JPH0656762U - 基板外観検査装置 - Google Patents

基板外観検査装置

Info

Publication number
JPH0656762U
JPH0656762U JP28893U JP28893U JPH0656762U JP H0656762 U JPH0656762 U JP H0656762U JP 28893 U JP28893 U JP 28893U JP 28893 U JP28893 U JP 28893U JP H0656762 U JPH0656762 U JP H0656762U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
inspected
light
observer
holder
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP28893U
Other languages
English (en)
Inventor
治之 辻
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Corp
Olympus Optical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Olympus Corp, Olympus Optical Co Ltd filed Critical Olympus Corp
Priority to JP28893U priority Critical patent/JPH0656762U/ja
Publication of JPH0656762U publication Critical patent/JPH0656762U/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】コンパクト且つ簡単な構成で、被検査基板の表
面及び裏面に存するごみ及び傷等の異物の検出能力を向
上させる基板外観検査装置を提供する。 【構成】光源63から発光した照明光が、フレネルレン
ズ65を介して集光された後、X−Yステージ67のホ
ルダ77に保持された被検査基板69に対して所定角度
だけ傾斜した状態で照明されるように構成されている。
ホルダ77には、このホルダ77に保持された被検査基
板69の裏面に対して所定角度だけ傾斜して対面配置さ
れ、且つ、この被検査基板69を透過した光の一部を吸
収すると共に残りを観察者の眼Eに対して離間する方向
に反射することによって、被検査基板上に存在するごみ
及び傷等の異物のみを際立たせるように構成された黒色
平滑板79が設けられている。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案は、例えば、ウェハ又は液晶ガラス板等の基板の外観を検査するための 基板外観検査装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、この種の装置では、被検査基板の表面に観察用照明光を照射して、基板 表面から反射した反射光の光学的変化を目視観察することによって、基板表面の 外観検査が行われている。被検査基板の表面に、ごみ及び傷等の異物が存在して いる場合、この異物から散乱光が発生して、基板表面から反射した反射光に強度 差が生じる。観察者は、かかる強度差を検知して基板表面に存在する異物の目視 観察を行う。
【0003】
【考案が解決しようとする課題】
最近、特願平4−132577号明細書中に示すように、基板の種類を問わず 、マクロ観察とミクロ観察との切換えを短時間且つ高精度に行うことができると 共に、マクロ観察時に発見された基板上の複数の欠陥部分を連続的且つ高精度に ミクロ観察することができるコンパクトな基板外観検査装置が提案されている( 以下、引例1と称する)。
【0004】 かかる装置は、図3に示すように、単一の装置本体1に、マクロ観察系3と、 ミクロ観察系5と、これら観察系3、5の間を移動して被検査基板15をマクロ 観察系3又はミクロ観察系5の観察領域内に位置付ける機能を有するスケール付 きX−Yステージ7と、マクロ観察系3及びミクロ観察系5相互間の相対座標を 表示する座標表示装置9とを備えている。
【0005】 X−Yステージ7は、装置本体1の下部にX方向に延出して設けられた一対の ガイド11上に摺動自在に載置されており、このX−Yステージ7の一側に設け られたステージハンドル13によってX方向あるいはY方向に移動可能に構成さ れている。
