JPH0654361B2 - 防眩観察面を有する光学観察スクリーンの製造方法 - Google Patents
防眩観察面を有する光学観察スクリーンの製造方法Info
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- JPH0654361B2 JPH0654361B2 JP1218412A JP21841289A JPH0654361B2 JP H0654361 B2 JPH0654361 B2 JP H0654361B2 JP 1218412 A JP1218412 A JP 1218412A JP 21841289 A JP21841289 A JP 21841289A JP H0654361 B2 JPH0654361 B2 JP H0654361B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 この発明は、例えば陰極線管の観察面などのガラス製支
持体上に防眩効果を持ち、かつ画像を透過させ得る珪酸
リチウム被膜を形成する改善された方法に関するもので
ある。この被膜はまた帯電防止特性を与えるようにする
こともできる。
持体上に防眩効果を持ち、かつ画像を透過させ得る珪酸
リチウム被膜を形成する改善された方法に関するもので
ある。この被膜はまた帯電防止特性を与えるようにする
こともできる。
1986年１月７日付米国特許第4,560,581号にはガラス支
持体上に、珪酸リチウム製の防眩被膜を形成する方法が
示されている。この方法では、ガラス支持体は約40℃〜
80℃に加熱され、次いで、リチウムで安定化されたシリ
カゾルを含む稀釈された水溶液で、例えば、エアスプレ
ー法により被覆される。このようにして形成した被膜は
空気乾燥され、温水で洗われ、再び空気乾燥されて、そ
の後、100℃以下、好ましくは約90℃の温度で10〜60分
間ベーキングされる。耐摩耗性はこのベーキングの温度
に直接関係する。ベーキング温度が高いほど、被膜の耐
摩耗性も高くなる。この方法は1975年８月５日付米国特
許第3,898,509号及び1976年２月24日付米国特許第3,94
0,511号に開示の方法とは次の点で異なる。即ち、これ
ら２つの米国特許の方法では、洗浄の前に、被覆は150
℃以上の温度でベーキングして乾燥させることが必要で
ある。これらの２つの米国特許の発明者らは、この洗浄
に先立つ高温でのベーキングは、被膜の水に対する溶解
性を小さくし、被膜のガラス支持体への接着性を増し、
かつ、被膜の耐摩耗性を実用的な値にまで高めるために
必要であると考えていた。
持体上に、珪酸リチウム製の防眩被膜を形成する方法が
示されている。この方法では、ガラス支持体は約40℃〜
80℃に加熱され、次いで、リチウムで安定化されたシリ
カゾルを含む稀釈された水溶液で、例えば、エアスプレ
ー法により被覆される。このようにして形成した被膜は
空気乾燥され、温水で洗われ、再び空気乾燥されて、そ
の後、100℃以下、好ましくは約90℃の温度で10〜60分
間ベーキングされる。耐摩耗性はこのベーキングの温度
に直接関係する。ベーキング温度が高いほど、被膜の耐
摩耗性も高くなる。この方法は1975年８月５日付米国特
許第3,898,509号及び1976年２月24日付米国特許第3,94
0,511号に開示の方法とは次の点で異なる。即ち、これ
ら２つの米国特許の方法では、洗浄の前に、被覆は150
℃以上の温度でベーキングして乾燥させることが必要で
ある。これらの２つの米国特許の発明者らは、この洗浄
に先立つ高温でのベーキングは、被膜の水に対する溶解
性を小さくし、被膜のガラス支持体への接着性を増し、
かつ、被膜の耐摩耗性を実用的な値にまで高めるために
必要であると考えていた。
1986年１月７日付米国特許第4,563,612号には、帯電防
止効果及び防眩効果を有しかつ画像を透過させ得る被膜
を外側観察表面に有する陰極線管が開示されている。こ
の被膜組成には、水性リチウム安定化シリカゾルのほか
に被膜に帯電防止特性を付与する無機金属化合物が含ま
れている。この被膜は、例えば、約30分間約40℃〜45℃
に温めた管のフェースプレートにエアスプレー法により
塗布される。被膜は乾燥され、ついで、150℃〜300℃の
間の温度で10〜60分間ベーキングを施される。但し、12
0℃で10分間のベーキング（但し、加熱に30分、冷却に3
0分をかける）でもよい結果が得られている。このベー
キングにより、帯電防止・防眩被膜の最終的な電気的、
光学的、物理的特性が現われる。この被膜は、安価で製
造が容易であり、かつ、帯電防止特性を有するとされて
いる従来の、構造的に異なる４分の１波長防眩被膜より
も、耐摩耗性及び工場における通常の熱処理に対する耐
久性が高いと述べられている。
