JPH065507A - フォトリソ工程における現像装置 - Google Patents
フォトリソ工程における現像装置Info
- Publication number
- JPH065507A JPH065507A JP4188796A JP18879692A JPH065507A JP H065507 A JPH065507 A JP H065507A JP 4188796 A JP4188796 A JP 4188796A JP 18879692 A JP18879692 A JP 18879692A JP H065507 A JPH065507 A JP H065507A
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- JP
- Japan
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- work
- chamber
- developing
- photoresist
- waiting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 基板上に形成したフォトレジストを露光させ
て得たワークを現像する場合、現像処理中に現像液ミス
トが待機中のワークのレジスト表面に付着し、これによ
り生じるワークの不良発生をなくすものである。 【構成】 待機室１と現像処理室５とを、シャッター６
を有する隔壁を介して隣接させると共に、各室１,５内
には夫々各室内に静置されたワークａ,ａ'に吹き付ける
為の純水用ノズル４,４…と、現像液用ノズル７とを夫
々設けてなる。
て得たワークを現像する場合、現像処理中に現像液ミス
トが待機中のワークのレジスト表面に付着し、これによ
り生じるワークの不良発生をなくすものである。 【構成】 待機室１と現像処理室５とを、シャッター６
を有する隔壁を介して隣接させると共に、各室１,５内
には夫々各室内に静置されたワークａ,ａ'に吹き付ける
為の純水用ノズル４,４…と、現像液用ノズル７とを夫
々設けてなる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶ディスプレイ(Ｔ
ＦＴ−ＬＣＤ)或は半導体ウエハー等の微細加工技術で
用いられるフォトリソ工程(光露光技術)における現像装
置に関するものである。
ＦＴ−ＬＣＤ)或は半導体ウエハー等の微細加工技術で
用いられるフォトリソ工程(光露光技術)における現像装
置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、基板上に形成したフォトレジスト
の露光部について現像する装置は、図３に示すように送
入口２からローラ３,３…によってワークａを受け入
れ、予め設定したプログラムに従って一定時間待機させ
る待機室１と、該ワークａの進入路にあるシャッター６
を開いて受け入れると同時に、該ワークａを一定時間静
置し、これに現像液を吹きかける吐出ノズル７と、現像
液の劣化を防止するための窒素吐出ノズル８を備えた現
像処理室５と、シャッター６'を有する隔壁を介して設
けられ、且つ該現像処理室５にて処理されたワークａ'
の上下面を水洗する上下の吐出ノズル１１,１１'を備え
た水洗室１０と、水洗されたワークａ'の水分を除去す
る為のエアーナイフ１４,１４'を備えた乾燥室１３とか
らなる。
の露光部について現像する装置は、図３に示すように送
入口２からローラ３,３…によってワークａを受け入
れ、予め設定したプログラムに従って一定時間待機させ
る待機室１と、該ワークａの進入路にあるシャッター６
を開いて受け入れると同時に、該ワークａを一定時間静
置し、これに現像液を吹きかける吐出ノズル７と、現像
液の劣化を防止するための窒素吐出ノズル８を備えた現
像処理室５と、シャッター６'を有する隔壁を介して設
けられ、且つ該現像処理室５にて処理されたワークａ'
の上下面を水洗する上下の吐出ノズル１１,１１'を備え
た水洗室１０と、水洗されたワークａ'の水分を除去す
る為のエアーナイフ１４,１４'を備えた乾燥室１３とか
らなる。
【０００３】上記装置においては、ガラスその他の基板
