JPH0662464B2 - 1,9―ノナンジオールの製造方法 - Google Patents
1,9―ノナンジオールの製造方法Info
- Publication number
- JPH0662464B2 JPH0662464B2 JP2086082A JP8608290A JPH0662464B2 JP H0662464 B2 JPH0662464 B2 JP H0662464B2 JP 2086082 A JP2086082 A JP 2086082A JP 8608290 A JP8608290 A JP 8608290A JP H0662464 B2 JPH0662464 B2 JP H0662464B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- reaction
- sulfolane
- rhodium
- nonanediol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は1,9−ノナンジオールの製造方法に関する。
1,9−ノナンジオールはポリエステル、ポリウレタ
ン、1,9−ノナンジアミンなどの合成原料として有用
である。
ン、1,9−ノナンジアミンなどの合成原料として有用
である。
特開昭57-197238号公報には、有機溶媒中でロジウム触
媒および単座配位性第三級有機リン化合物の存在下に
2,7−オクタジエン−1−オールを一酸化炭素と水素
との混合ガスによつてヒドロホルミル化することにより
1,9−ノナンジアールおよび/または9−ヒドロキシ
−7−ノネン−1−アールを得、これらを水素化するこ
とによつて1,9−ノナンジオールを製造する方法が記
載されている。また、特開昭64-26530号公報には、2,
7−オクタジエン−1−オールをロジウム化合物および
特定のトリス(置換アリール)ホスフアイトの存在下に
一酸化炭素と水素との混合ガスによつてヒドロホルミル
化する方法が示されている。特開昭58-157739号公報に
は、2,7−ネクタジエン−1−オールを銅系またはク
ロム系の触媒の存在下に異性化することによつて得られ
る7−オクテン−1−アールを、スルホラン水溶液中で
ロジウム錯化合物およびジフエニルホスフイノベンゼン
−m−モノスルホン酸のナトリウム塩、カリウム塩また
はリチウム塩の存在下に一酸化炭素と水素との混合ガス
によつてヒドロホルミル化することにより1,9−ノナ
ンジアールを得、該1,9−ノナンジアールを水素化す
ることによつて1,9−ノナンジオールを製造する方法
が記載されている。特開昭58-201743号公報には、ロジ
ウム錯化合物および三置換ホスフインを含む芳香族炭化
水素溶液中で7−オクテン−1−アールを一酸化炭素と
水素との混合ガスによつてヒドロホルミル化する方法が
示されている。
媒および単座配位性第三級有機リン化合物の存在下に
2,7−オクタジエン−1−オールを一酸化炭素と水素
との混合ガスによつてヒドロホルミル化することにより
1,9−ノナンジアールおよび/または9−ヒドロキシ
−7−ノネン−1−アールを得、これらを水素化するこ
とによつて1,9−ノナンジオールを製造する方法が記
載されている。また、特開昭64-26530号公報には、2,
7−オクタジエン−1−オールをロジウム化合物および
特定のトリス(置換アリール)ホスフアイトの存在下に
一酸化炭素と水素との混合ガスによつてヒドロホルミル
化する方法が示されている。特開昭58-157739号公報に
は、2,7−ネクタジエン−1−オールを銅系またはク
ロム系の触媒の存在下に異性化することによつて得られ
る7−オクテン−1−アールを、スルホラン水溶液中で
ロジウム錯化合物およびジフエニルホスフイノベンゼン
−m−モノスルホン酸のナトリウム塩、カリウム塩また
はリチウム塩の存在下に一酸化炭素と水素との混合ガス
によつてヒドロホルミル化することにより1,9−ノナ
ンジアールを得、該1,9−ノナンジアールを水素化す
ることによつて1,9−ノナンジオールを製造する方法
が記載されている。特開昭58-201743号公報には、ロジ
ウム錯化合物および三置換ホスフインを含む芳香族炭化
水素溶液中で7−オクテン−1−アールを一酸化炭素と
水素との混合ガスによつてヒドロホルミル化する方法が
示されている。
ヒドロホルミル化反応に使用するロジウム触媒は高価で
あるため、反応後にロジウム触媒を損失および失活を伴
うことなく回収し、ヒドロホルミル化反応に再使用する
ことが工業的にヒドロホルミル化反応を実施するうえで
要求される。本発明者らの検討によると、特開昭57-197
238号公報に記載の方法で得られる1,9−ノナンジア
ールおよび9−ヒドロキシ−7−ノネン−1−アールは
高沸点化合物であるため、反応混合物から1,9−ノナ
ンジアールおよび/または9−ヒドロキシ−7−ノネン
−1−アールを蒸留分離する際に、ロジウム触媒の活性
の大きな低下は避けられないことが判明した。また、二
置換ホスフインオキサイドを反応系内に適当量共存させ
ることによりロジウム触媒の熱劣化をかなり防止するこ
とはできたが、繰り返し回数の増加に伴ない触媒活性の
低下を完全に抑えることはできなかった。特開昭64−26
530号公報に記載された方法では、2,7−オクタジエ
ン−1−オールの2位および3位の位置までヒドロホル
ミル化されたジホルミル化物が副生し、該ジホルミル化
物は熱的に極めて不安定であるため、蒸留分離時に脱水
反応を引き起こし、その結果、もはや分離不可能な炭素
数10の分岐ジオールが1,9−ノナンジオール中に混
入し、1,9−ノナンジオールの純度を著しく低下させ
る。また、この方法では2−メチル−1,8−オクタン
ジオールが大量に副生するため、選択的に1,9−ノナ
ンジオールを得ることはできない。
あるため、反応後にロジウム触媒を損失および失活を伴
うことなく回収し、ヒドロホルミル化反応に再使用する
ことが工業的にヒドロホルミル化反応を実施するうえで
要求される。本発明者らの検討によると、特開昭57-197
238号公報に記載の方法で得られる1,9−ノナンジア
ールおよび9−ヒドロキシ−7−ノネン−1−アールは
高沸点化合物であるため、反応混合物から1,9−ノナ
ンジアールおよび/または9−ヒドロキシ−7−ノネン
−1−アールを蒸留分離する際に、ロジウム触媒の活性
の大きな低下は避けられないことが判明した。また、二
置換ホスフインオキサイドを反応系内に適当量共存させ
ることによりロジウム触媒の熱劣化をかなり防止するこ
とはできたが、繰り返し回数の増加に伴ない触媒活性の
低下を完全に抑えることはできなかった。特開昭64−26
530号公報に記載された方法では、2,7−オクタジエ
ン−1−オールの2位および3位の位置までヒドロホル
ミル化されたジホルミル化物が副生し、該ジホルミル化
物は熱的に極めて不安定であるため、蒸留分離時に脱水
反応を引き起こし、その結果、もはや分離不可能な炭素
数10の分岐ジオールが1,9−ノナンジオール中に混