【0006】 マクロ観察系3は、装置本体1の上部であって、X方向一端側に一対のガイド 11に対面して配置されており、X−Yステージ7によってマクロ観察系3の観 察領域内に位置付けられた被検査基板15の表面全体に亘って斑なくマクロ照明 光(即ち、シャーカステン照明光)を照明するマクロ照明ユニット17と、かか る被検査基板15上にスポット照明光を照明するスポット照明装置19とを備え ている。
【0007】 ミクロ観察系5は、装置本体1の上部であってX方向他端側に一対のガイド1 1に対面して配置されており、倍率の異なる複数の対物レンズ21が交換可能に 取付けられた回転式レボルバ23と例えば三眼鏡筒25とを有する顕微鏡27を 備えている。
【0008】 座標表示装置9は、顕微鏡27の対物光軸及びスポット照明装置19のスポッ ト位置相互のX−Yステージ7上における相対座標を表示する機能を有しており 、X軸アドレスカウンタ29とY軸アドレスカウンタ31とを備えている。
【0009】 このような装置では、マクロ観察系3において発見された被検査基板15の欠 陥部分をスポット照明位置(S)に整合させた後は、被検査基板15をX−Yス テージ7に乗せたままで、座標表示装置9のカウンター値を確認するだけで、簡 単且つ高精度に、ミクロ観察系5の対物光軸下に欠陥部分を整合させることがで きる。
【0010】 また、特願平4−158126号明細書中に示すように、被検査基板の表面全 体に斑なくP偏光又はS偏光の照明光を選択的に照射して、S/N比の高い基板 観察を行うことができる基板外観検査装置も提案されている(以下、引例2と称 する)。
【0011】 かかる装置は、図4に示すように、被検査基板33の表面にP偏光又はS偏光 の照明光を照射する照射手段35と、被検査基板33を保持する保持手段37と 、この保持手段37を照明光軸を含み被検査基板33に垂直な面内で回動させる 傾斜機構39とを備えている。
【0012】 照射手段35は、照明光を発光する光源41と、この光源41から発光された 照明光を集束させるフレネルレンズ43と、このフレネルレンズ43を介して導 光された照明光に対して所定の光学的特性を与えて被検査基板33の表面に照明 する第1の偏光板45とを備えている。この第1の偏光板45は、受光した照明 光に対して適宜選択的にP偏光又はS偏光の光学的特性を与える機能を有してい る。
【0013】 保持手段37は、被検査基板33よりも広範囲な保持面47aを有する保持台 47と、この保持台47の保持面47a上に突設された複数の吸着保持部49と を備えている。被検査基板33を保持台47上に載置すると、被検査基板33は 、その裏面に当接した複数の吸着保持部49によって吸着保持される。この結果 、被検査基板33は、保持台47上に固定される。
【0014】 傾斜機構39は、保持台47の一端側に取り付けられており、かかる一端側を 中心に保持台47の他端側を図中矢印A方向に揺動させる機能を有している。傾 斜機構39を駆動して保持台47を揺動させることによって、保持台47上に固 定された被検査基板33は、照明光軸Bに対して所定の角度(具体的には、0度 〜40度の範囲)に傾斜される。
【0015】 また、保持台47の保持面47a上には、第2の偏光板51が設けられている 。この第2の偏光板51は、被検査基板33を透過した照明光の偏光方向に対し てクロスニコルとなるように、調節可能に構成されている。
【0016】 更に、観察者の目Dの前には、第3の偏光板53が設けられており、この第3 の偏光板53は、被検査基板33の表面及び裏面から反射した反射光の偏光方向 に対してクロスニコルとなるように、調節可能に構成されている。
【0017】 従って、被検査基板33を透過した照明光は、この照明光の偏光方向に対して クロスニコルになるように調節された第2の偏光板51で打消され、保持台47 の保持面47aからの背景光の発生が防止される。また、第3の偏光板53を被 検査基板33から反射した反射光(基板表面及び裏面の双方からの反射光)の偏 光方向(P偏光)に対してクロスニコルになるように調節することによって、被 検査基板33の表面及び裏面から反射した反射光は、かかる第3の偏光板53で 遮光され、観察者の目Dには、被検査基板33の表面に存在する異物Cから発生 した散乱光のみが投影される。
【0018】 ところで、上述した装置に適用される被検査基板は、一般に液晶基板やガラス ウェハ等の透明若しくは半透明の基板であり、照明光は、その一部が基板の表面 で反射され、残りは基板を透過してステージ表面で反射されると共に基板の裏面 で反射される。
【0019】 この結果、引例1の装置において、観察者にとっては、基板表裏面及びステー ジ表面からの反射光を受けるため、基板表面に存在する異物からの散乱光を検知 することができなくなるという弊害が生じる。また、一般にステージ表面の加工 精度も悪いことから、反射光中には、このステージ表面の凹凸や塗装斑による散 乱光も混入し、異物からの散乱光の検知精度が低下するという弊害も生じる。