表面に設けたフォトレジスト(ポジレジスト)を紫外線照
射によって所定形状に露光させたものをワークａとな
し、送入口２から待機室１内に送入する。ここで、ワー
クａは現像処理室内にある先行ワークの現像所要時間だ
け予めプログラミングしたところに従って所定時間待機
し、その後シャッター６を開いてワークを現像処理室５
内に導き、ここで該ワークを静置して吐出ノズル７から
の現像液を浴びせ、ワークのフォトレジストの露光部分
を一定時間かけて除去し、所定形状のパターニングを行
い処理済みのワークａ'を得るものである。次に前記に
おいて現像処理されたワークａ'は更にシャッター６'が
開かれると同時に水洗室１０内に送り込まれ、ここで上
下の吐出ノズル１１,１１'からリンス液(すすぎ水＝純
水)をかけて残存する現像液を洗い落して現像の進行を
速やかに停止し、完全に洗浄が終了した時点でワーク
ａ'を乾燥室１３内に送り、上下のエアーナイフ１４,１
４'によってワークａ'の表面に付着した水分を完全に飛
散させて、送出口２'からワークａ'を取り出すようにし
ている。
表面に設けたフォトレジスト(ポジレジスト)を紫外線照
射によって所定形状に露光させたものをワークａとな
し、送入口２から待機室１内に送入する。ここで、ワー
クａは現像処理室内にある先行ワークの現像所要時間だ
け予めプログラミングしたところに従って所定時間待機
し、その後シャッター６を開いてワークを現像処理室５
内に導き、ここで該ワークを静置して吐出ノズル７から
の現像液を浴びせ、ワークのフォトレジストの露光部分
を一定時間かけて除去し、所定形状のパターニングを行
い処理済みのワークａ'を得るものである。次に前記に
おいて現像処理されたワークａ'は更にシャッター６'が
開かれると同時に水洗室１０内に送り込まれ、ここで上
下の吐出ノズル１１,１１'からリンス液(すすぎ水＝純
水)をかけて残存する現像液を洗い落して現像の進行を
速やかに停止し、完全に洗浄が終了した時点でワーク
ａ'を乾燥室１３内に送り、上下のエアーナイフ１４,１
４'によってワークａ'の表面に付着した水分を完全に飛
散させて、送出口２'からワークａ'を取り出すようにし
ている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし上記従来の装置
においては、ワークが待機室１から現像処理室５内へ進
入する部分に間仕切りとしてシャッター６が設けられて
いて、待機室１内で次に供給されるワークａが待機中で
あっても隣室の現像室５内においては先行のワークにつ
いて現像処理がなされている為、その際に生じる現像液
ミストがシャッター６の僅少間隙を経て待機室１内に浸
入して待機中のワークのフォトレジストｃに図４のよう
に直接結露ｅを生じる。この時の現像液ミストは現像処
理室内で吐出ノズル７から吐出している現像液より高い
濃度に濃縮された状態となってミスト化している為に、
フォトレジストの露光した部分或は露光されてない部分
の何れを問わず結露した部分のフォトレジストの膜ｃを
溶解し、その状態で現像処理室５内で現像されるので、
水洗及び乾燥して取出されたワークの状態は図５のよう
に、基板ｂ上に形成した所定形状のパターンのうち正常
なパターン状のフォトレジストｃのみでなく断線部ｃ'
や欠損部ｃ"をもった欠陥パターンが形成され不良ワー
クとなる。そこで、本発明装置は現像処理中にパターン
に上記欠陥を生じないようにした装置を提供しようとす
るものである。
においては、ワークが待機室１から現像処理室５内へ進
入する部分に間仕切りとしてシャッター６が設けられて
いて、待機室１内で次に供給されるワークａが待機中で
あっても隣室の現像室５内においては先行のワークにつ
いて現像処理がなされている為、その際に生じる現像液
ミストがシャッター６の僅少間隙を経て待機室１内に浸
入して待機中のワークのフォトレジストｃに図４のよう
に直接結露ｅを生じる。この時の現像液ミストは現像処
理室内で吐出ノズル７から吐出している現像液より高い
濃度に濃縮された状態となってミスト化している為に、
フォトレジストの露光した部分或は露光されてない部分
の何れを問わず結露した部分のフォトレジストの膜ｃを
溶解し、その状態で現像処理室５内で現像されるので、