入し、1,9−ノナンジオールの純度を著しく低下させ
る。また、この方法では2−メチル−1,8−オクタン
ジオールが大量に副生するため、選択的に1,9−ノナ
ンジオールを得ることはできない。
また、特開昭58-157739号公報および特開昭58-201743号
公報に記載された方法によれば、高純度の1,9−ノナ
ンジオールを得ることはできるが、そのためには2,7
−オクタジエン−1−オールを銅系またはクロム系の触
媒の存在下に7−オクテン−1−アールに異性化する必
要があり、工程数が多くなり合計としての1,9−ノナ
ンジオールの選択率が低くなる。
公報に記載された方法によれば、高純度の1,9−ノナ
ンジオールを得ることはできるが、そのためには2,7
−オクタジエン−1−オールを銅系またはクロム系の触
媒の存在下に7−オクテン−1−アールに異性化する必
要があり、工程数が多くなり合計としての1,9−ノナ
ンジオールの選択率が低くなる。
本発明の目的は、高選択率で高純度の1,9−ノナンジ
オールを製造する工業的に有利な方法を提供することに
ある。
オールを製造する工業的に有利な方法を提供することに
ある。
本発明によれば、上記の目的は、スルホラン水溶液中で
ロジウム錯化合物、一般式(I) (式中、Mはリチウム、ナトリウムまたはカリウムを表
し、nは1〜3の整数を表す。) で示される水溶性単座配位性ホスフインおよび一般式(I
I) (式中、X1、X2、X3およびX4はそれぞれスルホン酸基の
リチウム塩、ナトリウム塩またはカリウム塩を有してい
てもよいアリール基を表し、ただしX1、X2、X3およびX4
のうちの少なくとも1つはスルホン酸基のリチウム塩、
ナトリウム塩またはカリウム塩を有するアリール基を表
し、Rは低級アルキル基で置換されていてもよい炭素数
2〜5の直鎖状アルキレン基を表す。)で示される水溶
性二座配位性ホスフインの存在下に2,7−オクタジエ
ン−1−オールを一酸化炭素と水素との混合ガスによつ
てヒドロホルミル化し、 (2) 工程(1)で得られる反応混合液に対して炭素数5〜
11の飽和脂肪族第1級アルコールと炭素数5〜10の
飽和脂肪族炭化水素との混合物による抽出操作を施すこ
とによつて該反応混合液から9−ヒドロキシ−7−ノネ
ン−1−アールを抽出し、 (3) 工程(2)で得られる触媒成分を含む抽残液を工程
(1)のヒドロホルミル化反応工程にフイードし、 (4) 工程(2)で得られる9−ヒドロキシ−7−ノネン−
1−アールを含む抽出液を水素化反応に付し、 (5) 工程(4)で得られる反応混合液を必要により水洗し
たのち、蒸留することにより1,9−ノナンジオールお
よびスルホランを分離し、 (6) 工程(5)で回収されるスルホランを工程(1)のヒド
ロホルミル化反応工程にフイードする ことを特徴とする1,9−ノナンジオールの製造方法を
提供することによつて達成される。
ロジウム錯化合物、一般式(I) (式中、Mはリチウム、ナトリウムまたはカリウムを表
し、nは1〜3の整数を表す。) で示される水溶性単座配位性ホスフインおよび一般式(I
I) (式中、X1、X2、X3およびX4はそれぞれスルホン酸基の
リチウム塩、ナトリウム塩またはカリウム塩を有してい
てもよいアリール基を表し、ただしX1、X2、X3およびX4
のうちの少なくとも1つはスルホン酸基のリチウム塩、
ナトリウム塩またはカリウム塩を有するアリール基を表
し、Rは低級アルキル基で置換されていてもよい炭素数
2〜5の直鎖状アルキレン基を表す。)で示される水溶
性二座配位性ホスフインの存在下に2,7−オクタジエ
ン−1−オールを一酸化炭素と水素との混合ガスによつ
てヒドロホルミル化し、 (2) 工程(1)で得られる反応混合液に対して炭素数5〜
11の飽和脂肪族第1級アルコールと炭素数5〜10の
飽和脂肪族炭化水素との混合物による抽出操作を施すこ
とによつて該反応混合液から9−ヒドロキシ−7−ノネ
ン−1−アールを抽出し、 (3) 工程(2)で得られる触媒成分を含む抽残液を工程
(1)のヒドロホルミル化反応工程にフイードし、 (4) 工程(2)で得られる9−ヒドロキシ−7−ノネン−
1−アールを含む抽出液を水素化反応に付し、 (5) 工程(4)で得られる反応混合液を必要により水洗し
たのち、蒸留することにより1,9−ノナンジオールお
よびスルホランを分離し、 (6) 工程(5)で回収されるスルホランを工程(1)のヒド
ロホルミル化反応工程にフイードする ことを特徴とする1,9−ノナンジオールの製造方法を
提供することによつて達成される。
本発明の方法に従う2,7−オクタジエン−1−オール
のヒドロホルミル化反応に用いられるロジウム錯化合物
としては、反応条件下においてヒドロホルミル化能を有
する任意のロジウム錯化合物を用いることができる。か
かるロジウム錯化合物はすでに多数知られており、例え
ば、HRh(CO)(PA3)3(式中、Aはアリール基を表す。以
下、同じ。)Rh4(CO)12、Rh6(CO)16、Rh(acac)(CO)
2(式中、acacはアセチルアセトナート基を表す。以
下、同じ。)等を挙げることができる。また、RhCl(P
A3)3、Rh(acac)3、Rh(OAc)3(式中、OAcはアセトキシル
基を表す)、〔Rh(CO2(PA3)2〕2、RhC13・3H2O、Rh2O3等
のロジウム化合物を触媒調整槽で通常の方法により活性
化したのち用いることもできる。なかでも、Rh(acac)(C
O)2、Rh4(CO)12、Rh6(CO)16を用いた場合には、1,9
−ノナンジオール前駆体への選択率が極めて高い結果が
得られる。ロジウム錯化合物は通常、ヒドロホルミル化
反応液1当りロジウム原子換算で0.1〜10ミリグ
ラム原子の範囲の量で使用される。
のヒドロホルミル化反応に用いられるロジウム錯化合物
としては、反応条件下においてヒドロホルミル化能を有
する任意のロジウム錯化合物を用いることができる。か
かるロジウム錯化合物はすでに多数知られており、例え
ば、HRh(CO)(PA3)3(式中、Aはアリール基を表す。以
下、同じ。)Rh4(CO)12、Rh6(CO)16、Rh(acac)(CO)
2(式中、acacはアセチルアセトナート基を表す。以
下、同じ。)等を挙げることができる。また、RhCl(P
A3)3、Rh(acac)3、Rh(OAc)3(式中、OAcはアセトキシル
基を表す)、〔Rh(CO2(PA3)2〕2、RhC13・3H2O、Rh2O3等
のロジウム化合物を触媒調整槽で通常の方法により活性
化したのち用いることもできる。なかでも、Rh(acac)(C
O)2、Rh4(CO)12、Rh6(CO)16を用いた場合には、1,9
−ノナンジオール前駆体への選択率が極めて高い結果が
得られる。ロジウム錯化合物は通常、ヒドロホルミル化
反応液1当りロジウム原子換算で0.1〜10ミリグ
ラム原子の範囲の量で使用される。
一般式(I)で示される水溶性単座配位性ホスフインは、
具体的には (C6H5)2P(C6H4-m-SO3Li)、(C6H5)P(C6H4-m-SO3Li)2、P
