JPH0659463A

JPH0659463A - 電子写真感光体の製造方法

Info

Publication number: JPH0659463A
Application number: JP21030492A
Authority: JP
Inventors: Hideaki Taniguchi; 英明谷口; Masayuki Sakamoto; 雅遊亀坂本; Tatsuhiro Morita; 竜廣森田; Kazuyuki Arai; 和幸新居; Hiroshi Matsumoto; 浩史松本; Mitsuhiro Shinobu; 充弘忍
Original assignee: Sharp Corp
Current assignee: Sharp Corp
Priority date: 1992-08-06
Filing date: 1992-08-06
Publication date: 1994-03-04

Abstract

(57)【要約】【目的】電子写真感光体の洗浄工程として水洗浄を行
った場合において、欠陥の発生を防止する。【構成】アルミニウムからなる導電性基体上に感光層
が形成されてなる電子写真感光体の製造方法であって、
該導電性基体上に感光層を形成する前に、電気伝導度が
１０〜０．０６μｍ／ｃｍの水（第２の洗浄液２５、第
３の洗浄液３５、第４の洗浄液４５）にて洗浄する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は複写機、プリンタ等に用
いられる電子写真感光体の製造方法に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】一般に電子写真感光体は、ドラム状導電
性基体上に感光層を形成したものである。このドラム状
導電性基体は円筒状のアルミニウム表面を切削して鏡面
加工又はインパクト成形することにより整形される。切
削時又はインパクト成形時には一般に灯油ナフサ等の鉱
物油が使用される。これは切削時又はインパクト成形時
に発生する熱の冷却、潤滑工具の摩耗の防止、切削又は
インパクト成形した基体面の面精度の向上のためであ
る。鏡面加工又はインパクト成形中に基体表面には、切
削油のミスト、空気中のダスト、切粉等が付着する。従
って基体表面を洗浄処理してこれらを除去した後に、縮
合多環顔料、アゾ顔料等の電荷発生物質、樹脂の結着
剤、酸化防止剤等の添加剤などからなる電荷輸送層を順
次塗布、積層し、乾燥して感光層を形成する。

【０００３】電荷発生層及び電荷輸送層は、上述した電
荷発生層及び電荷輸送層を構成する物質をそれぞれ含有
する塗工液にドラム状導電性基体を公知の方法で浸漬す
ることによって該基体の表面に形成される。ここで行う
浸漬塗布方法としては、特に制限はなく公知の方法が使
用できるが、例えば特開昭４９−１３０７３６，特開昭
５７−５０４７及び特開昭５９−４６１７１号公報に開
示される方法が挙げられる。

【０００４】浸漬塗布方法において、導電性基体表面の
洗浄が不十分であると、その表面に油、ダスト等が残
り、塗布の際にハジキ、シミ等の塗布欠陥の原因とな
る。このような電子写真感光体上に発生した欠陥は、こ
の感光体を用いた複写機の複写画像に黒ぽち、白ぽちハ
ーフトーン画像のむら等となって現れ、画像品質に悪影
響を及ぼす。

【０００５】基体表面の洗浄方法としては、通常必要に
応じて加熱された有機溶媒中に基体を浸漬処理及び／又
は超音波の作用中下で浸漬処理する浸漬洗浄、基体を溶
媒に浸漬中又は基体に溶媒をシャワーリングしながらブ
ラシ、スポンジ等によって物理的に擦する接触洗浄、溶
媒をスリットより基体表面に噴出するジェット洗浄、溶
媒蒸気中に基体を挿入する蒸気洗浄が挙げられ、これら
の単独、又は組み合わせによって基体表面の洗浄を行っ
ている。

