の金属
をフタロシアニン環内に取込むことができる。
これら合成したアルキルシアノ置換フタロシアニンをL
B法(水平付着法)により薄膜を形成し、アクセプター
性ガス(ヨウ素)、ドナー性ガス(トリエチルアミン)
に対する導電率変化並びに応答特性を調べた。ここで、
LB法の特性を調べるために常法に従つて、5℃、pH7
においてπ−A曲線を測定した。各結果を第1図及び第
2図にグラフとして示す。
B法(水平付着法)により薄膜を形成し、アクセプター
性ガス(ヨウ素)、ドナー性ガス(トリエチルアミン)
に対する導電率変化並びに応答特性を調べた。ここで、
LB法の特性を調べるために常法に従つて、5℃、pH7
においてπ−A曲線を測定した。各結果を第1図及び第
2図にグラフとして示す。
すなわち第1図は本発明のアルキルシアノフタロシアニ
ン化合物、第2図は従来のアルキルフタロシアニン化合
物のそれぞれのA(Å2/分子、横軸)とπ(ダイン/c
m、縦軸)との関係を示すグラフである。略号を下記表
1にまとめて示す。
ン化合物、第2図は従来のアルキルフタロシアニン化合
物のそれぞれのA(Å2/分子、横軸)とπ(ダイン/c
m、縦軸)との関係を示すグラフである。略号を下記表
1にまとめて示す。
アルキル基のみのTBP化合物の極限断面積値に関し、
実測値と計算値とが大きく異なるのに対し、アルキル基
とシアノ基を含むTBCP及びIPCP化合物では、実測値と計
算値とがほぼ一致し、空気−水面界面上で単分子膜を形
成していることがわかる。TBP及びTBCP化合物は表面
圧18〜20ダイン/cm、IPCP化合物は表面圧11ダイ
ン/cmで、ガラス基板上に累積した。導電率の変化を表
2に示す。
実測値と計算値とが大きく異なるのに対し、アルキル基
とシアノ基を含むTBCP及びIPCP化合物では、実測値と計
算値とがほぼ一致し、空気−水面界面上で単分子膜を形
成していることがわかる。TBP及びTBCP化合物は表面
圧18〜20ダイン/cm、IPCP化合物は表面圧11ダイ
ン/cmで、ガラス基板上に累積した。導電率の変化を表
2に示す。
表2から明らかなように、TBP類はヨウ素ガスに対し
て、0.5〜2×104倍の導電率上昇があるのに対し、トリ
エチルアミンガスに対しては2〜100倍の導電率上昇
しかない。それに対してシアノ基導入によつて電子親和
力を大きくしたTBCPやIPCPは、ヨウ素ガスに対してTB
P類と同様、0.1〜5×104倍の導電率上昇を示し、か
つ、トリエチルアミンガスに対しても0.2〜1×103倍も
の導電率上昇が認められた。一方、ヨウ素ガスに対する
対応特性を第3図に示す。すなわち第3図は時間(秒、
分、横軸)と導電率σ(Scm-1、縦軸)との関係を示す
グラフである。TBPNiは、ヨウ素に対し1秒以内で10-4S
cm-1に上昇するのに対し、TBCPCuは2〜3秒で10-4Scm
-1に達する。ヨウ素ガス排出に対して、TBP類はイオ
ン化ポテンシヤルが4.8eV(UPSより決定)と小さいた
め、フタロシアニンに吸着したヨウ素が抜け難く、元の
値に回復するまで約1時間を要する。それに対し、TBCP
Cuはイオン化ポテンシヤルが5.3eVと大きいためヨウ素
は容易に着脱し、したがつて、元の値に回復する時間は
約15秒と極めて短かい。この様子は他のアルキルフタ
ロシアニンとアルキルシアノフタロシアニンについても
言える。すなわち、ヨウ素に対する応答性はほぼ同じで
あるのに対し、回復時間は200〜500倍も異なる。
て、0.5〜2×104倍の導電率上昇があるのに対し、トリ
エチルアミンガスに対しては2〜100倍の導電率上昇
しかない。それに対してシアノ基導入によつて電子親和
力を大きくしたTBCPやIPCPは、ヨウ素ガスに対してTB
P類と同様、0.1〜5×104倍の導電率上昇を示し、か
つ、トリエチルアミンガスに対しても0.2〜1×103倍も
の導電率上昇が認められた。一方、ヨウ素ガスに対する
対応特性を第3図に示す。すなわち第3図は時間(秒、
分、横軸)と導電率σ(Scm-1、縦軸)との関係を示す
グラフである。TBPNiは、ヨウ素に対し1秒以内で10-4S
cm-1に上昇するのに対し、TBCPCuは2〜3秒で10-4Scm
-1に達する。ヨウ素ガス排出に対して、TBP類はイオ
ン化ポテンシヤルが4.8eV(UPSより決定)と小さいた
め、フタロシアニンに吸着したヨウ素が抜け難く、元の