(C6H4-m-SO3Li)3、(C6H5)2P(C6H4-m-SO3Na)、(C6H5)P(C
6H4-m-SO3Na)2、P(C6H4-m-SO3Na)3、(C6H5)2P(C6H4-m-S
O3K)、(C6H5)P(C6H4-m-SO3K)2、P(C6H4-m-SO3K)3 である。これらの水溶性単座配位性ホスフインはロジウ
ム1グラム原子当り10当量以上の量、好ましくは40
当量以上の量で用いられる。
具体的には (C6H5)2P(C6H4-m-SO3Li)、(C6H5)P(C6H4-m-SO3Li)2、P
(C6H4-m-SO3Li)3、(C6H5)2P(C6H4-m-SO3Na)、(C6H5)P(C
6H4-m-SO3Na)2、P(C6H4-m-SO3Na)3、(C6H5)2P(C6H4-m-S
O3K)、(C6H5)P(C6H4-m-SO3K)2、P(C6H4-m-SO3K)3 である。これらの水溶性単座配位性ホスフインはロジウ
ム1グラム原子当り10当量以上の量、好ましくは40
当量以上の量で用いられる。
一般式(II)で示される水溶性二座配位性ホスフインとし
ては、例えば、 (C6H4-m-SO3Na)2PCH2CH2CH2CH2P(C6H4-m-SO3Na)2、 (C6H4-m-SO3Li)2PCH2CH2CH2CH2P(C6H4-m-SO3Li)2、 (C6H4-m-SO3K)2PCH2CH2CH2CH2P(C6H4-m-SO3K)2、 (C6H4-m-SO3Na)(C6H5)PCH2CH2CH2CH2P(C6H5)(C6H4-m-SO
3Na)、 (C6H4-m-SO3Li)(C6H5)PCH2CH2CH2CH2P(C6H5)(C6H4-m-SO
3Li)、 (C6H5)2PCH2CH2CH2CH2P(C6H5)(C6H4-m-SO3Na)、 (C6H5)2PCH2CH2CH2CH2P(C6H5)(C6H4-m-SO3Li) 等が挙げられる。水溶性二座配位性ホスフインを用いな
い場合には、反応を繰り返し行うに伴ないロジウム錯化
合物の触媒活性の低下が認められた。これに対して、水
溶性二座配位性ホスフインを用いた場合には、ロジウム
錯化合物の触媒活性の劣化は認められず、かつ一般式
(I)で示される水溶性単座配位性ホスフインの酸素によ
る酸化が抑制されることが判つた。触媒活性の低下は
2,7−オクタジエン−1−オールがその2位の位置ま
でヒドロホルミル化されて得られたジホルミル体の脱水
反応によつて生成するα,β−不飽和アルデヒドまたは
2,7−オクタジエン−1−オールのアリルアルコール
部分へのロジウムの配位が原因と考えられる。一般式(I
I)で示される水溶性二座配位性ホスフインはこれらの化
合物のロジウムへの配位を抑制する作用を有するものと
推定される。水溶性二座配位性ホスフインはロジウム1
グラム原子当り0.3〜2当量の範囲の量で用いられ
る。0.3当量未満では上記効果が小さく、また2当量
を越えると反応速度の低下が顕著となる。
ては、例えば、 (C6H4-m-SO3Na)2PCH2CH2CH2CH2P(C6H4-m-SO3Na)2、 (C6H4-m-SO3Li)2PCH2CH2CH2CH2P(C6H4-m-SO3Li)2、 (C6H4-m-SO3K)2PCH2CH2CH2CH2P(C6H4-m-SO3K)2、 (C6H4-m-SO3Na)(C6H5)PCH2CH2CH2CH2P(C6H5)(C6H4-m-SO
3Na)、 (C6H4-m-SO3Li)(C6H5)PCH2CH2CH2CH2P(C6H5)(C6H4-m-SO
3Li)、 (C6H5)2PCH2CH2CH2CH2P(C6H5)(C6H4-m-SO3Na)、 (C6H5)2PCH2CH2CH2CH2P(C6H5)(C6H4-m-SO3Li) 等が挙げられる。水溶性二座配位性ホスフインを用いな
い場合には、反応を繰り返し行うに伴ないロジウム錯化
合物の触媒活性の低下が認められた。これに対して、水
溶性二座配位性ホスフインを用いた場合には、ロジウム
錯化合物の触媒活性の劣化は認められず、かつ一般式
(I)で示される水溶性単座配位性ホスフインの酸素によ
る酸化が抑制されることが判つた。触媒活性の低下は
2,7−オクタジエン−1−オールがその2位の位置ま
でヒドロホルミル化されて得られたジホルミル体の脱水
反応によつて生成するα,β−不飽和アルデヒドまたは
2,7−オクタジエン−1−オールのアリルアルコール
部分へのロジウムの配位が原因と考えられる。一般式(I
I)で示される水溶性二座配位性ホスフインはこれらの化
合物のロジウムへの配位を抑制する作用を有するものと
推定される。水溶性二座配位性ホスフインはロジウム1
グラム原子当り0.3〜2当量の範囲の量で用いられ
る。0.3当量未満では上記効果が小さく、また2当量
を越えると反応速度の低下が顕著となる。
本発明の方法に従う2,7−オクタジエン−1−オール
のヒドロホルミル化反応はスルホラン水溶液中で行われ
る。スルホランと水の重量比は10対90〜75対25
の範囲が好ましい。水溶液中のスルホラン濃度が15重
量%未満の場合には、2,7−オクタジエン−1−オー
ルの水溶液中への溶解度が減少するため反応速度が低下
し、また工程(2)における層分離性が悪くなるので好ま
しくない。また、水溶液中のスルホラン濃度が75%を
越える場合には、1,9−ノナンジオール前駆体への選
択率が低下し、工程(2)において抽出層への溶媒および
触媒成分の溶出量が多くなるので好ましくない。特に好
ましいスルホラン水溶液の濃度はスルホランと水の重量
比で20対80〜60対40の範囲である。
のヒドロホルミル化反応はスルホラン水溶液中で行われ
る。スルホランと水の重量比は10対90〜75対25
の範囲が好ましい。水溶液中のスルホラン濃度が15重
量%未満の場合には、2,7−オクタジエン−1−オー
ルの水溶液中への溶解度が減少するため反応速度が低下
し、また工程(2)における層分離性が悪くなるので好ま
しくない。また、水溶液中のスルホラン濃度が75%を
越える場合には、1,9−ノナンジオール前駆体への選
択率が低下し、工程(2)において抽出層への溶媒および
触媒成分の溶出量が多くなるので好ましくない。特に好
ましいスルホラン水溶液の濃度はスルホランと水の重量
比で20対80〜60対40の範囲である。
ヒドロホルミル化反応は通常40〜110℃の範囲の温
度で、好ましくは60〜90℃の範囲の温度で実施され
る。反応に用いられる水素と一酸化炭素との混合ガスに
おける水素と一酸化炭素のモル割合は入りガス組成とし
て通常1対2〜5対1の範囲のものが用いられる。反応
圧力は一般に1〜30絶対気圧の範囲である。ヒドロホ
ルミル化反応は撹拌型反応器または気泡塔型反応器中で
連続方式またはバツチ方式で行うことができる。反応条
件下における反応混合液中への2,7−オクタジエン−
1−オールの溶解度は比較的小さいので、反応速度に応
じて2,7−オクタジエン−1−オールの供給速度を調
