JPH0655733B2

JPH0655733B2 - エチレンオキシドの回収方法

Info

Publication number: JPH0655733B2
Application number: JP60152436A
Authority: JP
Inventors: 行彦柿本; 宣明梶本; 勇木口
Original assignee: Nippon Shokubai Co Ltd
Current assignee: Nippon Shokubai Co Ltd
Priority date: 1985-07-12
Filing date: 1985-07-12
Publication date: 1994-07-27
Anticipated expiration: 2009-07-27
Also published as: JPS6216472A

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は、エチレンを銀触媒の存在下、分子状酸素含有
ガスにより接触気相酸化して得られるエチレンオキシド
を回収する方法に関するものである。さらに詳しくは、
エチレンを銀触媒の存在下、分子状酸素含有ガスにより
接触気相酸化して得られるエチレンオキシドを含む反応
生成ガスをエチレンオキシド吸収塔へ導き吸収液に吸収
させてエチレンオキシドを回収し、ついでエチレンオキ
シドを含む吸収液をエチレンオキシド放散塔へ送り加熱
によりエチレンオキシド放散塔頂よりエチレンオキシド
を放散しエチレンオキシド放散塔底部より抜き出した液
の一部はエチレンオキシド吸収塔へ導き吸収液として循
環使用する工程において、エチレンオキシド放散塔底部
からヒートポンプを用いて熱回収を行い熱回収により発
生した低圧蒸気を他の加熱源、例えばエチレンオキシド
精留塔の熱源として利用するエチレンオキシドの回収方
法に関するものである。

（従来の技術）エチレンオキシドを回収する工程において、反応生成ガ
スを水を主とする吸収液に吸収させエチレンオキシド水
溶液として回収し、この水溶液からエチレンオキシドを
放散せしめてエチレンオキシドを得ている。エチレンオ
キシドは一般につぎのようにして回収される。エチレン
と分子状酸素含有ガスとを銀触媒上で接触気相酸化して
生成するエチレンオキシドを含む反応生成ガスをエチレ
ンオキシド吸収塔へ導びき水を主とする吸収液と向流接
触させエチレンオキシド水溶液として回収し、ついでエ
チレンオキシド放散塔へ送りエチレンオキシド放散塔底
部を加熱用蒸気で加熱することによってエチレンオキシ
ドを水溶液から放散させ、エチレンオキシド放散塔底部
より抜き出された実質的にエチレンオキシドを含まない
水溶液は吸収液として循環使用し、エチレンオキシド放
散塔頂部より放散されるエチレンオキシド、水、二酸化
炭素、不活性ガス（窒素、アルゴン、メタン、エタ
ン、）の他ホルムアルデヒド等の低沸点不純物およびア
セトアルデヒド、酢酸等の高沸点不純物を含む放散物を
脱水工程、軽質分分離工程および重質分分離工程の各々
を経て精製しエチレンオキシドを製造することができ
る。

（発明が解決しようとする問題点）しかしながら、このようなエチレンオキシドの回収方法
は、エチレンオキシド放散塔底部より抜き出された液が
有する熱エネルギーを回収する点については十分でな
く、大量の熱量が系外に廃棄されるという問題があっ
た。従来の方法は１００〜１３０℃のエチレンオキシド
放散塔底液をエチレンオキシド吸収塔底液と熱交換さ
せ、熱量の回収をなった後冷却してエチレンオキシド吸
収塔の吸収液としていた。本発明はこれらのエチレンオ
キシド回収工程における省エネルギーについて研究した
結果エチレンオキシド放散塔底液の有するエネルギーの
有効利用に着眼し本発明を完成した。