止効果及び防眩効果を有しかつ画像を透過させ得る被膜
を外側観察表面に有する陰極線管が開示されている。こ
の被膜組成には、水性リチウム安定化シリカゾルのほか
に被膜に帯電防止特性を付与する無機金属化合物が含ま
れている。この被膜は、例えば、約30分間約40℃〜45℃
に温めた管のフェースプレートにエアスプレー法により
塗布される。被膜は乾燥され、ついで、150℃〜300℃の
間の温度で10〜60分間ベーキングを施される。但し、12
0℃で10分間のベーキング（但し、加熱に30分、冷却に3
0分をかける）でもよい結果が得られている。このベー
キングにより、帯電防止・防眩被膜の最終的な電気的、
光学的、物理的特性が現われる。この被膜は、安価で製
造が容易であり、かつ、帯電防止特性を有するとされて
いる従来の、構造的に異なる４分の１波長防眩被膜より
も、耐摩耗性及び工場における通常の熱処理に対する耐
久性が高いと述べられている。
この米国特許第4,563,612号に記載されている帯電防止
・防眩被膜の欠点は、被膜の最終的な電気的、光学的、
物理的特性を出現させるためには、少なくとも120℃、
好ましくは150℃〜300℃の範囲内の温度を採用した、時
間と費用のかかるベーキング工程を用いることである。
・防眩被膜の欠点は、被膜の最終的な電気的、光学的、
物理的特性を出現させるためには、少なくとも120℃、
好ましくは150℃〜300℃の範囲内の温度を採用した、時
間と費用のかかるベーキング工程を用いることである。
この発明の方法は、ガラス支持体を室温より高いが、50
℃を超えない第１の温度に温める（加熱する）段階、温
められた支持体の表面をリチウム安定化シリカゾルを含
む水溶液の被膜で覆う段階、この被膜を乾燥させる段
階、ついで支持体の表面及びその上に形成された乾燥し
た上記被膜を上記第１の温度よりも高いが65℃を超えな
い第２の温度に再加熱する段階とを含んでいる。なお上
記の再加熱は、上記被膜にその光学的及び物理的特性を
生じさせるには充分であるが、上記支持体を実質的に加
熱するには足りない時間に亘って行なう。この後、従来
と同様に、被膜を水、好ましくは温水で洗って可溶性の
アルカリ化合物を除去する。続いて、上記被膜を乾燥さ
せる。
℃を超えない第１の温度に温める（加熱する）段階、温
められた支持体の表面をリチウム安定化シリカゾルを含
む水溶液の被膜で覆う段階、この被膜を乾燥させる段
階、ついで支持体の表面及びその上に形成された乾燥し
た上記被膜を上記第１の温度よりも高いが65℃を超えな
い第２の温度に再加熱する段階とを含んでいる。なお上
記の再加熱は、上記被膜にその光学的及び物理的特性を
生じさせるには充分であるが、上記支持体を実質的に加
熱するには足りない時間に亘って行なう。この後、従来
と同様に、被膜を水、好ましくは温水で洗って可溶性の
アルカリ化合物を除去する。続いて、上記被膜を乾燥さ
せる。
好ましくは、第１の温度は約48℃〜50℃である。被覆は
スプレー法等により行うことができる。また、この分野
で知られているように、例えばパラジウム化合物のよう
な無機金属化合物を被膜組成に加えて帯電防止特性を付
与するようにしてもよい。
スプレー法等により行うことができる。また、この分野
で知られているように、例えばパラジウム化合物のよう
な無機金属化合物を被膜組成に加えて帯電防止特性を付
与するようにしてもよい。
驚くべきことには、支持体の表面及びその上の被膜の温
度を第１の温度よりも高い第２の温度（但し、65℃以
下）に高める熱源に上記支持体表面と被膜とを短時間さ
らすことで、被膜の光学的及び物理的特性を現出させる
ことができる。被膜が少量のパラジウム化合物を含む場
合には、得られた被膜の帯電防止特性は、前述の米国特
許第4,563,612号の方法によって得られる被膜のものと
同等であり、しかも、この発明の被膜は短い処理時間と
少ない費用で作ることが可能である。
度を第１の温度よりも高い第２の温度（但し、65℃以
下）に高める熱源に上記支持体表面と被膜とを短時間さ
らすことで、被膜の光学的及び物理的特性を現出させる
ことができる。被膜が少量のパラジウム化合物を含む場
合には、得られた被膜の帯電防止特性は、前述の米国特
許第4,563,612号の方法によって得られる被膜のものと
同等であり、しかも、この発明の被膜は短い処理時間と
少ない費用で作ることが可能である。
この発明の方法は、各処理工程の順序、加熱の方法、い
くつかの温度範囲及び推奨される動作温度以外は、前述
の米国特許第4,563,612号に記載されていると同様にし
て実施してもよい。前記米国特許の方法との主たる相異
点は、陰極線管の観察表面を帯電防止、防眩被膜で被覆
した後、熱源を用いて被膜とその下の表面とを急速に加
熱、好ましくは、約30秒間65℃の温度に加熱して、被膜
