JPH0665181B2 - トップテープフィルム - Google Patents
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Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Elimination Of Static Electricity (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、各種電子部品,精密部品などの微細な表面実
装部品の収納,搬送に使用されるプラスチック製キャリ
アテープ用のトップテープフィルムに関するものであ
る。
装部品の収納,搬送に使用されるプラスチック製キャリ
アテープ用のトップテープフィルムに関するものであ
る。
一般に、キャリアテープ用のトップテープフィルムは、
厚さ10〜50μmのポリエステルフィルムまたはポリエス
テル/ポリオレフィン2層とも押し出しフィルムをベー
スフィルムとし、スチレン−ブタジエン−スチレンブロ
ック共重合樹脂,エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂など
から成る厚さ10〜30μmのヒートシール性接着剤層をフ
ィルム積層法か、コーティング法によって設けたものが
広く利用されている。
厚さ10〜50μmのポリエステルフィルムまたはポリエス
テル/ポリオレフィン2層とも押し出しフィルムをベー
スフィルムとし、スチレン−ブタジエン−スチレンブロ
ック共重合樹脂,エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂など
から成る厚さ10〜30μmのヒートシール性接着剤層をフ
ィルム積層法か、コーティング法によって設けたものが
広く利用されている。
このトップテープフィルムは、キャリアテープのキャビ
ティに部品を収納後、蓋をかぶせるようにのせて該フィ
ルムの両端をキャリアテープにヒートシール接着するも
ので、収納,搬送時には部品の脱落を防止し、チップマ
ウンターなどの自動実装機による部品実装時にはキャリ
アテープから剥離除去されて使用されるものである。
ティに部品を収納後、蓋をかぶせるようにのせて該フィ
ルムの両端をキャリアテープにヒートシール接着するも
ので、収納,搬送時には部品の脱落を防止し、チップマ
ウンターなどの自動実装機による部品実装時にはキャリ
アテープから剥離除去されて使用されるものである。
このトップテープフィルムは、製造工程,使用工程で巻
出し、巻取りが数回行われるため摩擦・接触によって静
電気を帯びやすく、このフィルムが帯電した場合には、
キャリアテープからトップテープフィルムを剥離する
時、収納部品がトップテープフィルム側に静電付着して
キャリアテープのキャビティより脱落する不具合があ
り、また相補型MOS−IC,TTL(トランジスタ・トランジ
スタ・ロジック),MOS−FET(電界効果型トランジス
タ),バイポーラトランジスタ,ショットキダイオード
等の静電気に弱い半導体素子は、このトップテープフィ
ルムに接触した場合、放電によって静電破壊してしまう
ことから、このトップテープフィルムは、従来では界面
活性剤系帯電防止剤をヒートシール性接着剤層に練り込
んだり、フィルム表面にコーティングして用いられてい
る。また、トップテープフィルムの帯電防止効果を得ら
れるための表面抵抗は、フィルム剥離時の部品脱落防止
のためには、単位面積当たり109Ω以下、望ましくは107
Ω以下が必要であると言われている。
出し、巻取りが数回行われるため摩擦・接触によって静
電気を帯びやすく、このフィルムが帯電した場合には、
キャリアテープからトップテープフィルムを剥離する
時、収納部品がトップテープフィルム側に静電付着して
キャリアテープのキャビティより脱落する不具合があ
り、また相補型MOS−IC,TTL(トランジスタ・トランジ
スタ・ロジック),MOS−FET(電界効果型トランジス
タ),バイポーラトランジスタ,ショットキダイオード
等の静電気に弱い半導体素子は、このトップテープフィ
ルムに接触した場合、放電によって静電破壊してしまう
ことから、このトップテープフィルムは、従来では界面
活性剤系帯電防止剤をヒートシール性接着剤層に練り込
んだり、フィルム表面にコーティングして用いられてい
る。また、トップテープフィルムの帯電防止効果を得ら
れるための表面抵抗は、フィルム剥離時の部品脱落防止
のためには、単位面積当たり109Ω以下、望ましくは107
Ω以下が必要であると言われている。
このような帯電防止効果を与えるのに有効な手段とし
て、接着剤層にカーボンブラックや金属微粉等の導電性
粉末を加える方法があるが、トップテープフィルムは、
該フィルム面を通して部品のマーキング文字を確認した
り、目視検査する必要があるため透明性が要求されるの
で実用的に採用できない。そのため、トップテープフィ
ルム表面の導電性を高める方法として、透明もしくは半
透明な界面活性剤を用いる帯電防止法、すなわちアニオ
ン系活性剤,カチオン系活性剤,非イオン性活性剤,両
性活性剤などの界面活性剤をフィルムの接着剤層に練り
込んだり、フィルム表面にコーティングすることによっ
て、トップテープフィルム表面に親水性とイオン性を与
える方法が一般に行われている。
て、接着剤層にカーボンブラックや金属微粉等の導電性
粉末を加える方法があるが、トップテープフィルムは、
該フィルム面を通して部品のマーキング文字を確認した
り、目視検査する必要があるため透明性が要求されるの
で実用的に採用できない。そのため、トップテープフィ
ルム表面の導電性を高める方法として、透明もしくは半
透明な界面活性剤を用いる帯電防止法、すなわちアニオ
ン系活性剤,カチオン系活性剤,非イオン性活性剤,両
性活性剤などの界面活性剤をフィルムの接着剤層に練り
込んだり、フィルム表面にコーティングすることによっ
て、トップテープフィルム表面に親水性とイオン性を与
える方法が一般に行われている。
そのような帯電防止剤に用いる界面活性剤としては、脂
肪族第4級アンモニウム塩型カチオン系界面活性剤,カ
ルボキシベタイン型両性界面活性剤,高級アルコールリ
ン酸エステル・ナトリウム塩などのアニオン系界面活性
剤,ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル,ポ
リオキシエチレンアルキルアミンなどの非イオン性界面
活性剤が用いられているが、この帯電防止剤は、粉末
状,水溶液状,油溶液状として市販されており、ヒート
シール性接着剤層に練り込むか、該フィルムの裏面にコ
ーティングして用いられる。
肪族第4級アンモニウム塩型カチオン系界面活性剤,カ
ルボキシベタイン型両性界面活性剤,高級アルコールリ
ン酸エステル・ナトリウム塩などのアニオン系界面活性
剤,ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル,ポ
リオキシエチレンアルキルアミンなどの非イオン性界面
活性剤が用いられているが、この帯電防止剤は、粉末
状,水溶液状,油溶液状として市販されており、ヒート
シール性接着剤層に練り込むか、該フィルムの裏面にコ
ーティングして用いられる。
しかし、一般に、界面活性剤はフィルム面において、−
COO-M+,−OSO3 -M+,(以上のMはH,Na,Kなどの元素原
子),〔−N(CH3)2−〕+X-(XはCl,Br等のハロゲ
ン元素原子),−OH,−(CH2CH2O)n-などの親水基を大
気中に向けて配列させ、その吸湿性によって電気抵抗を
低下させるものであることから、大気中の湿度に左右さ
れやすく、また、常温常湿(5〜35℃,45〜85%RH)に
おいて表面抵抗が単位面積あたり109Ω以上であり、半
導体素子の静電破壊防止には役立たないこと、また、接
着剤層に練り込む場合には、接着剤樹脂と帯電防止剤と
の相溶性が問題となり、相溶性が不良の場合には接着剤
層表面にブリードして、ヒートシール接着性能を劣化さ
せる場合があることやフィルム表面へコーティングした
ものは、湿気中に溶け出して帯電防止効果が失われやす
い等の問題点があり、満足な帯電防止能と透明性を合わ
せ持つトップテープフィルムの出現が望まれている。
COO-M+,−OSO3 -M+,(以上のMはH,Na,Kなどの元素原
子),〔−N(CH3)2−〕+X-(XはCl,Br等のハロゲ
ン元素原子),−OH,−(CH2CH2O)n-などの親水基を大
気中に向けて配列させ、その吸湿性によって電気抵抗を
低下させるものであることから、大気中の湿度に左右さ
れやすく、また、常温常湿(5〜35℃,45〜85%RH)に
おいて表面抵抗が単位面積あたり109Ω以上であり、半
導体素子の静電破壊防止には役立たないこと、また、接
着剤層に練り込む場合には、接着剤樹脂と帯電防止剤と
の相溶性が問題となり、相溶性が不良の場合には接着剤
層表面にブリードして、ヒートシール接着性能を劣化さ
せる場合があることやフィルム表面へコーティングした
ものは、湿気中に溶け出して帯電防止効果が失われやす
い等の問題点があり、満足な帯電防止能と透明性を合わ
せ持つトップテープフィルムの出現が望まれている。
最近帯電防止能と透明性を合わせ持つトップテープフィ
ルムとして、例えば実開平1-112599号公報のように、7,
7,8,8-テトラシアノキシジメタン錯体(以下、TCNQ錯体