（問題点を解決するための手段）エチレンを銀触媒の存在下、分子状酸素含有ガスと接触
気相酸化して生成したエチレンオキシドを含有する反応
生成ガスをエチレンオキシド吸収塔へ導入し吸収液と向
流接触させ、エチレンオキシド吸収塔頂部よりのガスは
炭酸ガス吸収工程および／またはエチレン酸化反応工程
へ循環し、エチレンオキシドを含むエチレンオキシド吸
収塔底液はエチレンオキシド放散塔へ供給し、エチレン
オキシド放散塔頂部からエチレンオキシドを放散せし
め、エチレンオキシド放散塔底部より抜き出した液はエ
チレンオキシド吸収塔へ導き吸収液として循環使用し、
放散塔底部より抜き出した液の一部はその液に含まれる
エチレングリコールを濃縮するため副生エチレングリコ
ール濃縮塔へ送る工程において、エチレンオキシド放散
塔底部より抜き出した液を熱交換器にてエチレンオキシ
ド吸収塔底液と熱交換した後、ヒートポンプを用いて吸
収液の持つ熱エネルギーを回収し、水蒸気を発生させ、
ヒートポンプにより冷却された吸収液をさらに冷却器に
て冷却した後、エチレンオキシド吸収塔の吸収液とする
ことを特徴とするエチレンオキシドの回収方法に関する
ものである。

本発明においてエチレンオキシド吸収塔へ供給される吸
収液の温度は５〜４０℃、好ましくは１〜３５℃であ
り、吸収液の組成はpHが５〜１２、好ましくは６〜１
１、エチレングリコール濃度が１〜４０重量％、好まし
くは５〜３０重量％、消泡剤濃度が０．１ppm以上、好
ましくは１〜１００ppm、残り水の範囲に制御される。
吸収液中のエチレングリコール濃度を一定に保持するた
めに、エチレンオキシド吸収塔とエチレンオキシド放散
塔とを循環する吸収液の一部をエチレンオキシド放散塔
底部から抜き出し副生エチレングリコール濃縮塔へ送
り、必要により新鮮な水を導入して制御される。pHの調
節は、たとえばカリウム、ナトリウムのようなアルカリ
金属の水酸化物や炭酸塩等の吸収液に溶解する化合物を
添加することにより行うのが好ましく、添加剤は具体的
には水酸化カリウムまたは水酸化ナトリウムが好まし
い。

消泡剤は、エチレンオキシド、副生エチレングリコール
等に不活性であり、吸収液の消泡効果を有するものであ
ればいかなる消泡剤でも使用でき、代表的な例としては
水溶性シリコンエマルジョンが吸収液への分散性、希釈
安定性、熱安定性が優れているので効果的である。

エチレンオキシド吸収塔の操作条件は、反応生成ガス中
のエチレンオキシド濃度が０．５〜５容量％、好ましく
は１．０〜４容量％であり、エチレンオキシド吸収塔の
操作圧は２〜４０kg／cm²Ｇ、好ましくは１０〜３０kg
／cm²Ｇである。エチレンオキシド放散塔の操作条件
は、エチレンオキシド放散塔頂圧力０．１〜１kg／cm²
Ｇ、好ましくは０．３〜０．６kg／cm²Ｇ、エチレンオ
キシド放散塔頂温度８５〜１１０℃、エチレンオキシド
放散塔底温度１１０〜１３０℃、エチレンオキシド放散
塔底エチレンオキシド濃度は１０ppm以下、好ましくは
０．５ppm以下である。

本発明のヒートポンプは、エチレンを銀触媒の存在下、
分子状酸素含有ガスと接触気相酸化して生成したエチレ
ンオキシドを含有する反応生成ガスをエチレンオキシド
吸収塔へ導入し吸収液と向流接触させ、エチレンオキシ
ド吸収塔頂部よりのガス一部はエチレン酸化反応工程へ
循環し、エチレンオキシドを含むエチレンオキシド吸収
塔底液はエチレンオキシド放散塔へ供給し、エチレンオ
キシド放散塔頂部からエチレンオキシドを放散せしめ、
エチレンオキシド放散塔底部より抜き出した液は熱交換
器にてエチレンオキシド吸収塔底液と熱交換した後、冷
却器にて冷却した後、エチレンオキシド吸収塔へ導き吸
収液として循環使用し、残部はその液に含まれるエチレ
ングリコールを濃縮するため副生エチレングリコール濃
縮塔へ送る工程において、エチレンオキシド放散塔底部
より抜き出した液は熱交換器にてエチレンオキシド吸収
塔底液と熱交換した後、冷却器に導く間に設置される。

