JPH0657875B2 - 金属電極基体に対する白金族被膜の生成方法 - Google Patents
金属電極基体に対する白金族被膜の生成方法Info
- Publication number
- JPH0657875B2 JPH0657875B2 JP61060814A JP6081486A JPH0657875B2 JP H0657875 B2 JPH0657875 B2 JP H0657875B2 JP 61060814 A JP61060814 A JP 61060814A JP 6081486 A JP6081486 A JP 6081486A JP H0657875 B2 JPH0657875 B2 JP H0657875B2
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- JP
- Japan
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- coating
- platinum group
- metal
- electrode substrate
- metal electrode
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/10—Electrodes, e.g. composition, counter electrode
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- Chemically Coating (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ＜産業上の利用分野＞ 本発明は例えば食塩電解の陽極として使用される白金族
被膜を有する金属電極の製造方法に関する。
被膜を有する金属電極の製造方法に関する。
＜従来の技術＞ 基体金属の表面に貴金属を被膜した金属陽極は耐食性、
電気化学的特性が優れており、電解用電極として広く使
用されている。
電気化学的特性が優れており、電解用電極として広く使
用されている。
この貴金属被膜金属電極の貴金属被覆膜の生成方法は概
ね次に示す二方法に大別される。
ね次に示す二方法に大別される。
基体金属表面に電気めっきにより貴金属膜を析出生成
させる方法。
させる方法。
基体金属表面に貴金属の塩化物を塗布し、該塗布塩化
物を加熱して貴金属被膜を基体金属表面に生成させる方
法。
物を加熱して貴金属被膜を基体金属表面に生成させる方
法。
この場合、具体的には加熱バーナーにより加熱してい
る。
る。
＜発明が解決しようとする課題＞ (1)基体金属に電気めっきにより貴金属膜を析出生成す
る方法は、生成膜にピンホールが生じ易く、又実際に電
極として使用した場合過酷な条件では膜が剥離すること
があるという欠点を有する。
る方法は、生成膜にピンホールが生じ易く、又実際に電
極として使用した場合過酷な条件では膜が剥離すること
があるという欠点を有する。
(2)貴金属の塩化物を塗布し、ついでバーナーで加熱し
て被膜を生成させる場合は、実際に貴金属の塩化物を含
む膠質溶液を先ず作り、次いでこのものを基体に塗布
し、不活性ガス中でバーナーで加熱して塩化物を分解す
ることにより、基体表面に貴金属被膜を生成させてい
る。
て被膜を生成させる場合は、実際に貴金属の塩化物を含
む膠質溶液を先ず作り、次いでこのものを基体に塗布
し、不活性ガス中でバーナーで加熱して塩化物を分解す
ることにより、基体表面に貴金属被膜を生成させてい
る。
この方法においてはプロパン、ブタン、タウンガス等を
用いてバーナーで加熱しているが、焔の燃焼状態の定常
化、即ち燃焼焔の構成の管理や焔の先端と基体金属との
距離の維持等、耐食性に優れしかも剥離し難い被膜を形
成させるためには複雑な装置を必要とする。
用いてバーナーで加熱しているが、焔の燃焼状態の定常
化、即ち燃焼焔の構成の管理や焔の先端と基体金属との
距離の維持等、耐食性に優れしかも剥離し難い被膜を形
成させるためには複雑な装置を必要とする。
＜課題を解決するための手段＞ 本発明者らは前記公知の手段の有する欠点のない方法で
実用的に優れた方法を開発すべく研究の結果、白金族塩
化物とメチルセルロース及びナトリウムボロハイドライ
ド又はボラザン類の混合物を基体に塗付し遠赤外加熱す
ることにより目的を達することを知り本発明を完成し
た。本発明は特に白金族金属被膜を金属基体表面に生成
させるものであり、金属基体電極表面に白金族塩化物と
メチルセルロース及びナトリウムボロハイドライド、ボ
ラザン又はメチルボラザンを含有するスラリー状物質を
塗布後、遠赤外加熱により、該塗布表面を加熱して、該
塗布面に白金族金属被膜を生成せしめることを特徴とす
る金属基体電極に対する白金族被膜の生成方法に関す
る。
実用的に優れた方法を開発すべく研究の結果、白金族塩
化物とメチルセルロース及びナトリウムボロハイドライ
ド又はボラザン類の混合物を基体に塗付し遠赤外加熱す