の帯電防止特性、光学的特性及び物理的特性を加熱時間
及び費用を低減して現出させるようにした点である。こ
の後、被膜を温水（例えば、49℃〜60℃の水）で洗い乾
燥する。良好な耐摩耗特性及び耐指紋特性（指紋により
変質しないこと）を持つ被膜を得るための最後の高温ベ
ーキング工程は不要である。さらに、処理後、少なくと
も１週間は、不良被膜を容易に除去できる。
くつかの温度範囲及び推奨される動作温度以外は、前述
の米国特許第4,563,612号に記載されていると同様にし
て実施してもよい。前記米国特許の方法との主たる相異
点は、陰極線管の観察表面を帯電防止、防眩被膜で被覆
した後、熱源を用いて被膜とその下の表面とを急速に加
熱、好ましくは、約30秒間65℃の温度に加熱して、被膜
の帯電防止特性、光学的特性及び物理的特性を加熱時間
及び費用を低減して現出させるようにした点である。こ
の後、被膜を温水（例えば、49℃〜60℃の水）で洗い乾
燥する。良好な耐摩耗特性及び耐指紋特性（指紋により
変質しないこと）を持つ被膜を得るための最後の高温ベ
ーキング工程は不要である。さらに、処理後、少なくと
も１週間は、不良被膜を容易に除去できる。
この発明の方法を図のフローチャートに概略的に示す。
フローチャートの工程を開始する前に、防眩被膜を支持
するためのガラス表面が慎重に清浄化される。この表面
としては、例えば、陰極線管のフェースプレートの外表
面、あるいは、陰極線管のフェースプレートに積層され
るガラス製安全パネルの凸面、あるいは、その他、観察
面となるガラス支持体の面、例えば、絵を入れた額縁の
ガラスの面などがある。この表面は、表面に掻き傷を付
けることなく、ほこり、ちり、油、さび等を除去するた
めの公知の磨き法及び清浄法の任意のものによって清浄
にされる。好ましい方法は、表面を市販の磨き剤で摩
き、ついで脱イオン水ですすぎ、５重量％弗化水素アン
モニウム水溶液で表面を拭い、再び脱イオン水ですす
ぎ、この脱イオン水を除いた後、表面を空気中で乾燥さ
せる。
フローチャートの工程を開始する前に、防眩被膜を支持
するためのガラス表面が慎重に清浄化される。この表面
としては、例えば、陰極線管のフェースプレートの外表
面、あるいは、陰極線管のフェースプレートに積層され
るガラス製安全パネルの凸面、あるいは、その他、観察
面となるガラス支持体の面、例えば、絵を入れた額縁の
ガラスの面などがある。この表面は、表面に掻き傷を付
けることなく、ほこり、ちり、油、さび等を除去するた
めの公知の磨き法及び清浄法の任意のものによって清浄
にされる。好ましい方法は、表面を市販の磨き剤で摩
き、ついで脱イオン水ですすぎ、５重量％弗化水素アン
モニウム水溶液で表面を拭い、再び脱イオン水ですす
ぎ、この脱イオン水を除いた後、表面を空気中で乾燥さ
せる。
この発明の好ましい実施例によれば、例えば、排気され
封止された管のフェースプレートのような清浄なガラス
支持体が、例えば、炉中で、約50℃に温められる。温か
いフェースプレートの外表面とフェースプレートに巻か
れた緊締金属バンドが、リチウム安定化シリカゾルと、
硫酸パラジウム、硫酸錫、塩化錫あるいは塩化金のよう
な水溶性金属化合物との稀釈水溶液で被覆される。被膜
は従来法、例えば、スプレー法により、一層あるいは数
層に塗布することができる。フェースプレートの温度、
被膜形成のための特定の技法及び塗布される層の数は所
望の厚さの被膜が形成されるように実験的に選択され
る。フェースプレートの温度は好ましくは48℃〜50℃で
ある。温度が低すぎると（例えば、20℃）、被膜がビー
ド状になり、あるいは、鏡面反射率が高くなりすぎ、一
方、温度が高すぎると、外観が乾燥した印象を与える被
膜ができる。被膜をスプレー法により塗布する場合に
は、乾燥した被膜の厚さが、作業員がガラス支持体の上
方約1.83ｍ（約６フィート）に置いた３管蛍光灯装置の
反射から３本の管を見分けることを可能にするような厚
さとすべきであることがわかった。最初の被膜を厚くす
ると、最後の被膜も厚くなる。一般に、被膜が厚くなれ
ば、グレヤ（眩しさ）の減少は大きくなり、発光画像の
解像度の低下も大きくなる。逆に、被膜が薄くなると、
それだけグレヤの低下も少なくなり、発光画像の解像度
の低下も減少する。
封止された管のフェースプレートのような清浄なガラス
支持体が、例えば、炉中で、約50℃に温められる。温か
いフェースプレートの外表面とフェースプレートに巻か
れた緊締金属バンドが、リチウム安定化シリカゾルと、
硫酸パラジウム、硫酸錫、塩化錫あるいは塩化金のよう
な水溶性金属化合物との稀釈水溶液で被覆される。被膜
は従来法、例えば、スプレー法により、一層あるいは数
層に塗布することができる。フェースプレートの温度、
被膜形成のための特定の技法及び塗布される層の数は所
望の厚さの被膜が形成されるように実験的に選択され