整することが望ましく、これにより反応系が不均一にな
るのを防ぐことができる。反応混合液中の9−ヒドロキ
シ−7−ノネン−1−アールの濃度は0.3〜3モル/
の範囲内にあるのが接触活性、生成物の安定性の点か
ら望ましい。
度で、好ましくは60〜90℃の範囲の温度で実施され
る。反応に用いられる水素と一酸化炭素との混合ガスに
おける水素と一酸化炭素のモル割合は入りガス組成とし
て通常1対2〜5対1の範囲のものが用いられる。反応
圧力は一般に1〜30絶対気圧の範囲である。ヒドロホ
ルミル化反応は撹拌型反応器または気泡塔型反応器中で
連続方式またはバツチ方式で行うことができる。反応条
件下における反応混合液中への2,7−オクタジエン−
1−オールの溶解度は比較的小さいので、反応速度に応
じて2,7−オクタジエン−1−オールの供給速度を調
整することが望ましく、これにより反応系が不均一にな
るのを防ぐことができる。反応混合液中の9−ヒドロキ
シ−7−ノネン−1−アールの濃度は0.3〜3モル/
の範囲内にあるのが接触活性、生成物の安定性の点か
ら望ましい。
2,7−オクタジエン−1−オールをヒドロホルミル化
することによつて得られる反応混合液は炭素数が5〜1
1の飽和脂肪族第1級アルコールと炭素数が5〜10の
飽和脂肪族炭化水素との混合物による抽出装置に付され
る。炭素数が5〜11の飽和脂肪族第1級アルコールと
しては、n−ペンタノール、n−ヘキサノール、2−エ
チルヘキサノール、3,5,5−トリメチルイヘキサノ
ール、n−ヘプタノール、n−オクタノール、n−ノナ
ノール、n−デカノール、n−ウンデカノールなどを例
示することができる。また、炭素数が5〜10の飽和脂肪
族炭化水素としては、n−ペンタン、n−ヘキサン、n
−ヘプタン、n−オクタン、n−ノナン、n−デカンな
どを例示することができる。飽和脂肪族第1級アルコー
ルと飽和脂肪族炭化水素を混合して用いることにより飽
和脂肪族第1級アルコールを単独で用いる場合よりも抽
出液中への反応溶媒および触媒成分の溶出率を低下させ
ることができる。この場合、飽和脂肪族第1級アルコー
ルと飽和脂肪族炭化水素の使用割合は容量比で1対5〜
5対1の範囲内が好ましい。反応混合液に対する飽和脂
肪族第1級アルコールと飽和脂肪族炭化水素との混合物
の使用割合は容量比で1対5〜3対1の範囲内から選ぶ
のが実用的である。また、層分離性、抽出率、触媒成分
の溶出率、触媒の安定性および生成物の安定性の点から
抽出温度としては10〜70℃の範囲の温度が採用さ
れ、30〜70℃の範囲の温度を採用するのが望まし
い。抽出装置としては撹拌型抽出器、RDC型抽出塔、
多孔板塔などが適用できる。抽出操作は通常、窒素、ヘ
リウム、アルゴンなどの不活性ガスまたは水素と一酸化
炭素との混合ガスの雰囲気下で行われる。抽出操作によ
り原料化合物である2,7−オクタジエン−1−オール
および9−ヒドロキシ−7−ノネン−1−アールを主成
分とする生成物は上層(抽出液)に分離され、触媒は下
層(抽残液)に分離される。抽残液は必要に応じてその
一部を公知の触媒賦活処理を施したのち、工程(1)のヒ
ドロホルミル化反応工程に循環再使用される。
することによつて得られる反応混合液は炭素数が5〜1
1の飽和脂肪族第1級アルコールと炭素数が5〜10の
飽和脂肪族炭化水素との混合物による抽出装置に付され
る。炭素数が5〜11の飽和脂肪族第1級アルコールと
しては、n−ペンタノール、n−ヘキサノール、2−エ
チルヘキサノール、3,5,5−トリメチルイヘキサノ
ール、n−ヘプタノール、n−オクタノール、n−ノナ
ノール、n−デカノール、n−ウンデカノールなどを例
示することができる。また、炭素数が5〜10の飽和脂肪
族炭化水素としては、n−ペンタン、n−ヘキサン、n
−ヘプタン、n−オクタン、n−ノナン、n−デカンな
どを例示することができる。飽和脂肪族第1級アルコー
ルと飽和脂肪族炭化水素を混合して用いることにより飽
和脂肪族第1級アルコールを単独で用いる場合よりも抽
出液中への反応溶媒および触媒成分の溶出率を低下させ
ることができる。この場合、飽和脂肪族第1級アルコー
ルと飽和脂肪族炭化水素の使用割合は容量比で1対5〜
5対1の範囲内が好ましい。反応混合液に対する飽和脂
肪族第1級アルコールと飽和脂肪族炭化水素との混合物
の使用割合は容量比で1対5〜3対1の範囲内から選ぶ
のが実用的である。また、層分離性、抽出率、触媒成分
の溶出率、触媒の安定性および生成物の安定性の点から
抽出温度としては10〜70℃の範囲の温度が採用さ
れ、30〜70℃の範囲の温度を採用するのが望まし
い。抽出装置としては撹拌型抽出器、RDC型抽出塔、
多孔板塔などが適用できる。抽出操作は通常、窒素、ヘ
リウム、アルゴンなどの不活性ガスまたは水素と一酸化
炭素との混合ガスの雰囲気下で行われる。抽出操作によ
り原料化合物である2,7−オクタジエン−1−オール
および9−ヒドロキシ−7−ノネン−1−アールを主成
分とする生成物は上層(抽出液)に分離され、触媒は下
層(抽残液)に分離される。抽残液は必要に応じてその
一部を公知の触媒賦活処理を施したのち、工程(1)のヒ
ドロホルミル化反応工程に循環再使用される。
工程(2)で得られる9−ヒドロキシ−7−ノネン−1−
アールを含む抽出液には原料化合物である2,7−オク
タジエン−1−オールの他に小量の反応溶媒および触媒
成分が含まれている。従つて、抽出液をこれに対して少
なくとも0.015の容量比の水で洗浄するのが好まし
い。水の使用量について厳密な意味での上限はないが、
通常抽出液に対して0.15以下の容量比で用いられ
る。抽出液を水で洗浄することにより抽出液に小量含ま
れる反応溶媒および触媒成分を水層側に移行させること
ができるので、抽出液からの反応溶媒および触媒成分の
分離回収が容易となる。この操作によつて得られる反応
溶媒および触媒成分を含む水溶液は工程(1)のヒドロホ
ルミル化反応工程に循環再使用することができる。水洗
後の抽出液はそのまままたはこれより蒸留によつて抽剤
である飽和脂肪族第1級アルコールと飽和脂肪族炭化水
素および原料の一部もしくは全部を分離したのち水素化
反応に付される。
アールを含む抽出液には原料化合物である2,7−オク
タジエン−1−オールの他に小量の反応溶媒および触媒
成分が含まれている。従つて、抽出液をこれに対して少
なくとも0.015の容量比の水で洗浄するのが好まし
い。水の使用量について厳密な意味での上限はないが、
通常抽出液に対して0.15以下の容量比で用いられ
る。抽出液を水で洗浄することにより抽出液に小量含ま
れる反応溶媒および触媒成分を水層側に移行させること
ができるので、抽出液からの反応溶媒および触媒成分の
分離回収が容易となる。この操作によつて得られる反応
溶媒および触媒成分を含む水溶液は工程(1)のヒドロホ
ルミル化反応工程に循環再使用することができる。水洗
後の抽出液はそのまままたはこれより蒸留によつて抽剤
である飽和脂肪族第1級アルコールと飽和脂肪族炭化水