【0020】 また、引例2の装置では、S/N比の高い基板観察を行うことは可能であるが 、そのための光学部品点数が多くなって装置の構成が複雑になり、製造コストが 上昇してしまうという問題もある。
【0021】 そこで、例えば、図5に示すように構成された装置が提案されている(なお、 説明上、装置全体の構成は省略している)。この装置において、被検査基板55 を保持するホルダ57の中心部には、開口57aが形成されており、かかる開口 57aの周囲のホルダ57上に被検査基板55を載置保持させるように構成され ている。更に、観察者59から見てホルダ57の裏面後方には、このホルダ57 と並列して且つホルダよりも拡大した表面領域を有し、背面光の発生を抑制する 黒色板61が配置されている。
【0022】 しかしながら、かかる大きな黒色板61を引例1及び2の装置に配置させる場 合には、ある程度の占有領域を必要とする関係上、装置全体が大きくなり、構成 上不利である。
【0023】 本考案は、このような課題を解決するためになされ、その目的は、コンパクト 且つ簡単な構成で、被検査基板の表面及び裏面に存するごみ及び傷等の異物の検 出能力を向上させる基板外観検査装置を提供することにある。
【0024】
【課題を解決するための手段】
このような目的を達成するために、本考案は、被検査基板表面に照明光を照射 し、その表面からの反射光の光学的変化を検出することによって、被検査基板上 に存在する欠陥部分を観察する基板外観検査装置において、
【0025】 前記被検査基板に対して所定角度だけ傾斜させた状態で対面配置され、且つ、 この被検査基板を透過した光の一部を吸収すると共に残りを観察者の眼に対して 離間する方向に反射することによって、前記被検査基板上に存在する欠陥部分の みを際立たせるように構成された光吸収性反射手段を備える。
【0026】
【作用】
基板外観検査の際、被検査基板上に照射された照明光は、その一部が被検査基 板を透過して、この被検査基板に対して所定角度だけ傾斜させた状態で対面配置 された光吸収性反射手段に照射される。光吸収性反射手段に照射された照明光は 、その一部は吸収され、残りは観察者の眼に対して離間する方向に反射される。
【0027】
【実施例】
以下、本考案の一実施例に係る基板外観検査装置について、図1を参照して説 明する。
【0028】 図1に示すように、本実施例の基板外観検査装置は、光源63から発光した照 明光が、フレネルレンズ65を介して集光された後、X−Yステージ67上に保 持された例えばガラス等の透明部材から成る被検査基板69に対して所定角度だ け傾斜した状態で照明されるように構成されている。
【0029】 X−Yステージ67は、Y方向に移動可能に構成されたYステージ71と、こ のYステージ71上に設けられた一対のガイド73に沿ってX方向に移動可能に 構成されたXステージ75と、このXステージ75上に設けられ、被検査基板6 9の周縁部を保持可能に構成されたホルダ77と、を備えている。 この結果、ホルダ77に保持された被検査基板69は、X−Yステージ67の 移動に伴って所定方向に任意に移動される。
【0030】 また、ホルダ77には、このホルダ77に保持された被検査基板69の裏面に 対して所定角度だけ傾斜して対面配置され且つこの被検査基板69を透過した光 の一部を吸収すると共に残りを観察者の眼Eに対して離間する方向に反射するよ うに構成された黒色平滑板79が設けられている。 なお、所定角度だけ傾斜させて配置された黒色平滑板79は、その表面が平滑 状に加工された光吸収材料によって形成されている。
【0031】 このような構成を有する基板外観検査装置において、光源63からフレネルレ ンズ65を介して被検査基板69上に照明光を照射すると、被検査基板69の表 裏面から反射した反射照明光は、図中符号R1 、R2 で示す方向に進む。また、 被検査基板69を透過した照明光は、黒色平滑板79に到達し、ここで、その一 部は吸収され、残りは黒色平滑板79の表面で反射して図中符号R3 、R4 で示 す方向(即ち、観察者の眼Eに対して離間する方向)に進む。 なお、本実施例に適用された被検査基板69の反射率は、その表裏面において 約4%とし、また、黒色平滑板79の反射率も約4%と仮定する。
【0032】 このように照明光が被検査基板69上に照射された際、被検査基板69の表面 に、例えばごみ及び傷等の異物が存在した場合、かかる異物から散乱光Sが発生 する。図1には、異物から発生した散乱光Sが全方位について均等の強度を有し ているように図示してあるが、実際には、異物の形状や大きさ、あるいは、照明 光の振動方向によって複雑な光強度分布を呈示する。