る。フェースプレートの温度は好ましくは48℃〜50℃で
ある。温度が低すぎると（例えば、20℃）、被膜がビー
ド状になり、あるいは、鏡面反射率が高くなりすぎ、一
方、温度が高すぎると、外観が乾燥した印象を与える被
膜ができる。被膜をスプレー法により塗布する場合に
は、乾燥した被膜の厚さが、作業員がガラス支持体の上
方約1.83ｍ（約６フィート）に置いた３管蛍光灯装置の
反射から３本の管を見分けることを可能にするような厚
さとすべきであることがわかった。最初の被膜を厚くす
ると、最後の被膜も厚くなる。一般に、被膜が厚くなれ
ば、グレヤ（眩しさ）の減少は大きくなり、発光画像の
解像度の低下も大きくなる。逆に、被膜が薄くなると、
それだけグレヤの低下も少なくなり、発光画像の解像度
の低下も減少する。
また、スプレーによって塗布する時は、被膜は外観が乾
燥した感じとなる。乾燥した感じは、(1)被膜の塗布時
のパネルの温度を高くする、(2)圧搾空気でスプレーす
る時のスプレー中の空気を多くする、(3)被膜をスプレ
ーする時のスプレー距離を大きくする。(4)SiO2／Li2O
のモル比を大きくすることによって増大させることがで
きる。しかし、これが過ぎると被膜にひびが入る。外観
の乾いた感じが大きくなると、防眩効果も増し、また、
発光画像の解像度の損失も大きくなる。逆に、外観の乾
いた感じが小さくなれば、それだけ防眩効果も低下し、
発光画像の解像度の低下も小さくなる。
燥した感じとなる。乾燥した感じは、(1)被膜の塗布時
のパネルの温度を高くする、(2)圧搾空気でスプレーす
る時のスプレー中の空気を多くする、(3)被膜をスプレ
ーする時のスプレー距離を大きくする。(4)SiO2／Li2O
のモル比を大きくすることによって増大させることがで
きる。しかし、これが過ぎると被膜にひびが入る。外観
の乾いた感じが大きくなると、防眩効果も増し、また、
発光画像の解像度の損失も大きくなる。逆に、外観の乾
いた感じが小さくなれば、それだけ防眩効果も低下し、
発光画像の解像度の低下も小さくなる。
好ましくは、被膜の組成は、約１〜10重量％の固体と、
このゾル中の全固体の重量に対し0.005〜0.02重量％金
属元素とを含む水性のリチウム安定化シリカゾルであ
る。この金属元素としては、例えば、プラチナ、パラジ
ウム、錫及び金の中の１またはそれ以上とすることがで
き、好ましくは、水溶性の塩としてゾルに導入される。
一般に、無電界メッキで表面を付感するために使用され
る金属元素の中の任意のものを、この発明における金属
元素の１乃至それ以上のものとして用いることができ
る。金属元素の濃度が約0.005重量％より低い時は、帯
電防止効果が不足または不安定となる。また、金属元素
の濃度が約0.02重量％を越えると、被膜はまだらになっ
たり、真珠光沢を呈したり、あるいは、透光性に悪影響
が出る。ゾル中における、SiO2とLi2Oの比は、約４：１
乃至約25：１である。シリカゾルは実質的に、リチウム
以外のアルカリ金属イオン及びヒドロキシル以外の陰イ
オンを含まない。リチウム安定化シリカゾルは、珪酸リ
チウム溶液とは実質的に異なり、後者は溶媒中に溶解し
た化合物であってゾルではない。ついで行われる加熱に
より、リチウム安定化シリカゾル被膜は乾燥して珪酸リ
チウム被膜となる。リチウム安定化シリカゾルの代り
に、リチウム、ナトリウム及びカリウムの１以上のもの
の珪酸塩の溶液を用いてもよい。また、推奨されるリチ
ウム安定化シリカゾルの代りに、有機珪酸塩、例えば、
テトラエチルオルトシリケート等を用いることもでき
る。また、組成中に顔料粒子及び／または染料を加え
て、輝度を初期の値の約50％まで減少させ、及び／また
は透過した画像のスペクトル分布を変えるようにするこ
ともできる。
このゾル中の全固体の重量に対し0.005〜0.02重量％金
属元素とを含む水性のリチウム安定化シリカゾルであ
る。この金属元素としては、例えば、プラチナ、パラジ
ウム、錫及び金の中の１またはそれ以上とすることがで
き、好ましくは、水溶性の塩としてゾルに導入される。
一般に、無電界メッキで表面を付感するために使用され
る金属元素の中の任意のものを、この発明における金属
元素の１乃至それ以上のものとして用いることができ
る。金属元素の濃度が約0.005重量％より低い時は、帯
電防止効果が不足または不安定となる。また、金属元素
の濃度が約0.02重量％を越えると、被膜はまだらになっ
たり、真珠光沢を呈したり、あるいは、透光性に悪影響
が出る。ゾル中における、SiO2とLi2Oの比は、約４：１
乃至約25：１である。シリカゾルは実質的に、リチウム
以外のアルカリ金属イオン及びヒドロキシル以外の陰イ
オンを含まない。リチウム安定化シリカゾルは、珪酸リ
チウム溶液とは実質的に異なり、後者は溶媒中に溶解し