水洗及び乾燥して取出されたワークの状態は図５のよう
に、基板ｂ上に形成した所定形状のパターンのうち正常
なパターン状のフォトレジストｃのみでなく断線部ｃ'
や欠損部ｃ"をもった欠陥パターンが形成され不良ワー
クとなる。そこで、本発明装置は現像処理中にパターン
に上記欠陥を生じないようにした装置を提供しようとす
るものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】基板上にフォトレジスト
膜を設け、露光処理を施したワークを受け入れて時間待
ちする待機室と、該ワークの露光部分を現像する処理室
等からなる現像装置において、前記待機室内に待機中の
ワークにたいして純水を吹き付ける吐出ノズルを設けて
なる。
膜を設け、露光処理を施したワークを受け入れて時間待
ちする待機室と、該ワークの露光部分を現像する処理室
等からなる現像装置において、前記待機室内に待機中の
ワークにたいして純水を吹き付ける吐出ノズルを設けて
なる。
【０００６】
【作用】待機室内で待機中のワークのフォトレジスト表
面を純水にて湿潤させておくことにより、該フォトレジ
スト表面上に純水の薄い膜が形成され、隣室の現像処理
室から浸入して来る現像液ミストは、この純水薄膜上に
かかることになり、フォトレジストとの直接接触が妨げ
られ、現像液ミストによるフォトレジストの浸蝕を防止
する。
面を純水にて湿潤させておくことにより、該フォトレジ
スト表面上に純水の薄い膜が形成され、隣室の現像処理
室から浸入して来る現像液ミストは、この純水薄膜上に
かかることになり、フォトレジストとの直接接触が妨げ
られ、現像液ミストによるフォトレジストの浸蝕を防止
する。
【０００７】
【実施例】以下本発明について図面に示す実施例により
詳細に説明すると、本発明の最も要旨とする処は、図１
に示すように挿入口２からローラ３,３…によって送り
込まれるワークａを予めコンピュータのメモリー回路で
プログラミングした時間だけ待機させるようにした待機
室１内に、該ワークａのフォトレジスト面に純水を吹き
付ける吐出ノズル４,４…を設けた点である。このよう
に構成された待機室１の側部に隣接して現像処理室５を
設け、該現像処理室５と前記待機室１との隔壁部のワー
ク進入路にはシャッター６を設けて両室を互いに遮断す
るようにしており、現像処理室内には送り込まれたワー
クに現像液を吹き付けるための吐出ノズル７と現像液の
劣化を防止するための窒素吐出ノズル８とを備え下方
に、排液管９を設けている。又、該現像処理室５の他側
には前記同様にワークの進路にシャッター６'を設けた
隔壁を介して水洗室１０を設置し、その内部にはワーク
の上下両面を同時に水洗する純水即ちリンス液を吐出す
る為の吐出ノズル１１,１１'を備え、該室下部に排水管
１２を設け、更に、該水洗室１０の側部に隔壁を介して
乾燥室１３を設け、その内部に送り込まれて来たワーク
の上下両面の水分を除去するエアーカッタ１４,１４'を
設置し、他方の側壁に設けた送出口２'から順次処理済
ワークを取り出すように構成している。
詳細に説明すると、本発明の最も要旨とする処は、図１
に示すように挿入口２からローラ３,３…によって送り
込まれるワークａを予めコンピュータのメモリー回路で
プログラミングした時間だけ待機させるようにした待機
室１内に、該ワークａのフォトレジスト面に純水を吹き
付ける吐出ノズル４,４…を設けた点である。このよう
に構成された待機室１の側部に隣接して現像処理室５を
設け、該現像処理室５と前記待機室１との隔壁部のワー
ク進入路にはシャッター６を設けて両室を互いに遮断す
るようにしており、現像処理室内には送り込まれたワー
クに現像液を吹き付けるための吐出ノズル７と現像液の
劣化を防止するための窒素吐出ノズル８とを備え下方
に、排液管９を設けている。又、該現像処理室５の他側
には前記同様にワークの進路にシャッター６'を設けた
隔壁を介して水洗室１０を設置し、その内部にはワーク
の上下両面を同時に水洗する純水即ちリンス液を吐出す
る為の吐出ノズル１１,１１'を備え、該室下部に排水管
１２を設け、更に、該水洗室１０の側部に隔壁を介して
乾燥室１３を設け、その内部に送り込まれて来たワーク
