JPH0656928U - 電気機器の絶縁構造 - Google Patents

電気機器の絶縁構造

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JPH0656928U
JPH0656928U JP3300291U JP3300291U JPH0656928U JP H0656928 U JPH0656928 U JP H0656928U JP 3300291 U JP3300291 U JP 3300291U JP 3300291 U JP3300291 U JP 3300291U JP H0656928 U JPH0656928 U JP H0656928U
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ceramic coating
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conductor
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JP3300291U
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久 諏訪原
良一 山本
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アドバンス・コージェネレーションシステム技術研究組合
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 セラミックコーティング層の結合強度を大き
くして剥離を防止した絶縁構造とする。 【構成】 粒度分布として44〜10μmを主体とする
金属材料によるアンダーコート層4と、このアンダーコ
ート層4上に形成されたセラミックコーティング層5と
を有する導体3を、鉄心1の溝2内に配する。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案は、導体と鉄心との間の絶縁を必要とする電気機器に適用される絶縁構 造に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年のセラミックス薄膜作成技術の進歩により、セラミックコーティングによ る絶縁電線が開発されており、従来の有機系材料被覆では成し得なかった300 ℃以上の高耐熱性や高電圧性が実現されるようになった。そして、このセラミッ クコーティング絶縁電線を高耐熱性の要求される回転電機,変圧器,リアクトル などの電機機器へ応用することが検討されている。
【0003】 すなわち、例えば回転電機の回転子において、従来、導体に有機系材料の絶縁 を施したコイルを鉄心の溝内に嵌め込んでいたが、図3に示すように導体01に セラミックコーティング層02を施したコイル03を、鉄心04の溝05内に嵌 め込んで収納することにより耐熱性を向上させている。
【0004】
【考案が解決しようとする課題】
ところで、導体01の表面に結合されているセラミックコーティング層02は 、数μm〜数百μmの厚さであり、導体01と比較して線膨張率が著しく小さい 。特に、導体01としては通常、銅を用いるが、銅の線膨張率はα=1.6×1 0-5/℃と非常に大きいので、これと比べるとセラミックコーティング層02の 線膨張率は約1ケタ小さくなる。
【0005】 したがって、かかるコイル03に熱がかかると、セラミックコーティング層0 2は導体01と一緒に伸びることができず、大きな熱応力がセラミックコーティ ング層02に加わることになる。そして、このような温度上昇及び下降の繰り返 し、いわゆるヒートサイクルなどによりセラミックコーティング層02にクラッ クが発生し、導体01の表面から剥離してしまい、電機機器の故障・事故に至る という問題がある。
【0006】 本考案はこのような事情に鑑み、セラミックコーティング層の結合強度を大き くして剥離を防止した絶縁構造を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成する本考案の電機機器の絶縁構造は、粒度分布として44〜1 0μmを主体とする金属材料によるアンダーコート層と、このアンダーコート層 上に形成されたセラミックコーティング層とを有する導体を、鉄心の溝内に配し てなることを特徴とする。
【0008】
【作用】
特定の粒度分布、すなわち44〜10μmを主体とする金属材料によるアンダ ーコート層の上にセラミックコーティング層を設けた構造とすると、アンダーコ ート層の表面に適度な凹凸が形成されてセラミックコーティング層が強固に結合 され、しかも絶縁用皮膜として要求される耐電圧特性も良好となる。
【0009】
【実施例】
以下、本考案を実施例に基づいて説明する。
【0010】 図1には一実施例に係る回転機の回転子の断面を示す。同図に示すように鉄心 1の溝2内には、導体である銅線3が納められており、この銅線3の表面にはア ンダーコート層4及びセラミックコーティング層5が施されている。
