JPH0656763U - 固体表面評価装置 - Google Patents
固体表面評価装置Info
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- JPH0656763U JPH0656763U JP20793U JP20793U JPH0656763U JP H0656763 U JPH0656763 U JP H0656763U JP 20793 U JP20793 U JP 20793U JP 20793 U JP20793 U JP 20793U JP H0656763 U JPH0656763 U JP H0656763U
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- 238000011156 evaluation Methods 0.000 title claims abstract description 26
- 239000007787 solid Substances 0.000 title claims abstract description 14
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 78
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims abstract description 15
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims abstract description 15
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 5
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 claims 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 abstract description 12
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 abstract description 9
- 238000009826 distribution Methods 0.000 abstract description 6
- 238000005507 spraying Methods 0.000 abstract description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 5
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 4
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- -1 disks Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】測定試料全面の洗浄評価、表面処理評価等の分
布状況を知ることができる固体表面評価装置を提供する
ことにある。 【構成】測定試料5を載置して移動させる移動テーブル
2の搬入側に測定試料5の表面に蒸気を吹き付けて測定
試料の表面全体に結露させる蒸気発生装置6を設け、こ
の蒸気発生装置6によって結露された測定試料5の表面
に対して傾斜角度を持った光軸の照射光を照射させる光
源8および測定試料5の表面に対向して照射光の照射点
における透過光または反射光の光量を検知するラインセ
ンサ9を設ける。そして、移動テーブル2の移動に伴う
測定試料5の移動によって測定試料5の全面の結露状態
を取り込み、このラインセンサ9からの画像信号を画像
処理装置20によって画像処理し、モニター21に表示
することにある。
布状況を知ることができる固体表面評価装置を提供する
ことにある。 【構成】測定試料5を載置して移動させる移動テーブル
2の搬入側に測定試料5の表面に蒸気を吹き付けて測定
試料の表面全体に結露させる蒸気発生装置6を設け、こ
の蒸気発生装置6によって結露された測定試料5の表面
に対して傾斜角度を持った光軸の照射光を照射させる光
源8および測定試料5の表面に対向して照射光の照射点
における透過光または反射光の光量を検知するラインセ
ンサ9を設ける。そして、移動テーブル2の移動に伴う
測定試料5の移動によって測定試料5の全面の結露状態
を取り込み、このラインセンサ9からの画像信号を画像
処理装置20によって画像処理し、モニター21に表示
することにある。
Description
【0001】
この考案は、例えば液晶ガラス、ディスク、半導体ウェハ等の固体表面の洗 浄評価、表面処理評価を行う固体表面評価装置に関する。