と略記する)を用いたものが提案されている。このTCNQ
錯体を用いたものは、その導電機構が針状結晶の析出に
よる網目状の導電経路によるものであるため、その表面
抵抗が大気中の湿度等に影響されることがなく、比較的
高い導電性と光線透過率80%以上の透明性を有するトッ
プテープフィルムが得られるという利点がある。
ルムとして、例えば実開平1-112599号公報のように、7,
7,8,8-テトラシアノキシジメタン錯体(以下、TCNQ錯体
と略記する)を用いたものが提案されている。このTCNQ
錯体を用いたものは、その導電機構が針状結晶の析出に
よる網目状の導電経路によるものであるため、その表面
抵抗が大気中の湿度等に影響されることがなく、比較的
高い導電性と光線透過率80%以上の透明性を有するトッ
プテープフィルムが得られるという利点がある。
ところが、このTCNQ錯体を用いた従来のトップテープフ
ィルムでは、該網目状の導電経路は析出した針状結晶の
接触によるものであるため、この結晶成長の状態が溶剤
の揮発速度や乾燥時の温度分布に影響を受け易く、よっ
て単位面積中の導電経路数が不均一となることから表面
抵抗のばらつきが大きいと同時に均一な表面抵抗が得ら
れないし、しかも、このトップテープフィルムをキャリ
アテープに熱接着する際には130〜170℃の高温で0.2〜
1.0秒間ヒートシールすることから耐熱性が要求される
が、高温(たとえば140℃の加熱)または高温高湿条件
(例えば、60℃95%RH)の条件下において、該針状結晶
の接合点が劣化し、その導電経路が著しく減少して導電
性が大幅に低下するという問題があった。
ィルムでは、該網目状の導電経路は析出した針状結晶の
接触によるものであるため、この結晶成長の状態が溶剤
の揮発速度や乾燥時の温度分布に影響を受け易く、よっ
て単位面積中の導電経路数が不均一となることから表面
抵抗のばらつきが大きいと同時に均一な表面抵抗が得ら
れないし、しかも、このトップテープフィルムをキャリ
アテープに熱接着する際には130〜170℃の高温で0.2〜
1.0秒間ヒートシールすることから耐熱性が要求される
が、高温(たとえば140℃の加熱)または高温高湿条件
(例えば、60℃95%RH)の条件下において、該針状結晶
の接合点が劣化し、その導電経路が著しく減少して導電
性が大幅に低下するという問題があった。
すなわち、TCNQ錯体として、例えばN−n−ブチルイソ
キノリウムTCNQ錯体を単独で用い、高分子マトリックス
の溶媒溶液中に該高分子マトリックスの固形分100重量
部に対して3〜100重量部溶解して、透明基材の面上に
グビアコーター,ロールコーター、またはスピンコータ
ーなどを用いて薄膜を形成させると、該薄膜内にTCNQ錯
体が微細な針状結晶として析出し、第5図のように網目
状の連鎖である導電経路が成長して導電性が得られる。
しかし、この場合、結晶成長の状態が溶剤の揮発速度や
乾燥時の温度分布の影響を受けるため、単位面積あたり
の導電経路数が不均一となって表面抵抗のバラツキが大
きくなるとともに、網目状連鎖である導電経路の結晶の
結合点が高温高湿条件下において劣化を受け、著しく抵
抗が上昇するという問題点が認められた。前記TCNQ錯体
は、N,N−ジメチルホルムアミド,ジメチルスルホキシ
ドおよびシクロヘキサノンなどの強極性プロトン溶剤以
外の殆どの溶剤に対し、常温で不溶乃至は難溶であり、
実際の加工において塗工液とする場合にはこれらの強極
性プロトン溶剤を使用せざるをえず、その塗工液の設計
における自由度が著しく小さいものであると同時に、こ
れらの強極性プロトン溶剤が一般に汎用溶剤に比較して
高価であることから、得られるトップテープフィルムの
コストが高くつくという問題点があった。さらにはこれ
ら強極性プロトン溶剤がその極性から吸水性が高く、溶
剤が吸水することにより、この水分がTCNQ錯体の解難を
促進する触媒の機能を有することから、塗工液の寿命が
短く、塗工液を長期に渡って保存した場合に表面抵抗が
著しく上昇してしまうという問題点があった。
キノリウムTCNQ錯体を単独で用い、高分子マトリックス
の溶媒溶液中に該高分子マトリックスの固形分100重量
部に対して3〜100重量部溶解して、透明基材の面上に
グビアコーター,ロールコーター、またはスピンコータ
ーなどを用いて薄膜を形成させると、該薄膜内にTCNQ錯
体が微細な針状結晶として析出し、第5図のように網目
状の連鎖である導電経路が成長して導電性が得られる。
しかし、この場合、結晶成長の状態が溶剤の揮発速度や
乾燥時の温度分布の影響を受けるため、単位面積あたり
の導電経路数が不均一となって表面抵抗のバラツキが大
きくなるとともに、網目状連鎖である導電経路の結晶の
結合点が高温高湿条件下において劣化を受け、著しく抵
抗が上昇するという問題点が認められた。前記TCNQ錯体
は、N,N−ジメチルホルムアミド,ジメチルスルホキシ
ドおよびシクロヘキサノンなどの強極性プロトン溶剤以
外の殆どの溶剤に対し、常温で不溶乃至は難溶であり、
実際の加工において塗工液とする場合にはこれらの強極
性プロトン溶剤を使用せざるをえず、その塗工液の設計
における自由度が著しく小さいものであると同時に、こ
れらの強極性プロトン溶剤が一般に汎用溶剤に比較して
高価であることから、得られるトップテープフィルムの
コストが高くつくという問題点があった。さらにはこれ
ら強極性プロトン溶剤がその極性から吸水性が高く、溶
剤が吸水することにより、この水分がTCNQ錯体の解難を
促進する触媒の機能を有することから、塗工液の寿命が
短く、塗工液を長期に渡って保存した場合に表面抵抗が
著しく上昇してしまうという問題点があった。
本発明はこれら従来の問題点を解決しようとするもので
表面抵抗のばらつきが小さく、かつ高温および高温高湿
条件下においても導電性低下が少ないと同時に、塗工液
の寿命も長く、溶剤選択の自由度も大きく、より低コス
トのトップテープフィルムを提供することを目的とした
ものである。
表面抵抗のばらつきが小さく、かつ高温および高温高湿
条件下においても導電性低下が少ないと同時に、塗工液
の寿命も長く、溶剤選択の自由度も大きく、より低コス
トのトップテープフィルムを提供することを目的とした
ものである。
本発明は、ベースフィルムの一面に、7,7,8,8-テトラシ
アノキシジメタン錯体結晶を含有するヒートシール性接
着剤層を形成したキャリアテープ用トップテープフィル
ムであって、該錯体結晶が、炭素数1〜3の低級アルキ
ル基のアルキル(イソ)キノリニウム系またはアルキル
モルホリニウム系若しくはアルキル−α−ピコリニウム
系のアルキル基置換7,7,8,8−テトラシアノキシジメタ
ン錯体の結晶形の異なる少なくとも2種からなる混合錯
体を溶解性高分子マトリックス中に配合して用いられた
ことを特徴とするトップテープフィルムである。
アノキシジメタン錯体結晶を含有するヒートシール性接
着剤層を形成したキャリアテープ用トップテープフィル
ムであって、該錯体結晶が、炭素数1〜3の低級アルキ
ル基のアルキル(イソ)キノリニウム系またはアルキル
モルホリニウム系若しくはアルキル−α−ピコリニウム
系のアルキル基置換7,7,8,8−テトラシアノキシジメタ
ン錯体の結晶形の異なる少なくとも2種からなる混合錯
体を溶解性高分子マトリックス中に配合して用いられた
ことを特徴とするトップテープフィルムである。
また、本発明ではベースフィルムの一面に、7,7,8,8-テ
トラシアノキシジメタン錯体を含有する透明導電性高分
子皮膜を形成したキャリアテープ用トップテープフィル
ムであって、該錯体結晶が、炭素数1〜3の低級アルキ
ル基のアルキル(イソ)キノリニウム系またはアルキル
モルホリニウム系若しくはアルキル−α−ピコリニウム
系のアルキル基置換7,7,8,8−テトラシアノキシジメタ
ン錯体の結晶形の異なる少なくとも2種からなる混合錯
体を溶解性高分子マトリックス中に配合して用いられた
ものであり、前記ベースフィルムの他面にヒートシール
性接着剤層を備えたことを特徴とするトップテープフィ
ルムである。
トラシアノキシジメタン錯体を含有する透明導電性高分
子皮膜を形成したキャリアテープ用トップテープフィル
ムであって、該錯体結晶が、炭素数1〜3の低級アルキ
ル基のアルキル(イソ)キノリニウム系またはアルキル
モルホリニウム系若しくはアルキル−α−ピコリニウム
系のアルキル基置換7,7,8,8−テトラシアノキシジメタ
ン錯体の結晶形の異なる少なくとも2種からなる混合錯
体を溶解性高分子マトリックス中に配合して用いられた
ものであり、前記ベースフィルムの他面にヒートシール
性接着剤層を備えたことを特徴とするトップテープフィ
ルムである。
本発明の実施例を図面を用いて説明すると、優れた帯電
防止能を有するトップテープフィルム1とするために第
1図に示すようにベースフィルム2の一面に、7,7,8,8-
テトラシアノキシジメタン錯体(以下TCNQ錯体と略記す
る)結晶を含有するヒートシール性接着剤層を形成した
キャリアテープ用トップテープフィルムであって、該錯
体結晶が、炭素数1〜3の低級アルキル基のアルキル
(イソ)キノリニウム系またはアルキルモルホリニウム
系若しくはアルキル−α−ピコリニウム系のアルキル基
置換7,7,8,8−テトラシアノキシジメタン錯体の結晶形
の異なる少なくとも2種からなる混合錯体を溶解性高分
子マトリックス中に配合して用いられているか、または