値に回復するまで約1時間を要する。それに対し、TBCP
Cuはイオン化ポテンシヤルが5.3eVと大きいためヨウ素
は容易に着脱し、したがつて、元の値に回復する時間は
約15秒と極めて短かい。この様子は他のアルキルフタ
ロシアニンとアルキルシアノフタロシアニンについても
言える。すなわち、ヨウ素に対する応答性はほぼ同じで
あるのに対し、回復時間は200〜500倍も異なる。
トリエチルアミンガスに対する応答特性を第4図に示
す。すなわち第4図は時間(秒、横軸)と導電率σ(Sc
m1、縦軸)との関係を示すグラフである。このグラフか
ら明らかなようにTBPNi、TBCPCu共に、トリエチルアミ
ンに対して2秒で飽和値に達し、回復時間も10秒と極
めて速い。この傾向は他のアルキルフタロシアニンとア
ルキルシアノフタロシアニンと共に同様の早い対応−回
復時間であつた。
す。すなわち第4図は時間(秒、横軸)と導電率σ(Sc
m1、縦軸)との関係を示すグラフである。このグラフか
ら明らかなようにTBPNi、TBCPCu共に、トリエチルアミ
ンに対して2秒で飽和値に達し、回復時間も10秒と極
めて速い。この傾向は他のアルキルフタロシアニンとア
ルキルシアノフタロシアニンと共に同様の早い対応−回
復時間であつた。
以上説明したように、本発明のシアノ基を導入したアル
キルフタロシアニン化合物はLB法において良好な単分
子膜を形成し、その薄膜はアクセプター性ガス、ドナー
性ガスの両方に対し、極めて高感度、高速応答−回復特
性を有することが明らかとなつた。これはアルキルシア
ノフタロシアニンがこれまで報告されているアルキルフ
タロシアニンと比べて、飛躍的にガス検知能に優れた材
料であることを示す。高い溶解性を持つフタロシアニン
化合物は、有機感光体、有機導電体、電子写真感光体、
太陽電池などに関連して極めて高い興味を持たれてる材
料であるが、電子親和力、イオン化ポテンシヤルを制御
する方法として、これまでは中心金属を変えることによ
つて制御されてきた。本発明は、高い溶解性を保持しつ
つ、シアノ基の導入によつて、エネルギーレベルを制御
できるという意味で極めて有利な効果を持つている。
キルフタロシアニン化合物はLB法において良好な単分
子膜を形成し、その薄膜はアクセプター性ガス、ドナー
性ガスの両方に対し、極めて高感度、高速応答−回復特
性を有することが明らかとなつた。これはアルキルシア
ノフタロシアニンがこれまで報告されているアルキルフ
タロシアニンと比べて、飛躍的にガス検知能に優れた材
料であることを示す。高い溶解性を持つフタロシアニン
化合物は、有機感光体、有機導電体、電子写真感光体、
太陽電池などに関連して極めて高い興味を持たれてる材
料であるが、電子親和力、イオン化ポテンシヤルを制御
する方法として、これまでは中心金属を変えることによ
つて制御されてきた。本発明は、高い溶解性を保持しつ
つ、シアノ基の導入によつて、エネルギーレベルを制御
できるという意味で極めて有利な効果を持つている。
第1図は本発明のアルキルシアノフタロシアニンのπ−
A曲線を示すグラフ、第2図は従来のアルキルフタロシ
アニンのπ−A曲線を示すグラフ、第3図は本発明の実
施例及び比較例の化合物のヨウ素ガスに対する応答−回
復曲線を示すグラフ、第4図は本発明の実施例及び比較
例のトリエチルアミンガスに対する応答−回復曲線を示
すグラフである。
A曲線を示すグラフ、第2図は従来のアルキルフタロシ
アニンのπ−A曲線を示すグラフ、第3図は本発明の実
施例及び比較例の化合物のヨウ素ガスに対する応答−回
復曲線を示すグラフ、第4図は本発明の実施例及び比較
例のトリエチルアミンガスに対する応答−回復曲線を示
すグラフである。
フロントページの続き (72)発明者 田部井 久男 茨城県那珂郡東海村大字白方字白根162番 地 日本電信電話株式会社茨城電気通信研 究所内 (56)参考文献 特開 昭57−7115(JP,A) 特開 昭58−141246(JP,A) 特開 昭60−199890(JP,A)
Claims (1)
- 【請求項1】下記一般式I: (式中R1はi−プロピル基又はt−ブチル基を示し、R1
がi−プロピル基の場合には、R2はシアノ基でR3が水素
を示し、R1がt−ブチル基の場合には、R2は水素でR3が
シアノ基を示す)で表されることを特徴とするアルキル