素および原料の一部もしくは全部を分離したのち水素化
反応に付される。
9−ヒドロキシ−7−ノネン−1−アールの水素化反応
に使用される触媒としてはオレフインおよびアルデヒド
を水素化し得る能力を有する公知の触媒が使用できる
が、なかでもニツケル系触媒またはルテニウム系触媒の
使用が好ましい。具体的にはラネーニツケル触媒、変性
ラネーニツケル触媒、担持ニツケル触媒、担持ルテニウ
ム触媒などが挙げられる。水素化反応は液相中に触媒を
懸濁させた状態で撹拌型または気泡塔型の反応器中で行
うこともできるし、触媒として担持ニッケル触媒または
担持ルテニウム触媒を用いる場合には、これらを充填し
た固定床型の反応器中で行うこともできる。
に使用される触媒としてはオレフインおよびアルデヒド
を水素化し得る能力を有する公知の触媒が使用できる
が、なかでもニツケル系触媒またはルテニウム系触媒の
使用が好ましい。具体的にはラネーニツケル触媒、変性
ラネーニツケル触媒、担持ニツケル触媒、担持ルテニウ
ム触媒などが挙げられる。水素化反応は液相中に触媒を
懸濁させた状態で撹拌型または気泡塔型の反応器中で行
うこともできるし、触媒として担持ニッケル触媒または
担持ルテニウム触媒を用いる場合には、これらを充填し
た固定床型の反応器中で行うこともできる。
工程(4)で得られる水素化反応後の反応混合液は、必要
により水洗後に蒸留操作に付され、1,9−ノナンジオー
ルが取得される。反応混合液中には工程(1)で使用した
スルホランが一部混入しており、水洗により水溶液とし
て回収される。また、スルホランは蒸留操作により1,
9−ノナンジオールよりも低沸点の化合物として回収さ
れる。回収されたスルホランまたはその水溶液は工程
(1)のヒドロホルミル化工程へ循環使用される。
により水洗後に蒸留操作に付され、1,9−ノナンジオー
ルが取得される。反応混合液中には工程(1)で使用した
スルホランが一部混入しており、水洗により水溶液とし
て回収される。また、スルホランは蒸留操作により1,
9−ノナンジオールよりも低沸点の化合物として回収さ
れる。回収されたスルホランまたはその水溶液は工程
(1)のヒドロホルミル化工程へ循環使用される。
以下、実施例によつて本発明を具体的に説明するが、本
発明はこれらによつて何ら限定されるものではない。
発明はこれらによつて何ら限定されるものではない。
実施例1 温度計、電磁撹拌装置、ガス吹き込み口およびガス排出
口を備えた内容1のステンレス製オートクレーブにRh
(CO)2(acac)0.75ミリモル、ジフエニルホスフイノ
ベンゼン-m−モノスルホン酸ナトリウム50ミリモ
ル、二座配位性ホスフイン(C6H4-m-SO3Na)2PCH2CH2CH2C
H2P(C6H4-m-SO3Na)20.75ミリモル、水400mlおよ
びスルホラン100mlを仕込み、オートクレーブ内を水
素と一酸化炭素の混合ガス(モル比1対1)で充分置換
したのち、この組成の混合ガスによつてオートクレーブ
内の圧力を5気圧、出ガス流量を10/時に保ちなが
ら、撹拌下に内温が75℃一定となるまで加温し、さら
に30分間撹拌を続けた。しかるのち、激しく撹拌しな
がら2,7−オクタジエン−1−オール43ml(296
ミリモル)を定量ポンプにより2時間かけてオートクレ
ーブ内に連続的に添加した。添加終了後、さらに0.5
時間撹拌を続けた。合計2.5時間反応させたのち、撹
拌を停止し、反応混合液を予め水素と一酸化炭素の混合
ガス(モル比1対1)で充分置換した内容1のオート
クレーブに空気に触れないようにして圧送し、次いでヘ
キサン400mlおよびn−オクタノール170mlを加
え、上記組成の混合ガスによつてオートクレーブ内の圧
力を5気圧、内温を60℃に保ちながら15分間撹拌し
た。撹拌を停止すると直ちに二層に分液した。10分間
静置後、上層(無色)をガスクロマトグラフイーにより
分析したところ、2,7−オクタジエン−1−オールの
残存量は83ミリモル(変換率72%)であり、9−ヒ
ドロキシ−7−ノネン−1−アール(以下、これをHN
ELと略記する)および1,9−ノナンジアール(以
下、これをNLと略記する)がそれぞれ147ミリモル
および3ミリモル抽出されていることが判つた。次い
で、再び空気に触れないようにして下層(抽残層、黄
色)をオートクレーブに移し、スルホランを7ml追加し
た。上記の1回目と同様の条件下で2,7−オクタジエ
ン−1−オール43mlを2時間かけてオートクレーブ内
に連続的に添加し、さらに0.5時間撹拌を続けて2回
目のヒドロホルミル化反応を行つた。1回目と同様の操
作方法および条件により抽出操作を施したのち、抽出液
をガスクロマトグフイーにより分析したところ、2,7
−オクタジエン−1−オールの残存量は87ミリモルで
あり、HNELおよびNLがそれぞれ192ミリモルお
よび4.5ミリモル抽出されていることが判つた。抽残
量を再びオートクレーブに移し、スルホランを10ml追
加した。1回目と同様の条件および操作で3回目のヒド
ロホルミル化反応を行い、次いで同様の方法および条件
により抽出操作を施したのち、抽出液を分析したとこ
ろ、2,7−オクタジエン−1−オールの残存量は83
ミリモルであり、HNELおよびNLがそれぞれ201
ミリモルおよび4.2ミリモル抽出されていることが判
つた。この抽出液の一部(1ml)をとり、ラネ−ニツケ
ルを触媒として常温、常圧で水素化反応を行つた。反応
終了後、反応混合液をガスクロマトグラフイーで分析し
たところ、ノルマル体生成物である1,9−ノナンジオ
ール(以下、これろNDと略記する)とイソ体生成物で
ある2−メチル−1,8−オクタンジオール(以下、こ
れをMODと略記する)の生成比は97対3であつた。
2,7−オクタジエン−1−オールの2位および3位の
位置までヒドロホルミル化されたジホルミル体に由来す
る炭素数10の分岐トリオールの生成は認められなかつ
た。抽残層を再びオートクレーブに移し、スルホランを
10ml追加して1回目と同様の条件および操作でヒドロ
ホルミル化反応を行い、次いで同様の方法および条件に
より抽出を行う一連の操作を計15回繰り返して行つ
た。3回目、5回目、10回目および15回目のヒドロ
ホルミル化反応により得られた反応混合液の抽出液の分
析結果と、それら抽出液の一部を上記におけると同様に
して水素化反応に付し、得られたNDとMODのガスク
ロマトグラフイー分析により求めた生成比を表1に示
す。15回の繰り返し反応において触媒活性の低下はま
つたく認められず、HNELの生成量はほぼ一定であつ
た。
口を備えた内容1のステンレス製オートクレーブにRh
(CO)2(acac)0.75ミリモル、ジフエニルホスフイノ
ベンゼン-m−モノスルホン酸ナトリウム50ミリモ
ル、二座配位性ホスフイン(C6H4-m-SO3Na)2PCH2CH2CH2C
H2P(C6H4-m-SO3Na)20.75ミリモル、水400mlおよ
びスルホラン100mlを仕込み、オートクレーブ内を水
素と一酸化炭素の混合ガス(モル比1対1)で充分置換