ベースフィルム1の一面にヒートシール接着剤3を有
し、該接着剤層3の反対面となるベースフィルムの他面
にTCNQ錯体を含有する透明導電性高分子膜2を形成した
トップテープフィルム1であって、該錯体結晶が、炭素
数1〜3の低級アルキル基のアルキル(イソ)キノリニ
ウム系またはアルキルモルホリニウム系若しくはアルキ
ル−α−ピコリニウム系のアルキル基置換7,7,8,8−テ
トラシアノキシジメタン錯体の結晶形の異なる少なくと
も2種からなる混合錯体を溶解性高分子マトリックス中
に配合して用いられたことを特徴とし、キャビティ6の
あるキャリアテープ5のフランジ状の周縁部51に接着し
て用いられうるトップテープフィルムとしてある。
防止能を有するトップテープフィルム1とするために第
1図に示すようにベースフィルム2の一面に、7,7,8,8-
テトラシアノキシジメタン錯体(以下TCNQ錯体と略記す
る)結晶を含有するヒートシール性接着剤層を形成した
キャリアテープ用トップテープフィルムであって、該錯
体結晶が、炭素数1〜3の低級アルキル基のアルキル
(イソ)キノリニウム系またはアルキルモルホリニウム
系若しくはアルキル−α−ピコリニウム系のアルキル基
置換7,7,8,8−テトラシアノキシジメタン錯体の結晶形
の異なる少なくとも2種からなる混合錯体を溶解性高分
子マトリックス中に配合して用いられているか、または
ベースフィルム1の一面にヒートシール接着剤3を有
し、該接着剤層3の反対面となるベースフィルムの他面
にTCNQ錯体を含有する透明導電性高分子膜2を形成した
トップテープフィルム1であって、該錯体結晶が、炭素
数1〜3の低級アルキル基のアルキル(イソ)キノリニ
ウム系またはアルキルモルホリニウム系若しくはアルキ
ル−α−ピコリニウム系のアルキル基置換7,7,8,8−テ
トラシアノキシジメタン錯体の結晶形の異なる少なくと
も2種からなる混合錯体を溶解性高分子マトリックス中
に配合して用いられたことを特徴とし、キャビティ6の
あるキャリアテープ5のフランジ状の周縁部51に接着し
て用いられうるトップテープフィルムとしてある。
即ち、使用するTCNQ錯体の結晶形やその組み合わせ,置
換基の種類などを鋭意検討した結果、例えば接着剤など
の高分子マトリックス中に針状,板状など2種以上の結
晶形の異なるTCNQ錯体を配合することによって、該高分
子膜マトリックス中に、前記結晶形状とは異なる形状の
結晶が密に析出し、従来知られている結晶形が針状形の
みであるTCNQ錯体を使用した場合と比較して、単位面積
中における結晶相互の接触点が増大し、導電性高分子膜
の体積固有抵抗および表面抵抗を低くすることができ、
前記接触点数の増大により、表面抵抗のバラツキが小さ
くなり、さらには高温または高温高湿条件下における抵
抗値の上昇も少なくなることとともに、その結晶形の異
なるTCNQ錯体の少なくとも1種の汎用溶剤への溶解性が
よく、TCNQ錯体に比較して疎水性の大きいアルキル基置
換7,7,8,8-テトラシアノキシジメタン錯体(以下R−TC
NQと略記する)とすることにより、塗工液とした場合の
溶剤設計の自由度が広がり、アルキル基未置換のTCNQ錯
体を使用した場合に比較して塗工液の寿命を著しく長く
することができた。
換基の種類などを鋭意検討した結果、例えば接着剤など
の高分子マトリックス中に針状,板状など2種以上の結
晶形の異なるTCNQ錯体を配合することによって、該高分
子膜マトリックス中に、前記結晶形状とは異なる形状の
結晶が密に析出し、従来知られている結晶形が針状形の
みであるTCNQ錯体を使用した場合と比較して、単位面積
中における結晶相互の接触点が増大し、導電性高分子膜
の体積固有抵抗および表面抵抗を低くすることができ、
前記接触点数の増大により、表面抵抗のバラツキが小さ
くなり、さらには高温または高温高湿条件下における抵
抗値の上昇も少なくなることとともに、その結晶形の異
なるTCNQ錯体の少なくとも1種の汎用溶剤への溶解性が
よく、TCNQ錯体に比較して疎水性の大きいアルキル基置
換7,7,8,8-テトラシアノキシジメタン錯体(以下R−TC
NQと略記する)とすることにより、塗工液とした場合の
溶剤設計の自由度が広がり、アルキル基未置換のTCNQ錯
体を使用した場合に比較して塗工液の寿命を著しく長く
することができた。
本発明に用いるR−TCNQ錯体はアルキル基置換7,7,8,8-
テトラシアノキシジメタン(R−TCNQ0)と適当となる
ドナー(D+)の種類によって体積固有抵抗が10-3〜10+6
Ω・cmの広い範囲にわたることが知られている。ここ
で、アルキル基とは炭素数1〜3の低級アルキル基を意
味し、具体的にはメチル−TCNQ0,エチル−TCNQ0,n−プ
ロピル−TCNQ0,イソ−プロピル−TCNQ0である。これら
アルキル基が炭素数が4以上の高級アルキル基であるR
−TCNQ錯体では、その疎水性および汎用溶剤への溶解性
が向上する反面、アルキル基の分子構造が嵩高くなるこ
とにより錯体の結晶性が悪く、フィルム上に塗工した際
の結晶が起こりにくくなり、導電性が低下してしまうこ
とから好ましくない。
テトラシアノキシジメタン(R−TCNQ0)と適当となる
ドナー(D+)の種類によって体積固有抵抗が10-3〜10+6
Ω・cmの広い範囲にわたることが知られている。ここ
で、アルキル基とは炭素数1〜3の低級アルキル基を意
味し、具体的にはメチル−TCNQ0,エチル−TCNQ0,n−プ
ロピル−TCNQ0,イソ−プロピル−TCNQ0である。これら
アルキル基が炭素数が4以上の高級アルキル基であるR
−TCNQ錯体では、その疎水性および汎用溶剤への溶解性
が向上する反面、アルキル基の分子構造が嵩高くなるこ
とにより錯体の結晶性が悪く、フィルム上に塗工した際
の結晶が起こりにくくなり、導電性が低下してしまうこ
とから好ましくない。
また同様に、アルキル基以外の疎水性官能基としてパー
フロロアルキル基やオルガノシリル基が考えられるが、
これらの官能基を導入することは非常に難しく、よって
得られるR−TCNQ錯体が非常に高価なものとともに、分
子の嵩高さの理由から、その導電性が低下することから
あまり好ましくない。
フロロアルキル基やオルガノシリル基が考えられるが、
これらの官能基を導入することは非常に難しく、よって
得られるR−TCNQ錯体が非常に高価なものとともに、分
子の嵩高さの理由から、その導電性が低下することから
あまり好ましくない。
本発明のドナー(D+)は、テトラチアフルバレンに代表
される化合物が数多く知られているが、熱安定性および
導電性の優れたキノリン,イソキノリン,ナフトキノリ
ン,2,2-ビピリジン,4,4-ビピリジン、またはそのN位を
炭素数1〜8のアルキル基で置換した化合物が好まし
く、更にはキノリン,イソキノリンのN位を炭素数1〜
8のアルキル基で置換した化合物が好ましい。
される化合物が数多く知られているが、熱安定性および
導電性の優れたキノリン,イソキノリン,ナフトキノリ
ン,2,2-ビピリジン,4,4-ビピリジン、またはそのN位を
炭素数1〜8のアルキル基で置換した化合物が好まし
く、更にはキノリン,イソキノリンのN位を炭素数1〜
8のアルキル基で置換した化合物が好ましい。
本発明に用いるR−TCNQ錯体としては、N−メチル(イ
ソ)キノリニウム−メチル−TCNQ錯体,N−メチル(イ
ソ)キノリニウム−エチル−TCNQ錯体,N−メチル(イ
ソ)キノリニウム−n−プロピル−TCNQ錯体,N−エチル
(イソ)キノリニウム−エチル−TCNQ錯体,N−メチル
(イソ)キノリニウム−エチル−TCNQ錯体,N−エチル
(イソ)キノリニウム−n−プロピル−TCNQ錯体,N−n
−プロピル(イソ)キノリニウム−メチル−TCNQ錯体,N
−n−プロピル(イソ)キノリニウム−エチル−TCNQ錯
体,N−n−プロピル(イソ)キノリニウム−n−プロピ
ル−TCNQ錯体,N−イソ−プロピル(イソ)キノリニウム
−メチル−TCNQ錯体,N−イソ−プロピル(イソ)キノリ
ニウム−エチル−TCNQ錯体,N−イソ−プロピル(イソ)
キノリニウム−n−プロピル−TCNQ錯体,N−n−ブチル
(イソ)キノリニウム−メチル−TCNQ錯体,N−n−ブチ
ル(イソ)キノリニウム−エチル−TCNQ錯体,N−n−ブ
チル(イソ)キノリニウム−n−プロピル−TCNQ錯体,N
−n−ブチル(イソ)キノリニウム−イソ−プロピル−
TCNQ錯体,N−イソ−ブチル(イソ)キノリニウム−メチ
ル−TCNQ錯体,N−イソ−ブチル(イソ)キノリニウム−
エチル−TCNQ錯体,N−イソ−ブチル(イソ)キノリニウ
ム−n−プロピル−TCNQ錯体,N−イソ−ブチル(イソ)
キノリニウム−イソ−プロピル−TCNQ錯体,N−n−アミ
ノ(イソ)キノリニウム−メチル−TCNQ錯体,N−n−ア
ミノ(イソ)キノリニウム−エチル−TCNQ錯体,N−n−
アミノ(イソ)キノリニウム−n−プロピル−TCNQ錯
体,N−n−アミノ(イソ)キノリニウム−イソ−プロピ
ル−TCNQ錯体,N−イソ−アミノ(イソ)キノリニウム−
メチル−TCNQ錯体,N−イソ−アミル(イソ)キノリニウ
ム−エチル−TCNQ錯体,N−イソ−アミル(イソ)キノリ
ニウム−n−プロピル−TCNQ錯体,N−イソ−アミル(イ
ソ)キノリニウム−イソ−プロピル−TCNQ錯体,N−n−
オクチル(イソ)キノリニウム−メチル−TCNQ錯体,N−
n−オクチル(イソ)キノリニウム−エチル−TCNQ錯