【0033】 このような状態において、被検査基板69の外観を検査する場合、観察者は、 眼Eを介して被検査基板69の表面を目視観察するわけであるが、通常、観察者 の眼Eは、図1に示された位置に置かれている場合が多く、観察者の眼Eには、 被検査基板69の表裏面からの反射光及び黒色平滑板79からの反射光は、直接 、入り込むことはない。
【0034】 しかも、黒色平滑板79は高い光吸収率を有しているため、この黒色平滑板7 9面からの反射光は、その光強度が大幅に弱められた状態に規制される。更に、 黒色平滑板79はその表面が平滑状に加工されているため、かかる面から散乱光 は発生しない。
【0035】 このため、観察者は、暗い背景の中で被検査基板69に存する異物からの散乱 光Sのみを確認することができ、結果的に、ごみ及び傷等の異物の検出能力を向 上させることができる。
【0036】 なお、黒色平滑板79の全面に反射防止コートを施して、被検査基板69に対 して並列配置させることも考えられるが、全面に反射防止コートを施すための費 用がかかるため、装置の製造コストが上昇してしまうと共に、完全に反射を防止 させることは困難である。 従って、本実施例のように、黒色平滑板79を傾斜配置させて、その反射光の 方向を観察者の眼Eに対して離間させる構成の方が現実的である。
【0037】 次に、本考案の変形例に係る基板外観検査装置について、図2を参照して説明 する。なお、説明に際し、本変形例に係る部分のみを図示して他の構成は図1を 参照することとする。
【0038】 図2に示すように、本変形例に適用された黒色平滑板79は、その一側面が断 面ノコギリ歯状に形成されており、かかる側面を被検査基板69に対面させ且つ 被検査基板69に並列配置して構成されている。
【0039】 このように構成することによって、被検査基板69と黒色平滑板79との配置 に要するスペースを縮減させることが可能となり、装置のコンパクト化を達成す ることができる。
【0040】 更に、図中点線Rで示すように、黒色平滑板79のノコギリ歯状面から反射し た反射光は、観察者の眼Eに対して大幅に離間した方向に進行するため、かかる 黒色平滑板79からの光が眼Eに直接入り込むことはない。
【0041】 このため、観察者は、暗い背景の中で被検査基板69に存する異物からの散乱 光S(図1参照)のみを確認することができ、結果的に、ごみ及び傷等の異物の 検出能力を向上させることができる。
【0042】 ただし、ノコギリ歯状面の歯端から乱反射光が発生するため、観察者には、何 本かの線が確認されるが、その光強度は大幅に弱められているため、観察に支障 を来すことはない。
【0043】
【考案の効果】 本考案は、被検査基板に対して所定角度だけ傾斜させた状態で対面配置された 光吸収性反射手段を備えているため、この被検査基板を透過した光を吸収すると 共に観察者の眼に対して離間する方向に反射することができる。この結果、被検 査基板上に存在する欠陥部分のみ他の部分に比べて際立たせることが可能となり 、かかる欠陥部分の検出能力を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案の一実施例に係る基板外観検査装置の構
成を概略的に示す図。
【図2】図1に示す黒色平滑板の他の例を示す図。
【図3】特願平4−132577号明細書中に示された
基板外観検査装置の構成を概略的に示す図。
【図4】特願平4−158126号明細書中に示された
基板外観検査装置の構成を概略的に示す図。
【図5】被検査基板の後方に黒色板を配置して、異物か
らの散乱光のコントラストを高めるように改良された装
置の一部を拡大して示す図であって、(a)は、その側
面図、(b)は、その正面図。
【符号の説明】
63…光源、65…フレネルレンズ、67…X−Yステ
ージ、69…被検査基板、77…ホルダ、79…黒色平
滑板、E…眼。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被検査基板表面に照明光を照射し、その
    表面からの反射光の光学的変化を検出することによっ
    て、被検査基板上に存在する欠陥部分を観察する基板外
    観検査装置において、 前記被検査基板に対して所定角度だけ傾斜させた状態で
    対面配置され、且つ、この被検査基板を透過した光の一
    部を吸収すると共に残りを観察者の眼に対して離間する
    方向に反射することによって、前記被検査基板上に存在
    する欠陥部分のみを際立たせるように構成された光吸収
    性反射手段を備えていることを特徴とする基板外観検査
    装置。