ることにより目的を達することを知り本発明を完成し
た。本発明は特に白金族金属被膜を金属基体表面に生成
させるものであり、金属基体電極表面に白金族塩化物と
メチルセルロース及びナトリウムボロハイドライド、ボ
ラザン又はメチルボラザンを含有するスラリー状物質を
塗布後、遠赤外加熱により、該塗布表面を加熱して、該
塗布面に白金族金属被膜を生成せしめることを特徴とす
る金属基体電極に対する白金族被膜の生成方法に関す
る。
この加熱手段は極めて容易であって、遠赤外加熱ヒータ
ーを有する適宜の加熱炉が使用できる。そして遠赤外加
熱であるので、温度管理が容易であり、又加熱むらが生
じない。尚バーナー加熱では基体金属に生成せる金属被
膜中に微量の不純物、例えば金属酸化物が含まれるが、
本発明においては実施例に示されるように実質的に含ま
れることはない。又基体金属に塗布すべきスラリー状物
質中のナトリウムボロハイドライド、ボラザン又はメチ
ルボラザンは生成被膜の硬度を高めるものであり、又メ
チルセルロースは金属基体へのスラリー付着力の増加に
特に有効であり、又揮発性であるので、加熱により除去
され、白金族被膜に全く影響を与えることはない。尚、
本発明方法は通常使用されるすべての電極基体に全く同
様に適用できる。
ーを有する適宜の加熱炉が使用できる。そして遠赤外加
熱であるので、温度管理が容易であり、又加熱むらが生
じない。尚バーナー加熱では基体金属に生成せる金属被
膜中に微量の不純物、例えば金属酸化物が含まれるが、
本発明においては実施例に示されるように実質的に含ま
れることはない。又基体金属に塗布すべきスラリー状物
質中のナトリウムボロハイドライド、ボラザン又はメチ
ルボラザンは生成被膜の硬度を高めるものであり、又メ
チルセルロースは金属基体へのスラリー付着力の増加に
特に有効であり、又揮発性であるので、加熱により除去
され、白金族被膜に全く影響を与えることはない。尚、
本発明方法は通常使用されるすべての電極基体に全く同
様に適用できる。
＜実施例＞ 実施例により本発明を説明する。
実施例１ １００mm×６mmφのチタニウム棒を塩化パラジウム２ｇ
（金属として０．９９８ｇ）、３６％塩酸５ml、ナトリ
ウムボロハイドライド０．２２ｇの混合物に、メチルセ
ルロース０．１ｇを添加した溶液に浸漬した後、遠赤外
加熱炉で２５０℃で９分間加熱処理して０．２９μｍの
パラジウム金属被膜を得た。次いで全く同様に浸漬加熱
を繰返し合計１０回行って２．９μｍのパラジウム金属
被膜を得た。
（金属として０．９９８ｇ）、３６％塩酸５ml、ナトリ
ウムボロハイドライド０．２２ｇの混合物に、メチルセ
ルロース０．１ｇを添加した溶液に浸漬した後、遠赤外
加熱炉で２５０℃で９分間加熱処理して０．２９μｍの
パラジウム金属被膜を得た。次いで全く同様に浸漬加熱
を繰返し合計１０回行って２．９μｍのパラジウム金属
被膜を得た。
この金属被膜にはＸ−線回析法により酸化物が含まれな
いことを確認した。又この被膜のビッカース硬度は６０
０であった。
いことを確認した。又この被膜のビッカース硬度は６０
０であった。
比較例１ 実施例１においてナトリウムボロハイドライドを使用し
ないで、全く同様の処理をした結果、得られた被膜のビ
ッカース硬度は４００であった。
ないで、全く同様の処理をした結果、得られた被膜のビ
ッカース硬度は４００であった。
実施例２ 実施例２と全く同様のチタニウム棒を用い、浸漬液とし
て塩化イリジウム２ｇ（金属として１．２９ｇ）、３６
％塩酸１．５ml、ナトリウムボロハイドライド０．２
ｇ、メチルセルロース０．０５ｇを用い、実施例１と同
様に遠赤外加熱炉で３５０℃で１０分間加熱処理して
０．６２μｍのイリジウム金属被膜を得た。同様な処理
を合計１０回行って６．２μｍのイリジウム金属被膜を
得た。この金属被膜にはＸ−線回析法により酸化物が含
まれないことを確認した。又この金属被膜のビッカース
硬度は６２０であった。
て塩化イリジウム２ｇ（金属として１．２９ｇ）、３６
％塩酸１．５ml、ナトリウムボロハイドライド０．２
ｇ、メチルセルロース０．０５ｇを用い、実施例１と同
様に遠赤外加熱炉で３５０℃で１０分間加熱処理して
０．６２μｍのイリジウム金属被膜を得た。同様な処理
を合計１０回行って６．２μｍのイリジウム金属被膜を
得た。この金属被膜にはＸ−線回析法により酸化物が含
まれないことを確認した。又この金属被膜のビッカース
硬度は６２０であった。
比較例２ 実施例２においてナトリウムボロハイドライドを使用し
ないで全く同様の処理をした結果、得られた被膜のビッ
カース硬度は３９０であった。
ないで全く同様の処理をした結果、得られた被膜のビッ
カース硬度は３９０であった。
実施例３〜６ 実施例２と同様のチタニウム棒を用い、次表に示す浸漬
液を用い、遠赤外加熱炉を用いて次表に示す条件で加熱
して夫々の金属被膜を得た。実施例２と同様１０回の処
理を繰返し次表に示す金属被膜を得た。