【0002】
液晶ガラス、ディスク、半導体ウェハ等を洗浄した後あるいは表面処理した 後、その洗浄度または表面処理効果を評価するための固体表面評価装置が知られ ている。
【0003】 固体表面評価装置として、固体表面に対する水滴の濡れる角度、つまり接触角 を測定して表面評価を行う接触角測定方式が知られている。この接触角測定方式 は、測定試料の表面に水滴を接触させ、その水滴の接触角を測定して測定試料の 洗浄度合(表面脱脂)や処理状態を評価するものである。
【0004】 例えば、測定試料の洗浄度合を評価する場合には、測定試料の表面に水滴を接 触させ、その水滴の接触角を測定し、接触角が大きい時には油量残が多く、表面 脱脂が不十分であると判断し、接触角が小さくなるつれて油量残が少なくなり、 表面脱脂が行われ、一定の接触角以下であると洗浄が良好に行われていると判断 している。
【0005】
ところが、前述のように構成された固体表面評価装置は、測定する位置があ る1点での値であり、測定試料全面の洗浄評価、表面処理評価等の分布状況を知 ることができない。また、測定点を増やすには、1点での測定時間がかかるため 、測定試料が大面積化してきている液晶ガラス等の全面について測定を行うには 膨大な時間がかかり実用的でない。
【0006】 また、測定時に測定試料に対して多くの液体を付着させるため、測定時間中に 測定試料の表面に与える影響が大きく、また、測定後に付着した液体を回収する のが困難である。
【0007】 この考案は、前記事情に着目してなされたもので、その目的とするところは、 測定試料全面の洗浄評価、表面処理評価等の分布状況を知ることができ、また測 定試料が大面積であっても短時間に測定することができ、さらに液体が少量で短 時間測定であるので測定試料の表面に対する影響が少ない固体表面評価装置を提 供することにある。
【0008】
この考案は、前述した目的を達成するために、測定試料を載置して移動させ る移動テーブルおよび測定試料の表面に蒸気を吹き付けて測定試料の表面全体に 結露させる蒸気発生装置を設けるとともに、この蒸気発生装置によって結露され た前記測定試料の表面に対して傾斜角度を持った光軸の照射光を照射させる光源 を設ける。さらに、前記移動テーブルの試料載置面に対向して前記照射光の照射 点における透過光または反射光の光量を検知し前記移動テーブルの移動により測 定試料の全面の結露状態を取り込むラインセンサを設け、このラインセンサから の画像信号を画像処理装置によって画像処理することにある。
【0009】
移動する測定試料の表面に蒸気を吹き付けて測定試料の表面全体に結露させ 、その結露された測定試料の表面に対して傾斜角度を持った光軸の照射光を照射 させると、測定試料の表面の汚染されている部分と汚染されていない部分とで照 射光の照射点における透過光または反射光の光量が異なるため、その光量をライ ンセンサによって取り込み、さらに測定試料が移動しているため結露状態を全面 画像として取り込むことができ、この画像信号が画像処理装置によって画像処理 することにより、測定試料全面の表面状態を分布的に評価できる。
【0010】
以下、この考案の一実施例を図面に基づいて説明する。
【0011】 図1は固体表面評価装置を示すもので、1は本体であり、この本体1の上面に は移動テーブル2が設けられている。この移動テーブル2は駆動機構(図示しな い)によって左右方向に往復移動自在であり、中央部には開口部3を有する試料 載置面4が設けられている。
【0012】 そして、この試料載置面4には固体表面の洗浄評価、表面処理評価を行うため の例えば液晶ガラス、ディスク、半導体ウェハ等の測定試料5が載置され、移動 テーブル2の移動によって矢印a方向に走行するようになっている。
【0013】 移動テーブル2の一側には蒸気発生装置6が設けられ、搬出側には水滴を回収 する吸気回収装置7が設けられている。さらに、蒸気発生装置6と吸気回収装置 7との間には測定試料5に向かって光源8およびビデオカメラ等のラインセンサ 9が設けられている。
【0014】 前記蒸気発生装置6について説明すると、図2に示すように構成されている。 すなわち、10は貯水槽であり、この貯水槽10の底部近傍には給水管11が接 続され、貯水槽10の内部に所定量の純度の高い水12が収容されている。さら に、貯水槽10の内部にはヒータ13および給気管14が設けられ、貯水槽10 の内部で水蒸気を発生させるように構成されている。
【0015】 貯水槽10の上部は逆U字状のダクト15に接続され、このダクト15によっ て水蒸気を測定試料5の上部まで導き、測定試料5の表面に吹き付けるようにな っている。したがって、このダクト15は測定試料5の幅方向に長い偏平状に形 成されているとともに、測定試料5の表面に水滴が落下しないようにダクト15 はヒータ15aによって加温されており、ダクト15の先端部には水蒸気噴出ノ ズル16が設けられている。