したのち、この組成の混合ガスによつてオートクレーブ
内の圧力を5気圧、出ガス流量を10/時に保ちなが
ら、撹拌下に内温が75℃一定となるまで加温し、さら
に30分間撹拌を続けた。しかるのち、激しく撹拌しな
がら2,7−オクタジエン−1−オール43ml(296
ミリモル)を定量ポンプにより2時間かけてオートクレ
ーブ内に連続的に添加した。添加終了後、さらに0.5
時間撹拌を続けた。合計2.5時間反応させたのち、撹
拌を停止し、反応混合液を予め水素と一酸化炭素の混合
ガス(モル比1対1)で充分置換した内容1のオート
クレーブに空気に触れないようにして圧送し、次いでヘ
キサン400mlおよびn−オクタノール170mlを加
え、上記組成の混合ガスによつてオートクレーブ内の圧
力を5気圧、内温を60℃に保ちながら15分間撹拌し
た。撹拌を停止すると直ちに二層に分液した。10分間
静置後、上層(無色)をガスクロマトグラフイーにより
分析したところ、2,7−オクタジエン−1−オールの
残存量は83ミリモル(変換率72%)であり、9−ヒ
ドロキシ−7−ノネン−1−アール(以下、これをHN
ELと略記する)および1,9−ノナンジアール(以
下、これをNLと略記する)がそれぞれ147ミリモル
および3ミリモル抽出されていることが判つた。次い
で、再び空気に触れないようにして下層(抽残層、黄
色)をオートクレーブに移し、スルホランを7ml追加し
た。上記の1回目と同様の条件下で2,7−オクタジエ
ン−1−オール43mlを2時間かけてオートクレーブ内
に連続的に添加し、さらに0.5時間撹拌を続けて2回
目のヒドロホルミル化反応を行つた。1回目と同様の操
作方法および条件により抽出操作を施したのち、抽出液
をガスクロマトグフイーにより分析したところ、2,7
−オクタジエン−1−オールの残存量は87ミリモルで
あり、HNELおよびNLがそれぞれ192ミリモルお
よび4.5ミリモル抽出されていることが判つた。抽残
量を再びオートクレーブに移し、スルホランを10ml追
加した。1回目と同様の条件および操作で3回目のヒド
ロホルミル化反応を行い、次いで同様の方法および条件
により抽出操作を施したのち、抽出液を分析したとこ
ろ、2,7−オクタジエン−1−オールの残存量は83
ミリモルであり、HNELおよびNLがそれぞれ201
ミリモルおよび4.2ミリモル抽出されていることが判
つた。この抽出液の一部(1ml)をとり、ラネ−ニツケ
ルを触媒として常温、常圧で水素化反応を行つた。反応
終了後、反応混合液をガスクロマトグラフイーで分析し
たところ、ノルマル体生成物である1,9−ノナンジオ
ール(以下、これろNDと略記する)とイソ体生成物で
ある2−メチル−1,8−オクタンジオール(以下、こ
れをMODと略記する)の生成比は97対3であつた。
2,7−オクタジエン−1−オールの2位および3位の
位置までヒドロホルミル化されたジホルミル体に由来す
る炭素数10の分岐トリオールの生成は認められなかつ
た。抽残層を再びオートクレーブに移し、スルホランを
10ml追加して1回目と同様の条件および操作でヒドロ
ホルミル化反応を行い、次いで同様の方法および条件に
より抽出を行う一連の操作を計15回繰り返して行つ
た。3回目、5回目、10回目および15回目のヒドロ
ホルミル化反応により得られた反応混合液の抽出液の分
析結果と、それら抽出液の一部を上記におけると同様に
して水素化反応に付し、得られたNDとMODのガスク
ロマトグラフイー分析により求めた生成比を表1に示
す。15回の繰り返し反応において触媒活性の低下はま
つたく認められず、HNELの生成量はほぼ一定であつ
た。
上記のようにして得られた抽出液の水素化反応を次のよ
うにして行つた。すなわち、温度計、電磁撹拌装置、ガ
ス吹き込み口およびガス排出口を備えた内容10のス
テンレス製オートクレーブにラネーニツケル20gを仕
込み、オートクレーブ内を水素ガスで充分置換したの
ち、オートクレーブ内の圧力を10気圧、出ガス流量を
5/時に保ちながら、内温が100℃一定となるまで
加温し、しかるのち、激しく撹拌しながら繰り返し回数
3回目以降で得た抽出液5を定量ポンプにより2時間
かけてオートクレーブ内に連続的に添加した。添加終了
後、さらに2時間撹拌を続けた。合計4時間反応させた
のち、撹拌を停止した。反応混合液の極く微量を抜取
り、ガスクロマトグラフイーにより分析したところ、H
NELの転化率は100%であることが判つた。反応混
合液からヘキサンを留去し、その残留物をさらに減圧蒸
留操作に付することにより、抽出液中に含まれているス
ルホランが回収され、約0.5mmHg の減圧下における沸点
120〜123℃の留分としてNDが高純度で(MOD
と混入量:約3%)約270g得られた。
うにして行つた。すなわち、温度計、電磁撹拌装置、ガ
ス吹き込み口およびガス排出口を備えた内容10のス
テンレス製オートクレーブにラネーニツケル20gを仕
込み、オートクレーブ内を水素ガスで充分置換したの
ち、オートクレーブ内の圧力を10気圧、出ガス流量を
5/時に保ちながら、内温が100℃一定となるまで
加温し、しかるのち、激しく撹拌しながら繰り返し回数
3回目以降で得た抽出液5を定量ポンプにより2時間
かけてオートクレーブ内に連続的に添加した。添加終了
後、さらに2時間撹拌を続けた。合計4時間反応させた
のち、撹拌を停止した。反応混合液の極く微量を抜取
り、ガスクロマトグラフイーにより分析したところ、H
NELの転化率は100%であることが判つた。反応混
合液からヘキサンを留去し、その残留物をさらに減圧蒸
留操作に付することにより、抽出液中に含まれているス
ルホランが回収され、約0.5mmHg の減圧下における沸点
120〜123℃の留分としてNDが高純度で(MOD
と混入量:約3%)約270g得られた。
比較例1 実施例1において水溶性二座配位性ホスフインを添加し
なかつた以外はまつたく同様の条件および操作でヒドロ
ホルミル化反応を繰り返し行い、抽出操作を行つた。3
回目、5回目、10回目および15回目のヒドロホルミ
ル化反応により得られた反応混合液の抽出液の分析結果
と、それら抽出液の一部を水素化反応に付し、得られた
NDとMODのガスクロマトグラフイー分析により求め
た生成比を表2に示す。15回の繰り返し反応において
HNELの生成量は徐々に低下し、触媒活性の劣化が認
められた。
なかつた以外はまつたく同様の条件および操作でヒドロ
ホルミル化反応を繰り返し行い、抽出操作を行つた。3
回目、5回目、10回目および15回目のヒドロホルミ
ル化反応により得られた反応混合液の抽出液の分析結果
と、それら抽出液の一部を水素化反応に付し、得られた
NDとMODのガスクロマトグラフイー分析により求め
た生成比を表2に示す。15回の繰り返し反応において
HNELの生成量は徐々に低下し、触媒活性の劣化が認
められた。
実施例2 実施例1で用いたと同じオートクレーブにRh4(CO)12 0.
1875 ミリモル、ジフエニルホスフイノベンゼン−m−