た化合物であってゾルではない。ついで行われる加熱に
より、リチウム安定化シリカゾル被膜は乾燥して珪酸リ
チウム被膜となる。リチウム安定化シリカゾルの代り
に、リチウム、ナトリウム及びカリウムの１以上のもの
の珪酸塩の溶液を用いてもよい。また、推奨されるリチ
ウム安定化シリカゾルの代りに、有機珪酸塩、例えば、
テトラエチルオルトシリケート等を用いることもでき
る。また、組成中に顔料粒子及び／または染料を加え
て、輝度を初期の値の約50％まで減少させ、及び／また
は透過した画像のスペクトル分布を変えるようにするこ
ともできる。
温められたガラス支持体に被膜を形成した後、この被膜
は糸屑や他の異物の粒子等が被膜に付着しないように慎
重に空気中で乾燥される。被膜とその下の支持体表面
は、通常の赤外線（ＩＲ）熱源またはカロッド(Calrod)
ヒータによって発せられる熱に対して約30秒さらす、即
ち、スキン(skin)加熱される。カロッドヒータは米国ニ
ューヨーク州スケネクタディのゼネラルエレクトリック
社で製造されている。支持体表面の温度は、例えば、フ
ェースプレートに取付けた熱電対で測定して約65℃であ
る。熱電対の代りに赤外線（ＩＲ）温度計を用いて支持
体表面温度を測定することもできる。「スキン」加熱は
フェースプレートの本体は実質的に加熱しない。一般
に、加熱温度を高くすると、製品の防眩効果は低くな
り、耐摩耗性は高くなる。従来は、充分な耐摩耗性を得
るためには、150℃〜300℃の温度範囲内で10〜60分のベ
ーキングが必要であると考えられていた。この発明の方
法は、被膜をスキン加熱し、その後、洗って可溶性のア
ルカリ化合物を除くようにすれば、高品質の帯電防止防
眩被膜を作るためには、１時間もの間高いベーキング温
度を持続させる必要がないことを明らかにした。
は糸屑や他の異物の粒子等が被膜に付着しないように慎
重に空気中で乾燥される。被膜とその下の支持体表面
は、通常の赤外線（ＩＲ）熱源またはカロッド(Calrod)
ヒータによって発せられる熱に対して約30秒さらす、即
ち、スキン(skin)加熱される。カロッドヒータは米国ニ
ューヨーク州スケネクタディのゼネラルエレクトリック
社で製造されている。支持体表面の温度は、例えば、フ
ェースプレートに取付けた熱電対で測定して約65℃であ
る。熱電対の代りに赤外線（ＩＲ）温度計を用いて支持
体表面温度を測定することもできる。「スキン」加熱は
フェースプレートの本体は実質的に加熱しない。一般
に、加熱温度を高くすると、製品の防眩効果は低くな
り、耐摩耗性は高くなる。従来は、充分な耐摩耗性を得
るためには、150℃〜300℃の温度範囲内で10〜60分のベ
ーキングが必要であると考えられていた。この発明の方
法は、被膜をスキン加熱し、その後、洗って可溶性のア
ルカリ化合物を除くようにすれば、高品質の帯電防止防
眩被膜を作るためには、１時間もの間高いベーキング温
度を持続させる必要がないことを明らかにした。
被膜は約49℃〜60℃の温度の温脱イオン水で洗われる。
この水は弱い流れとして約５秒間流すことが好ましい。
被膜が不良の場合は、製造後、少なくとも１週間まで
は、不良被膜を５重量％弗化水素アンモニウム水溶液で
スポンジ洗いすることにより、管を再使用できる。
この水は弱い流れとして約５秒間流すことが好ましい。
被膜が不良の場合は、製造後、少なくとも１週間まで
は、不良被膜を５重量％弗化水素アンモニウム水溶液で
スポンジ洗いすることにより、管を再使用できる。
この発明の方法によって作られる製品は、ガラス支持体
の観察表面、例えば、陰極線管の外表面などの上に形成
される帯電防止防眩被膜である。この被膜は防眩、即
ち、反射光を分散させる性質を持ち、同時に、管の蛍光
体スクリーン上の発光像を少なくとも１cm当り約197本
（１インチ当り500本）の解像度で透過させることがで
きる。また、この被膜は諸製造処理や、その後の湿った
雰囲気への露出に対して化学的に安定している。被膜は
摩擦及び指紋に対する耐性を有し、反射光及び透過光の
両方に対して実質的に平坦なスペクトル応答を示す。
の観察表面、例えば、陰極線管の外表面などの上に形成
される帯電防止防眩被膜である。この被膜は防眩、即
ち、反射光を分散させる性質を持ち、同時に、管の蛍光
体スクリーン上の発光像を少なくとも１cm当り約197本
（１インチ当り500本）の解像度で透過させることがで
きる。また、この被膜は諸製造処理や、その後の湿った
雰囲気への露出に対して化学的に安定している。被膜は
摩擦及び指紋に対する耐性を有し、反射光及び透過光の
両方に対して実質的に平坦なスペクトル応答を示す。
この発明による製品は従来法によって作ったものに比し
て、(1)同等の画像解像度で鏡面反射が小さく、(2)表示
キャラクタの縁部の遷移が左右される高い周波数におけ