【0011】 ここで、外側のセラミックコーティング層5には、耐熱性の他、耐電圧特性, 耐機械強度特性などが優れた素材、例えばアルミナ(Al2 3 )は、線膨張率 が一般に(6〜9)×109 /℃と小さく、銅線3の線膨張率との差が著しいの で、直接、銅線3上にコートした場合には剥離し易い。よって、本実施例ではセ ラミックコーティング層5の剥離を防止するためにアンダーコート層4を設けて いる。
【0012】 アンダーコート層4は特定の粒度分布を有する金属材料、例えばNi−Crな どの一般のアンダーコート用材料で形成すればよく、好ましくは線膨張率がなる べく小さいものを用いるのがよい、アンダーコート層4の形成に先立って、銅線 3の表面の洗浄・脱脂処理、並びにサンドブラストによる銅線3の表面の粗面化 を行い、当該アンダーコート層4が強固に銅線3に結合するようにするのが望ま しい。また、アンダーコート層4は特定の粒度分布を有する金属粉体を銅線3の 表面に溶射などすることにより、表面が金属の粒に応じて凹凸面になるように形 成するのがよい。
【0013】 一方、セラミックコーティング層5は、例えばプラズマジェットによる熱でセ ラミックパウダを溶融しつつ噴射する溶射法などにより形成すればよい。このプ ラズマプロセスではN2 ,H2 などを電離させて作った1万℃以上の高温・高速 のプラズマジェット中にアルミナなどの溶射材を送って溶融・噴射するが、溶射 材は被溶射材に到達するときには200℃前後となるので特に問題はない。なお 、セラミックコーティング層5を溶射等した後は、その表面を研摩し、超音波洗 浄等するのが望ましい。
【0014】 上述したように、特定粒度の、すなわち後述するように粒度分布として44〜 10μmを主体とする金属材料を用いてアンダーコート層4を形成することによ りアンダーコート層4の表面は適度な凹凸面となり、セラミックコーティング層 5はアンダーコート層の粗面にくい込むように形成され、そのアンカー効果の向 上により結合力が極めて大きくなる。しかも、絶縁用被膜として要求される耐電 圧特性が良好なセラミックコーティング層5が形成される。
【0015】 以下、試験例を示す。 銅線3として9mmφの銅線を用い、これに50μm厚のNi−Crからなるア ンダーコート層4と、50μm厚のアルミナからなるセラミックコーティング層 5を形成し、アンダーコート層に用いたNi−Crの粒度分布を次のように変化 させた。 試験例1 105〜44μm 試験例2 44〜10μm 試験例3 10μm以下 試験例4 アンダーコート層なし これらについて、アンダーコート層4とアルミナコーティング層5との間の接 着強度及び各試験例の絶縁破壊電圧を測定した。これらの結果は図2に示す。
【0016】 図2に示す結果より、アンダーコート層4に用いた金属材料の粒度分布が大き い方が接着強度が大きいが、粒度分布が大きくなると絶縁耐力が小さくなること が判る。したがって、粒度分布として44〜10μmが主体の金属材料を用いて アンダーコート層4を形成することにより、接着強度及び絶縁破壊耐力が共に良 好な絶縁皮膜が実現できる。
【0017】
【考案の効果】
以上説明したように、本考案に係る電機機器の絶縁構造では、導体に施すセラ ミックコーティング層の下に特定粒度を有する金属材料からなるアンダーコート 層を設けているので、セラミックコーティング層の結合力が大きくなって剥離し にくくなり、しかも絶縁破壊耐力が大きなものとなる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案の一実施例に係る電機機器の絶縁構造を
示す断面図である。
【図2】その試験結果を示すグラフである。
【図3】従来技術に係る絶縁構造を示す断面図である。
【符号の説明】
1 鉄心 2 溝 3 銅線(導体) 4 アンダーコート層 5 セラミックコーティング層

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 粒度分布として44〜10μmを主体と
    する金属材料によるアンダーコート層と、このアンダー
    コート層上に形成されたセラミックコーティング層とを
    有する導体を、鉄心の溝内に配してなることを特徴とす
    る電気機器の絶縁構造。
JP3300291U 1991-05-13 1991-05-13 電気機器の絶縁構造 Expired - Lifetime JPH0749687Y2 (ja)

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JPH0656928U true JPH0656928U (ja) 1994-08-05
JPH0749687Y2 JPH0749687Y2 (ja) 1995-11-13

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP3101503U (ja) 2003-01-15 2004-06-17 武徳 ▲濱▼田 えり首取り替えかばー

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JPH0749687Y2 (ja) 1995-11-13

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