本発明に用いるヒートポンプの作動流体としての冷媒
は、ヒートポンプのプロセスで蒸発疑縮を繰り返して循
環使用されるためその選択に当っては熱力学的性質のほ
かに熱的及び化学的に安定であること及び取り扱い上か
らは臭気、毒性、および爆発性を有しないことが要求さ
れる。本発明で使用できる冷媒としてはＲ−１１、Ｒ−
１２、Ｒ−２２、Ｒ−１１３及びＲ−１１４等のフッ化
炭化水素及びプロパン、ペンタン等の炭化水素類等が挙
げられるが、ヒートポンプ作動温度条件を考慮するとＲ
−１２、Ｒ−１１４がもっとも適している。

本発明のヒートポンプの操作条件としてはエチレンオキ
シド放散塔底部から出てエチレンオキシド吸収塔底液と
熱交換器により熱回収されたエチレンオキシドを実質的
に含まないエチレンオキシド放散塔底液が５０〜６０℃
の温度で冷媒の蒸発器へ入り冷媒を蒸発させ、その結果
エチレンオキシド放散塔底液の温度が５〜２０℃低下
し、冷媒蒸発器を出た後冷却されエチレンオキシド吸収
液としてエチレンオキシド吸収塔に導入される。

エチレンオキシド放散塔底液により冷媒蒸発器で蒸発し
た冷媒は遠心式又はスクリュウ式又は往復動式圧縮機に
より冷媒の飽和温度が８０〜１００℃を有する圧力に迄
圧縮される。昇圧された冷媒は下記の２つの方法により
熱を外部に与え凝縮してポンプにより冷媒蒸発器に送ら
れ循環使用される。

(1)他の精留塔例えばエチレンオキシド精留塔（塔底温
度５０〜７０℃）のリイボラーへ冷媒の蒸気を直接送り
凝縮させその凝縮熱を精留塔底液へ与える。

(2)冷媒凝縮器へ冷媒蒸気を送り、冷媒凝縮器内の流
体、たとえば水に凝縮潜熱を与え冷媒は凝縮する。

この冷媒により熱量を与えられた流体例えば水は冷媒の
温度より５〜１０℃低い温度に迄昇温されフラッシュに
より低圧水蒸気を発生させ、その蒸気を利用することが
できる。

本発明おいて、エチレンオキシド放散塔底部よりの高温
の液はエチレンオキシド吸収塔の底部からの低温の液と
熱交換し熱回収され、エチレンオキシド吸収塔へ供給さ
れる。

一方、エチレンオキシド吸収塔底液はエチレンオキシド
放散塔底部よりの高温の液と熱交換された後、気液分離
タンクにて軽質分ガスを分離した後、エチレンオキシド
放散塔頂部へ供給されてエチレンオキシドは放散され
る。本発明においてエチレンオキシド放散塔より放散さ
れるものは、大部分が水、エチレンオキシド、少部分が
二酸化炭素、微量の酸素、エチレン、不活性ガス（窒
素、アルゴン、メタン、エタン）、ホルムアルデヒド等
の低沸点不純物、アセトアルデヒドおよび酢酸等の高沸
点不純物からなる放散物である。