るＴＭＴＦ（透過変調伝達関数）の低下が相当小さく、
(3)観察表面における被膜のくもりが無視し得る程度の
ものであるという点においてすぐれている。
て、(1)同等の画像解像度で鏡面反射が小さく、(2)表示
キャラクタの縁部の遷移が左右される高い周波数におけ
るＴＭＴＦ（透過変調伝達関数）の低下が相当小さく、
(3)観察表面における被膜のくもりが無視し得る程度の
ものであるという点においてすぐれている。
例 排気され封止された13インチ（約33cm）方形カラー表示
管のフェースプレート表面を公知の磨き技法及び洗浄法
の任意のものを用いて清浄化してほこり、油、しみ等を
除去する。次に、表面を５重量％弗化水素アンモニウム
水溶液で５秒間洗い、温度49℃〜60℃で10秒間脱イオン
水ですすぐ。フェースプレート表面は厚いエアナイフを
用いて65℃で乾燥する。ついで、管を炉に移し、約５〜
10分間、または、管のフェースプレート表面が約45℃〜
50℃になるまで、50℃に予熱する。こうする代りに、表
面を赤外線で２〜３分加熱してもよい。温められたフェ
ースプレート表面上に、液体の被膜組成をスプレーす
る。この被膜組成は、 米国デラウエア州ウイルミントンのイー・アイ・デュポ
ン社（E.I.Dupont Company）から市販されているリチウ
ムシリケート48(Lithium Silicate 48)（22.1％の固体
を含むリチウム安定化シリカゾル、比重1.17）8.09、 米国ペンシルバニア州マルバンのジョンソン・マッシー
社(Johnson Matthey Inc.)から市販されているパラジウ
ムD.N.S.(Palladium D.N.S.)溶液0.254、及び 脱イオン水86.289 を混合して作る。これにより、94.633（25ガロン）の
被膜溶液のバッチが出来る。シリカゾルはSiO2対Li2Oの
モル比の値が約4.8である。13インチ（約33cm）管に対
し、スプレーを18フレーム（４−４−４−６）、１フレ
ームにつき４回のパスで施す。（フェースプレートの一
端から他端までのスプレーの一刷きをパスと呼び、１乃
至複数のパスでフェースプレートの全面をカバーするこ
とをフレームと称する。）スプレーガンのノズルと管の
フェースプレートとの間に、約20.3〜25.4cm（８〜10イ
ンチ）の間隔を置く。１組４フレームのスプレーが終る
ごとに、管を90°回転させる。フェースプレートが熱を
持っているために、被膜材料はスプレーの各パス終了後
約10秒以内に乾く。乾燥した管のフェースプレートは30
秒間ＩＲヒータまたはカロッドヒータにさらして、フェ
ースプレートの表面と被膜とを約65℃にスキン加熱す
る。ついで、被膜を、約49℃〜60℃の温度の脱イオン水
の弱い流れを用いて約５秒間洗う。次に、フェースプレ
ートと被膜を熱いエアナイフによって65℃で乾燥する。
管のフェースプレート表面を公知の磨き技法及び洗浄法
の任意のものを用いて清浄化してほこり、油、しみ等を
除去する。次に、表面を５重量％弗化水素アンモニウム
水溶液で５秒間洗い、温度49℃〜60℃で10秒間脱イオン
水ですすぐ。フェースプレート表面は厚いエアナイフを
用いて65℃で乾燥する。ついで、管を炉に移し、約５〜
10分間、または、管のフェースプレート表面が約45℃〜
50℃になるまで、50℃に予熱する。こうする代りに、表
面を赤外線で２〜３分加熱してもよい。温められたフェ
ースプレート表面上に、液体の被膜組成をスプレーす
る。この被膜組成は、 米国デラウエア州ウイルミントンのイー・アイ・デュポ
ン社（E.I.Dupont Company）から市販されているリチウ
ムシリケート48(Lithium Silicate 48)（22.1％の固体
を含むリチウム安定化シリカゾル、比重1.17）8.09、 米国ペンシルバニア州マルバンのジョンソン・マッシー
社(Johnson Matthey Inc.)から市販されているパラジウ
ムD.N.S.(Palladium D.N.S.)溶液0.254、及び 脱イオン水86.289 を混合して作る。これにより、94.633（25ガロン）の
被膜溶液のバッチが出来る。シリカゾルはSiO2対Li2Oの
モル比の値が約4.8である。13インチ（約33cm）管に対
し、スプレーを18フレーム（４−４−４−６）、１フレ
ームにつき４回のパスで施す。（フェースプレートの一
端から他端までのスプレーの一刷きをパスと呼び、１乃
至複数のパスでフェースプレートの全面をカバーするこ
とをフレームと称する。）スプレーガンのノズルと管の
フェースプレートとの間に、約20.3〜25.4cm（８〜10イ
ンチ）の間隔を置く。１組４フレームのスプレーが終る
ごとに、管を90°回転させる。フェースプレートが熱を
持っているために、被膜材料はスプレーの各パス終了後