【０００６】ここで使用される溶媒としては、メチルク
ロライド、エチレンクロライド、１．１．１−トリクロ
ルエタン、トリクロルエチレン、パークロルエチレン、
等の塩素系溶剤、フロン−１１２、フロン−１１３等の
フッ素系溶剤、該フッ素溶剤とメタノール、メチレンク
ロライド等の混合溶剤、ベンゼン、トルエン、メタノー
ル、エタノール、イソプロピルアルコール、石油系炭化
水素等及びそれらの混合物が挙げられる。これらの溶剤
中には引火性、発火性を有するもの、人体に有害である
ので使用許容濃度が低いもの、洗浄能力がひくいものが
含まれており、最も一般的に使用されているものは１．
１．１−トリクロルエタンである。

【０００７】電子写真感光体のの導電性基体としては、
アルミニウム、銅、真ちゅう、ニッケル、ステンレス等
の金属のドラム状基体又は薄膜シート、又は、アルミニ
ウム、錫合金、酸化インジウム等をポリエステルフィル
ムあるいは紙、金属フィルムのドラム状基体に蒸着した
ものが挙げられるが、低価格、加工の容易性、強度及び
重量等の観点からアルミニウムが最も一般的である。

【０００８】アルミニウムは加工の容易性及び感光層と
の接着性の観点から純度の高いものが用いられるが、反
応性が高く柔らかいと言う性質を有しており、アルミニ
ウムの純度が高くなるほどこの傾向が強くなる。

【０００９】従ってこのような高純度のアルミニウムか
らなる導電性基体の表面を洗浄する場合には、導電性基
体表面の反応性と柔らかさを考慮して、有機溶媒による
洗浄が行われるのが一般的である。

【００１０】しかしながら１．１．１−トリクロルエタ
ンは洗浄能力が高い、取り扱いが容易である等の長所が
あるものの、地球温暖化、オゾン層の破壊等を引き起こ
す物質の１つであるとかんがえられており、フロンとと
もに全世界でその削減が決定され、１．１．１−トリク
ロルエタンの代替洗浄剤、代替洗浄方法の開発が切望さ
れている。

【００１１】近年、これらの代替洗浄方法として基体表
面を市水、純水、イオン交換水又は、ノニオン系界面活
性剤及び／又はアニオン系界面活性剤含有水中で洗浄す
る水洗浄が検討されている。

【００１２】これは基体表面に付着した油及びダストを
超音波の作用下にてミセル化した界面活性剤含有水によ
り洗浄を行い、その後、水濯ぎにより表面に付着してい
る界面活性剤を洗い流す方法である。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、水洗浄は従来
の有機溶剤による洗浄に比べて洗浄能力が劣り、プロセ
スも複雑になるという問題がある。

【００１４】従来の水洗浄では超音波の作用下、導電性
基体表面を界面活性剤含有水又は純水又はイオン交換水
中で浸漬洗浄し、界面活性剤含有水を使用した場合には
引き続き、前記界面活性剤するために、水すすぎを数回
行う。このような水洗浄をアルミニウムからなる導電性
基体にたいして行うと、従来の有機溶剤による洗浄に比
べて洗浄後導電性基体上にシミができたり、感光体塗布
後にこれが塗布されていない塗布ヌケが生じやすい。

【００１５】本発明は上記点に鑑み、電子写真感光体に
アルミニウムからなる導電性基体を用い、その洗浄方法
として水洗浄を行った場合でも、シミ、感光層の塗布ヌ
ケ等の欠陥が生じない電子写真感光体の製造方法を提供
するものである。

【００１６】

【課題を解決するための手段】本発明はアルミニウムか
らなる導電性基体上に感光層が形成されてなる電子写真
感光体の製造方法であって、該導電性基体上に感光層を
形成する前に、電気伝導度が１０〜０．０６μｍ／ｃｍ
の水で洗浄することを特徴とするものである。

【００１７】

【作用】図２に洗浄水の電気伝導度とシミ及び塗布ヌケ
欠陥の関係を示す。

【００１８】電気伝導度が１０μｍ／ｃｍ以下の水に浸
漬するのは導電性基体上のシミの発生を抑えるためであ
る。これ以上であると水中のアンモニウムイオン、塩化
物イオン、シリカの含有量が多すぎるので、これらが浸
漬した導電性基体に付着する。そしてこの導電性基体を
乾燥すると前記付着物が凝縮してシミが発生することに
なる。