体,N−n−オクチル(イソ)キノリニウム−n−プロピ
ル−TCNQ錯体,N−オクチル(イソ)キノリニウム−イソ
−プロピル−TCNQ錯体、などから選んで用いられ、さら
にはアルキル(イソ)キノリニウム系R−TCNQ錯体のア
ルキル(イソ)キノリニウムをアルキルモルホリニウム
およびアルキル−α−ピコリニウムの各ドナーに置き換
えたアルキルモルホリニウム系R−TCNQ錯体、やアルキ
ル−α−ピコリニウム系R−TCNQ錯体も用いられる。な
お、R−TCNQ錯体は電子供与体であるドナー(D+)と電
子受容体であるR−TCNQ0のモル比1:1と1:2のものがあ
り、(イソ)キノリン系化合物を電子受容体とするR−
TCNQ錯体は1:2錯体がより導電性が大きいことから好ま
しい。この場合、前記例示中で(イソ)キノリンはキノ
リンおよびイソキノリンを意味する。2モルのR−TCNQ
錯体はR−TCNQアニオンラジカル1モルと電気的に中性
のR−TCNQ1モルから成っている。本発明において、よ
り導電性を安定させるためには中性分子のR−TCNQ0を
0.1〜10重量%過剰に添加するのが好ましい。
ソ)キノリニウム−メチル−TCNQ錯体,N−メチル(イ
ソ)キノリニウム−エチル−TCNQ錯体,N−メチル(イ
ソ)キノリニウム−n−プロピル−TCNQ錯体,N−エチル
(イソ)キノリニウム−エチル−TCNQ錯体,N−メチル
(イソ)キノリニウム−エチル−TCNQ錯体,N−エチル
(イソ)キノリニウム−n−プロピル−TCNQ錯体,N−n
−プロピル(イソ)キノリニウム−メチル−TCNQ錯体,N
−n−プロピル(イソ)キノリニウム−エチル−TCNQ錯
体,N−n−プロピル(イソ)キノリニウム−n−プロピ
ル−TCNQ錯体,N−イソ−プロピル(イソ)キノリニウム
−メチル−TCNQ錯体,N−イソ−プロピル(イソ)キノリ
ニウム−エチル−TCNQ錯体,N−イソ−プロピル(イソ)
キノリニウム−n−プロピル−TCNQ錯体,N−n−ブチル
(イソ)キノリニウム−メチル−TCNQ錯体,N−n−ブチ
ル(イソ)キノリニウム−エチル−TCNQ錯体,N−n−ブ
チル(イソ)キノリニウム−n−プロピル−TCNQ錯体,N
−n−ブチル(イソ)キノリニウム−イソ−プロピル−
TCNQ錯体,N−イソ−ブチル(イソ)キノリニウム−メチ
ル−TCNQ錯体,N−イソ−ブチル(イソ)キノリニウム−
エチル−TCNQ錯体,N−イソ−ブチル(イソ)キノリニウ
ム−n−プロピル−TCNQ錯体,N−イソ−ブチル(イソ)
キノリニウム−イソ−プロピル−TCNQ錯体,N−n−アミ
ノ(イソ)キノリニウム−メチル−TCNQ錯体,N−n−ア
ミノ(イソ)キノリニウム−エチル−TCNQ錯体,N−n−
アミノ(イソ)キノリニウム−n−プロピル−TCNQ錯
体,N−n−アミノ(イソ)キノリニウム−イソ−プロピ
ル−TCNQ錯体,N−イソ−アミノ(イソ)キノリニウム−
メチル−TCNQ錯体,N−イソ−アミル(イソ)キノリニウ
ム−エチル−TCNQ錯体,N−イソ−アミル(イソ)キノリ
ニウム−n−プロピル−TCNQ錯体,N−イソ−アミル(イ
ソ)キノリニウム−イソ−プロピル−TCNQ錯体,N−n−
オクチル(イソ)キノリニウム−メチル−TCNQ錯体,N−
n−オクチル(イソ)キノリニウム−エチル−TCNQ錯
体,N−n−オクチル(イソ)キノリニウム−n−プロピ
ル−TCNQ錯体,N−オクチル(イソ)キノリニウム−イソ
−プロピル−TCNQ錯体、などから選んで用いられ、さら
にはアルキル(イソ)キノリニウム系R−TCNQ錯体のア
ルキル(イソ)キノリニウムをアルキルモルホリニウム
およびアルキル−α−ピコリニウムの各ドナーに置き換
えたアルキルモルホリニウム系R−TCNQ錯体、やアルキ
ル−α−ピコリニウム系R−TCNQ錯体も用いられる。な
お、R−TCNQ錯体は電子供与体であるドナー(D+)と電
子受容体であるR−TCNQ0のモル比1:1と1:2のものがあ
り、(イソ)キノリン系化合物を電子受容体とするR−
TCNQ錯体は1:2錯体がより導電性が大きいことから好ま
しい。この場合、前記例示中で(イソ)キノリンはキノ
リンおよびイソキノリンを意味する。2モルのR−TCNQ
錯体はR−TCNQアニオンラジカル1モルと電気的に中性
のR−TCNQ1モルから成っている。本発明において、よ
り導電性を安定させるためには中性分子のR−TCNQ0を
0.1〜10重量%過剰に添加するのが好ましい。
本発明に使用する錯体は、前記錯体をはじめとする結晶
形の異なる2種以上の錯体を混合して用いることにより
その効果を得ることが出来るが、これら結晶形の異なる
該錯体の組み合わせの具体例としては、 (1) 前記例示錯体におけるアルキル(イソ)キリニ
ウム系R−TCNQ錯体の少なくとも1種と、アルキルモル
ホリニウム系R−TCNQ錯体の少なくとも1種とから成る
混合錯体、 (2) 前記例示錯体におけるアルキル(イソ)キノリ
ニウム系R−TCNQ錯体の少なくとも1種と、アルキル−
α−ピコリニウム系R−TCNQ錯体の少なくとも1種とか
ら成る混合錯体、 (3) 前記例示錯体におけるアルキルモルホリニウム
系R−TCNQ錯体の少なくとも1種と、アルキル−α−ピ
コリニウム系R−TCNQ錯体の少なくとも1種とから成る
混合錯体、 (4) 前記例示(1)〜(3)に示された2種のR−
TCNQ錯体の各組み合わせにおいて、そのどちらか一方が
アルキル基未置換のTCNQ錯体である混合錯体、 が例示される。ここに、用いられるTCNQ錯体は、前記例
示のR−TCNQ錯体においてそのアルキル基を未置換とし
たものを用いれば良い。また、上記した同一系列のR−
TCNQ錯体のなかにおいても、結晶形の異なるものがある
ことから、これらの組み合わせても良い。さらに、その
具体的な組み合わせとしては、 (i)N−n−ブチル(イソ)キノリニウム−メチル−
TCNQ錯体と、N−n−ブチル−N−メチルモルホリニウ
ム−メチル−TCNQ錯体との混合錯体、 (ii)N−n−ブチル(イソ)キノリニウム−メチル−
TCNQ錯体と、N−n−ブチル−α−ピコリニウム−メチ
ル−TCNQ錯体との混合錯体、 (iii)N−n−ブチル−N−メチルモルホリニウム−
メチル−TCNQ錯体と、N−n−ブチル−α−ピコリニウ
ム−メチル−TCNQ錯体との混合錯体、 (iv)N−n−ブチル(イソ)キノリニウム−メチル−
TCNQ錯体と、N−n−オクチル(イソ)キノリニウム−
メチル−TCNQ錯体との混合錯体、 (v)N−n−ブチル(イソ)キノリニウムTCNQ錯体
と、N−n−ブチル−N−メチルモルホリニウム−メチ
ル−TCNQ錯体との混合錯体、 (vi)N−n−ブチル(イソ)キノリニウム−メチル−
TCNQ錯体と、N−n−ブチル−N−メチルモルホリニウ
ムTCNQ錯体との混合錯体、 などが挙げられ、これらの例以外の結晶形の異なる3種
以上のR−TCNQおよびTCNQ錯体を組み合わせても良い。
また、前記R−TCNQ錯体は、その導電性がアルキル基未
置換のTCNQ錯体に比較して低下する傾向があるために、
必要に導電性を満足することが出来ない場合などにおい
ては、前記(i)〜(vi)の各組み合わせに未置換のTC
NQ錯体、例えば導電性が高く、比較的安価であるN−n
−ブチル(イソ)キノリニウムTCNQ錯体を添加すること
によって目的とする導電性を得れば良く。さらには前記
例示の(v),(vi)のように用いるR−TCNQ錯体の組
み合わせの一方を結晶形の異なるアルキル基未置換のTC
NQ錯体としても良い。次に、結晶形の異なるR−TCNQお
よびTCNQ錯体を組み合わせる時のこれらの配合比率の効
果について説明する。高分子マトリックスへのR−TCNQ
およびTCNQ錯体混合物の配合割合を、例えば高分子マト
リックス100重量部に対してR−TCNQ錯体混合物80重量
部と一定にして、N−n−ブチル(イソ)キノリニウム
−メチル−TCNQ錯体とN−n−ブチル−N−メチルモル
ホリニウム−メチル−TCNQ錯体、およびN−n−ブチル
(イソ)キノリニウム−メチル−TCNQ錯体とN−n−ブ
チル−N−メチルモルホリニウムTCNQ錯体と各組み合わ
せにおいて、その配合比率を変化させたものをそれぞれ
基板上にコーティングして塗工膜厚0.1μmの高分子膜
を形成させたとき、2種のR−TCNQ錯体およびR−TCNQ
錯体とTCNQ錯体の配合比率と、得られた基板の表面抵抗
との関係は第1a図および第1b図に示すとおりである。こ
れら結晶形の異なるR−TCNQ錯体およびR−TCNQ錯体と
TCNQ錯体の配合比率は、混合によって最も低い表面抵抗
が得られるように選定すればよい。本発明者らの実験結
果によれば、結晶形の異なる2種のR−TCNQおよびR−
TCNQ錯体の配合比率は重量比で1:9〜9:1の範囲、好まし
くは2:8〜8:2の範囲である。
形の異なる2種以上の錯体を混合して用いることにより
その効果を得ることが出来るが、これら結晶形の異なる
該錯体の組み合わせの具体例としては、 (1) 前記例示錯体におけるアルキル(イソ)キリニ
ウム系R−TCNQ錯体の少なくとも1種と、アルキルモル
ホリニウム系R−TCNQ錯体の少なくとも1種とから成る
混合錯体、 (2) 前記例示錯体におけるアルキル(イソ)キノリ
ニウム系R−TCNQ錯体の少なくとも1種と、アルキル−
α−ピコリニウム系R−TCNQ錯体の少なくとも1種とか
ら成る混合錯体、 (3) 前記例示錯体におけるアルキルモルホリニウム
系R−TCNQ錯体の少なくとも1種と、アルキル−α−ピ
コリニウム系R−TCNQ錯体の少なくとも1種とから成る
混合錯体、 (4) 前記例示(1)〜(3)に示された2種のR−
TCNQ錯体の各組み合わせにおいて、そのどちらか一方が
アルキル基未置換のTCNQ錯体である混合錯体、 が例示される。ここに、用いられるTCNQ錯体は、前記例
示のR−TCNQ錯体においてそのアルキル基を未置換とし
たものを用いれば良い。また、上記した同一系列のR−
TCNQ錯体のなかにおいても、結晶形の異なるものがある
ことから、これらの組み合わせても良い。さらに、その
具体的な組み合わせとしては、 (i)N−n−ブチル(イソ)キノリニウム−メチル−
TCNQ錯体と、N−n−ブチル−N−メチルモルホリニウ
ム−メチル−TCNQ錯体との混合錯体、 (ii)N−n−ブチル(イソ)キノリニウム−メチル−
TCNQ錯体と、N−n−ブチル−α−ピコリニウム−メチ
ル−TCNQ錯体との混合錯体、 (iii)N−n−ブチル−N−メチルモルホリニウム−
メチル−TCNQ錯体と、N−n−ブチル−α−ピコリニウ
ム−メチル−TCNQ錯体との混合錯体、 (iv)N−n−ブチル(イソ)キノリニウム−メチル−
TCNQ錯体と、N−n−オクチル(イソ)キノリニウム−
メチル−TCNQ錯体との混合錯体、 (v)N−n−ブチル(イソ)キノリニウムTCNQ錯体
と、N−n−ブチル−N−メチルモルホリニウム−メチ
ル−TCNQ錯体との混合錯体、 (vi)N−n−ブチル(イソ)キノリニウム−メチル−
TCNQ錯体と、N−n−ブチル−N−メチルモルホリニウ
ムTCNQ錯体との混合錯体、 などが挙げられ、これらの例以外の結晶形の異なる3種
以上のR−TCNQおよびTCNQ錯体を組み合わせても良い。
また、前記R−TCNQ錯体は、その導電性がアルキル基未
置換のTCNQ錯体に比較して低下する傾向があるために、
必要に導電性を満足することが出来ない場合などにおい
ては、前記(i)〜(vi)の各組み合わせに未置換のTC
NQ錯体、例えば導電性が高く、比較的安価であるN−n
−ブチル(イソ)キノリニウムTCNQ錯体を添加すること
によって目的とする導電性を得れば良く。さらには前記
例示の(v),(vi)のように用いるR−TCNQ錯体の組
み合わせの一方を結晶形の異なるアルキル基未置換のTC
NQ錯体としても良い。次に、結晶形の異なるR−TCNQお
よびTCNQ錯体を組み合わせる時のこれらの配合比率の効
果について説明する。高分子マトリックスへのR−TCNQ
およびTCNQ錯体混合物の配合割合を、例えば高分子マト
リックス100重量部に対してR−TCNQ錯体混合物80重量
部と一定にして、N−n−ブチル(イソ)キノリニウム
−メチル−TCNQ錯体とN−n−ブチル−N−メチルモル
ホリニウム−メチル−TCNQ錯体、およびN−n−ブチル
(イソ)キノリニウム−メチル−TCNQ錯体とN−n−ブ
チル−N−メチルモルホリニウムTCNQ錯体と各組み合わ
せにおいて、その配合比率を変化させたものをそれぞれ
基板上にコーティングして塗工膜厚0.1μmの高分子膜
を形成させたとき、2種のR−TCNQ錯体およびR−TCNQ
錯体とTCNQ錯体の配合比率と、得られた基板の表面抵抗
との関係は第1a図および第1b図に示すとおりである。こ
れら結晶形の異なるR−TCNQ錯体およびR−TCNQ錯体と
TCNQ錯体の配合比率は、混合によって最も低い表面抵抗
が得られるように選定すればよい。本発明者らの実験結
果によれば、結晶形の異なる2種のR−TCNQおよびR−
TCNQ錯体の配合比率は重量比で1:9〜9:1の範囲、好まし
くは2:8〜8:2の範囲である。
本発明において前記錯体は、これを高分子マトリックス
中に配合することによって使用されるが、これら高分子
マトリックスとしては、使用される基材との密着性およ
び、透明性が高いことが必要であり、さらに該接着剤層
および透明高分子膜を形成する手法はコーティングによ
り形成されることが好ましいことから、該高分子マトリ
ックスは汎用溶剤に溶解するものである必要がある。こ
のような高分子マトリックスとしては、ポリメタクリル
酸メチル(PMMA)等のアクリル樹脂,エポキシ樹脂(E
P),フェノール樹脂(PF),飽和共重合ポリエステ
ル,アルキド樹脂,ナイロン11および12,ポリビニルブ
チラール(PVB),ポリウレタン(PU),ポリカーボネ
ート(PC),シリコーン樹脂(SR),ポリ塩化ビニル
(PVC),ポリスチレン(PS),ポリ酢酸ビニル,ポリ
ビニルアルコール(PVA),1,2-ポリブタジエン(1,2−P
B),スチレン−ブタジエン−スチレン共重合(S−B
−S),スチレン−イソプレン−スチレン共重合(S−
I−S),スチレン−エチレン−ブチレン−スチレン共
重合樹脂(S−EB−S),エチレン−アクリル酸エチル
共重合樹脂(EEA),エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂
(EVA),アイオノマー樹脂等が例示されるが、トップ
テープをキャリアテープにヒートシールする時に、接着
剤層は瞬時に溶融または軟化してキャリアテープに接着
することが要求されるのに対し、接着剤層と反対面の透
明導電高分子膜層ではヒートシーラーの圧着によって熱
溶融してしまうとヒートシーラーの熱圧着ヘッドにトッ
プテープフィルムが接着するスティッキング現象を起こ
し、作業に支障を来すため耐熱性が要求されるので、接
着剤層に使用される高分子マトリックスと該透明導電高
分子膜層に使用される高分子マトリックスとは別々に考
える必要がある。
中に配合することによって使用されるが、これら高分子
マトリックスとしては、使用される基材との密着性およ
び、透明性が高いことが必要であり、さらに該接着剤層
および透明高分子膜を形成する手法はコーティングによ
り形成されることが好ましいことから、該高分子マトリ
ックスは汎用溶剤に溶解するものである必要がある。こ
のような高分子マトリックスとしては、ポリメタクリル
酸メチル(PMMA)等のアクリル樹脂,エポキシ樹脂(E
P),フェノール樹脂(PF),飽和共重合ポリエステ
ル,アルキド樹脂,ナイロン11および12,ポリビニルブ
チラール(PVB),ポリウレタン(PU),ポリカーボネ
ート(PC),シリコーン樹脂(SR),ポリ塩化ビニル
(PVC),ポリスチレン(PS),ポリ酢酸ビニル,ポリ
ビニルアルコール(PVA),1,2-ポリブタジエン(1,2−P
B),スチレン−ブタジエン−スチレン共重合(S−B
−S),スチレン−イソプレン−スチレン共重合(S−
I−S),スチレン−エチレン−ブチレン−スチレン共
重合樹脂(S−EB−S),エチレン−アクリル酸エチル
共重合樹脂(EEA),エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂
(EVA),アイオノマー樹脂等が例示されるが、トップ
テープをキャリアテープにヒートシールする時に、接着
剤層は瞬時に溶融または軟化してキャリアテープに接着
することが要求されるのに対し、接着剤層と反対面の透
明導電高分子膜層ではヒートシーラーの圧着によって熱
溶融してしまうとヒートシーラーの熱圧着ヘッドにトッ
プテープフィルムが接着するスティッキング現象を起こ
し、作業に支障を来すため耐熱性が要求されるので、接
着剤層に使用される高分子マトリックスと該透明導電高
分子膜層に使用される高分子マトリックスとは別々に考
える必要がある。
すなわち、接着剤層に使用する樹脂としては、飽和共重
合ポリエステル,PVB,PVC,EVA,EEA,ポリ酢酸ビニル,1,2
−PB,アイオノマー樹脂,S−B−S,S−I−S,S−EB−S,
ナイロン11および12などの単体もしくは2種以上の混合
物が適当であり、該透明導電高分子膜層に使用する樹脂
としては、熱硬化性ポリウレタンや高ガラス転移点の飽
和共重合ポリエステル,エポキシ樹脂,フェノール樹
脂,PMMA,PC,シリコーン樹脂などの単体もしくは2種以
上の混合物の使用が好ましく、これらの樹脂中にその耐
熱性を向上させる目的で、イソシアネート,酸無水物,
アミン化合物等の硬化剤を適宜配合することは任意であ
るとともに、イソシアネート系の硬化剤を使用した場
合、その硬化促進のために60℃×72時間の加温エイジン
グにおいて、得られるトップテープフィルム同士がブロ
ッキングしないように、パーフロロアルキル基を含有す
るブロック共重合体等のブロッキング防止剤を添加する
ことも配慮される。
合ポリエステル,PVB,PVC,EVA,EEA,ポリ酢酸ビニル,1,2
−PB,アイオノマー樹脂,S−B−S,S−I−S,S−EB−S,
ナイロン11および12などの単体もしくは2種以上の混合
物が適当であり、該透明導電高分子膜層に使用する樹脂
としては、熱硬化性ポリウレタンや高ガラス転移点の飽
和共重合ポリエステル,エポキシ樹脂,フェノール樹
脂,PMMA,PC,シリコーン樹脂などの単体もしくは2種以
上の混合物の使用が好ましく、これらの樹脂中にその耐
熱性を向上させる目的で、イソシアネート,酸無水物,
アミン化合物等の硬化剤を適宜配合することは任意であ
るとともに、イソシアネート系の硬化剤を使用した場
合、その硬化促進のために60℃×72時間の加温エイジン
グにおいて、得られるトップテープフィルム同士がブロ
ッキングしないように、パーフロロアルキル基を含有す
るブロック共重合体等のブロッキング防止剤を添加する
ことも配慮される。
上記高分子マトリックスと該混合錯体とを溶解して溶液
を得るための溶剤は、ジメチルホルムアミド,ジメチル
アセトアミド,プロピレンカーボネート、γ−ブチロラ
クトン,ジメチルスルフォキシド,スルホラン,フォル
ムアマイド,N−メチル−2−ピロリドン,アセトニトリ
ル,プロピオニトリル,シクロヘキサノン,メチルエチ
ルケトンなどに加えて、汎用溶剤であるベンゼン,トル
エン,キシレンなどの芳香族系炭化水素溶剤,塩化メチ
レン,クロロホルム,ジクロロエタン等のハロゲン化炭
化水素溶剤,メタノール,エタノールなどのアルコール
系溶剤,テトラヒドロフラン,1,4ジオキサンなどのエー
テル系溶剤,酢酸エチル,酢酸ブチル,酢酸アミルなど
のエステル系溶剤等の単一または混合溶剤として、コー
ティング成膜時の揮発性などを考慮して選択すればよ
く、更には錯体の安定性の面から、脱水・蒸溜し精製し
たものを使用するのが望ましい。
を得るための溶剤は、ジメチルホルムアミド,ジメチル
アセトアミド,プロピレンカーボネート、γ−ブチロラ
クトン,ジメチルスルフォキシド,スルホラン,フォル
ムアマイド,N−メチル−2−ピロリドン,アセトニトリ
ル,プロピオニトリル,シクロヘキサノン,メチルエチ
ルケトンなどに加えて、汎用溶剤であるベンゼン,トル
エン,キシレンなどの芳香族系炭化水素溶剤,塩化メチ
レン,クロロホルム,ジクロロエタン等のハロゲン化炭
化水素溶剤,メタノール,エタノールなどのアルコール
系溶剤,テトラヒドロフラン,1,4ジオキサンなどのエー
テル系溶剤,酢酸エチル,酢酸ブチル,酢酸アミルなど
のエステル系溶剤等の単一または混合溶剤として、コー
ティング成膜時の揮発性などを考慮して選択すればよ
く、更には錯体の安定性の面から、脱水・蒸溜し精製し
たものを使用するのが望ましい。
前記高分子マトリックスを前記溶剤に溶解し、高分子マ
トリックス100重量部に対して、結晶形の異なる2種以
上のR−TCNQ錯体またはR−TCNQ錯体とTCNQ錯体の錯体
混合物(以下、TCNQ混合錯体と称す)2〜200重量部、
好ましくは5〜100重量部を分散溶解させる。この際、
スパイラルミキサー,プラネタリーミキサー,ディスパ
ーサー,ハイブリッドミキサーなどのブレード型撹拌混
練装置が好適に用いられる。なお、この後更にボールミ
ル,振動ミル,サンドミルなどのボール型混練装置を用
いて分散溶解を徹底化するのが望ましい。
トリックス100重量部に対して、結晶形の異なる2種以
上のR−TCNQ錯体またはR−TCNQ錯体とTCNQ錯体の錯体
混合物(以下、TCNQ混合錯体と称す)2〜200重量部、
好ましくは5〜100重量部を分散溶解させる。この際、
スパイラルミキサー,プラネタリーミキサー,ディスパ
ーサー,ハイブリッドミキサーなどのブレード型撹拌混
練装置が好適に用いられる。なお、この後更にボールミ
ル,振動ミル,サンドミルなどのボール型混練装置を用
いて分散溶解を徹底化するのが望ましい。
これら混練装置は、もしこれが鋼鉄製または銅合金製な
どの場合には該錯体がキレートを形成して変質し、表面
抵抗が著しく高くなる虞れがあるので、クロムめっき製
またはステンレス鋼製の装置を使用することが望まし
い。この高分子マトリックス−溶剤−該TCNQ混合錯体の
混合溶液(以下TQ塗工液と呼ぶ)は、グラビアコーター
などを使用し、ベースフィルムにコーティングすること
ができるが、この塗工液のコーティングヘッドも上と同
様の理由でクロムめっき製とするのがよい。TQ塗工液を
後述する厚さにコーティングするには、その粘度を100c
P以下、望ましくは1〜100cP、固形分量1〜20重量%の
範囲に設定しておくことが望ましい。
どの場合には該錯体がキレートを形成して変質し、表面
抵抗が著しく高くなる虞れがあるので、クロムめっき製
またはステンレス鋼製の装置を使用することが望まし
い。この高分子マトリックス−溶剤−該TCNQ混合錯体の
混合溶液(以下TQ塗工液と呼ぶ)は、グラビアコーター
などを使用し、ベースフィルムにコーティングすること
ができるが、この塗工液のコーティングヘッドも上と同
様の理由でクロムめっき製とするのがよい。TQ塗工液を
後述する厚さにコーティングするには、その粘度を100c
P以下、望ましくは1〜100cP、固形分量1〜20重量%の
範囲に設定しておくことが望ましい。
前記TQ塗工液を塗工するベースフィルムとしては透明性
の高い汎用のプラスチックフィルム例えばポリエチレン
フィルム,ポリ塩化ビニルフィルム,ポリプロピレンフ
ィルム,ポリスチレンフィルム,ポリスチレンフィル
ム,ポリエチレンテレフタレートフィルム,ポリカーボ
ネートフィルム,ポリアリレートフィルム,ポリフッ化
ビニリデンフィルム,ポリアミドフィルムなどが用いら
れる。これらプラスチックフィルムは、少なくともをの
一面を透明導電性接着剤層または透明導電性高分子膜を
形成するため、該接着剤および高分子膜の密着性を向上
させる目的で該表面をコロナ放電処理またはプラズマ処
理を行うことが好ましい。
の高い汎用のプラスチックフィルム例えばポリエチレン
フィルム,ポリ塩化ビニルフィルム,ポリプロピレンフ
ィルム,ポリスチレンフィルム,ポリスチレンフィル
ム,ポリエチレンテレフタレートフィルム,ポリカーボ
ネートフィルム,ポリアリレートフィルム,ポリフッ化
ビニリデンフィルム,ポリアミドフィルムなどが用いら
れる。これらプラスチックフィルムは、少なくともをの
一面を透明導電性接着剤層または透明導電性高分子膜を
形成するため、該接着剤および高分子膜の密着性を向上
させる目的で該表面をコロナ放電処理またはプラズマ処
理を行うことが好ましい。
また、TQ塗工液によって形成される透明導電性接着剤層
および透明導電性高分子膜は、その厚さが大きいと得ら
れるトップテープフィルムの透明性が低下するので、な
るべく薄いことが好ましく、該透明導電性高分子膜の場
合はサブミクロンから10μmの範囲、好ましくは0.1〜
2μmの範囲とするのが良いが、該透明導電接着剤層の
場合はこの厚さが接着強さに影響を与えることから、膜
厚0.5μm以上が必要とされるが、接着強度との関係で
膜厚が3μm以上必要な場合には、使用するR−TCNQ錯
体およびTCNQ錯体が比較的高価であるとともに、得られ
るトップテープフィルムの透明性が低下することから該
錯体を含まない接着剤層を第一層に設け、該錯体を含有
する接着剤層を第二層(膜厚サブミクロンから2μm)
に設けるのがよい。
および透明導電性高分子膜は、その厚さが大きいと得ら
れるトップテープフィルムの透明性が低下するので、な
るべく薄いことが好ましく、該透明導電性高分子膜の場
合はサブミクロンから10μmの範囲、好ましくは0.1〜
2μmの範囲とするのが良いが、該透明導電接着剤層の
場合はこの厚さが接着強さに影響を与えることから、膜
厚0.5μm以上が必要とされるが、接着強度との関係で
膜厚が3μm以上必要な場合には、使用するR−TCNQ錯
体およびTCNQ錯体が比較的高価であるとともに、得られ
るトップテープフィルムの透明性が低下することから該
錯体を含まない接着剤層を第一層に設け、該錯体を含有
する接着剤層を第二層(膜厚サブミクロンから2μm)
に設けるのがよい。
以下、本発明の実施例および比較例との対比において、
具体的に説明する。
具体的に説明する。
〔実施例−1〕 透明基材として厚さ25μmのポリエステルフィルム「ル
ミラー・Tタイプ」(東レ(株)製商品名)をベースフ
ィルムとして使用した。接着剤として、ガラス転移点2
℃、環球法軟化点115℃の飽和共重合ポリエスエル「エ
リーテル・UE−3221」(ユニチカ(株)製商品名)を使
用し、この「エリーテル・UE−3221」100重量部をトル
エン/メチルエチルケトン(50/50)の混合溶剤233.3
重量部に高速ディスパーサーを用いて溶解し、粘度150c
Pのコーティング溶液Aを調整した。次いで、「エリー
テル・UE−3221」100重量部を、シクロヘキサノン/ト
ルエン(70/30)の混合溶剤500重量部に高速ディスパ
ーサーを用いて溶解し、この中にN−n−ブチルイソキ
ノリニウム−メチル−TCNQ錯体(日東化学工業(株)
製、試作品)5.3重量部と、N−n−ブチル−N−メチ
ルモルホリニウム−メチル−TCNQ錯体(日東化学工業
(株)製、試作品)2.7重量部とを添加し、ディスパー
サーを用いて撹拌溶解後、サンドミル処理を行い、さら
に濾紙(ワットマンフィルターペーパーNo.3)によって
濾過を行って粘度20cPのコーティング溶液Bを調整し
た。この両溶液A,Bの各塗工液を、線数180メッシュ,深
度35μmのグラビア版を2色グラビアコーターに設置
し、前記ポリエステルフィルムの一面にA→Bの順にコ
ーティング・乾燥を実施した。得られた乾燥塗膜の厚さ
はコーティング液Aが3μmでコーティング液Bが0.1
μmであった。得られたトップフィルムにDC100Vを印加
して表面抵抗を測定したところ、単位面積当たり平均値
2.2×106Ω,最大値2.8×106Ω,最小値1.7×106Ωであ
って非常に安定しており、その光線透過率は86%,ヘイ
ズは10以下であり、幅1mmのヒートシールヘッドによっ
てポリ塩化ビニル製キャリアテープに接着剤温度が140
℃になるような条件で1秒間圧着したところ、その剥離
接着強度は38gf/mmであり、使用上なんら問題のないも
のであった。