約10秒以内に乾く。乾燥した管のフェースプレートは30
秒間ＩＲヒータまたはカロッドヒータにさらして、フェ
ースプレートの表面と被膜とを約65℃にスキン加熱す
る。ついで、被膜を、約49℃〜60℃の温度の脱イオン水
の弱い流れを用いて約５秒間洗う。次に、フェースプレ
ートと被膜を熱いエアナイフによって65℃で乾燥する。
ここに記載した組成からパラジウム化合物を除いたもの
は、防眩被膜用に用いることができるが、その場合は、
被膜には帯電防止特性はない。
は、防眩被膜用に用いることができるが、その場合は、
被膜には帯電防止特性はない。
図はこの発明の方法のフローチャートである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特公 昭51−13487（ＪＰ，Ｂ２) 特公 昭60−7029（ＪＰ，Ｂ２) 米国特許3898509（ＵＳ，Ａ) 米国特許3940511（ＵＳ，Ａ) 米国特許4560581（ＵＳ，Ａ) 米国特許4563612（ＵＳ，Ａ)
Claims (2)
- 【請求項１】(a)ガラス製支持体を室温より高いが50℃
以下の第１の温度に加熱する段階、 (b)リチウム安定化シリカゾルを含む水溶液で上記加熱
された支持体の表面を被覆して被膜を形成する段階、 (c)上記の被膜を乾燥させる段階、 (d)上記支持体の上記表面と上記乾燥された被膜とを、
上記被膜の光学的および物理的な特性を生じさせるには
充分であるが上記支持体を実質的に加熱するには不充分
な時間に亘って上記第１の温度より高いが65℃を超えな
い第２の温度に再加熱（スキン加熱）する段階、 (e)上記被膜を水で洗う段階、 及び (f)上記被膜を乾燥させる段階、 とを含む、防眩観察面を有する光学観察スクリーンの製
造方法。 - 【請求項２】上記の水溶液が、上記被覆に帯電防止特性
を与えるために、上記水溶液のゾル中の全固体の重量に
対して0.005乃至0.02重量％の金属を無機金属化合物の
形で含んでいることを特徴とする特許請求の範囲(1)に
記載の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/236,403 US4965096A (en) | 1988-08-25 | 1988-08-25 | Method for preparing improved lithium-silicate glare-reducing coating for a cathode-ray tube |
| US236403 | 1988-08-25 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02118601A JPH02118601A (ja) | 1990-05-02 |
| JPH0654361B2 true JPH0654361B2 (ja) | 1994-07-20 |
Family
ID=22889348
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1218412A Expired - Fee Related JPH0654361B2 (ja) | 1988-08-25 | 1989-08-24 | 防眩観察面を有する光学観察スクリーンの製造方法 |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4965096A (ja) |
| EP (1) | EP0356229B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0654361B2 (ja) |
| KR (1) | KR0125771B1 (ja) |
| CN (1) | CN1028577C (ja) |
| CA (1) | CA1332898C (ja) |
| DD (1) | DD292765A5 (ja) |
| DE (1) | DE68912240T2 (ja) |
| ES (1) | ES2049326T3 (ja) |
| PL (1) | PL161827B1 (ja) |
| RU (1) | RU2010376C1 (ja) |
Families Citing this family (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5281365A (en) * | 1990-03-13 | 1994-01-25 | Samsung Electron Devices Co., Ltd. | Antistatic coating composition for non-glaring picture displaying screen |
