JPH0658450A - 電磁駆動形小形弁 - Google Patents

電磁駆動形小形弁

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JPH0658450A
JPH0658450A JP20907692A JP20907692A JPH0658450A JP H0658450 A JPH0658450 A JP H0658450A JP 20907692 A JP20907692 A JP 20907692A JP 20907692 A JP20907692 A JP 20907692A JP H0658450 A JPH0658450 A JP H0658450A
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small valve
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silicon
iron alloy
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JP20907692A
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Keiichi Yanagisawa
佳一 柳沢
Hiroki Kuwano
博喜 桑野
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明は、駆動機構部分をさらに小形化し、流
量が10μl/min以下の極微小流量を安定にかつ高
速で駆動可能な電磁駆動形小形弁を提供することを目的
とする。 【構成】本発明は、中央部に貫通穴を有するシリコン1
とニッケル鉄合金膜もしくは窒化シリコン膜の弁の蓋部
分2からなる基板と、この基板の表面に前記貫通穴と接
触しない構造のニッケル鉄合金膜からなる両持ち梁3
と、外部に配置した駆動コイル4とを具備して構成す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は各種半導体デバイスの製
造工程で用いられる反応ガスの微小流量制御に有利な電
磁駆動形小形弁に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体デバイスの製造工程においてCV
D法(化学的気相堆積法)は各種薄膜の作製プロセスと
して重要な役割を果たしており、さらにその反応ガスの
流量制御に用いられる小形弁には高い性能が要求され
る。従来の電磁力を用いた小形弁では主要部分は機械加
工で作製するため高い精度が得られず、流量が最小10
0μl(マイクロリットル)/min程度までしか制御
できないなど微小流量を安定に動作させることが困難で
あった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の事情に
鑑みてなされたもので、駆動機構部分をさらに小形化
し、流量が10μl/min以下の極微小流量を安定に
かつ高速で駆動可能な電磁駆動形小形弁を提供すること
を目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明の電磁駆動形小形
弁はホトリソグラフィ技術と薄膜技術とで弁の主要構成
部分をシリコン基板上に一体形成することにより高い寸
法精度が得られ、また薄膜の両持ち梁構造であるので高
速応答が可能となる。
【0005】
【作用】本発明は、駆動コイルを作動させると磁場勾配
により軟磁性体で作製された両持ち梁が変位し、駆動コ
イルへの電流の極性を変えることでシリコン基板上に形
成された貫通穴を有する蓋の部分を開閉動作させようと
するものである。
【0006】
【実施例】次に本発明の実施例について図面を参照して
説明する。
【0007】図1(a)は本発明の一実施例に係る電磁
駆動形小形弁の主要部分の上面図、図1(b)は同じく
断面図である。即ち、1は中央部に貫通穴を有するシリ
コン、2はニッケル鉄合金膜または窒化シリコン膜から
なる弁の蓋部分、3はシリコン1の貫通穴と接触しない
構造の軟磁性体のニッケル鉄合金膜からなる両持ち梁、
4は外部に配置した駆動コイル、5は両持ち梁の変位方
向である。この弁の動作は駆動コイル4に電流を印加す
るとコイル4の周辺部に磁場勾配が形成され、両持ち梁
3を磁場勾配の最も大きい位置に配置することにより梁
3の部分が磁化され大きな変位量が得られることを利用
して、両持ち梁3の下部に配置した円錐形の貫通穴を有
する弁の蓋部分2へ押し下げられ貫通穴が塞がれる。ま
たコイル4への印加電流方向を切り替えることにより図
中5で示すように梁3が変位し、弁の開閉動作が行われ
ることによる。
【0008】図2は本発明の他の実施例で、図1の小形
弁の前後にオリフィス板及びコイルを設けた電磁駆動形
小形弁の断面図で、1はシリコン、2はニッケル鉄合金
膜または窒化シリコン膜からなる弁の蓋部分、3は軟磁
性体のニッケル鉄合金膜からなる両持ち梁、4a,4b
は外部に配置した駆動コイル、6a,6b,はシリコン
からなるオリフィス板である。オリフィス板6a,6b
を設けることで弁部分の損傷をまねく不純物粒子の侵入
を防ぐことができるなど弁部分を安定に動作させること
に対して有効であることがわかった。また、オリフィス