シアノフタロシアニン化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60252038A JPH0653744B2 (ja) | 1985-11-12 | 1985-11-12 | アルキルシアノフタロシアニン化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60252038A JPH0653744B2 (ja) | 1985-11-12 | 1985-11-12 | アルキルシアノフタロシアニン化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62111984A JPS62111984A (ja) | 1987-05-22 |
| JPH0653744B2 true JPH0653744B2 (ja) | 1994-07-20 |
Family
ID=17231709
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60252038A Expired - Fee Related JPH0653744B2 (ja) | 1985-11-12 | 1985-11-12 | アルキルシアノフタロシアニン化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0653744B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0752264Y2 (ja) * | 1992-01-22 | 1995-11-29 | 日本金属株式会社 | 内装壁装置 |
| GB2350361B (en) * | 1999-05-22 | 2003-12-03 | Merck Patent Gmbh | 3,4,5-tricyanophenyl derivatives |
| FR2881523B1 (fr) * | 2005-02-02 | 2007-03-09 | Univ Bourgogne | Utilisation de pinces moleculaires comme materiaux sensibles dans des capteurs chimiques pour la detection ou le dosage de composes organiques a l'etat de vapeurs |
| JP4859730B2 (ja) * | 2007-03-30 | 2012-01-25 | 三菱電機株式会社 | スクロール圧縮機 |
| CN102827226B (zh) * | 2012-08-28 | 2014-12-10 | 福州大学 | 一种尿苷衍生物修饰的硅酞菁及其制备方法和应用 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS577115A (en) * | 1980-06-16 | 1982-01-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Organic semiconductor material |
| DE3274723D1 (en) * | 1981-09-25 | 1987-01-29 | Ici Plc | Method of applying thin films to substrates |
| CH657864A5 (de) * | 1984-02-17 | 1986-09-30 | Ciba Geigy Ag | Wasserloesliche phthalocyaninverbindungen und deren verwendung als photoaktivatoren. |
-
1985
- 1985-11-12 JP JP60252038A patent/JPH0653744B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62111984A (ja) | 1987-05-22 |
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|---|---|---|---|
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