| US5150004A (en) * | 1990-07-27 | 1992-09-22 | Zenith Electronics Corporation | Cathode ray tube antiglare coating |
| JPH05198261A (ja) * | 1991-07-10 | 1993-08-06 | Samsung Display Devices Co Ltd | 陰極線管の製造方法 |
| DE69203056T2 (de) * | 1991-09-20 | 1995-10-19 | Hitachi Ltd | Verfahren und Vorrichtung für Herstellung einer Antireflektionsbeschichtung einer Kathodenstrahlröhre. |
| JPH05279597A (ja) * | 1992-04-01 | 1993-10-26 | Colcoat Eng Kk | 帯電防止用被覆組成物 |
| EP0602721B1 (en) * | 1992-12-17 | 1996-09-04 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Method of curing a film |
| US5404073A (en) * | 1993-11-12 | 1995-04-04 | Chunghwa Picture Tubes, Ltd. | Antiglare/antistatic coating for CRT |
| US6001486A (en) * | 1994-07-29 | 1999-12-14 | Donnelly Corporation | Transparent substrate with diffuser surface |
| US5725957A (en) * | 1994-07-29 | 1998-03-10 | Donnelly Corporation | Transparent substrate with diffuser surface |
| JPH1069866A (ja) | 1996-08-29 | 1998-03-10 | Hitachi Ltd | 陰極線管 |
| US6163109A (en) * | 1996-08-29 | 2000-12-19 | Hitachi, Ltd. | Cathode ray tube having high and low refractive index films on the outer face of the glass panel thereof |
| KR19980022934A (ko) * | 1996-09-24 | 1998-07-06 | 손욱 | 음극선관의 색감향상용 대전방지막 형성방법 |
| JPH10223160A (ja) * | 1997-02-12 | 1998-08-21 | Hitachi Ltd | カラー陰極線管 |
| EP0897898B1 (de) * | 1997-08-16 | 2004-04-28 | MERCK PATENT GmbH | Verfahren zur Abscheidung optischer Schichten |
| US7166957B2 (en) * | 2002-08-14 | 2007-01-23 | Thomson Licensing | CRT having a contrast enhancing exterior coating and method of manufacturing the same |
| EP1538659A3 (en) * | 2003-06-11 | 2005-06-29 | Fan, Szu Min | Casing structure with yellow light passing surface and its manufacture method |
| US7507438B2 (en) * | 2004-09-03 | 2009-03-24 | Donnelly Corporation | Display substrate with diffuser coating |
| JP2006305713A (ja) * | 2005-03-28 | 2006-11-09 | Nikon Corp | 吸着装置、研磨装置、半導体デバイス及び半導体デバイス製造方法 |
| US8354143B2 (en) * | 2005-05-26 | 2013-01-15 | Tpk Touch Solutions Inc. | Capacitive touch screen and method of making same |
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