板6a,6bの前後にそれぞれコイル4a,4bを配置
した構成とすることで両持ち梁3の開閉動作を高効率で
行えることがわかった。
【0009】図3は本発明の他の実施例に係り、図2の
外部の駆動コイル部分を薄膜コイルでオリフィス板と一
体化した電磁駆動形小形弁の断面図で、1はシリコン、
2はニッケル鉄合金膜または窒化シリコン膜からなる弁
の蓋部分、3は軟磁性体のニッケル鉄合金膜からなる両
持ち梁、6a,6bはシリコンからなるオリフィス板、
7a,7bは薄膜コイルである。金または銅膜からなる
薄膜コイル7a,7bはホトリソグラフィ技術とスパッ
タおよびエッチングなどの薄膜技術により形成した。コ
イル7a,7bとオリフィス板6a,6bを一体化する
ことによりさらに小形化を図れた。
【0010】図4(a)は本発明の他の実施例に係り卍
形の両持ち梁を用いた電磁駆動形小形弁の上面図、図4
(b)は同じく断面図で、1はシリコン、2はニッケル
鉄合金膜または窒化シリコン膜からなる弁の蓋部分、3
0は中央部が円錐形状の卍形からなる軟磁性体のニッケ
ル鉄合金膜の両持ち梁である。図4(a)の卍形両持ち
梁30の形状は約300μm角、梁の幅は約20μm、
梁の厚さは1〜5μm程度とした。その中央部は下部の
蓋部分2の形状にあわせた円錐形とした。作製方法はす
べてホトリソグラフィ技術と薄膜技術を用いた。構成材
料がシリコン単結晶とニッケル鉄合金または窒化シリコ
ンとの2種類であることおよび極めて安定な材料である
ことからパーティクルの発生は無い。さらに両持ち梁3
0が微小構造であることから高速応答が可能でかつ優れ
た安定性が得られる。図4で示した電磁駆動形小形弁を
外部の駆動コイルで作動させた。駆動コイルの電圧5
V、駆動電流60mAで行ったところ、第1次共振振動
数は約5KHzで梁の変位量は約3μmであった。ま
た、希ガス(アルゴン)を用いて実験したところ、0.
1〜10μl/minの流量をリークデテクタにより確
認することができた。卍形両持ち梁30の高次の共振点
は30KHzと高速応答可能であることがわかった。ま
た、両持ち梁30と蓋部分2との隙間は高々1μm程度
であり変位量も充分であるので弁部分の開閉動作を実現
できることがわかった。
【0011】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、
0.1〜10μl/minの流量を高い精度で制御可能
な極微小流量制御用小形弁を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)は本発明の一実施例に係る電磁駆動形小
形弁の主要部分の上面図、(b)は同じく断面図であ
る。
【図2】本発明の他の実施例で、図1の小形弁の前後に
オリフィス板及びコイルを設けた電磁駆動形小形弁の断
面図である。
【図3】本発明の他の実施例に係り、図2の外部の駆動
コイル部分を薄膜コイルでオリフィス板と一体化した電
磁駆動形小形弁の断面図である。
【図4】(a)は本発明の他の実施例に係り卍形の両持
ち梁を用いた電磁駆動形小形弁の上面図、(b)は同じ
く断面図である。
【符号の説明】
1…シリコン、2…ニッケル鉄合金膜または窒化シリコ
ン膜からなる弁の蓋部分、3…ニッケル鉄合金膜からな
る両持ち梁、4,4a,4b…駆動コイル、5…両持ち
梁の変位方向、6a,6b…オリフィス板、7a,7b
…薄膜コイル。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 中央部に貫通穴を有するシリコンとニッ
    ケル鉄合金膜もしくは窒化シリコン膜からなる基板と、
    この基板の表面に前記貫通穴と接触しない構造のニッケ
    ル鉄合金膜からなる両持ち梁と、外部に配置した駆動コ
    イルとを具備することを特徴とする電磁駆動形小形弁。
  2. 【請求項2】 両持ち梁が、中央部分が円錐形状の卍形
    梁構造であることを特徴とする請求項1記載の電磁駆動
    形小形弁。
  3. 【請求項3】 基板および両持ち梁の前後に、中央部に
    貫通穴を有するシリコンからなるオリフィス板を設ける
    ことを特徴とする請求項1記載の電磁駆動形小形弁。
  4. 【請求項4】 オリフィス板の貫通穴の周辺部に金もし
    くは銅薄膜のコイルを一体化させたことを特徴とする請
    求項3記載の電磁駆動形小形弁。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8042126B2 (en) 2006-03-15 2011-10-18 Clarion Co., Ltd. Disc player

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0338541U (ja) * 1989-08-08 1991-04-15
JPH04136577A (ja) * 1990-09-26 1992-05-11 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 小形流量制御素子
JPH0465952U (ja) * 1990-10-09 1992-06-09

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