本発明をさらに詳しく述べるために図−１に基づいて説
明する。

図−１においてエチレンを銀触媒の存在下、分子状酸素
含有ガスにより接触気相酸化して生成するエチレンオキ
シドを含む反応生成ガスを導管（１）を通して、棚段塔
形式のエチレンオキシド吸収塔（２）の下部へ供給し、
導管（２４）よりエチレンオキシド吸収塔（２）の上部
へ、温度４０℃以下、pH＝６以上、エチレングリコール
濃度＝１〜２０重量％、消泡剤（水溶性シリコンエマル
ジョン）濃度＝１〜５０ppmおよび残部は水から成る吸
収液を導入し、反応生成ガスと向流接触させ反応生成ガ
ス中のエチレンオキシドを吸収液に吸収させる。ここで
反応生成ガス中の９９重量％以上のエチレンオキシドが
回収される。エチレンオキシド吸収塔（２）の塔頂部よ
り吸収しなかったエチレン、酸素、二酸化炭素、不活性
ガス（窒素、アルゴン、メタン、エタン）、アルデヒ
ド、酸性物質等のガスは導管（３）を通して炭酸ガス吸
収工程および／または酸化反応工程へ循環される。この
吸収工程においてエチレンオキシドの他、エチレン、酸
素、二酸化炭素、不活性ガス（窒素、アルゴン、メタ
ン、エタン、）ならびにエチレン酸化反応工程で生成し
たホルムアルデヒド等の低沸点不純物、アセトアルデヒ
ド、酢酸等の高沸点不純物もその実質量が同時に吸収さ
れる。

エチレンオキシド吸収塔（２）の塔底液を導管（４）、
熱交換器（５）へ送りエチレンオキシド放散塔底液と熱
交換し温度７０〜１１０℃に高め、導管（６）により、
気液分離タンク（７）へ送られ、一部エチレンオキシ
ド、水を含む不活性ガスの軽質分ガスが導管（８）によ
り分離される。軽質分ガスをフラッシュした残部の吸収
液を導管（９）を通して圧力０．１〜１kg／cm²Ｇ、温
度９０〜１１０℃のエチレンオキシド放散塔（１０）の
上部へ供給し、エチレンオキシド放散塔（１０）の加熱
器（１２）へ導管（１３）を通して水蒸気またはダウサ
ム（米国ダウ社熱媒体商品）等の加熱媒体を供給して、
または直接エチレンオキシド放散塔の底部に水蒸気を導
入する加熱方式により、エチレンオキシドは放散され
る。エチレンオキシド放散塔（１０）の底部よりエチレ
ンオキシドを実質的に含まない温度１００〜１３０℃の
エチレンオキシド放散塔底液の一部は導管（１４）およ
び導管（１６）を通して熱交換器（５）に導入しエチレ
ンオキシド吸収塔底液と熱交換される。熱交換器（５）
を出た吸収液は冷媒蒸発器（５１）を経た後、冷却器
（１８）を通して、導管（２１）より水、導管（２２）
より水酸化カリウム水溶液および導管（２３）より消泡
剤（水溶性シリコンエマルジョン）を添加し、導管（２
４）を通してエチレンオキシド吸収塔（２）に導入する
ことができる。

一方、エチレンオキシド放散塔（１０）の塔底より導管
（１４）を通して抜き出した残部の吸収液は導管（１
５）を通して副生エチレングリコール濃縮塔に送ること
ができる。

冷媒蒸発器（５１）でエチレンオキシド放散塔底部液と
熱交換し蒸発して冷媒は、導管（５２）を通して圧縮機
（５３）に送られ圧縮された後、導管（５４）を通して
冷媒凝縮器（５５）に送られ外部の流体に熱を与え凝縮
する。凝縮した冷媒は導管（５６）を通して再度冷媒蒸
発器（５１）へ送られる。

冷媒凝縮器（５５）に導管（５７），導管（５８）およ
びタンク（５９）に導管（６２）より供給された水を循
環させることにより導管（６０）により水蒸気を回収す
ることができる。