モノスルホン酸リチウム50ミリモル、水溶性二座配位
性ホスフイン(C6H4-m-SO3Na)2PCH2CH2CH2CH2P(C6H4-m-S
O3Na)20.75ミリモル、水400mlおよびスルホラ
ン100mlを仕込み、オートクレーブ内を水素と一酸化
炭素の混合ガス(モル比1対1)で充分置換したのち、
この組成の混合ガスによつてオートクレーブ内の圧力を
5気圧、出ガス流量を10/時に保ちながら、撹拌下
に内温が75℃一定となるまで加温し、さらに30分間
撹拌を続けた。しかるのち、激しく撹拌しながら2,7
−オクタジエン−1−オール43ml(296ミリモル)
を定量ポンプにより2時間かけてオートクレーブ内に連
続的に添加した。添加終了後、さらに0.5時間撹拌を
続けた。合計2.5時間反応させたのち、撹拌を停止
し、反応混合液を予め水素と一酸化炭素の混合ガス(モ
ル比1対1)で充分置換した内容15のオートクレー
ブに空気に触れないようにして圧送し、次いでヘキサン
400mlおよびn−オクタノール170mlを加え、上記
組成の混合ガスによつてオートクレーブ内の圧力を5気
圧、内温を60℃に保ちながら15分間撹拌した。撹拌
を停止すると直ちに二層に分液した。10分間静置後、
上層(無色)をガスクロマトグラフイーにより分析した
ところ、2,7−オクタジエン−1−オールの残存量は
83ミリモル(変換率72%)であり、HNELおよび
NLがそれぞれ147ミルモルおよび3ミルモル抽出さ
れていることが判つた。この抽出液の一部(1ml)をと
り、ラネーニツケルを触媒として常温、常圧で水素化反
応を行つた。反応終了後、反応混合液をガスクロマトグ
ラフイーで分析したところ、NDとMODの生成比は9
7対3であつた。
1875 ミリモル、ジフエニルホスフイノベンゼン−m−
モノスルホン酸リチウム50ミリモル、水溶性二座配位
性ホスフイン(C6H4-m-SO3Na)2PCH2CH2CH2CH2P(C6H4-m-S
O3Na)20.75ミリモル、水400mlおよびスルホラ
ン100mlを仕込み、オートクレーブ内を水素と一酸化
炭素の混合ガス(モル比1対1)で充分置換したのち、
この組成の混合ガスによつてオートクレーブ内の圧力を
5気圧、出ガス流量を10/時に保ちながら、撹拌下
に内温が75℃一定となるまで加温し、さらに30分間
撹拌を続けた。しかるのち、激しく撹拌しながら2,7
−オクタジエン−1−オール43ml(296ミリモル)
を定量ポンプにより2時間かけてオートクレーブ内に連
続的に添加した。添加終了後、さらに0.5時間撹拌を
続けた。合計2.5時間反応させたのち、撹拌を停止
し、反応混合液を予め水素と一酸化炭素の混合ガス(モ
ル比1対1)で充分置換した内容15のオートクレー
ブに空気に触れないようにして圧送し、次いでヘキサン
400mlおよびn−オクタノール170mlを加え、上記
組成の混合ガスによつてオートクレーブ内の圧力を5気
圧、内温を60℃に保ちながら15分間撹拌した。撹拌
を停止すると直ちに二層に分液した。10分間静置後、
上層(無色)をガスクロマトグラフイーにより分析した
ところ、2,7−オクタジエン−1−オールの残存量は
83ミリモル(変換率72%)であり、HNELおよび
NLがそれぞれ147ミルモルおよび3ミルモル抽出さ
れていることが判つた。この抽出液の一部(1ml)をと
り、ラネーニツケルを触媒として常温、常圧で水素化反
応を行つた。反応終了後、反応混合液をガスクロマトグ
ラフイーで分析したところ、NDとMODの生成比は9
7対3であつた。
実施例3〜9 実施例2において表3に示されるロジウム錯化合物、水
溶性単座配位性ホスフイン、水溶性二座配位性ホスフイ
ンおよび抽剤を使用し、かつ表3に示される反応圧力
(CO/H2圧力)および抽出温度を採用する以外は同様に
して反応および抽出操作を行つた。得られた結果を表3
に示す。
溶性単座配位性ホスフイン、水溶性二座配位性ホスフイ
ンおよび抽剤を使用し、かつ表3に示される反応圧力
(CO/H2圧力)および抽出温度を採用する以外は同様に
して反応および抽出操作を行つた。得られた結果を表3
に示す。
〔発明の効果〕 本発明によれば、1,9−ノナンジオールを高選択率で
高純度で、しかも連続的に製造することができる。
高純度で、しかも連続的に製造することができる。
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07B 61/00 300 C08G 18/32 NDS 8620−4J
Claims (6)
- 【請求項1】(1)スルホラン水溶液中でロジウム錯化合
物、一般式(I) (式中、Mはリチウム、ナトリウムまたはカリウムを表
し、nは1〜3の整数を表す。) で示される水溶性単座配位性ホスフインおよび一般式(I
I) (式中、X1、X2、X3およびX4はそれぞれスルホン
酸基のリチウム塩、ナトリウム塩またはカリウム塩を有
していてもよいアリール基を表し、ただしX1、X2、X
3およびX4のうちの少なくとも1つはスルホン酸基のリ
チウム塩、ナトリウム塩またはカリウム塩を有するアリ
ール基を表し、Rは低級アルキル基で置換されていても
よい炭素数2〜5の直鎖状アルキレン基を表す。)で示
される水溶性二座配位性ホスフインの存在下に2,7−
オクタジエン−1−オールを一酸化炭素と水素との混合
ガスによつてヒドロホルミル化し、 (2) 工程(1)で得られる反応混合液に対して炭素数5〜
11の飽和脂肪族第1級アルコールと炭素数5〜10の
飽和脂肪族炭化水素との混合物による抽出操作を施すこ
とによつて該反応混合液から9−ヒドロキシ−7−ノネ
ン−1−アールを抽出し、 (3) 工程(2)で得られる触媒成分を含む抽残液を工程
(1)のヒドロホルミル化反応工程にフイードし、 (4) 工程(2)で得られる9−ヒドロキシ−7−ノネン−
1−アールを含む抽出液を水素化反応に付し、 (5) 工程(4)で得られる反応混合液を必要により水洗し
たのち、蒸留することにより1,9−ノナンジオールお
よびスルホランを分離し、 (6) 工程(5)で回収されるスルホランを工程(1)のヒド
ロホルミル化反応工程にフイードする ことを特徴とする1,9−ノナンジオールの製造方法。 - 【請求項2】工程(1)においてロジウム錯化合物を反応
液当りロジウム原子換算で0.1〜10ミリグラム原子
の量で用い、一般式(I)で示される水溶性単座配位性ホ
スフインをロジウム1グラム原子当り10当量以上の量
で用い、かつ一般式(II)で示される水溶性二座配位性ホ
スフインをロジウム1グラム原子当り0.3〜2当量の
量で用いる請求項1記載の製造方法。 - 【請求項3】工程(1)における2,7−オクタジエン−
1−オールのヒドロホルミル化反応を、スルホランと水
の重量比が10対90〜75対25のスルホラン水溶液
中で行う請求項1または2記載の製造方法。 - 【請求項4】工程(2)において抽出操作をn−ヘキサノ
ール、n−ヘプタノール、n−オクタノールおよびn−
ノナノールよりなる群から選ばれる飽和脂肪族第1級ア