液を用い、遠赤外加熱炉を用いて次表に示す条件で加熱
して夫々の金属被膜を得た。実施例２と同様１０回の処
理を繰返し次表に示す金属被膜を得た。
実施例３〜６において生成せる金属被膜中には酸化物が
含まれないことをＸ−線回析法で確認した。
含まれないことをＸ−線回析法で確認した。
＜発明の効果＞ 本発明の方法は白金族塩化物とメチルセルロース及びナ
トリウムボロハイドライド、ボラザン又はメチルボラザ
ンとを実質的成分とするスラリーを電極基体に塗布し、
赤外線加熱するものであり、極めて容易に実施できる。
又生成貴金属膜はホウ化物を用いることにより硬度が増
加している。
トリウムボロハイドライド、ボラザン又はメチルボラザ
ンとを実質的成分とするスラリーを電極基体に塗布し、
赤外線加熱するものであり、極めて容易に実施できる。
又生成貴金属膜はホウ化物を用いることにより硬度が増
加している。
更に、製造された金属基体に白金族被膜を有する電極
は、過酷な条件したでも被膜が剥離することはなく、電
極として実用的価値が高い。
は、過酷な条件したでも被膜が剥離することはなく、電
極として実用的価値が高い。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭46−3411（ＪＰ，Ａ) 特開 昭50−60436（ＪＰ，Ａ) 特開 昭53−119292（ＪＰ，Ａ) 特公 昭46−29482（ＪＰ，Ｂ１) 特公 昭47−2007（ＪＰ，Ｂ１) 特公 昭56−15443（ＪＰ，Ｂ２)
Claims (2)
- 【請求項１】金属電極基体表面に白金族塩化物、メチル
セルロース及びナトリウムボロハイドライド、ボラザン
又はメチルボラザンを含有するスラリー状物質を塗布
後、遠赤外加熱により、該塗布表面を加熱して、該塗布
面に、白金族金属被膜を生成せしめることを特徴とする
金属電極基体に対する白金族被膜の生成方法。 - 【請求項２】白金族塩化物の白金族は白金、ロジウム、
パラジウム、ルテニウム、インジウムのいずれかである
特許請求の範囲第１項の金属電極基体に対する白金族被
膜の生成方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61060814A JPH0657875B2 (ja) | 1986-03-20 | 1986-03-20 | 金属電極基体に対する白金族被膜の生成方法 |
| KR870001562A KR870009057A (ko) | 1986-03-20 | 1987-02-24 | 금속전극기체(金屬電極基體)에 대한 백금족 피막의 생성방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61060814A JPH0657875B2 (ja) | 1986-03-20 | 1986-03-20 | 金属電極基体に対する白金族被膜の生成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62218591A JPS62218591A (ja) | 1987-09-25 |
| JPH0657875B2 true JPH0657875B2 (ja) | 1994-08-03 |
Family
ID=13153192
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61060814A Expired - Lifetime JPH0657875B2 (ja) | 1986-03-20 | 1986-03-20 | 金属電極基体に対する白金族被膜の生成方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0657875B2 (ja) |
| KR (1) | KR870009057A (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3775284A (en) * | 1970-03-23 | 1973-11-27 | J Bennett | Non-passivating barrier layer electrodes |
-
1986
- 1986-03-20 JP JP61060814A patent/JPH0657875B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1987
- 1987-02-24 KR KR870001562A patent/KR870009057A/ko not_active Withdrawn
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR870009057A (ko) | 1987-10-23 |
| JPS62218591A (ja) | 1987-09-25 |
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