この回収水蒸気はエチレンオキシド製造工程の加熱源に
有効に使用することができる。特にこの水蒸気はエチレ
ンオキシド蒸留塔に使用することができる。

本発明をさらに詳しく述べるために従来公知の方法を図
−２に基づいて説明する。

図−２においてエチレンを銀触媒の存在下、分子状酸素
含有ガスにより接触気相酸化して生成するエチレンオキ
シドを含む反応生成ガスを導管（１）を通して、充分塔
あるいは棚段落形式のエチレンオキシド吸収塔（２）の
下部へ供給し、導管（２４）よりエチレンオキシド吸収
塔（２）の上部へ吸収液を導入し、反応生成ガスと向流
接触させ、反応生成ガス中の９９重量％以上のエチレン
オキシドを回収し、エチレンオキシド吸収塔（２）の塔
頂より吸収しなかったエチレン、酸素、二酸化炭素、不
活性ガス（窒素、アルゴン、メタン、エタン）、アルデ
ヒド、酸性物質等のガスは導管（３）を通して二酸化炭
素吸収工程および／または酸化反応工程へ循環される。
この吸収工程においてエチレンオキシドの他、エチレ
ン、酸素、二酸化炭素、不活性ガス（窒素、アルゴン、
メタン、エタン、）ならびにエチレン酸化反応工程で生
成したホルムアルデヒド等の低沸点不純物、アセトアル
デヒド、酢酸塔の高沸点不純物もその実質量が同時に吸
収される。エチレンオキシド吸収塔（２）の塔底液を導
管（４）を通して熱交換器（５）へ送りエチレンオキシ
ド放散塔底液と熱交換して温度７０〜１１０℃に高め、
導管（６）により気液分離タンク（７）へ送られ不活性
ガスが導管（８）により分離される。一部エチレンオキ
シド、水を含む吸収液は導管（９）を通して塔頂圧力
０．１〜１kg／cm²Ｇ、温度９０〜１１０℃のエチレン
オキシド放散塔（１０）の上部へ供給し、エチレンオキ
シド放散塔（１０）の加熱器（１２）より水蒸気または
ダウサム（ダウ社商品）等の加熱媒体で加熱するか、ま
たは直接エチレンオキシド放散塔（１０）の下部へ水蒸
気を導入する加熱方式により吸収液中に含まれるエチレ
ンオキシドの９９重量％以上を放散せしめ、エチレンオ
キシド放散塔（１０）の底部よりエチレンオキシドを実
質的に含まない温度１００〜１３０℃のエチレンオキシ
ド放散塔底液の一部は導管（１４）および導管（１６）
を通して熱交換器（５）でエチレンオキシド放散塔（１
０）の供給液と熱交換し、さらに冷却器（１８）により
冷却し、ついで吸収液中のエチレングリコール濃度を調
節するため新鮮な水を導管（２１）を通して導入し、吸
収液中のpHを調節するための導管（２２）を通してアル
カリを添加し、吸収液中の消泡剤濃度を調節するため導
管（２３）を通して消泡剤を導入することができる。エ
チレンを分子状酸素で酸化する酸化工程およびエチレン
オキシド放散工程の間で吸収液中にエチレンオキシドと
水との加水反応で生成する副生エチレングリコールおよ
びホルムアルデヒド等の低沸点不純物、アセトアルデヒ
ドおよび酢酸等の高沸点不純物の増加を防ぐためエチレ
ンオキシド放散塔（１０）の塔底部より導管（１４）お
よび（１５）を通してエチレンオキシド放散塔（１０）
の塔底液を抜き出し、濃縮工程に送られる。

（実施例）以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。し
かし本発明はこの実施例のみによって本発明の範囲を規
制するものでない。