ルコールとヘキサン、ヘプタンおよびオクタンよりなる
群から選ばれる飽和脂肪族炭化水素の混合物を用いて1
0〜70℃の温度下で行う請求項1〜3のいずれか1つ
に記載の製造方法。 - 【請求項5】工程(4)において工程(2)で得られる抽出液
を水洗したのち、ニツケル系触媒またはルテニウム系触
媒の存在下に行う水素化反応に付する請求項1〜4のい
ずれか1つに記載の製造方法。 - 【請求項6】工程(5)において工程(4)で得られる反応混
合液を水洗することによりスルホランを回収する請求項
1〜5のいずれか1つに記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2086082A JPH0662464B2 (ja) | 1990-03-31 | 1990-03-31 | 1,9―ノナンジオールの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2086082A JPH0662464B2 (ja) | 1990-03-31 | 1990-03-31 | 1,9―ノナンジオールの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03287554A JPH03287554A (ja) | 1991-12-18 |
| JPH0662464B2 true JPH0662464B2 (ja) | 1994-08-17 |
Family
ID=13876784
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2086082A Expired - Fee Related JPH0662464B2 (ja) | 1990-03-31 | 1990-03-31 | 1,9―ノナンジオールの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0662464B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006312612A (ja) * | 2005-05-09 | 2006-11-16 | Mitsubishi Chemicals Corp | アルコールの製造方法 |
-
1990
- 1990-03-31 JP JP2086082A patent/JPH0662464B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03287554A (ja) | 1991-12-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4356333A (en) | Process for preparing n-octadienol | |
| US4417079A (en) | Process for producing normal-octanol | |
| US7321068B2 (en) | Method for producing tricyclodecandialdehyde | |
| EP0429963A1 (en) | Method for recovering a group VIII metal solid complex and hydroformylation method | |
| US5463145A (en) | Process for preparing 1,3-propanediol | |
| JPS6261577B2 (ja) | ||
| US5463146A (en) | Process for preparing 1,3-propanediol | |
| US5463144A (en) | Process for preparing 1,3-propanediol | |
| US5585528A (en) | Cobalt-catalyzed process for preparing 1,3-propanediol using a lipophilic tertiary amine promoter | |
| US5563302A (en) | Cobalt-catalyzed process for preparing 1,3-propanediol using a lipophilic phosphine oxide promoter | |
| US5576471A (en) | Cobalt-catalyzed process for preparing 1,3-propanediol using a lipophilic dihydroxyarene promoter | |
| JPWO1997011931A1 (ja) | ヒドロホルミル化方法 | |
| US20020111520A1 (en) | Hydroformylation process | |
| US5545766A (en) | Cobalt-catalyzed process for preparing 1,3-propanediol using a lipophilic bidentate phosphine promotor | |
| AU689963B2 (en) | Process for preparing 1,3-alkanediols and 3-hydroxyldehydes | |
| JPS5840533B2 (ja) | 3−メチルペンタン−1,5−ジオ−ルの製法 | |
| US4925990A (en) | Process for the preparation of unsaturated alcohols | |
| JPH06321828A (ja) | オクタ−2,7−ジエン−1−オールの製造方法 | |
| WO2002102754A2 (en) | Process for the preparation of 3-hydroxypropanal | |
| JPH0662464B2 (ja) | 1,9―ノナンジオールの製造方法 | |
| EP0064285A1 (en) | Method of producing 1,9-nonanedial and/or 9-hydroxy-7-nonen-1-al | |
| EP4217109B1 (en) | Co-feeding ethylene with allyl alcohol in hydroformylation to make 1,4-butanediol and n-propanol | |
| EP0627399B1 (en) | Process for producing 2-formyl-1,4-butanediol | |
| JPH0639409B2 (ja) | オクタン誘導体の製造法 | |
| JPH0245610B2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |