JPH0245610B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0245610B2 JPH0245610B2 JP57099887A JP9988782A JPH0245610B2 JP H0245610 B2 JPH0245610 B2 JP H0245610B2 JP 57099887 A JP57099887 A JP 57099887A JP 9988782 A JP9988782 A JP 9988782A JP H0245610 B2 JPH0245610 B2 JP H0245610B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- octanedial
- decanedial
- reaction
- water
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は1,8−オクタンジアールまたは1,
10−デカンジアールの製造法に関するものであ
り、さらに詳しくは工業的実施に適した方法で
1,5−ヘキサジエンまたは1,7−オクタジエ
ンをヒドロホルミル化することよりなる1,8−
オクタンジアールまたは1,10−デカンジアール
の製造法に関するものである。 1,8−オクタンジアールまたは1,10−デカ
ンジアールは蛋白質および酵素の固定化剤、殺菌
剤、高分子架橋剤として、また対応するジカルボ
ン酸、ジオールおよびジアミンの出発原料として
極めて有用な化合物であることは良く知られてお
り、その工業的な製法として1,5−ヘキサジエ
ンまたは1,7−オクタジエンのヒドロホルミル
化反応による製造法も既に提案されている。しか
しながら、従来提案の方法には次の二つの技術的
問題点が含まれており、それらが未解決であるた
めか現在なお1,8−オクタンジアールまたは
1,10−デカンジアールは工業的規模で生産され
るには至つておらず、僅かに極めて高価な試薬を
用いる部分還元法によつて対応するジカルボン酸
エステルから試薬的に合成されているに過ぎな
い。従来提案の法の問題点の一つは1,5−ヘキ
サジエンまたは1,7−オクタジエンのヒドロホ
ルミル化反応においては少なくとも三つの異性体
(n型−n型ジアルデヒド、n型−i型ジアルデ
ヒドおよびi型−i型ジアルデヒド)が生成し、
それらは互いに沸点が近接しており、また熱的に
充分には安定でないため、これら異性体混合物か
らn型−n型生成物である1,8−オクタンジア
ールまたは1,10−デカンジアールを高純度で分
離取得することが実質的に不可能なことである。
従来提案の方法の今一つの技術的問題点はヒドロ
ホルミル化反応混合液から反応生成物を分離取得
する場合のロジウム触媒の触媒活性劣化である。
すなわち、従来提案の方法ではロジウム触媒と反
応生成物の分離には蒸留分離法が採用されている
が、ロジウム触媒は溶媒中では熱的に不安定であ
り不活性ロジウム錯体に変質し易く、また蒸留分
離法では高沸点副生物の反応系内への蓄積が避け
難い。このように、従来提案の方法に従つたので
は高純度の1,8−オクタンジアールまたは1,
10−デカンジアールを工業的に製造することは実
質的に不可能である。 かかる背景から本発明者らは1,5−ヘキサジ
エンまたは1,7−オクタジエンから高純度の
1,8−オクタンジアールまたは1,10−デカン
ジアールの工業的に実施可能な製造法を完成せん
ものと鋭意研究を重ねた結果、本発明に至つた。
すなわち、本発明によれば、 () スルホラン、1,4−ブタンジオールま
たは1,6−ヘキサンジオールと水の重量比が
15/85〜75/25のスルホラン、1,4−ブタン
ジオールまたは1,6−ヘキサンジオール水溶
液中で(a)ロジウム錯化合物および(b)ジフエニル
ホスフイノベンゼン−m−モノスルホン酸のナ
トリウム塩、カリウム塩またはリチウム塩の存
在下に1,5−ヘキサジエンまたは1,7−オ
クタジエンを水素と一酸化炭素との混合ガスに
よつてヒドロホルミル化し、 () 工程()で得られる反応混合液に対し
て炭素数が約5〜12の飽和脂肪族第1級アルコ
ール、または該第1級アルコールと炭素数が約
5〜10の飽和脂肪族炭化水素もしくは飽和脂環
式炭化水素との混合物による抽出操作を施すこ
とによつて該反応混合液から1,8−オクタン
ジアールまたは1,10−デカンジアールを抽出
し、触媒成分を含む抽残層を工程()のヒド
ロホルミル化反応工程に循環し、 () 工程()で得られる生成ジアルデヒド
を含む抽出層より1,8−オクタンジアールま
たは1,10−デカンジアールを取得することか
らなる方法により1,8−オクタンジアールま
たは1,10−デカンジアールを高収率で製造す
ることができる。 加えて本発明によれば前記工程()の抽出操
作をn−ヘキサノール、n−ヘプタノール、n−
オクタノール、n−ノナノールおよびn−デカノ
ールよりなる群から選ばれる第1級アルコールも
しくは該第1級アルコールとヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン、デカン、シクロヘキサンおよびメ
チルシクロヘキサンよりなる群から選ばれる飽和
脂肪族炭化水素もしくは飽和脂環式炭化水素の混
合物を用いて10〜60℃の温度下で行ない、得られ
る抽出層を水で洗浄したのち0〜50℃の温度下に
保持することにより1,8−オクタンジアールま
たは1,10−デカンジアールが一般式(A) (式中nは6または8であり、Rは炭素数が6
から10の直鎖飽和脂肪炭化水素基を表わす) で表わされるジヘミアセタールの結晶の形で析出
し、分岐状ジアールについては同条件下ではこの
ようなジヘミアセタールの結晶を析出しないの
で、該結晶を分離取得することにより極めて高純
度の1,8−オクタンジアールまたは1,10−デ
カンジアールを取得することができる。 本発明方法にしたがう1,5−ヘキサジエンま
たは1,7−オクタジエンのヒドロホルミル化反
応に用いられるロジウム錯化合物としては、反応
条件下においてヒドロホルミル化触媒能を有する
任意のロジウム錯化合物を用いることができる。
かかるロジウム錯化合物は既に多数知られてお
り、本発明の方法においてもこれら従来公知のロ
ジウム錯化合物が概ね使用可能である。具体的に
はHRh(CO)(PA3)3(A;アリール基)、Rh4
(CO)12およびRh6(CO)16などを挙げることがで
きる。また、RhCl(PA3)3,Rh(acac)3(acac;
アセチルアセトナート基)、Rh(OAc)3(OAc;ア
セトキシル基)、〔Rh(CO)2(PA3)2〕2、RhCl3・
3H2OおよびRh2O3などのロジウム(錯)化合物
を別途に設けた触媒調製槽中で通常の方法により
活性化したのち用いることもできる。ロジウム錯
化合物は通常、ヒドロホルミル化反応液1あた
りロジウム原子換算で0.05〜10ミリグラム原子の
濃度範囲で使用される。本発明のヒドロホルミル
化反応に用いられるジフエニルホスフイノベンゼ
ン−m−モノスルホン酸のナトリウム塩、カリウ
ム塩、およびリチウム塩は下記一般式 (式中、MはNa,KまたはLiを表わす) で示される水溶性の三置換ホスフインである。こ
れらジフエニルホスフイノベンゼン−m−モノス
ルホン酸塩はロジウム1グラム原子あたり10当量
以上、好ましくは25当量以上の量で用いられる。 本発明方法にしたがう1,5−ヘキサジエンま
たは1,7−オクタジエンのヒドロホルミル化反
応はスルホラン、1,4−ブタンジオールまたは
1,6−ヘキサンジオールと水の重量比が15/85