実施例１図−１においてエチレンを銀触媒の存在下、分子状酸素
含有ガスにより接触気相酸化して生成するエチレンオキ
シドを含む反応生成ガスを導管（１）を通して、棚段塔
形式のエチレンオキシド吸収塔（２）の下部へ供給し、
導管（２４）よりエチレンオキシド吸収塔（２）の上部
へ、温度４０℃以下、pH＝６以上、エチレングリコール
濃度＝１〜２０重量％、消泡剤（水溶性シリコンエマル
ジョン）濃度＝１〜５０ppmおよび残部は水から成る吸
収液を導入し、反応生成ガスと向流接触させ反応生成ガ
ス中のエチレンオキシドを吸収液に吸収させた。ここで
反応生成ガス中の９９重量％以上のエチレンオキシドが
回収された。エチレンオキシド吸収塔（２）の塔頂より
吸収しなかったエチレン、酸素、二酸化炭素、不活性ガ
ス（窒素、アルゴン、メタン、エタン）、アルデヒド、
酸性物質等の不純物塔のガスは導管（３）を通して炭酸
ガス吸収工程および／または酸化反応工程へ循環した。

この吸収工程においてエチレンオキシドの他、エチレ
ン、酸素、二酸化炭素、不活性ガス（窒素、アルゴン、
メタン、エタン、）ならびにエチレン酸化反応工程で生
成したホルムアルデヒド等の低沸点不純物、アセトアル
デヒド、酢酸等の高沸点不純物もその実質量が同時に吸
収された。

エチレンオキシド吸収塔（２）の塔底液を導管（４）を
通して、熱交換器（５）へ送りエチレンオキシド放散塔
底液と熱交換し温度７０〜１１０℃に高め、導管（６）
により、気液分離タンク（７）へ送られ、一部エチレン
オキシド、水を含む不活性ガスの軽質分ガスが導管
（８）により分離した。軽質分ガスをフラッシュした残
部の吸収液を導管（９）を通して圧力０．１〜１kg／cm
²Ｇ、温度９０〜１１０℃のエチレンオキシド放散塔
（１０）の上部へ供給し、エチレンオキシド放散塔（１
０）の加熱器（１２）へ導管（１３）を通して加熱用水
蒸気を供給する加熱方式によりエチレンオキシドは放散
した。エチレンオキシド放散塔（１０）の底部よりエチ
レンオキシドを実質的に含まない温度１００〜１３０℃
のエチレンオキシド放散塔底液の一部は導管（１４）お
よび導管（１６）を通して熱交換器（５）に導入しエチ
レンオキシド吸収塔底液と熱交換した。熱交換器（５）
を出た吸収液は冷媒蒸発器（５１）を経た後、冷却器
（１８）を通して、導管（２１）より水、導管（２２）
より水酸化カルシウム水溶液および導管（２３）より消
泡剤（水溶性シリコンエマルジョン）を添加し、導管
（２４）を通してエチレンオキシド吸収塔（２）に導入
した。

一方、エチレンオキシド放散塔（１０）の塔底より導管
（１４）を通して抜き出した残部の吸収液は導管（１
５）を通して副生エチレングリコール濃縮塔に送った。

冷媒蒸発器（５１）でエチレンオキシド放散塔底部液と
熱交換し蒸発して冷媒は、導管（５２）を通して冷媒圧
縮機（５３）に送られ圧縮された後、導管（５４）を通
して冷媒凝縮器（５５）に送られ外部の流体に熱を与え
凝縮させた。凝縮した冷媒は導管（５６）を通して再度
冷媒蒸発器（５１）へ送った。

冷媒凝縮器（５５）に導管（５７），導管（５８）およ
びタンク（５９）に導管（６２）より供給された水を循
環させることにより導管（６０）により水蒸気を回収し
た。

表−１にこのプロセスの連続操作条件を一括して表示す
る。

比較例１図−２においてエチレンを銀触媒の存在下、分子状酸素
含有ガスにより接触気相酸化して生成するエチレンオキ
シドを含む反応生成ガスを導管（１）を通して、棚段塔
形式のエチレンオキシド吸収塔（２）の下部へ供給し、
導管（２４）よりエチレンオキシド吸収塔（２）の上部
へ吸収液を導入し、温度２９．６℃、pH＝６、エチレン
グリコール濃度＝９．０重量％、消泡剤（水溶性シリコ
ンエマルジョン）濃度＝３ppmおよび、残部は水から成
る吸収液を導入し、反応生成ガスと向流接触させ反応生
成ガス中のエチレンオキシドを吸収液に吸収させた。エ
チレンオキシド吸収塔（２）の塔頂部より吸収しなかっ
たエチレン、酸素、二酸化炭素、不活性ガス（窒素、ア
ルゴン、メタン、エタン）、アルデヒド類、酸性物質等
のガスは導管（３）を通して炭酸ガス吸収工程および／
または酸化反応工程へ循環した。エチレンオキシド吸収
塔（４）の塔底液を導管（４）、熱交換器（５）、導管
（６）により、気液分離タンク（７）へ送り、一部エチ
レンオキシド、水を含む不活性ガスが導管（８）により
分離した。軽質分ガスをフラッシュした残部の吸収液を
導管（９）を通してエチレンオキシド放散塔（１０）の
上部へ供給した。エチレンオキシド放散塔（１０）の加
熱器（１２）へ導管（１３）を通して水蒸気を供給して
加熱し、エチレンオキシド放散塔（１０）の底部より実
質的にでエチレンオキシドを含まないエチレンオキシド
放散塔底液を導管（１４）を通して抜き出し、熱交換器
（５）および冷却器（１８）を通して、導管（２１）よ
り水、導管（２２）より水酸化カリウム水溶液および導
管（２３）より消泡剤（水溶性シリコンエマルジョン）
を添加した。

表−２にこのプロセスの操作条件を一括して表示する。

（発明の効果）本発明によればエチレンオキシド放散塔底部から出てエ
チレンオキシド吸収塔底液と熱交換器により熱回収され
たエチレンオキシドを実質的に含まない、温度５０〜６
０℃のエチレンオキシド放散塔底部液から圧縮式ヒート
ポンプにより低圧蒸気として熱量を回収することが出来
る。さらにこの方法を実施することによりエチレンオキ
シド吸収塔に送る吸収液を冷却する冷却水の熱負荷が低
減される効果を有するものである。

【図面の簡単な説明】

図−１は、本発明のエチレンオキシド回収方法の好まし
い具体例を示す一例である。図−２は、本発明に関連する公知のエチレンキシド回収
方法を示す一例である。（２）エチレンオキシド吸収塔（５）熱交換器（７）気液分離タンク（１０）エチレンオキシド放散塔（１２）加熱器（１８）冷却器（５１）冷媒蒸発器（５３）冷媒圧縮機（５５）冷媒凝縮器（５９）フラッシュタンク

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】エチレンを銀触媒の存在下、分子状酸素含
有ガスと接触気相酸化して生成したエチレンオキシドを
含有する反応生成ガスをエチレンオキシド吸収塔へ導入
して吸収液と向流接触させ、エチレンオキシド吸収塔頂
部よりのガスは炭酸ガス吸収工程および／またはエチレ
ン酸化反応工程へ循環し、エチレンオキシドを含む吸収
塔底液はエチレンオキシド放散塔へ供給し、エチレンオ
キシド放散塔頂部からエチレンオキシドを放散せしめ、
エチレンオキシド放散塔底部より抜き出した液はエチレ
ンオキシド吸収塔および副生エチレングリコール濃縮塔
へ送る工程において、エチレンオキシド放散塔底部より
抜き出した液を熱交換器にてエチレンオキシド吸収塔底
液と熱交換した後、冷媒蒸発器に送り、冷媒蒸発器でエ
チレンオキシド放散塔底部液と熱交換し蒸発した冷媒
は、圧縮機で圧縮された後、冷媒凝縮器に送り、該冷媒
凝縮器に水を循環させることにより水蒸気を回収し、冷
媒蒸発器により冷却された吸収液をさらに冷却器にて冷
却した後、エチレンオキシド吸収塔の吸収液とすること
を特徴とするエチレンオキシドの回収方法。