の上下両面の水分を除去するエアーカッタ１４,１４'を
設置し、他方の側壁に設けた送出口２'から順次処理済
ワークを取り出すように構成している。
【０００８】次に本発明の一連動作について述べると、
先ず待機室１の送入口２へ供給されるワークａは、ガラ
スその他の基板ｂ上に前記従来例でも述べたように、こ
こではポジタイプのフォトレジストｃを施したものを例
示し、該フォトレジストｃに紫外線照射によって所定形
状に露光させたものをワークａとなし、送入口２から待
機室１内に送り込まれるものとする。この時待機室１内
には吐出ノズル４,４…から純水が噴出しており、常に
待機中にあるワークａの表面に純水膜を形成していて、
前記ワークａは現像処理室５内にある先行ワークの現像
処理所要時間だけ予めプログラミングした所の時間だけ
待機室１内において待機し、その後現像処理が終了した
時点でシャッター６は開かれ待機中にあったワークａを
現像処理室５内へ導く、この時先行ワークの現像処理の
際に生じて現像処理室内に充満している現像液ミストが
待機室１内に流れ込んで未だ待機中にあるワークａの表
面に付着しようとする。しかし待機中のワークａの表面
は吐出ノズル４,４…からの純水によって常に水膜(１〜
１０μm)によって掩われているために現像液ミストの結
露ｅを生じても図２に示すように水膜ｄ上に載った状態
となり、しかも水膜によって希釈されると共に、該水膜
ｄが吐出ノズル４から吐出する純水の連結供給によって
流動している為忽ち流失し、フォトレジストｃの面を保
護し乍ら現像処理室５内へ送り込まれる。
先ず待機室１の送入口２へ供給されるワークａは、ガラ
スその他の基板ｂ上に前記従来例でも述べたように、こ
こではポジタイプのフォトレジストｃを施したものを例
示し、該フォトレジストｃに紫外線照射によって所定形
状に露光させたものをワークａとなし、送入口２から待
機室１内に送り込まれるものとする。この時待機室１内
には吐出ノズル４,４…から純水が噴出しており、常に
待機中にあるワークａの表面に純水膜を形成していて、
前記ワークａは現像処理室５内にある先行ワークの現像
処理所要時間だけ予めプログラミングした所の時間だけ
待機室１内において待機し、その後現像処理が終了した
時点でシャッター６は開かれ待機中にあったワークａを
現像処理室５内へ導く、この時先行ワークの現像処理の
際に生じて現像処理室内に充満している現像液ミストが
待機室１内に流れ込んで未だ待機中にあるワークａの表
面に付着しようとする。しかし待機中のワークａの表面
は吐出ノズル４,４…からの純水によって常に水膜(１〜
１０μm)によって掩われているために現像液ミストの結
露ｅを生じても図２に示すように水膜ｄ上に載った状態
となり、しかも水膜によって希釈されると共に、該水膜
ｄが吐出ノズル４から吐出する純水の連結供給によって
流動している為忽ち流失し、フォトレジストｃの面を保
護し乍ら現像処理室５内へ送り込まれる。
【０００９】そこでワークは予め設定した現像処理所要
時間だけ静止状態に保持され、ノズル７から噴出する現
像液によりフォトレジストの面は露光された形に従って
パターニングが進行し、処理室５内の液は排液管９を経
て他方で集められ精製して再利用に供され、処理が終了
した処理済ワークａ'は次の水洗室１０へ送られる。そ
こで前記水洗室１０内においては上下のリンス液(すす
ぎ用の純水)を各吐出ノズル１１,１１'から処理済みワ
ークａ'に向かって吹き付けることにより速やかに現像
液を洗い落として現像の進行を停止させ、使用済の水は
下部の排水管１２によって集められ再利用される。
時間だけ静止状態に保持され、ノズル７から噴出する現
像液によりフォトレジストの面は露光された形に従って
パターニングが進行し、処理室５内の液は排液管９を経
て他方で集められ精製して再利用に供され、処理が終了
した処理済ワークａ'は次の水洗室１０へ送られる。そ
こで前記水洗室１０内においては上下のリンス液(すす
ぎ用の純水)を各吐出ノズル１１,１１'から処理済みワ
ークａ'に向かって吹き付けることにより速やかに現像
液を洗い落として現像の進行を停止させ、使用済の水は
下部の排水管１２によって集められ再利用される。
【００１０】水洗が終了したワークａ'は乾燥室１３に