【００１９】電気伝導度が０．０６μｍ／ｃｍ以上の水
に浸漬するのは感光層の塗布ヌケの発生を抑えるためで
ある。これ以下であるとアルミニウムからなる導電性基
体と水との反応が激しく、アルミナ水酸化物の成長が起
こるため、感光層を塗布した際に塗布ヌケが発生するこ
とになる。

【００２０】このように電気伝導度が１０〜０．０６μ
ｍ／ｃｍの水を用いることによって、水洗浄を行っても
欠陥のない電子写真感光体が得られる。

【００２１】

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれに限定されるものではない。

【００２２】図１は本実施例に用いる洗浄装置の概略図
である。従来と同様に切削加工されたアルミニウムから
なるドラム状導電性基体１はレール３に配置されたロボ
ットバンド２に支持されている。

【００２３】第１の洗浄槽１１は界面活性剤が溶解した
純水の洗浄液１８で満たされており、該洗浄液はヒータ
ー１６により４０〜６０℃、ここでは５０℃に加熱され
ており、かつ洗浄槽１１底部には超音波発振器１７が備
え付けられ、基体浸漬時に超音波が発振するようになっ
ている。洗浄層１１はパイプ１２から洗浄液がタンク
（図示せず）より定常的に送り込まれている。洗浄に
より基体表面から除去された油、ダスト、切粉が分散し
ている洗浄液は配管１９からポンプ１４によりフィルタ
ー１５を経て循環し、ダスト、切粉はフィルター１５に
補足される。基体の浸漬によりオーバーフローする液は
配管１３から排出される。排出された洗浄液は排液処理
装置（図示せず）により処理される。第２の洗浄槽２１
第３の洗浄槽３１及び第４の洗浄槽４１は洗浄液２５，
３５，４５としてそれぞれ所定の電気伝導度の水が満た
されている。洗浄液はタンク６０より洗浄槽４１に供給
され、第４の洗浄槽４１からオーバーフローにより第３
の洗浄槽３１に洗浄液が供給され、第３の洗浄槽３１か
らオーバーフローにより、第２の洗浄槽２１に洗浄液が
供給され、かつ第２の洗浄槽２１からオーバーフローす
る液は配管２７から排出され、排液処理装置で処理され
る。

【００２４】ここで第１の洗浄槽の洗浄液のＰＨは６．
０〜９．０、好ましくは６．５〜８．０である。該洗浄
液のＰＨを６．０〜９．０に制御すると、アルミニウム
基体表面の水酸化物、酸化物、水和物の生成が抑制さ
れ、該反応生成物によるぬれ性等の物理的特性の変化が
生じることがないので、塗布の際のハジキ、シミ、塗布
ヌケ等の塗布欠陥の発生を抑えることができる。また、
洗浄液の排水処理設備等の負担も少なくなり、設備コス
ト、排水処理コストと低減することができる。

【００２５】洗浄に使用する界面活性剤は、基体を腐食
することのないノニオン系界面活性剤及び／又はアニオ
ン系界面活性剤が使用でき、具体的にはポリオキシエチ
レンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン、
ポリオキシプロピレン、ブロックコポリマー型及びノニ
ルフェノールポリオキシエチルエーテルのノニオン系界
面活性剤及びアルキルベンゼン、高級アルコール、α−
オレフィンなどの硫酸塩、ケイ酸塩、炭酸塩又はリン酸
塩のアニオン系界面活性剤があげられる。なかでもＰＨ
が６．０〜９．０の洗浄液を形成する界面活性剤として
は、ヘンケル白水（株）製のＴ−１８０，ライオン
（株）製のＦＭ−１０及びライオミックスＬ，ケミック
ス（株）製のＣＡ０１及び花王（株）製のクリンスルー
７５０Ｌが挙げられる。

【００２６】この洗浄液の界面活性剤の濃度は０．５〜
３０％、好ましくは４〜１５％である。本実施例ではポ
ーラクリン６９０（田中インポートグループ（株））の
５％水溶液を用いた。