JP28893U 1993-01-08 1993-01-08 基板外観検査装置 Pending JPH0656762U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28893U JPH0656762U (ja) 1993-01-08 1993-01-08 基板外観検査装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28893U JPH0656762U (ja) 1993-01-08 1993-01-08 基板外観検査装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0656762U true JPH0656762U (ja) 1994-08-05

Family

ID=11469722

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP28893U Pending JPH0656762U (ja) 1993-01-08 1993-01-08 基板外観検査装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0656762U (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005283582A (ja) * 2004-03-30 2005-10-13 Leica Microsystems Semiconductor Gmbh 半導体部品を検査するための装置及び方法
JP2010237016A (ja) * 2009-03-31 2010-10-21 Dainippon Printing Co Ltd 検査方法
JP2016045039A (ja) * 2014-08-21 2016-04-04 バンドー化学株式会社 異物検査装置、異物検査システム及び異物検査方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005283582A (ja) * 2004-03-30 2005-10-13 Leica Microsystems Semiconductor Gmbh 半導体部品を検査するための装置及び方法
JP2010237016A (ja) * 2009-03-31 2010-10-21 Dainippon Printing Co Ltd 検査方法
JP2016045039A (ja) * 2014-08-21 2016-04-04 バンドー化学株式会社 異物検査装置、異物検査システム及び異物検査方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW493071B (en) Substrate inspecting device
US6707546B2 (en) Apparatus for inspecting a substrate
CN100516771C (zh) 坐标检测装置及被检测体检查装置
US6671041B2 (en) Apparatus for inspecting a substrate
JPH10111253A (ja) 基板検査装置
KR100532238B1 (ko) 박판막 검사방법, 이에 사용되는 장치 및 검사시스템
JP4755673B2 (ja) 基板検査装置
JPH1194756A (ja) 基板検査装置
JP4383047B2 (ja) 外観検査用投光装置及び外観検査装置
JPH0656762U (ja) 基板外観検査装置
JP4576006B2 (ja) 外観検査用投光装置
JP2000266638A (ja) 基板検査装置
JPH05322783A (ja) 基板観察装置
KR20020083291A (ko) 액정표시장치 글래스 검사장비
JP3095855B2 (ja) 外観検査用投光装置
JP2000275594A (ja) 基板検査装置
KR101157081B1 (ko) 조명장치와 이를 포함하는 기판 검사 장치
JP3095856B2 (ja) 外観検査用投光装置
JP3255709B2 (ja) 基板外観検査装置
JP3523848B2 (ja) 外観検査用照明装置
JP3907797B2 (ja) 基板検査装置
JP3253942B2 (ja) 外観検査用投光装置
JP2002071571A (ja) 外観検査用投光装置
JP2000266511A (ja) 検査装置
JP3863976B2 (ja) 基板検査装置

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20000530