〜75/25のスルホラン、1,4−ブタンジオール
または1,6−ヘキサンジオール水溶液中で行な
われる。このうち反応成績、後続の生成物分離工
程、および化学的安定性などを考慮するとスルホ
ラン水溶液を用いるのがより好ましい。水溶液中
のスルホラン、1,4−ブタンジオールまたは
1,6−ヘキサンジオールの濃度が15重量パーセ
ント未満の場合には反応速度が低下し、また工程
()における層分離性が悪くなるので好ましく
ない。また該水溶液の濃度が75重量パーセントを
越えると工程()において抽出層中への溶媒お
よび触媒成分の溶出率が高くなるので好ましくな
い。とくに望ましいスルホラン、1,4−ブタン
ジオールまたは1,6−ヘキサンジオール水溶液
の濃度はスルホラン、1,4−ブタンジオールま
たは1,6−ヘキサンジオールと水の重量比で
25/75〜60/40である。本ヒドロホルミル化反応
は通常40〜110℃、好ましくは60〜90℃の温度下
で実施される。反応に用いられる水素/一酸化炭
素混合ガスにおいて水素と一酸化炭素のモル比は
入ガス組成として通常0.5〜5の範囲内から選ば
れる。反応圧力は一般に1〜30気圧の範囲内から
選ばれる。ヒドロホルミル化反応は撹拌型反応槽
または気泡塔型反応槽中で連続方式またはバツチ
方式で行なうことができる。反応条件下における
反応混合液中への原料であるジエンおよび反応中
間体であるモノアルデヒド類の溶解度は比較的小
さいので、反応速度に応じて1,5−ヘキサジエ
ンまたは1,7−オクタジエンの供給速度を調節
することが望ましく、これにより反応系が不均一
化するのを防止することができる。反応混合液中
の1,8−オクタンジアールまたは1,10−デカ
ンジアールの濃度は0.5〜3モル/の範囲内に
あるのが触媒活性、生成物分離などの点から好ま
しい。本発明者らの詳細な検討によると、反応系
にたとえばリン酸二水素ナトリウム
(NaH2PO4)とリン酸−水素ナトリウム
(Na2HPO4)との混合溶液、リン酸二水素カリ
ウム(KH2PO4)とリン酸−水素カリウム
(K2HPO4)との混合溶液で代表される緩衝液を
適量共存させて反応混合液のPHを5〜7の範囲に
保つことにより触媒活性がさらに安定化すること
が認められた。 1,5−ヘキサジエンまたは1,7−オクタジ
エンをヒドロホルミル化することによつて得られ
る反応混合液は炭素数が約5〜12の飽和脂肪族第
1級アルコール、または該第1級アルコールと炭
素数が約5〜10の飽和脂肪族炭化水素もしくは飽
和脂環式炭化水素との混合物による抽出操作に付
される。炭素数が約5〜12の飽和脂肪族第1級ア
ルコールとしてはn−ペンタノール、n−ヘキサ
ノール、2−エチルヘキサノール、3,5,5−
トリメチルヘキサノール、n−ヘプタノール、n
−オクタノール、n−ノナノール、n−デカノー
ル、n−ウンデカノールおよびn−ドデカノール
などを例示することができる。また炭素数が約5
〜10の飽和脂肪族炭化水素または飽和脂環式炭化
水素としてはペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オ
クタン、ノナン、デカン、シクロヘキサンおよび
メチルシクロヘキサンなどを例示することができ
る。前記第1級アルコールと前記飽和脂肪族炭化
水素または飽和脂環式炭化水素を混合して用いる
ことにより第1級アルコールを単独で用いる場合
と比較して抽出層中への反応溶媒および触媒成分
の溶出率を低下させることができる。この場合、
炭素数が約5〜12の飽和脂肪族第1級アルコール
と炭素数が約5〜10の飽和脂肪族炭化水素または
飽和脂環式炭化水素の使用割合(第1級アルコー
ル/炭化水素)が容量比で1/5〜5/1の範囲
内にあるのがよい。抽剤の水への溶解度、沸点、
融点、などの物理的性質、1,8−オクタンジア
ールまたは1,10−デカンジアールの抽出率、反
応溶媒および触媒成分の溶出率、さらには価格を
も含めた入手のし易さなどの諸点を勘案すると、
n−ヘキサノール、n−ヘプタノール、n−オク
タノールおよびn−ノナノールよりなる群から選
ばれる第1級アルコールとヘキサン、ヘプタン、
オクタン、デカンおよびシクロヘキサンよりなる
群から選ばれる飽和脂肪族炭化水素または飽和脂
環式炭化水素との混合物を用いるのが最も好まし
い。反応混合液に対するこれら第1級アルコー
ル、または第1級アルコールと飽和脂肪族炭化水
素または飽和脂環式炭化水素との混合物の使用割
合は容量比で1/5〜5/1の範囲内から選ぶの
が実用的である。また、層分離性、反応生成物の
抽出率、反応溶媒および触媒成分の溶出率などは
抽出温度にかなり強く支配されるので、抽出温度
を10〜60℃の範囲内から選ぶのが工業的に有利で
ある。抽出装置としては、一般的に汎用な撹拌型
抽出塔、RDC型抽出塔、多孔板塔などが適用可
能である。抽出操作は通常、窒素、ヘリウム、ア
ルゴンなどの不活性ガスまたは水素/一酸化炭素
混合ガスの雰囲気下で行なわれる。抽出操作によ
り反応生成物および未反応の1,5−ヘキサジエ
ンまたは1,7−オクタジエンは抽出層(上層)
中に分離され、また触媒成分は抽残層(下層)中
に分離される。抽残層は、必要に応じてその一部
に公知の触媒賦活処理を施したのち、工程()
のヒドロホルミル化反応工程に循環し再使用され
る。 工程()で得られる抽出層から1,8−オク
タンジアールまたは1,10−デカンジアールが分
離取得される(工程())。抽出層には反応生成
物および未反応の1,5−ヘキサジエンまたは
1,7−オクタジエンのほかに少量の反応溶媒お
よび触媒成分が含まれている。したがつて、望ま
しくは抽出層をこれに対して少なくとも0.25の容
量比の水で洗浄したのち、該抽出層より1,8−
オクタンジアールまたは1,10−デカンジアール
を分離するのがよい。水の使用量について厳密な
意味での上限はないが、通常抽出層に対して3以
下の容量比で用いられる。抽出層を水で洗浄する
ことにより抽出層に少量含まれる反応溶媒および
触媒成分を水層側に移行させることができるの
で、抽出層からの反応溶媒および触媒成分の分離
回収が容易となる。この操作によつて得られる反
応溶媒および触媒成分を含む水溶液は、該水溶液
より水を留去したのち工程()のヒドロホルミ
ル化反応工程に循環することもできる。抽出層に
通常の蒸留操作を施すことによつて1,8−オク
タンジアールまたは1,10−デカンジアールを取
得することができる。また本発明者らの詳細な検
討によると、工程()における抽出操作をn−
ヘキサノール、n−ヘプタノール、n−オクタノ
ール、n−ノナノールおよびn−デカノールより
なる群から選ばれる第1級アルコール、または該
第1級アルコールとヘキサン、ヘプタン、オクタ
ン、デカン、シクロヘキサンおよびメチルシクロ
ヘキサンよりなる群から選ばれる飽和脂肪族炭化
水素もしくは飽和脂環族炭化水素の混合物を用い
て行なつた場合には、抽出操作により得られた抽
出層を前記抽出操作において用いた第1級アルコ
ールの種類に応じて適切な温度に保持すると1,
8−オクタンジアールまたは1,10−デカンジア
ールの対応する第1級アルコールとのジヘミアセ
タール〔前記一般式(A)参照〕が結晶として析出
し、ヒドロホルミル化反応の副生成物である分岐
型ジアール類およびモノアルデヒド類については
このような結晶は析出しないことが見出された。
したがつてこの性質を用いるならば工程()で
得られる抽出層からとくに高純度の1,8−オク
タンジアールまたは1,10−デカンジアールを取
得することができる。すなわち、抽出層を水で洗
浄したのちこれを0〜50℃の温度下に保持するこ
とによつて結晶を析出させ、析出した結晶を過
または遠心分離法などの操作によつて分離し、得
られる結晶を必要に応じて少量の水、工程()
の操作で使用したものと同一の第1級アルコー
ル、飽和脂肪族炭化水素もしくは飽和脂環式炭化
水素またはこれらの混合物で洗浄したのち、分留
操作を施すことにより極めて高純度の1,8−オ
クタンジアールまたは1,10−デカンジアールを
取得することができる。結晶分離後の抽出層また
はその一部に分留操作を施せば、未反応の原料、
モノアルデヒド類および分岐型ジアール類を分離
することができる。また、この際得られる抽剤は
工程()に循環し再使用することができる。 以下、実施例によつて本発明をさらに具体的に
説明する。 実施例 1 温度計、電磁撹拌装置、ガス吹込み口およびガ
ス排出口を備えた内容1のステンレス製オート
クレーブにRh4(CO)120.25ミリモル、 75ミリモル、水350mlおよびスルホラン150mlを仕
込み、オートクレーブ内を水素/一酸化炭素混合
ガス(モル比3/1)で充分置換したのち、この
組成の混合ガスによつてオートクレーブ内の圧力
を10気圧に保ちつつ内温が80℃一定となるまで加
温し更に30分間撹拌を続けた。オートクレーブは
圧力調節弁を通してモル比3/1の水素/一酸化
炭素混合ガスを充てんしてあるガスだめに接続
し、反応中は常に一定の圧力が保たれるようにし
た。 次いで激しく撹拌しながら1,5−ヘキサジエ
ン40g(488ミリモル)を定量ポンプにより3時
間かけてオートクレーブ内に連続的に添加した。
添加終了後、更に1時間撹拌を続けた。合計4時
間反応したのち反応混合液のごく微量を取り出し
ガスクロマトグラフイーで分析したところ、未反
応の1,5−ヘキサジエンの残存量は24.3ミリモ
ル(変換率95.0%)であり、1,8−オクタンジ
アールは352.1ミリモル生成していることがわか
つた。他の生成物としては2−メチル−1,7−
ヘプタンジアール、2,2−ジメチル−1,6−
ヘキサンジアールおよび6−ヘプテン−1−アー
ルがそれぞれ83.5ミリモル、9.3ミリモルおよび
8.9ミリモル生成していた。次いで反応混合液を
予め水素/一酸化炭素混合ガス(モル比1/1)
で充分置換した内容2の三つ口フラスコに空気
に触れないようにして圧送し、n−ヘキサノール
150mlおよびヘキサン350mlを加え、内温を30℃に
保ちながら上記組成の混合ガス雰囲気下で20分間
撹拌した。撹拌を停止すると直ちに二層に分離し
た。10分間静置後、下層(黄色)と上層(無色)
を分岐し、ガスクロマトグラフイーにより分析し
たところ反応混合液中の1,8−オクタンジアー
ル、2−メチル−1,7−ヘプタンジアール、
2,5−ジメチル−1,6−ヘキサンジアールお
よび6−ヘプテン−1−アールはそれぞれ89%、
93%、95%および99%が抽出層に抽出されている
ことがわかつた。 次いで、再び空気に触れないようにして下層
(抽残層)をオートクレーブに移し、スルホラン
を5ml追加した。第1回目と同様の反応条件下で
40gの1,5−ヘキサジエンを3時間かけて連続
的に添加し、更に1時間撹拌を続けた。反応混合
液を分析したところ、第2回目の反応での1,5
−ヘキサジエンの残存量は25.8ミリモルであり、
1,8−オクタンジアール、2−メチル−1,7
−ヘプタンジアール、2,5−ジメチル−1,6
−ヘキサンジアールおよび6−ヘプテン−1−ア
ールがそれぞれ351.3ミリモル、81.4ミリモル、
9.0ミリモルおよび11.3ミリモル生成しているこ
とがわかつた。第1回目と同様の操作方法および
条件により抽出操作を施したのち抽残層をオート
クレーブに仕込み、再びスルホランを5ml追加し
た。第1回目と同様の反応条件および反応操作で
第3回目のヒドロホルミル化反応を行なつた。反
応停止後、反応混合液を分析したところ1,5−
ヘキサジエンの残存量および各生成物の生成量は
第2回目とほぼ同様であつた。 上記の3回の反応および抽出操作で得られた抽
出液をこれと同じ容量の水で洗浄したのち、有機
層を約5℃の温度下に放置すると結晶が析出し
た。この結晶を別し、ヘキサンで洗浄したのち
室温下で真空乾燥すると約330gの結晶が得られ
た。 この結晶の一部をテトラヒドロフランに溶解さ
せ、ガスクロマトグラフイーで分析したところそ
の中には1,8−オクタンジアールと1,8−オ
クタンジアールに対して2モル倍のn−ヘキサノ
ールが含まれていることがわかつた。この結晶に
ついてKBr錠剤法による赤外吸収スペクトルを
測定したところアルデヒド基の存在を示す吸収は
全く観測されず、ヒドロキシル基およびアセター
ル結合の存在を示す吸収がそれぞれ3400cm-1およ
び1000〜1200cm-1に観測された。またこの結晶の
CDCl3溶液の1H−NMRスペクトル測定結晶も
1,8−オクタンジアールと1,8−オクタンジ
アールに対して2モルのn−ヘキサノールからな
るジヘミアセタール(1,8−ジヘプチルオキシ
−オクタン−1,8−ジオール)であることを示
した。 この結晶を融解したのち通常の減圧蒸留操作に
より沸点69〜70℃/1.5mmHgの留分として1,8
−オクタンジアールが約118g得られた。このも
のはガスクロマトグラフイーによる分析から98.6
%以上の純度であることが確かめられた。 実施例 2 実施例1で用いた反応装置にRh6(CO)160.15ミ
リモル、 60ミリモル、水300mlおよび1,4−ブタンジオ
ール200mlを仕込み、オートクレーブ内を水素/
一酸化炭素混合ガス(モル比3/1)で充分置換
したのち、この組成の混合ガスによつてオートク
レーブ内の圧力を8気圧、出ガス流速を10/時
に保ちつつ撹拌下内温が80℃一定となるまで加温
し、更に30分間撹拌を続けた。次いで激しく撹拌
しながら1,7−オクタジエン50g(455ミリモ
ル)を定量ポンプにより3時間かけてオートクレ
ーブ内に連続的に添加し、添加終了後更に1時間
撹拌を続けた。合計4時間反応したのち反応混合
液をガスクロマトグラフイーで分析したところ未
反応の1,7−オクタジエンの残存量は18.2ミリ
モルであり、1,10−デカンジアールおよび2−
メチル−1,9−ノナンジアールがそれぞれ
336.4ミリモルおよび74.2ミリモル生成しており、
他に2,7−ジメチル−1,8−オクタンジアー
ルおよび8−ノネン−1−アールがわずかに生成
していることがわかつた。次いで実施例1と同様
にして、反応混合液を内容2のフラスコに移
し、窒素ガス雰囲気下、n−オクタノール160ml
およびオクタン250mlの混合液により30℃で抽出
操作を施した。分液後、抽残層をガスクロマトグ
ラフイーで分析したのち再びオートクレーブに移
し、1,4−ブタンジオールを10ml追加し、第1
回目と同様の反応条件下で1,7−オクタジエン
のヒドロホルミル化をくり返した。反応後、反応
混合液を分析したところ第2回目の反応での1,
7−オクタジエンの残存量は20.1ミリモルであ
り、1,10−デカンジアールおよび2−メチル−
1,9−ノナンジアールの生成量はそれぞれ
332.8ミリモルおよび73.6ミリモルであることが
わかつた。次いで、第1回目と同様の操作方法お
よび条件により抽出操作を施した。 上記の2回の反応および操作で得られた抽出液
をこれを同じ容量の水で洗浄したのち約10℃の温
度下に放置すると結晶が析出した。この結晶を
別し、ガクタンで洗浄したのち減圧蒸留操作を施
すことにより沸点89〜90℃/0.5mmHgの留分とし
て1,10−デカンジアールが約84g得られた。こ
のものはガスクロマトグラフイーによる分析から
98.9%以上の純度であることがわかつた。 実施例 3 実施例2において触媒としてHRh(CO)
(PPh3)31ミリモルおよび 75ミリモルを用い、溶媒として水300mlおよびス
ルホラン200mlを用いたこと以外は実施例2と同
様にして1,7−オクタジエンのヒドロホルミル
化反応を4時間行なつた。反応終了後、反応混合
液をガスクロマトグラフイーにより分析すること
によつて1,7−オクタジエンの残存量は25.4ミ
リモルであり、1,10−デカンジアール、2メチ
ル−1,9−ノナンジアールおよび2,5−ジメ
チル−1,8−オクタンジアールがそれぞれ
328.5ミリモル68.3ミリモルおよび8.5ミリモル生
成していることがわかつた。次いで実施例2と同
様にして2−エチルヘキサノール300mlを用いて
40℃で抽出操作を施した。分液後、上層をこれと
等容量の水で洗浄したのち減圧蒸留操作を行なつ
たところ、約59gの1,10−デカンジアール、2
−メチル−1,9−ノナンジアールおよび2,5
−ジメチル−1,8−オクタンジアールの混合物
が得られた。この混合物中の1,10−デカンジア
ールの含有量は86.1%であつた。 また上記の抽残層を用いて1,7−オクタジエ
ンのヒドロホルミル化反応を繰り返したところ第
1回目とほぼ同様の反応成績が得られた。 実施例 4 実施例1においてヒドロホルミル化溶媒として
水250mlおよび1,6−ヘキサンジオール250mlの
混合溶液を用いたこと以外は実施例1と同様にし
て1,5−ヘキサジエンのヒドロホルミル化反応
を行なつた。反応停止後、ガスクロマトグラフイ
ーで分析したのちn−ヘキサノール150mlおよび
シクロヘキサン250mlからなる抽剤を用いて窒素
ガス雰囲気下30℃で2回抽出操作を施した。2回
の抽出により得られた抽出層を水300mlにて洗浄
後約5℃の温度下に放置し、得られた結晶を真空
乾燥すると約100gの結晶が得られ、このものを
減圧蒸留することによつて約36gの1,8−オク
タンジアールが得られた。 比較例 1〜4 実施例1においてヒドロホルミル化溶媒として
水350mlおよび第1表に記載の一価アルコール150
mlの混合溶液を用いたこと以外は実施例1と同様
にして1,5−ヘキサジエンのヒドロホルミル化
反応を行なつた。反応停止後、ガスクロマトグラ
フイーで分析したのちn−ヘキサノール150mlお
よびヘキサン350mlからなる抽剤を用いて窒素ガ
ス雰囲気下30℃で2回抽出操作を実施した。2回
の抽出により得られた抽出層を水300mlにて洗浄
後約5℃の温度下に放置し、得られた結晶を真空
乾燥した。このものを減圧蒸留することによつて
1,8−オクタンジアールを得た。結果を第1表
に示す。 【表】
10−デカンジアールの製造法に関するものであ
り、さらに詳しくは工業的実施に適した方法で
1,5−ヘキサジエンまたは1,7−オクタジエ
ンをヒドロホルミル化することよりなる1,8−
オクタンジアールまたは1,10−デカンジアール
の製造法に関するものである。 1,8−オクタンジアールまたは1,10−デカ
ンジアールは蛋白質および酵素の固定化剤、殺菌
剤、高分子架橋剤として、また対応するジカルボ
ン酸、ジオールおよびジアミンの出発原料として
極めて有用な化合物であることは良く知られてお
り、その工業的な製法として1,5−ヘキサジエ
ンまたは1,7−オクタジエンのヒドロホルミル
化反応による製造法も既に提案されている。しか
しながら、従来提案の方法には次の二つの技術的
問題点が含まれており、それらが未解決であるた
めか現在なお1,8−オクタンジアールまたは
1,10−デカンジアールは工業的規模で生産され
るには至つておらず、僅かに極めて高価な試薬を
用いる部分還元法によつて対応するジカルボン酸
エステルから試薬的に合成されているに過ぎな
い。従来提案の法の問題点の一つは1,5−ヘキ
サジエンまたは1,7−オクタジエンのヒドロホ
ルミル化反応においては少なくとも三つの異性体
(n型−n型ジアルデヒド、n型−i型ジアルデ
ヒドおよびi型−i型ジアルデヒド)が生成し、
それらは互いに沸点が近接しており、また熱的に
充分には安定でないため、これら異性体混合物か
らn型−n型生成物である1,8−オクタンジア
ールまたは1,10−デカンジアールを高純度で分
離取得することが実質的に不可能なことである。
従来提案の方法の今一つの技術的問題点はヒドロ
ホルミル化反応混合液から反応生成物を分離取得
する場合のロジウム触媒の触媒活性劣化である。
すなわち、従来提案の方法ではロジウム触媒と反
応生成物の分離には蒸留分離法が採用されている
が、ロジウム触媒は溶媒中では熱的に不安定であ
り不活性ロジウム錯体に変質し易く、また蒸留分
離法では高沸点副生物の反応系内への蓄積が避け
難い。このように、従来提案の方法に従つたので
は高純度の1,8−オクタンジアールまたは1,
10−デカンジアールを工業的に製造することは実
質的に不可能である。 かかる背景から本発明者らは1,5−ヘキサジ
エンまたは1,7−オクタジエンから高純度の
1,8−オクタンジアールまたは1,10−デカン
ジアールの工業的に実施可能な製造法を完成せん
ものと鋭意研究を重ねた結果、本発明に至つた。
すなわち、本発明によれば、 () スルホラン、1,4−ブタンジオールま
たは1,6−ヘキサンジオールと水の重量比が
15/85〜75/25のスルホラン、1,4−ブタン
ジオールまたは1,6−ヘキサンジオール水溶
液中で(a)ロジウム錯化合物および(b)ジフエニル
ホスフイノベンゼン−m−モノスルホン酸のナ
トリウム塩、カリウム塩またはリチウム塩の存
在下に1,5−ヘキサジエンまたは1,7−オ
クタジエンを水素と一酸化炭素との混合ガスに
よつてヒドロホルミル化し、 () 工程()で得られる反応混合液に対し
て炭素数が約5〜12の飽和脂肪族第1級アルコ
ール、または該第1級アルコールと炭素数が約
5〜10の飽和脂肪族炭化水素もしくは飽和脂環
式炭化水素との混合物による抽出操作を施すこ
とによつて該反応混合液から1,8−オクタン
ジアールまたは1,10−デカンジアールを抽出
し、触媒成分を含む抽残層を工程()のヒド
ロホルミル化反応工程に循環し、 () 工程()で得られる生成ジアルデヒド
を含む抽出層より1,8−オクタンジアールま
たは1,10−デカンジアールを取得することか
らなる方法により1,8−オクタンジアールま
たは1,10−デカンジアールを高収率で製造す
ることができる。 加えて本発明によれば前記工程()の抽出操
作をn−ヘキサノール、n−ヘプタノール、n−
オクタノール、n−ノナノールおよびn−デカノ
ールよりなる群から選ばれる第1級アルコールも
しくは該第1級アルコールとヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン、デカン、シクロヘキサンおよびメ
チルシクロヘキサンよりなる群から選ばれる飽和
脂肪族炭化水素もしくは飽和脂環式炭化水素の混
合物を用いて10〜60℃の温度下で行ない、得られ
る抽出層を水で洗浄したのち0〜50℃の温度下に
保持することにより1,8−オクタンジアールま
たは1,10−デカンジアールが一般式(A) (式中nは6または8であり、Rは炭素数が6
から10の直鎖飽和脂肪炭化水素基を表わす) で表わされるジヘミアセタールの結晶の形で析出
し、分岐状ジアールについては同条件下ではこの
ようなジヘミアセタールの結晶を析出しないの
で、該結晶を分離取得することにより極めて高純
度の1,8−オクタンジアールまたは1,10−デ
カンジアールを取得することができる。 本発明方法にしたがう1,5−ヘキサジエンま
たは1,7−オクタジエンのヒドロホルミル化反
応に用いられるロジウム錯化合物としては、反応
条件下においてヒドロホルミル化触媒能を有する
任意のロジウム錯化合物を用いることができる。
かかるロジウム錯化合物は既に多数知られてお
り、本発明の方法においてもこれら従来公知のロ
ジウム錯化合物が概ね使用可能である。具体的に
はHRh(CO)(PA3)3(A;アリール基)、Rh4
(CO)12およびRh6(CO)16などを挙げることがで
きる。また、RhCl(PA3)3,Rh(acac)3(acac;
アセチルアセトナート基)、Rh(OAc)3(OAc;ア
セトキシル基)、〔Rh(CO)2(PA3)2〕2、RhCl3・
3H2OおよびRh2O3などのロジウム(錯)化合物
を別途に設けた触媒調製槽中で通常の方法により
活性化したのち用いることもできる。ロジウム錯
化合物は通常、ヒドロホルミル化反応液1あた
りロジウム原子換算で0.05〜10ミリグラム原子の
濃度範囲で使用される。本発明のヒドロホルミル
化反応に用いられるジフエニルホスフイノベンゼ
ン−m−モノスルホン酸のナトリウム塩、カリウ
ム塩、およびリチウム塩は下記一般式 (式中、MはNa,KまたはLiを表わす) で示される水溶性の三置換ホスフインである。こ
れらジフエニルホスフイノベンゼン−m−モノス
ルホン酸塩はロジウム1グラム原子あたり10当量
以上、好ましくは25当量以上の量で用いられる。 本発明方法にしたがう1,5−ヘキサジエンま
たは1,7−オクタジエンのヒドロホルミル化反
応はスルホラン、1,4−ブタンジオールまたは
1,6−ヘキサンジオールと水の重量比が15/85
〜75/25のスルホラン、1,4−ブタンジオール
または1,6−ヘキサンジオール水溶液中で行な
われる。このうち反応成績、後続の生成物分離工
程、および化学的安定性などを考慮するとスルホ
ラン水溶液を用いるのがより好ましい。水溶液中
のスルホラン、1,4−ブタンジオールまたは
1,6−ヘキサンジオールの濃度が15重量パーセ
ント未満の場合には反応速度が低下し、また工程
()における層分離性が悪くなるので好ましく
ない。また該水溶液の濃度が75重量パーセントを
越えると工程()において抽出層中への溶媒お
よび触媒成分の溶出率が高くなるので好ましくな
い。とくに望ましいスルホラン、1,4−ブタン
ジオールまたは1,6−ヘキサンジオール水溶液
の濃度はスルホラン、1,4−ブタンジオールま
たは1,6−ヘキサンジオールと水の重量比で
25/75〜60/40である。本ヒドロホルミル化反応
は通常40〜110℃、好ましくは60〜90℃の温度下
で実施される。反応に用いられる水素/一酸化炭
素混合ガスにおいて水素と一酸化炭素のモル比は
入ガス組成として通常0.5〜5の範囲内から選ば
れる。反応圧力は一般に1〜30気圧の範囲内から
選ばれる。ヒドロホルミル化反応は撹拌型反応槽
または気泡塔型反応槽中で連続方式またはバツチ
方式で行なうことができる。反応条件下における
反応混合液中への原料であるジエンおよび反応中
間体であるモノアルデヒド類の溶解度は比較的小
さいので、反応速度に応じて1,5−ヘキサジエ
ンまたは1,7−オクタジエンの供給速度を調節
することが望ましく、これにより反応系が不均一
化するのを防止することができる。反応混合液中
の1,8−オクタンジアールまたは1,10−デカ
ンジアールの濃度は0.5〜3モル/の範囲内に
あるのが触媒活性、生成物分離などの点から好ま
しい。本発明者らの詳細な検討によると、反応系
にたとえばリン酸二水素ナトリウム
(NaH2PO4)とリン酸−水素ナトリウム
(Na2HPO4)との混合溶液、リン酸二水素カリ
ウム(KH2PO4)とリン酸−水素カリウム
(K2HPO4)との混合溶液で代表される緩衝液を
適量共存させて反応混合液のPHを5〜7の範囲に
保つことにより触媒活性がさらに安定化すること
が認められた。 1,5−ヘキサジエンまたは1,7−オクタジ
エンをヒドロホルミル化することによつて得られ
る反応混合液は炭素数が約5〜12の飽和脂肪族第
1級アルコール、または該第1級アルコールと炭
素数が約5〜10の飽和脂肪族炭化水素もしくは飽
和脂環式炭化水素との混合物による抽出操作に付
される。炭素数が約5〜12の飽和脂肪族第1級ア
ルコールとしてはn−ペンタノール、n−ヘキサ
ノール、2−エチルヘキサノール、3,5,5−
トリメチルヘキサノール、n−ヘプタノール、n
−オクタノール、n−ノナノール、n−デカノー
ル、n−ウンデカノールおよびn−ドデカノール
などを例示することができる。また炭素数が約5
〜10の飽和脂肪族炭化水素または飽和脂環式炭化
水素としてはペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オ
クタン、ノナン、デカン、シクロヘキサンおよび
メチルシクロヘキサンなどを例示することができ
る。前記第1級アルコールと前記飽和脂肪族炭化
水素または飽和脂環式炭化水素を混合して用いる
ことにより第1級アルコールを単独で用いる場合
と比較して抽出層中への反応溶媒および触媒成分
の溶出率を低下させることができる。この場合、
炭素数が約5〜12の飽和脂肪族第1級アルコール
と炭素数が約5〜10の飽和脂肪族炭化水素または
飽和脂環式炭化水素の使用割合(第1級アルコー
ル/炭化水素)が容量比で1/5〜5/1の範囲
内にあるのがよい。抽剤の水への溶解度、沸点、
融点、などの物理的性質、1,8−オクタンジア
ールまたは1,10−デカンジアールの抽出率、反
応溶媒および触媒成分の溶出率、さらには価格を
も含めた入手のし易さなどの諸点を勘案すると、
n−ヘキサノール、n−ヘプタノール、n−オク
タノールおよびn−ノナノールよりなる群から選
ばれる第1級アルコールとヘキサン、ヘプタン、
オクタン、デカンおよびシクロヘキサンよりなる
群から選ばれる飽和脂肪族炭化水素または飽和脂
環式炭化水素との混合物を用いるのが最も好まし
い。反応混合液に対するこれら第1級アルコー
ル、または第1級アルコールと飽和脂肪族炭化水
素または飽和脂環式炭化水素との混合物の使用割
合は容量比で1/5〜5/1の範囲内から選ぶの
が実用的である。また、層分離性、反応生成物の
抽出率、反応溶媒および触媒成分の溶出率などは
抽出温度にかなり強く支配されるので、抽出温度
を10〜60℃の範囲内から選ぶのが工業的に有利で
ある。抽出装置としては、一般的に汎用な撹拌型
抽出塔、RDC型抽出塔、多孔板塔などが適用可
能である。抽出操作は通常、窒素、ヘリウム、ア
ルゴンなどの不活性ガスまたは水素/一酸化炭素
混合ガスの雰囲気下で行なわれる。抽出操作によ
り反応生成物および未反応の1,5−ヘキサジエ
ンまたは1,7−オクタジエンは抽出層(上層)
中に分離され、また触媒成分は抽残層(下層)中
に分離される。抽残層は、必要に応じてその一部
に公知の触媒賦活処理を施したのち、工程()
のヒドロホルミル化反応工程に循環し再使用され
る。 工程()で得られる抽出層から1,8−オク
タンジアールまたは1,10−デカンジアールが分
離取得される(工程())。抽出層には反応生成
物および未反応の1,5−ヘキサジエンまたは
1,7−オクタジエンのほかに少量の反応溶媒お
よび触媒成分が含まれている。したがつて、望ま
しくは抽出層をこれに対して少なくとも0.25の容
量比の水で洗浄したのち、該抽出層より1,8−
オクタンジアールまたは1,10−デカンジアール
を分離するのがよい。水の使用量について厳密な
意味での上限はないが、通常抽出層に対して3以
下の容量比で用いられる。抽出層を水で洗浄する
ことにより抽出層に少量含まれる反応溶媒および
触媒成分を水層側に移行させることができるの
で、抽出層からの反応溶媒および触媒成分の分離
回収が容易となる。この操作によつて得られる反
応溶媒および触媒成分を含む水溶液は、該水溶液
より水を留去したのち工程()のヒドロホルミ
ル化反応工程に循環することもできる。抽出層に
通常の蒸留操作を施すことによつて1,8−オク
タンジアールまたは1,10−デカンジアールを取
得することができる。また本発明者らの詳細な検
討によると、工程()における抽出操作をn−
ヘキサノール、n−ヘプタノール、n−オクタノ
ール、n−ノナノールおよびn−デカノールより
なる群から選ばれる第1級アルコール、または該
第1級アルコールとヘキサン、ヘプタン、オクタ
ン、デカン、シクロヘキサンおよびメチルシクロ
ヘキサンよりなる群から選ばれる飽和脂肪族炭化
水素もしくは飽和脂環族炭化水素の混合物を用い
て行なつた場合には、抽出操作により得られた抽
出層を前記抽出操作において用いた第1級アルコ
ールの種類に応じて適切な温度に保持すると1,
8−オクタンジアールまたは1,10−デカンジア
ールの対応する第1級アルコールとのジヘミアセ
タール〔前記一般式(A)参照〕が結晶として析出
し、ヒドロホルミル化反応の副生成物である分岐
型ジアール類およびモノアルデヒド類については
このような結晶は析出しないことが見出された。
したがつてこの性質を用いるならば工程()で
得られる抽出層からとくに高純度の1,8−オク
タンジアールまたは1,10−デカンジアールを取
得することができる。すなわち、抽出層を水で洗
浄したのちこれを0〜50℃の温度下に保持するこ
とによつて結晶を析出させ、析出した結晶を過
または遠心分離法などの操作によつて分離し、得
られる結晶を必要に応じて少量の水、工程()
の操作で使用したものと同一の第1級アルコー
ル、飽和脂肪族炭化水素もしくは飽和脂環式炭化
水素またはこれらの混合物で洗浄したのち、分留
操作を施すことにより極めて高純度の1,8−オ
クタンジアールまたは1,10−デカンジアールを
取得することができる。結晶分離後の抽出層また
はその一部に分留操作を施せば、未反応の原料、
モノアルデヒド類および分岐型ジアール類を分離
することができる。また、この際得られる抽剤は
工程()に循環し再使用することができる。 以下、実施例によつて本発明をさらに具体的に
説明する。 実施例 1 温度計、電磁撹拌装置、ガス吹込み口およびガ
ス排出口を備えた内容1のステンレス製オート
クレーブにRh4(CO)120.25ミリモル、 75ミリモル、水350mlおよびスルホラン150mlを仕
込み、オートクレーブ内を水素/一酸化炭素混合
ガス(モル比3/1)で充分置換したのち、この
組成の混合ガスによつてオートクレーブ内の圧力
を10気圧に保ちつつ内温が80℃一定となるまで加
温し更に30分間撹拌を続けた。オートクレーブは
圧力調節弁を通してモル比3/1の水素/一酸化
炭素混合ガスを充てんしてあるガスだめに接続
し、反応中は常に一定の圧力が保たれるようにし
た。 次いで激しく撹拌しながら1,5−ヘキサジエ
ン40g(488ミリモル)を定量ポンプにより3時
間かけてオートクレーブ内に連続的に添加した。
添加終了後、更に1時間撹拌を続けた。合計4時
間反応したのち反応混合液のごく微量を取り出し
ガスクロマトグラフイーで分析したところ、未反
応の1,5−ヘキサジエンの残存量は24.3ミリモ
ル(変換率95.0%)であり、1,8−オクタンジ
アールは352.1ミリモル生成していることがわか
つた。他の生成物としては2−メチル−1,7−
ヘプタンジアール、2,2−ジメチル−1,6−
ヘキサンジアールおよび6−ヘプテン−1−アー
ルがそれぞれ83.5ミリモル、9.3ミリモルおよび
8.9ミリモル生成していた。次いで反応混合液を
予め水素/一酸化炭素混合ガス(モル比1/1)
で充分置換した内容2の三つ口フラスコに空気
に触れないようにして圧送し、n−ヘキサノール
150mlおよびヘキサン350mlを加え、内温を30℃に
保ちながら上記組成の混合ガス雰囲気下で20分間
撹拌した。撹拌を停止すると直ちに二層に分離し
た。10分間静置後、下層(黄色)と上層(無色)
を分岐し、ガスクロマトグラフイーにより分析し
たところ反応混合液中の1,8−オクタンジアー
ル、2−メチル−1,7−ヘプタンジアール、
2,5−ジメチル−1,6−ヘキサンジアールお
よび6−ヘプテン−1−アールはそれぞれ89%、
93%、95%および99%が抽出層に抽出されている
ことがわかつた。 次いで、再び空気に触れないようにして下層
(抽残層)をオートクレーブに移し、スルホラン
を5ml追加した。第1回目と同様の反応条件下で
40gの1,5−ヘキサジエンを3時間かけて連続
的に添加し、更に1時間撹拌を続けた。反応混合
液を分析したところ、第2回目の反応での1,5
−ヘキサジエンの残存量は25.8ミリモルであり、
1,8−オクタンジアール、2−メチル−1,7
−ヘプタンジアール、2,5−ジメチル−1,6
−ヘキサンジアールおよび6−ヘプテン−1−ア
ールがそれぞれ351.3ミリモル、81.4ミリモル、
9.0ミリモルおよび11.3ミリモル生成しているこ
とがわかつた。第1回目と同様の操作方法および
条件により抽出操作を施したのち抽残層をオート
クレーブに仕込み、再びスルホランを5ml追加し
た。第1回目と同様の反応条件および反応操作で
第3回目のヒドロホルミル化反応を行なつた。反
応停止後、反応混合液を分析したところ1,5−
ヘキサジエンの残存量および各生成物の生成量は
第2回目とほぼ同様であつた。 上記の3回の反応および抽出操作で得られた抽
出液をこれと同じ容量の水で洗浄したのち、有機
層を約5℃の温度下に放置すると結晶が析出し
た。この結晶を別し、ヘキサンで洗浄したのち
室温下で真空乾燥すると約330gの結晶が得られ
た。 この結晶の一部をテトラヒドロフランに溶解さ
せ、ガスクロマトグラフイーで分析したところそ
の中には1,8−オクタンジアールと1,8−オ
クタンジアールに対して2モル倍のn−ヘキサノ
ールが含まれていることがわかつた。この結晶に
ついてKBr錠剤法による赤外吸収スペクトルを
測定したところアルデヒド基の存在を示す吸収は
全く観測されず、ヒドロキシル基およびアセター
ル結合の存在を示す吸収がそれぞれ3400cm-1およ
び1000〜1200cm-1に観測された。またこの結晶の
CDCl3溶液の1H−NMRスペクトル測定結晶も
1,8−オクタンジアールと1,8−オクタンジ
アールに対して2モルのn−ヘキサノールからな
るジヘミアセタール(1,8−ジヘプチルオキシ
−オクタン−1,8−ジオール)であることを示
した。 この結晶を融解したのち通常の減圧蒸留操作に
より沸点69〜70℃/1.5mmHgの留分として1,8
−オクタンジアールが約118g得られた。このも
のはガスクロマトグラフイーによる分析から98.6
%以上の純度であることが確かめられた。 実施例 2 実施例1で用いた反応装置にRh6(CO)160.15ミ
リモル、 60ミリモル、水300mlおよび1,4−ブタンジオ
ール200mlを仕込み、オートクレーブ内を水素/
一酸化炭素混合ガス(モル比3/1)で充分置換
したのち、この組成の混合ガスによつてオートク
レーブ内の圧力を8気圧、出ガス流速を10/時
に保ちつつ撹拌下内温が80℃一定となるまで加温
し、更に30分間撹拌を続けた。次いで激しく撹拌
しながら1,7−オクタジエン50g(455ミリモ
ル)を定量ポンプにより3時間かけてオートクレ
ーブ内に連続的に添加し、添加終了後更に1時間
撹拌を続けた。合計4時間反応したのち反応混合
液をガスクロマトグラフイーで分析したところ未
反応の1,7−オクタジエンの残存量は18.2ミリ
モルであり、1,10−デカンジアールおよび2−
メチル−1,9−ノナンジアールがそれぞれ
336.4ミリモルおよび74.2ミリモル生成しており、
他に2,7−ジメチル−1,8−オクタンジアー
ルおよび8−ノネン−1−アールがわずかに生成
していることがわかつた。次いで実施例1と同様
にして、反応混合液を内容2のフラスコに移
し、窒素ガス雰囲気下、n−オクタノール160ml
およびオクタン250mlの混合液により30℃で抽出
操作を施した。分液後、抽残層をガスクロマトグ
ラフイーで分析したのち再びオートクレーブに移
し、1,4−ブタンジオールを10ml追加し、第1
回目と同様の反応条件下で1,7−オクタジエン
のヒドロホルミル化をくり返した。反応後、反応
混合液を分析したところ第2回目の反応での1,
7−オクタジエンの残存量は20.1ミリモルであ
り、1,10−デカンジアールおよび2−メチル−
1,9−ノナンジアールの生成量はそれぞれ
332.8ミリモルおよび73.6ミリモルであることが
わかつた。次いで、第1回目と同様の操作方法お
よび条件により抽出操作を施した。 上記の2回の反応および操作で得られた抽出液
をこれを同じ容量の水で洗浄したのち約10℃の温
度下に放置すると結晶が析出した。この結晶を
別し、ガクタンで洗浄したのち減圧蒸留操作を施
すことにより沸点89〜90℃/0.5mmHgの留分とし
て1,10−デカンジアールが約84g得られた。こ
のものはガスクロマトグラフイーによる分析から
98.9%以上の純度であることがわかつた。 実施例 3 実施例2において触媒としてHRh(CO)
(PPh3)31ミリモルおよび 75ミリモルを用い、溶媒として水300mlおよびス
ルホラン200mlを用いたこと以外は実施例2と同
様にして1,7−オクタジエンのヒドロホルミル
化反応を4時間行なつた。反応終了後、反応混合
液をガスクロマトグラフイーにより分析すること
によつて1,7−オクタジエンの残存量は25.4ミ
リモルであり、1,10−デカンジアール、2メチ
ル−1,9−ノナンジアールおよび2,5−ジメ
チル−1,8−オクタンジアールがそれぞれ
328.5ミリモル68.3ミリモルおよび8.5ミリモル生
成していることがわかつた。次いで実施例2と同
様にして2−エチルヘキサノール300mlを用いて
40℃で抽出操作を施した。分液後、上層をこれと
等容量の水で洗浄したのち減圧蒸留操作を行なつ
たところ、約59gの1,10−デカンジアール、2
−メチル−1,9−ノナンジアールおよび2,5
−ジメチル−1,8−オクタンジアールの混合物
が得られた。この混合物中の1,10−デカンジア
ールの含有量は86.1%であつた。 また上記の抽残層を用いて1,7−オクタジエ
ンのヒドロホルミル化反応を繰り返したところ第
1回目とほぼ同様の反応成績が得られた。 実施例 4 実施例1においてヒドロホルミル化溶媒として
水250mlおよび1,6−ヘキサンジオール250mlの
混合溶液を用いたこと以外は実施例1と同様にし
て1,5−ヘキサジエンのヒドロホルミル化反応
を行なつた。反応停止後、ガスクロマトグラフイ
ーで分析したのちn−ヘキサノール150mlおよび
シクロヘキサン250mlからなる抽剤を用いて窒素
ガス雰囲気下30℃で2回抽出操作を施した。2回
の抽出により得られた抽出層を水300mlにて洗浄
後約5℃の温度下に放置し、得られた結晶を真空
乾燥すると約100gの結晶が得られ、このものを
減圧蒸留することによつて約36gの1,8−オク
タンジアールが得られた。 比較例 1〜4 実施例1においてヒドロホルミル化溶媒として
水350mlおよび第1表に記載の一価アルコール150
mlの混合溶液を用いたこと以外は実施例1と同様
にして1,5−ヘキサジエンのヒドロホルミル化
反応を行なつた。反応停止後、ガスクロマトグラ
フイーで分析したのちn−ヘキサノール150mlお
よびヘキサン350mlからなる抽剤を用いて窒素ガ
ス雰囲気下30℃で2回抽出操作を実施した。2回
の抽出により得られた抽出層を水300mlにて洗浄
後約5℃の温度下に放置し、得られた結晶を真空
乾燥した。このものを減圧蒸留することによつて
1,8−オクタンジアールを得た。結果を第1表
に示す。 【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 () スルホラン、1,4−ブタンジオー
ルまたは1,6−ヘキサンジオールと水の重量
比が15/85〜75/25のスルホラン、1,4−ブ
タンジオールまたは1,6−ヘキサンジオール
水溶液中で(a)ロジウム錯化合物および(b)ジフエ
ニルホスフイノベンゼン−m−モノスルホン酸
のナトリウム塩、カリウム塩またはリチウム塩
の存在下に1,5−ヘキサジエンまたは1,7
−オクタジエンを水素と一酸化炭素との混合ガ
スによつてヒドロホルミル化し、 () 工程()で得られる反応混合液に対し
て炭素数が約5〜12の飽和脂肪族第1級アルコ
ール、または該第1級アルコールと炭素数が約
5〜10の飽和脂肪族炭化水素もしくは飽和脂環
式炭化水素との混合物による抽出操作を施すこ
とによつて該反応混合液から1,8−オクタン
ジアールまたは1,10−デカンジアールを抽出
し、触媒成分を含む抽残層を工程()のヒド
ロホルミル化反応工程に循環し、()工程
()で得られる1,8−オクタンジアールま
たは1,10−デカンジアールを含む抽出層より
1,8−オクタンジアールまたは1,10−デカ
ンジアールを取得する、 ことを特徴とする1,8−オクタンジアールまた
は1,10−デカンジアールの製造方法。 2 工程()における1,5−ヘキサジエンま
たは1,7−オクタジエンのヒドロホルミル化反
応を、スルホランと水の重量比が25/75〜60/40
のスルホラン水溶液中で行なう特許請求の範囲第
1項記載の方法。 3 工程()においてロジウム錯化合物を反応
混合液1あたりロジウム原子換算で0.05〜10ミ
リグラム原子の濃度で用い、ジフエニルホスフイ
ノベンゼン−m−モノスルホン酸のナトリウム
塩、カリウム塩またはリチウム塩をロジウム1グ
ラム原子あたり10当量以上の量で用いる特許請求
の範囲第1項記載の方法。 4 工程()において抽出操作をn−ヘキサノ
ール、n−ヘプタノール、n−オクタノール、n
−ノナノールおよびn−デカノールよりなる群か
ら選ばれる第1級アルコールとヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン、デカン、シクロヘキサンおよびメ
チルシクロヘキサンよりなる群から選ばれる飽和
脂肪族炭化水素または飽和脂環式炭化水素の混合
物を用いて10〜60℃の温度下で行なう特許請求の
範囲第1項記載の方法。 5 工程()において、工程()で得られる
抽出層を水洗したのち該抽出層から蒸留によつて
1,8−オクタンジアールまたは1,10−デカン
ジアールを取得する特許請求の範囲第1項記載の
方法。 6 工程()において抽出操作をn−ヘキサノ
ール、n−ヘプタノール、n−オクタノール、n
−ノナノールおよびn−デカノールよりなる群か
ら選ばれる第1級アルコール、または該第1級ア
ルコールとヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカ
ン、シクロヘキサンおよびメチルシクロヘキサン
よりなる群から選ばれる飽和脂肪族炭化水素もし
くは飽和脂環式炭化水素の混合物を用いて10〜60
℃の温度下で行ない、得られる抽出層を水で洗浄
したのち0〜50℃の温度下に保持することによつ
て1,8−オクタンジアールまたは1,10−デカ
ンジアールと前記第1級アルコールとのジヘミア
セタールの結晶を析出させ、析出した結晶を前記
抽出層から分離したのち、蒸留によつて1,8−
オクタンジアールまたは1,10−デカンジアール
を取得する特許請求の範囲第1項記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57099887A JPS58216138A (ja) | 1982-06-09 | 1982-06-09 | 1,8−オクタンジア−ルまたは1,10−デカンジア−ルの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57099887A JPS58216138A (ja) | 1982-06-09 | 1982-06-09 | 1,8−オクタンジア−ルまたは1,10−デカンジア−ルの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58216138A JPS58216138A (ja) | 1983-12-15 |
| JPH0245610B2 true JPH0245610B2 (ja) | 1990-10-11 |
Family
ID=14259287
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57099887A Granted JPS58216138A (ja) | 1982-06-09 | 1982-06-09 | 1,8−オクタンジア−ルまたは1,10−デカンジア−ルの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58216138A (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4578523A (en) * | 1985-05-29 | 1986-03-25 | Ruhrchemie Aktiengesellschaft | Process for the preparation of aldehydes |
| US4742178A (en) * | 1986-11-10 | 1988-05-03 | Eastman Kodak Company | Low pressure hydroformylation of dienes |
| US5215667A (en) * | 1991-08-20 | 1993-06-01 | Exxon Chemical Patents Inc. | Method for separating water soluble noble metal catalyst from a noble metal catalyzed hydroformylation reaction |
| US5288818A (en) * | 1991-08-20 | 1994-02-22 | Exxon Chemical Patents Inc. | Method for separating a water soluble noble metal catalyst from a noble metal catalyzed hydroformylation reaction |
| DE19532393A1 (de) * | 1995-09-02 | 1997-03-06 | Hoechst Ag | Verfahren zur Hydroformylierung olefinisch ungesättigter Verbindungen |
| DE10344690A1 (de) * | 2003-09-25 | 2005-04-14 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von 1,7-Octadien und dessen Verwendung |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4248802A (en) * | 1975-06-20 | 1981-02-03 | Rhone-Poulenc Industries | Catalytic hydroformylation of olefins |
-
1982
- 1982-06-09 JP JP57099887A patent/JPS58216138A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58216138A (ja) | 1983-12-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS6261577B2 (ja) | ||
| JPS6345649B2 (ja) | ||
| US20140243558A1 (en) | Novel hydroformylation process | |
| JPH0245610B2 (ja) | ||
| JPWO1997011931A1 (ja) | ヒドロホルミル化方法 | |
| JP2888509B2 (ja) | オクタ−2,7−ジエン−1−オールの製造方法 | |
| US4258214A (en) | Process for the production of aldehydes | |
| JPS5840533B2 (ja) | 3−メチルペンタン−1,5−ジオ−ルの製法 | |
| JPH1180068A (ja) | トリシクロデカンジアルデヒドの製造方法 | |
| JPH0819028B2 (ja) | ヒドロホルミル化方法 | |
| JP2510785B2 (ja) | オクタ―2,7―ジエン―1―オ―ルの製造法 | |
| US4925990A (en) | Process for the preparation of unsaturated alcohols | |
| EP0064285A1 (en) | Method of producing 1,9-nonanedial and/or 9-hydroxy-7-nonen-1-al | |
| JPH06340569A (ja) | 2−ホルミル−1,4−ブタンジオールの製造方法 | |
| JPS6019781A (ja) | 2−ヒドロキシ−4−メチルテトラヒドロピランの製造法 | |
| JPH0662480B2 (ja) | α,ω−ジアルデヒドの製造方法 | |
| JPH0662464B2 (ja) | 1,9―ノナンジオールの製造方法 | |
| JP7696501B2 (ja) | アルコールの製造方法 | |
| JP2824060B2 (ja) | 1,1,7−トリメチロールヘプタン | |
| JPH06102632B2 (ja) | 1,4−ブタンジオールの製造方法 | |
| JPH0662479B2 (ja) | ジアルデヒドの分離方法 | |
| JP4290229B2 (ja) | 2−ヒドロキシ−4−メチルテトラヒドロフランの製造方法 | |
| JP2000290273A (ja) | 3−ホルミルテトラヒドロフランの製造方法 | |
| JPS6221340B2 (ja) | ||
| WO2023080071A1 (ja) | 4-ヒドロキシブチルアルデヒドの製造方法、ガンマブチロラクトンの製造方法、n-メチル-2-ピロリドンの製造方法、化合物 |