【００２７】また、洗浄助剤（ビルダー）として、炭酸
ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸ナ
トリウム、ケイ酸ナトリウム、硫酸ナトリウム等の無機
ビルダー、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロ
ース、有機アミン等の有機ビルダーを前記洗浄液に添加
してもよい。

【００２８】第２の洗浄液２５第３の洗浄液３５及び第
４の洗浄液４５に使用される所定電気伝導度の水は市水
（電気伝導度２００μｓ／ｃｍ）を複数のフィルター
（純水装置）に通すことによって所定の電気伝導度に調
整される。

【００２９】洗浄槽１１、第２の洗浄槽２１第３の洗浄
槽３１及び第４の洗浄槽４１にてこの順番に基体１を
０．５〜１０分、好ましくは１．５分〜５分間浸漬洗浄
する。浸漬中、必要に応じて基体を振動させても良い。
ここでは第１の洗浄槽２１に２８〜９００ＫＨｚ（ここ
では４０ＫＨｚ）の超音波を印加し、各槽２分間浸漬洗
浄を行った。

【００３０】洗浄されたドラム状導電性基体１はクリー
ン度１００に保たれたクリーンブース内で８０℃のクリ
ーンエアーを吹き付けて乾燥させる。

【００３１】このドラム状導電性基体１表面に公知の方
法で感光層を形成する。例えば、浸漬塗布方法、リンク
方式塗布法又は、スプレー塗布法によって、洗浄処理さ
れた導電性基体１表面に電荷発生層を形成し、次いで、
電荷発生層の上に浸漬塗布法又は、スプレー塗布法によ
って電荷輸送層を形成する。

【００３２】電荷発生層は光照射により電荷を発生する
電荷発生材料を主成分とし、必要に応じて公知の結合
剤、可塑剤、増感剤を含有し、膜厚が１．０μｍ以下と
なるように導電性基体１上に塗布する。電荷発生材料と
しては、ペリレン系顔料、多環キノン系顔料、フタロシ
アニン系顔料、金属フタロシアニン系顔料、スクエアリ
ウム色素、アズレニウム色素、チアピリリウム色素、及
びカルバゾール骨格、スチリルスチルベン骨格、トリフ
ェニルアミン骨格、ジベンゾチオフェン骨格オキサジア
ゾール骨格、フルオロノン骨格、ビススチルベン骨格ジ
スチルオキサジアゾール骨格又はジスチルカルバゾール
骨格を有するアゾ顔料等が挙げられる。ここでは下記Ａ
液を膜厚０．５μｍになるように浸漬塗布し、７５℃で
１時間乾燥して電荷発生層とした。

【００３３】電荷輸送層は、電荷発生材料が発生した電
荷を受けてこれを輸送する能力を有する電荷輸送材料及
び結着剤を必須成分とし、必要に応じて公知のレベリン
グ剤、可塑剤、増感剤等を含有し、乾燥膜厚５〜７０μ
ｍとなるように電荷発生層上に塗布する。電荷輸送材料
としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール及びその誘導
体、ポリ−γ−カルバゾリルエチルグルタメート及びそ
の誘導体、ピレン−ホルムアルデヒド縮合物及びその誘
導体、ポリビニルピレン、ポリビニルフェナトレンオキ
サゾール誘導体、オキソジアゾール誘導体、イミダゾー
ル誘導体、９−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）アント
ラセン、１，１−ビス（４−ジベンジルアミノフェニ
ル）プロパン、スチリルアントラセン、スチルピラゾリ
ン、フェニルヒドラゾン類、ヒドラゾン誘導体等の電子
供与物質、或いはフルオレノン誘導体、ジベンゾチオフ
ェン誘導体、インデノチオフェン誘導体、フェナンスレ
ンキノン誘導体、インデノピリジン誘導体、チオキサン
トン誘導体、ベンゾ（ｃ）シンノリン誘導体、フェナジ
ンオキサイド誘導体、テトラシアノエチレン、テトラシ
アノキノジメタン、プロマニル、クロラニル、ベンゾキ
ノン等の電子受容性物質が挙げられる。ここでは下記Ｂ
液を膜厚２０μｍになるように浸漬塗布し７５℃で１時
間乾燥して電荷輸送層とした。

【００３４】電荷輸送層を構成する結着剤としては電荷
輸送材料と相容性を有するものであればよく、例えばポ
リカーボネート、ポリビニルブチラール、ポリアミド、
ポリエステル、ポリケトン、エポキシ樹脂、ポリウレタ
ン、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリアクリルア
ミド、フェノール樹脂、フェノキシ樹脂等が挙げられ
る。

【００３５】Ａ液ジブロムアンスアンスロン２重量部、ブチラール樹脂
（積水化学株式会社製エスレックＢＭ−２）２重量部、
シクロヘキサノン２３０重量部をボールミルにて８時間
分散処理して得られた溶液。

【００３６】Ｂ液ヒドラゾン系電荷輸送材（日本化薬株式会社製ＡＢＰ
Ｈ）１重量部、ポリカーボネート樹脂（帝人化学株式会
社製パンライトＬ−１２５０）１重量部をジクロルエ
タン８重量部で溶解して得られた溶液。

【００３７】上述の洗浄液２５，３５，４５の電気伝導
度を変化させて形成した電子写真感光体３０本を複写機
（シャープ株式会社製ＳＦ−８１００）に搭載してコ
ピーをとり、画像評価を行った。結果を図２の○，△に
示す。ここで評価は３０本の感光体について１ｃｍ２あ
たり０．５ｍｍ以上の大きさのシミ（画像上では黒ぽ
ち）、及び塗布ヌケ（画像上では白ぽち）欠陥の個数に
よって行った。図２より明らかなように洗浄液の水の
電気伝導度が０．０６〜１０μｓ／ｃｍの範囲でシミ、
及び塗布ヌケの両方の欠陥の発生を抑えることができ
る。

【００３８】（実施例２）実施例１において感光層形成
にＡ液、Ｂ液を用いる代わりにβ−銅フタロシアニン１
５重量部、下記構造を有する感光体材料７５重量部、ジ
クリリメタン３００重量部にポリカーボネート樹脂（カ
リバー２００住友ノーガタック（株）製）９０重量部を
混合し、サイドグライダーで３時間分散したものを用
い、他は実施例１と同様に洗浄液２５，３５，４５の電
気伝導度を変化させて電子写真感光体を作成し、欠陥の
発生状況を調べた結果を図２に●，▲で示す。図２より
明らかなように洗浄液の水の電気伝導度が０．０６〜１
０μｓ／ｃｍの範囲でシミ、及び塗布ヌケの両方の欠陥
の発生を抑えることができる。

【００３９】

【化１】

【００４０】

【発明の効果】本発明によれば、電子写真感光体にアル
ミニウムからなる導電性基体を用い、その洗浄方法とし
て水洗浄を行った場合でも、シミ、感光層の塗布ヌケ等
の欠陥を防止することができる。また、有機溶剤を使用
していないので環境に悪影響を及ぼさない。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例に用いた洗浄装置の概略図で
ある。

【図２】本発明の一実施例における洗浄水の電気伝導度
と電子写真感光体の欠陥の関係を説明するための図であ
る。

【符号の説明】

２５第２の洗浄液３５第３の洗浄液４５第４の洗浄液

フロントページの続き (72)発明者新居和幸大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号シャープ株式会社内 (72)発明者松本浩史大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号シャープ株式会社内 (72)発明者忍充弘大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号シャープ株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】アルミニウムからなる導電性基体上に感光
層が形成されてなる電子写真感光体の製造方法であっ
て、該導電性基体上に感光層を形成する前に、電気伝導
度が１０〜０．０６μｍ／ｃｍの水で洗浄することを特
徴とする電子写真感光体の製造方法。