【0016】 また、前記吸気回収装置7は、図1に示すように、測定試料5の表面に対向す る吸気ノズル17を有した吸気ダクト18と、この吸気ダクト18の途中に設け られた吸引ファン19とから構成されており、この吸気ダクト18も測定試料5 の幅方向に長い偏平状に形成されている。
【0017】 さらに、前記光源8は、測定試料5の表面に対して傾斜角度を持った光軸の照 射光Lを照射させるランプであり、また図3に示すように、ラインセンサ9は照 射光Lの照射点Oに対向して設置されている。このラインセンサ9は測定試料5 の結露状態によって異なる反射光量を検知し、移動する測定試料5により全面画 像信号としてコンピュータの画像処理装置20に出力し、この画像処理装置20 によって明るさの濃淡分布をモニター21に表示するようになっている。 次に、前述のように構成された固体表面評価装置の作用を説明する。
【0018】 移動テーブル2の試料載置面4に洗浄評価、表面処理評価を行うための測定試 料5を載置し、移動テーブル2を駆動機構によって矢印a方向に移動させるとと もに、蒸気発生装置6から水蒸気を発生すると、この水蒸気はダクト15を介し て先端側に導かれ、水蒸気噴出ノズル16から測定試料5の表面に吹き付けられ る。この場合の水蒸気の吹き付け量は、給気管14からの給気量によって決定さ れる。
【0019】 水蒸気噴出ノズル16から吹き付けられた水蒸気が測定試料5の表面に当たる と、冷却されて結露する。つまり、測定試料5の表面全面に微小粒子の水滴が均 一にできる。
【0020】 移動テーブル2の移動に伴って測定試料5の結露された部分が光源8からの照 射光Lの照射点Oに位置すると、照射光Lが測定試料5の結露部分に照射され、 照射光Lは測定試料5の表面に当たって反射する。このとき、測定試料5の表面 に汚染された部分がなく結露状態が均一であれば、ラインセンサ9が検知する光 量に差がないが、測定試料5が部分的に汚染されていた場合、汚染されていない 部分とに光量の差ができる。つまり、微小粒子の水滴が測定試料5の表面に付着 したとき、その汚染度合いによって接触角が異なるため、反射光量が異なる。
【0021】 したがって、ラインセンサ9は照射光Lの反射光量を検知することにより、測 定試料5の表面の結露状態を分布的に検知することができ、移動する測定試料5 により全面画像信号として検知し、その検知信号をコンピュータの画像処理装置 20に入力することにより、画像処理装置20は明るさの濃淡分布をモニター2 1に表示する。
【0022】 移動テーブル2の移動に伴って測定試料5が光源8からの照射光Lの照射点O を通過し、吸気回収装置7の吸気ノズル17に対向する位置に到達すると、吸気 ノズル17からの吸気力によって測定試料5の表面の結露水は吸気ダクト18に 吸引されて回収される。したがって、測定試料5の表面に結露水が付着したまま に放置されることはなく、液体による測定試料5への影響を低減できる。
【0023】 なお、前記一実施例においては、移動テーブル2の上方に光源8を設け、照射 光Lを測定試料5の表面に照射し、その照射点Oからの反射光量をラインセンサ 9によって検知しているが、測定試料5が透明または透光性を有する材料の場合 には移動テーブル2の下方に光源を設け、照射光Lを測定試料5の裏面に照射し 、その照射点Oからの透過光量をラインセンサ9によって検知するようにしても よい。
【0024】 また、吸気回収装置7を設け、吸気ノズル17からの吸気力によって測定試料 5の表面の結露水を吸気ダクト18に吸引して回収しているが、測定試料5が結 露水の付着に影響されない物質であれば吸気回収装置7を設ける必要がない。
【0025】
以上説明したように、この考案によれば、搬送する測定試料の表面に蒸気を 吹き付けて測定試料の表面全体に結露させ、その結露された測定試料の表面に対 して照射光を照射させることにより、測定試料の表面の汚染されている部分と汚 染されていない部分との照射光の透過光または反射光の光量の差をラインセンサ によって取り込み、結露状態を全面画像として取り込むようにしたことを特徴と する。
【0026】 したがって、測定試料全面の洗浄評価、表面処理評価等の分布状況を知ること ができ、また測定試料が大面積であっても短時間に測定することができる。さら に液体が少量で短時間測定であるので測定試料の表面に対する影響が少なく、例 えば液晶ガラス、ディスク、半導体ウェハ等の表面評価装置に好適するものであ る。
【図1】この考案の一実施例に係わる固体表面評価装置
を示す正面図。
を示す正面図。
【図2】同実施例の蒸気発生装置を示し、(a)は断面
図、(b)は(a)のb−b線に沿う断面図。
図、(b)は(a)のb−b線に沿う断面図。
【図3】同実施例のラインセンサの斜視図。
2…移動テーブル、4…試料載置面、5…測定試料、6
…蒸気発生装置、8…光源、9…ラインセンサ、20…
画像処理装置。
…蒸気発生装置、8…光源、9…ラインセンサ、20…
画像処理装置。
Claims (1)
- 【請求項1】 測定試料を載置して移動させる移動テー
ブルと、この移動テーブルに載置された前記測定試料の
表面に蒸気を吹き付けて測定試料の表面全体に結露させ
る蒸気発生装置と、この蒸気発生装置によって結露され
た前記測定試料の表面に対して傾斜角度を持った光軸の
照射光を照射させる光源と、前記移動テーブルの試料載
置面に対向して設けられ前記照射光の照射点における透
過光または反射光の光量を検知し前記移動テーブルの移
動により測定試料全面の結露状態を取り込むラインセン
サと、このラインセンサからの画像信号を画像処理する
画像処理装置とを具備したことを特徴とする固体表面評
価装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20793U JPH0656763U (ja) | 1993-01-08 | 1993-01-08 | 固体表面評価装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20793U JPH0656763U (ja) | 1993-01-08 | 1993-01-08 | 固体表面評価装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0656763U true JPH0656763U (ja) | 1994-08-05 |
Family
ID=11467530
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20793U Pending JPH0656763U (ja) | 1993-01-08 | 1993-01-08 | 固体表面評価装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0656763U (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006189348A (ja) * | 2005-01-06 | 2006-07-20 | Ccs Inc | 表面検査方法および表面検査装置 |
| CN108871233A (zh) * | 2018-07-31 | 2018-11-23 | 苏州天准科技股份有限公司 | 一种曲面玻璃轮廓度检测装置及检测方法 |
| CN109030501A (zh) * | 2018-07-31 | 2018-12-18 | 苏州天准科技股份有限公司 | 一种手机玻璃af膜表面瑕疵检测装置及检测方法 |
| CN110967280A (zh) * | 2018-09-28 | 2020-04-07 | 财团法人工业技术研究院 | 表面湿润性检测系统及表面湿润性检测方法 |
| US11709133B2 (en) | 2018-09-28 | 2023-07-25 | Industrial Technology Research Institute | Solid surface wettability determination method |
-
1993
- 1993-01-08 JP JP20793U patent/JPH0656763U/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006189348A (ja) * | 2005-01-06 | 2006-07-20 | Ccs Inc | 表面検査方法および表面検査装置 |
| CN108871233A (zh) * | 2018-07-31 | 2018-11-23 | 苏州天准科技股份有限公司 | 一种曲面玻璃轮廓度检测装置及检测方法 |
| CN109030501A (zh) * | 2018-07-31 | 2018-12-18 | 苏州天准科技股份有限公司 | 一种手机玻璃af膜表面瑕疵检测装置及检测方法 |
| CN110967280A (zh) * | 2018-09-28 | 2020-04-07 | 财团法人工业技术研究院 | 表面湿润性检测系统及表面湿润性检测方法 |
| US11709133B2 (en) | 2018-09-28 | 2023-07-25 | Industrial Technology Research Institute | Solid surface wettability determination method |
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