送られ、ここでエアーナイフ１４,１４'によって該ワー
クａ'の両面に付着水分を完全に水切りして完成品とし
て該乾燥室１３の送出口２'から送り出され総べての一
連動作は終了する。
送られ、ここでエアーナイフ１４,１４'によって該ワー
クａ'の両面に付着水分を完全に水切りして完成品とし
て該乾燥室１３の送出口２'から送り出され総べての一
連動作は終了する。
【００１１】
【発明の効果】本発明は上述のように構成されているの
で待機中に隣接する現像処理室からの現像液ミストは水
膜によって遮ぎられるからワークａのフォトレジストは
現像処理前に浸蝕されることがなくなり高品質のパター
ニング処理ができ、著しく製品歩留まりが向上する。
又、例え現像液が水膜を介して間接的にフォトレジスト
の面に接触したとしても現像液は水膜によって著しく希
釈されるから殆ど影響はない。
で待機中に隣接する現像処理室からの現像液ミストは水
膜によって遮ぎられるからワークａのフォトレジストは
現像処理前に浸蝕されることがなくなり高品質のパター
ニング処理ができ、著しく製品歩留まりが向上する。
又、例え現像液が水膜を介して間接的にフォトレジスト
の面に接触したとしても現像液は水膜によって著しく希
釈されるから殆ど影響はない。
【図１】本発明装置の概要を示す縦断側面図である。
【図２】同上装置により現像される時のワークの状態を
示す側面略図である。
示す側面略図である。
【図３】従来例の装置における縦断側面図である。
【図４】同上装置により現像される時のワークの状態を
示す側面略図である。
示す側面略図である。
【図５】図３によるワークの欠陥例を示す平面図であ
る。
る。
１ 待機室 ５ 現像処理室 ６ シャッター ７ 現像液用吐出ノズル ａ ワーク
Claims (1)
- 【請求項１】 ワークの待機室と、該待機室から送り込
まれるワークの現像処理室等からなる現像装置におい
て、前記待機室内にワーク上に設けた露光済フォトレジ
スト表面に純水を吹き付ける吐出ノズルを設けたことを
特徴とするフォトリソ工程における現像装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4188796A JPH065507A (ja) | 1992-06-22 | 1992-06-22 | フォトリソ工程における現像装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4188796A JPH065507A (ja) | 1992-06-22 | 1992-06-22 | フォトリソ工程における現像装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH065507A true JPH065507A (ja) | 1994-01-14 |
Family
ID=16229955
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4188796A Pending JPH065507A (ja) | 1992-06-22 | 1992-06-22 | フォトリソ工程における現像装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH065507A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04335645A (ja) * | 1991-05-13 | 1992-11-24 | Kyodo Printing Co Ltd | フォトレジストの現像方法および現像装置 |
-
1992
- 1992-06-22 JP JP4188796A patent/JPH065507A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04335645A (ja) * | 1991-05-13 | 1992-11-24 | Kyodo Printing Co Ltd | フォトレジストの現像方法および現像装置 |
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