JPH0655731B2 - スチレンオキサイドの製造方法 - Google Patents
スチレンオキサイドの製造方法Info
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- JPH0655731B2 JPH0655731B2 JP60271353A JP27135385A JPH0655731B2 JP H0655731 B2 JPH0655731 B2 JP H0655731B2 JP 60271353 A JP60271353 A JP 60271353A JP 27135385 A JP27135385 A JP 27135385A JP H0655731 B2 JPH0655731 B2 JP H0655731B2
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Landscapes
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Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はスチレンオキサイドの製法に関する。
さらに詳しくは、本発明はスチレンと有機過酸とを反応
させてスチレンオキサイドを製造する際、ラジカル捕集
剤を一定量添加することにより目的生成物であるスチレ
ンオキサイドの選択率を向上させる方法に関するもので
ある。
させてスチレンオキサイドを製造する際、ラジカル捕集
剤を一定量添加することにより目的生成物であるスチレ
ンオキサイドの選択率を向上させる方法に関するもので
ある。
スチレンオキサイドは、高分子安定剤、紫外線吸収剤、
医薬などの合成原料、あるいは溶剤の安定剤として有用
であるばかりでなく、スチレンオキサイドは還元すると
フェニルエチルアルコールとなり、異性化するとフェニ
ルアセトアルデヒドとなる化合物であって、合成香料、
甘味料の中間体として甚だ重要な物質である。
医薬などの合成原料、あるいは溶剤の安定剤として有用
であるばかりでなく、スチレンオキサイドは還元すると
フェニルエチルアルコールとなり、異性化するとフェニ
ルアセトアルデヒドとなる化合物であって、合成香料、
甘味料の中間体として甚だ重要な物質である。
(従来技術) 従来からリン含有酸エステルの存在下にスチレンを有機
過酸により酸化してスチレンオキサイドを製造する方法
はたとえば,特開昭55−149271号公報に記載さ
れているように公知であった。
過酸により酸化してスチレンオキサイドを製造する方法
はたとえば,特開昭55−149271号公報に記載さ
れているように公知であった。
(発明が解決しようとする問題点) スチレンを有機過酸により酸化する反応中に有機過酸が
ラジカル分解して生成するラジカルのスチレンへの付加
反応が起こり、そのために、スチレンに対するスチレン
オキサイドの選択率が低下するという欠点があった。
ラジカル分解して生成するラジカルのスチレンへの付加
反応が起こり、そのために、スチレンに対するスチレン
オキサイドの選択率が低下するという欠点があった。
有機過酸のラジカル分解は、過酢酸を例にとると、CH
3COOOH→CH3COO・+・OH→CH3・+C
O2+・OH となり、生成したラジカルが以下の反応式のようにスチ
レンに付加して1−フェニルプロパノールとなる。これ
が生成すると目的生成物であるスチレンオキサイドの選
択率が低下する。
3COOOH→CH3COO・+・OH→CH3・+C
O2+・OH となり、生成したラジカルが以下の反応式のようにスチ
レンに付加して1−フェニルプロパノールとなる。これ
が生成すると目的生成物であるスチレンオキサイドの選
択率が低下する。
本発明者らは、この欠点を改善するために鋭意検討した
結果、ラジカル捕集剤としてハイドロキノン、ジ−t−
ブチルヒドロキシトルエン、カテコール、p−t−ブチ
ルカテコール、ハイドロキノンモノメチルエーテルのう
ちの少なくとも1種を添加してこの反応を行ったとこ
ろ、ラジカルのスチレンへの付加反応が抑制され、高収
率でスチレンオキサイドが得られることを見出し、本発
明に到達した。
結果、ラジカル捕集剤としてハイドロキノン、ジ−t−
ブチルヒドロキシトルエン、カテコール、p−t−ブチ
ルカテコール、ハイドロキノンモノメチルエーテルのう
ちの少なくとも1種を添加してこの反応を行ったとこ
ろ、ラジカルのスチレンへの付加反応が抑制され、高収
率でスチレンオキサイドが得られることを見出し、本発
明に到達した。
(発明の構成) 本発明は、リン含有酸エステルおよびラジカル捕集剤と
の共存下、スチレンを有機過酸により酸化することを特
徴とする収率の改善されたスチレンオキサイドの製造方
法に関するものである。
の共存下、スチレンを有機過酸により酸化することを特
徴とする収率の改善されたスチレンオキサイドの製造方
法に関するものである。
本発明の方法に使用する出発原料は、スチレンと有機過
酸であり、有機過酸としては過蟻酸、過酢酸、過プロピ
オン酸、過安息香酸などがあげられる。
酸であり、有機過酸としては過蟻酸、過酢酸、過プロピ
オン酸、過安息香酸などがあげられる。
前記したようなラジカル捕集剤はいづれも固体の結晶で
あり、添加は、あらかじめ、原料スチレンに溶解してお
くか、あるいは、溶媒に溶解して、スチレンと混合いて
おき、有機過酸を滴下することにより行なう。
あり、添加は、あらかじめ、原料スチレンに溶解してお
くか、あるいは、溶媒に溶解して、スチレンと混合いて
おき、有機過酸を滴下することにより行なう。
ラジカル捕集剤の添加量は、出発原料混合液に対して20
0〜1,200ppm.添加することが必須であり、特に300〜800
ppm.が好ましい。
0〜1,200ppm.添加することが必須であり、特に300〜800
ppm.が好ましい。
第1図にラジカル捕集剤の添加量とスチレンオキサイド
選択率の関係を示す。
選択率の関係を示す。
第1図は用いたラジカル捕集剤がハイドロキノンの場合
である。
である。
第1図から明らかなようにラジカル捕集剤の添加量を増
加させていくとスチレンオキサイドの選択率は添加量40
0ppm.程度までは添加量に比例して向上していくが、そ
れ以上は殆んど変動しないことがわかる。
加させていくとスチレンオキサイドの選択率は添加量40
0ppm.程度までは添加量に比例して向上していくが、そ
れ以上は殆んど変動しないことがわかる。
1,200ppm.以上添加しても、反応には悪影響はないが、
ラジカル捕集剤の無駄となる。
ラジカル捕集剤の無駄となる。
リン含有酸エステルとしては、ジオクチル−2水素−ピ
ロリン酸エステルおよび式Na5R5(P3O10)
2(Rは2−エチル−ヘキシル基である。)等が好まし
い。
ロリン酸エステルおよび式Na5R5(P3O10)
2(Rは2−エチル−ヘキシル基である。)等が好まし
い。
この反応は無溶媒でも、また溶媒中でも進行するが、特
に溶媒中で反応させるのが望ましい。
に溶媒中で反応させるのが望ましい。
溶媒は反応に不活性なものなら特に制限はないが、特に
酢酸エチルが好ましい。
酢酸エチルが好ましい。
反応温度は、20〜60℃が適当であり、特に30〜50℃が好
ましい。
ましい。
反応圧力は大気圧下で十分であるが、やや減圧または加
圧にしてもさしつかえない。
圧にしてもさしつかえない。
スチレンと有機過酸の反応モル比は、1.0〜2.0が適当で
あり、特に1.1〜1.3が好ましい。
あり、特に1.1〜1.3が好ましい。
反応時間は、反応温度、有機過酸の種類によっても変る
が、通常5〜7時間程度である。
が、通常5〜7時間程度である。
本発明の方法によって得られる反応生成液中には、目的
物であるスチレンオキサイドの他に、副生成物である1
−フェニルプロパノール、スチレングリコールアセテー
ト、使用した有機過酸に起因する有機酸、溶媒などが含
まれているので、例えば蒸溜、抽出などの公知の処理手
段によって、スチレンオキサイドを分離、取得する。
物であるスチレンオキサイドの他に、副生成物である1
−フェニルプロパノール、スチレングリコールアセテー
ト、使用した有機過酸に起因する有機酸、溶媒などが含
まれているので、例えば蒸溜、抽出などの公知の処理手
段によって、スチレンオキサイドを分離、取得する。
(発明の効果) 本発明の効果を実施例および比較例を用いて次に示す。
なお、転化率および選択率はそれぞれ次式よって算出し
た。
た。
実施例1 滴下漏斗、温度計、攪拌機および還流冷却器を備えた内
容300mのSUS−316製四つ口丸底フラスコに、
スチレン47.0g(0.45モル),酢酸エチル57g,式Na
5R5(P3O10)2(Rは2−エチルヘキシル基であ
る。)で表わされるリン酸有機エステル「2−エチルヘ
キシル三リン酸ナトリウム20%、酢酸60%および酢酸エ
チル20%からなる混合物」(大ハ化学(株)製)1.0
g,およびハイドロキノン0.2gをそれぞれ仕込み、窒
素気流中、40℃で過酢酸42.8g(0.56モル)を約30重量
%の酢酸エチル溶液として10分間で加えた。
容300mのSUS−316製四つ口丸底フラスコに、
スチレン47.0g(0.45モル),酢酸エチル57g,式Na
5R5(P3O10)2(Rは2−エチルヘキシル基であ
る。)で表わされるリン酸有機エステル「2−エチルヘ
キシル三リン酸ナトリウム20%、酢酸60%および酢酸エ
チル20%からなる混合物」(大ハ化学(株)製)1.0
g,およびハイドロキノン0.2gをそれぞれ仕込み、窒
素気流中、40℃で過酢酸42.8g(0.56モル)を約30重量
%の酢酸エチル溶液として10分間で加えた。
40℃で5時間熟成後、反応生成液を冷却し、ヨウ素滴定
法により過酢酸の分解率を求め、未反応の出発原料およ
び反応生成物をガスクロマトグラフィーにより定量し
た。
法により過酢酸の分解率を求め、未反応の出発原料およ
び反応生成物をガスクロマトグラフィーにより定量し
た。
その結果、スチレンの転化率は93.7%であり、スチレン
オキサイドの収量は0.38モル(選択率I91.0%)、1−
フェニルプロパノールの副生量は0.0047モル(選択率II
1.1%)であった。
オキサイドの収量は0.38モル(選択率I91.0%)、1−
フェニルプロパノールの副生量は0.0047モル(選択率II
1.1%)であった。
実施例2.〜5. 実施例1.におけるハイドロキノンのかわりにジ−t−
ブチルヒドロキシトルエン(実施例2.)、カテコール
(実施例3.)、p−t−ブチルカテコール(実施例
4.),およびハイドロキノンモノメチルエーテル(実
施例5.)をそれぞれ用いた他は、実施例1.と同様に
実施した。
ブチルヒドロキシトルエン(実施例2.)、カテコール
(実施例3.)、p−t−ブチルカテコール(実施例
4.),およびハイドロキノンモノメチルエーテル(実
施例5.)をそれぞれ用いた他は、実施例1.と同様に
実施した。
その結果を第1表に示す。
比較例 実施例1.におけるハイドロキノンを添加しない他は、
実施例1.と同様に実施した。
実施例1.と同様に実施した。
その結果を併せて第1表に示す。
実施例6. 実施例1.と同様にスチレン47.0g(0.45モル)、酢酸
エチル57g,「2−エチルヘキシル三リン酸ナトリウム
20%、酢酸60%および酢酸エチル20%からなる混合物」
0.5gおよびハイドロキノン0.1gをそれぞれ仕込み、窒
素気流中、40℃で過酢酸42.8g(0.56モル)を約30重量
%の酢酸エチル溶液として10分間で加え、5時間熟成
後、定量した。
エチル57g,「2−エチルヘキシル三リン酸ナトリウム
20%、酢酸60%および酢酸エチル20%からなる混合物」
0.5gおよびハイドロキノン0.1gをそれぞれ仕込み、窒
素気流中、40℃で過酢酸42.8g(0.56モル)を約30重量
%の酢酸エチル溶液として10分間で加え、5時間熟成
後、定量した。
その結果、スチレンの転化率は96.2%であり、スチレン
オキサイドの収量は、0.39モル(選択率I90.3%),1
−フェニルプロパノールの副生量は、0.0113モル(選択
率II 2.61%)であった。
オキサイドの収量は、0.39モル(選択率I90.3%),1
−フェニルプロパノールの副生量は、0.0113モル(選択
率II 2.61%)であった。
実施例7. 実施例6.においてハイドロキノンのかわりにジ−t−
ブチルヒドロキシトルエンを用いた他は、実施例6.と
同様に実施した。
ブチルヒドロキシトルエンを用いた他は、実施例6.と
同様に実施した。
その結果、スチレンの転化率は96.6%であり、スチレン
オキサイド の収量は0.39モル(選択率I90.0%),1−フェニルプ
ロパノールの副生量は、0.0115モル(選択率2.65%)で
あった。
オキサイド の収量は0.39モル(選択率I90.0%),1−フェニルプ
ロパノールの副生量は、0.0115モル(選択率2.65%)で
あった。
【図面の簡単な説明】 第1図はスチレン転化率が95%の時の本発明に用いるラ
ジカル捕集剤の量とスチレンオキサイドの選択率の関係
を示した図である。 縦軸は、スチレンオキサイドの選択率I(%)、横軸は
ラジカル捕集剤の添加量(ppm)を示す。
ジカル捕集剤の量とスチレンオキサイドの選択率の関係
を示した図である。 縦軸は、スチレンオキサイドの選択率I(%)、横軸は
ラジカル捕集剤の添加量(ppm)を示す。
Claims (1)
- 【請求項1】出発原料に対して200〜1200ppmのハイドロ
キノン、ジ−t−ブチルヒドロキシトルエン、カテコー
ル、p−t−ブチルカテコール、ハイドロキノンモノメ
チルエーテルのうちの少なくとも1種とリン含有酸エス
テルの存在下に、スチレンを過酸により酸化することを
特徴とするスチレンオキサイドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60271353A JPH0655731B2 (ja) | 1985-12-04 | 1985-12-04 | スチレンオキサイドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60271353A JPH0655731B2 (ja) | 1985-12-04 | 1985-12-04 | スチレンオキサイドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62132877A JPS62132877A (ja) | 1987-06-16 |
| JPH0655731B2 true JPH0655731B2 (ja) | 1994-07-27 |
Family
ID=17498882
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60271353A Expired - Lifetime JPH0655731B2 (ja) | 1985-12-04 | 1985-12-04 | スチレンオキサイドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0655731B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2951989B2 (ja) * | 1990-02-15 | 1999-09-20 | ダイセル化学工業株式会社 | 水酸基を有するエポキシ化合物の製造方法 |
| US5344946A (en) * | 1991-04-09 | 1994-09-06 | Solvay Interox Gmbh | Process for the preparation of vicinal diols and/or epoxides |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55149271A (en) * | 1979-05-10 | 1980-11-20 | Daicel Chem Ind Ltd | Preparation of styrene oxide |
-
1985
- 1985-12-04 JP JP60271353A patent/JPH0655731B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62132877A (ja) | 1987-06-16 |
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