ミラー・Tタイプ」(東レ(株)製商品名)をベースフ
ィルムとして使用した。接着剤として、ガラス転移点2
℃、環球法軟化点115℃の飽和共重合ポリエスエル「エ
リーテル・UE−3221」(ユニチカ(株)製商品名)を使
用し、この「エリーテル・UE−3221」100重量部をトル
エン/メチルエチルケトン(50/50)の混合溶剤233.3
重量部に高速ディスパーサーを用いて溶解し、粘度150c
Pのコーティング溶液Aを調整した。次いで、「エリー
テル・UE−3221」100重量部を、シクロヘキサノン/ト
ルエン(70/30)の混合溶剤500重量部に高速ディスパ
ーサーを用いて溶解し、この中にN−n−ブチルイソキ
ノリニウム−メチル−TCNQ錯体(日東化学工業(株)
製、試作品)5.3重量部と、N−n−ブチル−N−メチ
ルモルホリニウム−メチル−TCNQ錯体(日東化学工業
(株)製、試作品)2.7重量部とを添加し、ディスパー
サーを用いて撹拌溶解後、サンドミル処理を行い、さら
に濾紙(ワットマンフィルターペーパーNo.3)によって
濾過を行って粘度20cPのコーティング溶液Bを調整し
た。この両溶液A,Bの各塗工液を、線数180メッシュ,深
度35μmのグラビア版を2色グラビアコーターに設置
し、前記ポリエステルフィルムの一面にA→Bの順にコ
ーティング・乾燥を実施した。得られた乾燥塗膜の厚さ
はコーティング液Aが3μmでコーティング液Bが0.1
μmであった。得られたトップフィルムにDC100Vを印加
して表面抵抗を測定したところ、単位面積当たり平均値
2.2×106Ω,最大値2.8×106Ω,最小値1.7×106Ωであ
って非常に安定しており、その光線透過率は86%,ヘイ
ズは10以下であり、幅1mmのヒートシールヘッドによっ
てポリ塩化ビニル製キャリアテープに接着剤温度が140
℃になるような条件で1秒間圧着したところ、その剥離
接着強度は38gf/mmであり、使用上なんら問題のないも
のであった。
〔実施例−2〕 透明基材として厚さ25μmのポリエステルフィルム「ル
ミラー・Tタイプ」(東レ(株)製商品名)をベースフ
ィルムとして使用した。高分子マトリックスとして、ガ
ラス転移点90℃,環球法軟化点185℃の飽和共重合ポリ
エステル「エリーテル・UE−3690」(ユニチカ(株)製
商品名)10重量部を、シクロヘキサノン/トルエン(70
/30)の混合溶剤500重量部に高速ディスパーサーを用
いて溶解し、この中にN−n−ブチルイソキノリニウム
−メチル−TCNQ錯体(日東化学工業(株)製、試作品)
5.3重量部と、N−n−ブチル−N−メチルモルホリニ
ウム−メチル−TCNQ錯体(日東化学工業(株)製、試作
品)2.7重量部とを添加し、ディスパーサーを用いて撹
拌溶解後、サンドミル処理を行い、さらに濾紙(ワット
マンフィルターペーパーNo.3)によって濾過を行った。
得られた液100重量部にトリレンジイソシアネート−ト
リメチルプロパンアダクトプレポリマー「コロネート
L」(日本ポリウレタン工業(株)製商品名)0.25重量
部とブロッキング防止剤「モディパーF」(日本油脂
(株)製商品名)0.1重量部を添加した後、再度ディス
パーサーで撹拌し、粘度20cPのコーティング溶液Cを調
整した。この溶液Cでの透明導電性膜中に析出したR−
TCNQ錯体の結晶構造は第2図示のようになっている。ま
ず、実施例−1で使用した塗工液Aを線数180メッシ
ュ,深度35μmのグラビア版下をグラビアコーターに設
置し、前記ポリエステルフィルムの一面にコーティング
・乾燥を実施したのち、該接着剤層の反対面に前記塗工
液Cを塗工液Aと同様にしてコーティング・乾燥を実施
した。得られた乾燥塗膜の厚さはコーティグ液Aが3μ
mでコーティング液Cが0.1μmであった。ここで得ら
れたトプテープフィルムの透明導電性膜にDC100Vを印加
して表面抵抗を測定したところ、単位面積当たり平均値
2.5×106Ω,最大値3.0×106Ω,最小値2.0×106Ωであ
って非常に安定しており、その光線透過率は87%,ヘイ
ズは10以下であり、幅1mmのヒートシールヘッドによっ
てポリ塩化ビニル製キャリアテープに接着剤温度が140
℃になるような条件で1秒間圧着したところ、その剥離
接着強度は37gf/mmであり、使用上なんら問題のないも
のであった。
ミラー・Tタイプ」(東レ(株)製商品名)をベースフ
ィルムとして使用した。高分子マトリックスとして、ガ
ラス転移点90℃,環球法軟化点185℃の飽和共重合ポリ
エステル「エリーテル・UE−3690」(ユニチカ(株)製
商品名)10重量部を、シクロヘキサノン/トルエン(70
/30)の混合溶剤500重量部に高速ディスパーサーを用
いて溶解し、この中にN−n−ブチルイソキノリニウム
−メチル−TCNQ錯体(日東化学工業(株)製、試作品)
5.3重量部と、N−n−ブチル−N−メチルモルホリニ
ウム−メチル−TCNQ錯体(日東化学工業(株)製、試作
品)2.7重量部とを添加し、ディスパーサーを用いて撹
拌溶解後、サンドミル処理を行い、さらに濾紙(ワット
マンフィルターペーパーNo.3)によって濾過を行った。
得られた液100重量部にトリレンジイソシアネート−ト
リメチルプロパンアダクトプレポリマー「コロネート
L」(日本ポリウレタン工業(株)製商品名)0.25重量
部とブロッキング防止剤「モディパーF」(日本油脂
(株)製商品名)0.1重量部を添加した後、再度ディス
パーサーで撹拌し、粘度20cPのコーティング溶液Cを調
整した。この溶液Cでの透明導電性膜中に析出したR−
TCNQ錯体の結晶構造は第2図示のようになっている。ま
ず、実施例−1で使用した塗工液Aを線数180メッシ
ュ,深度35μmのグラビア版下をグラビアコーターに設
置し、前記ポリエステルフィルムの一面にコーティング
・乾燥を実施したのち、該接着剤層の反対面に前記塗工
液Cを塗工液Aと同様にしてコーティング・乾燥を実施
した。得られた乾燥塗膜の厚さはコーティグ液Aが3μ
mでコーティング液Cが0.1μmであった。ここで得ら
れたトプテープフィルムの透明導電性膜にDC100Vを印加
して表面抵抗を測定したところ、単位面積当たり平均値
2.5×106Ω,最大値3.0×106Ω,最小値2.0×106Ωであ
って非常に安定しており、その光線透過率は87%,ヘイ
ズは10以下であり、幅1mmのヒートシールヘッドによっ
てポリ塩化ビニル製キャリアテープに接着剤温度が140
℃になるような条件で1秒間圧着したところ、その剥離
接着強度は37gf/mmであり、使用上なんら問題のないも
のであった。
〔実施例−3〕 実施例−2で用いた飽和共重合ポリエステル10重量部に
対し、コーティング液Cで用いた2種類のR−TCNQ錯体
のうち、N−n−ブチルイソキノリニウム−メチル−TC
NQ錯体をアルキル基未置換のN−n−ブチルイソキノリ
ニウムTCNQ錯体とし、その他は実施例−1と同様にして
処理した。ここで得られたトップテープフィルムを実施
例−1と同様にして測定したところ、その表面抵抗は単
位面積当り平均値7.7×105Ω,最大値8.4×105Ω,最小
値7.5×105Ωであった。
対し、コーティング液Cで用いた2種類のR−TCNQ錯体
のうち、N−n−ブチルイソキノリニウム−メチル−TC
NQ錯体をアルキル基未置換のN−n−ブチルイソキノリ
ニウムTCNQ錯体とし、その他は実施例−1と同様にして
処理した。ここで得られたトップテープフィルムを実施
例−1と同様にして測定したところ、その表面抵抗は単
位面積当り平均値7.7×105Ω,最大値8.4×105Ω,最小
値7.5×105Ωであった。
〔比較例−1〕 実施例−2で用いた飽和共重合ポリエステル10重量部に
対し、N−n−ブチルイソキノリニウム−メチル−TCNQ
錯体(日東化学工業(株)製、試作品)単独を8.0重量
部を添加し、使用溶剤としてシクロヘキサノン/トルエ
ン(70/30)の混合溶剤として、その他の条件は実施例
2と同様とした。ここで得られたトップテープフィルム
を実施例−1と同様にして測定したところ、その表面抵
抗は単位面積当たり平均値1.4×107Ω,最大値2.5×107
Ω,最小値0.9×107Ωであった。
対し、N−n−ブチルイソキノリニウム−メチル−TCNQ
錯体(日東化学工業(株)製、試作品)単独を8.0重量
部を添加し、使用溶剤としてシクロヘキサノン/トルエ
ン(70/30)の混合溶剤として、その他の条件は実施例
2と同様とした。ここで得られたトップテープフィルム
を実施例−1と同様にして測定したところ、その表面抵
抗は単位面積当たり平均値1.4×107Ω,最大値2.5×107
Ω,最小値0.9×107Ωであった。
〔比較例−2〕 実施例2で用いた飽和共重合ポリエステル10重量部に対
し、コーティング液Cで用いた2種類のR−TCNQ錯体に
代えてアルキル基未置換のN−n−ブチルイソキノリニ
ウムTCNQ錯体(日東化学工業(株)製、試作品)5.3重
量部とN−n−ブチル−N−メチルモルホリニウムTCNQ
錯体(日東化学工業(株)製、試作品)2.7重量部とを
添加し、使用溶剤としてシクロヘキサノン/メチルエチ
ルケトン(80/20)の混合溶剤として、その他の条件は
実施例2と同様として乾燥皮膜の厚さが0.1μmの透明
導電性膜を形成させた。ここで得られたトップテープフ
ィルムを実施例−1と同様にして測定したところ、その
表面抵抗は単位面積当たり平均値4.8×105Ω,最大値5.
0×105Ω,最小値4.7×105Ωであった。
し、コーティング液Cで用いた2種類のR−TCNQ錯体に
代えてアルキル基未置換のN−n−ブチルイソキノリニ
ウムTCNQ錯体(日東化学工業(株)製、試作品)5.3重
量部とN−n−ブチル−N−メチルモルホリニウムTCNQ
錯体(日東化学工業(株)製、試作品)2.7重量部とを
添加し、使用溶剤としてシクロヘキサノン/メチルエチ
ルケトン(80/20)の混合溶剤として、その他の条件は
実施例2と同様として乾燥皮膜の厚さが0.1μmの透明
導電性膜を形成させた。ここで得られたトップテープフ
ィルムを実施例−1と同様にして測定したところ、その
表面抵抗は単位面積当たり平均値4.8×105Ω,最大値5.
0×105Ω,最小値4.7×105Ωであった。
前記実施例−2と比較例−1で得られたトップテープフ
ィルムを、65℃,95%の高温高湿の雰囲気中に保持して
その表面抵抗の変化を測定した。
ィルムを、65℃,95%の高温高湿の雰囲気中に保持して
その表面抵抗の変化を測定した。
その結果は、第4図に示すように実施例−2で得られた
トップテープフィルムはその表面抵抗の上昇が少なく、
実用上の帯電防止に必要な単位面積当たり109Ωの表面
抵抗を120時間経過しても維持していたのに対し、比較
例−1で得られたトップテープフィルムでは、48時間経
過した時点ですでに単位面積あたりの抵抗値が1011以上
に増大し、導電性が大幅に低下した。
トップテープフィルムはその表面抵抗の上昇が少なく、
実用上の帯電防止に必要な単位面積当たり109Ωの表面
抵抗を120時間経過しても維持していたのに対し、比較
例−1で得られたトップテープフィルムでは、48時間経
過した時点ですでに単位面積あたりの抵抗値が1011以上
に増大し、導電性が大幅に低下した。
次いで、上記実施例−2と実施例−3および比較例2で
得られた各塗工液を25℃,55%RHの雰囲気中に投入し、
所定の時間ごとに各塗工液を前記方法と同様の方法にて
塗工し、0.1μm透明導電性皮膜を形成して、その表面
抵抗の変化を測定した結果を第3図に示す。その結果、
実施例−3ではその抵抗上昇が少なく、15日経過しても
実用上の帯電防止に十分な単位面積当たり107Ωの表面
抵抗を維持しており、さらに実施例−2では30日経過し
ても単位面積当たり107の表面抵抗を維持いたのに対
し、比較例−2では10日経過時に単位面積当たり107Ω
以上であり、1日経過時には単位面積当たり109Ω以上
の表面抵抗であった。
得られた各塗工液を25℃,55%RHの雰囲気中に投入し、
所定の時間ごとに各塗工液を前記方法と同様の方法にて
塗工し、0.1μm透明導電性皮膜を形成して、その表面
抵抗の変化を測定した結果を第3図に示す。その結果、
実施例−3ではその抵抗上昇が少なく、15日経過しても
実用上の帯電防止に十分な単位面積当たり107Ωの表面
抵抗を維持しており、さらに実施例−2では30日経過し
ても単位面積当たり107の表面抵抗を維持いたのに対
し、比較例−2では10日経過時に単位面積当たり107Ω
以上であり、1日経過時には単位面積当たり109Ω以上
の表面抵抗であった。
本発明は、錯体結晶が、炭素数1〜3の低級アルキル基
のアルキル(イソ)キノリニウム系またはアルキルモル
ホリニウム系若しくはアルキル−α−ピコニウム系のア
ルキル基置換7,7,8,8−テトラシアノキシジメタン錯体
の結晶形の異なる少なくとも2種からなる混合錯体を溶
解性高分子マトリックス中に配合して用いられたトップ
テープフィルムとすることで、高分子膜マトリックス中
の単位面積の結晶相互の接触点が増大し尊電性高分子膜
の体積固有抵抗および表面抵抗を低くすることができ従
来のTCNQ錯体単独を用いていた場合に比較して、より表
面抵抗が低く、バラツキが少なく、該表面抵抗の高温お
よび高温高湿での安定性に優れているとともに、該結晶
形の異なる錯体の少なくとも1種をアルキル基置換TCNQ
錯体とすることによって、その溶液での保存安定性が格
段に向上し、汎用溶剤を使用できることから、より低コ
ストでの製造が可能となったことから、実用的に優れた
トップテープフィルムとすることができる。
のアルキル(イソ)キノリニウム系またはアルキルモル
ホリニウム系若しくはアルキル−α−ピコニウム系のア
ルキル基置換7,7,8,8−テトラシアノキシジメタン錯体
の結晶形の異なる少なくとも2種からなる混合錯体を溶
解性高分子マトリックス中に配合して用いられたトップ
テープフィルムとすることで、高分子膜マトリックス中
の単位面積の結晶相互の接触点が増大し尊電性高分子膜
の体積固有抵抗および表面抵抗を低くすることができ従
来のTCNQ錯体単独を用いていた場合に比較して、より表
面抵抗が低く、バラツキが少なく、該表面抵抗の高温お
よび高温高湿での安定性に優れているとともに、該結晶
形の異なる錯体の少なくとも1種をアルキル基置換TCNQ
錯体とすることによって、その溶液での保存安定性が格
段に向上し、汎用溶剤を使用できることから、より低コ
ストでの製造が可能となったことから、実用的に優れた
トップテープフィルムとすることができる。
第1図は本発明のトップテープフィルムの使用時におけ
る拡大縦断面図、第1a図は高分子マトリックスに対する
R−TCNQ錯体による混合錯体の配合部数を一定として、
結晶形の異なる2種の錯体の混合比率と表面抵抗との関
係を示す。第1b図は高分子マトリックスに対するR−TC
NQとTCNQ錯体による混合錯体の配合部数を一定として、
結晶形の異なる2種の錯体の混合比率と表面抵抗との関
係を示す。第2図は本発明の実施例−2で得られた透明
導電性膜中に析出したR−TCNQ錯体の結晶構造を示す偏
向顕微鏡写真(倍率:200倍)である。第3図は実施例−
2と実施例−3および比較例−2の各塗工液の25℃55%
RHおける表面抵抗の変化を示す。第4図は実施例−2と
比較例−1で得られたトップテープフィルムの高温高湿
中における表面抵抗の経時変化を示したものである。第
5図はN−n−ブチルイソキノリニウムTCNQ錯体を単独
で用いた場合の透明導電性膜中に析出したTCNQ錯体の結
晶構造を示す偏向顕微鏡写真(倍率:200倍)である。 1……トップテープフィルム、2……ベースフィルム、
3……ヒートシール接着剤層、4……透明導電膜層、5
……キャリアテープ、51……キャリアテープの周縁部、
6……キャビティ。
る拡大縦断面図、第1a図は高分子マトリックスに対する
R−TCNQ錯体による混合錯体の配合部数を一定として、
結晶形の異なる2種の錯体の混合比率と表面抵抗との関
係を示す。第1b図は高分子マトリックスに対するR−TC
NQとTCNQ錯体による混合錯体の配合部数を一定として、
結晶形の異なる2種の錯体の混合比率と表面抵抗との関
係を示す。第2図は本発明の実施例−2で得られた透明
導電性膜中に析出したR−TCNQ錯体の結晶構造を示す偏
向顕微鏡写真(倍率:200倍)である。第3図は実施例−
2と実施例−3および比較例−2の各塗工液の25℃55%
RHおける表面抵抗の変化を示す。第4図は実施例−2と
比較例−1で得られたトップテープフィルムの高温高湿
中における表面抵抗の経時変化を示したものである。第
5図はN−n−ブチルイソキノリニウムTCNQ錯体を単独
で用いた場合の透明導電性膜中に析出したTCNQ錯体の結
晶構造を示す偏向顕微鏡写真(倍率:200倍)である。 1……トップテープフィルム、2……ベースフィルム、
3……ヒートシール接着剤層、4……透明導電膜層、5
……キャリアテープ、51……キャリアテープの周縁部、
6……キャビティ。
Claims (2)
- 【請求項1】ベースフィルムの一面に7,7,8,8−テトラ
シアノキシジメタン錯体結晶を含有するヒートシール性
接着剤層を形成したキャリアテープ用トップテープフィ
ルムであって、該錯体結晶が、炭素数1〜3の低級アル
キル基のアルキル(イソ)キノリニウム系またはアルキ
ルモルホリニウム系若しくはアルキル−α−ピコリニウ
ム系のアルキル基置換7,7,8,8−テトラシアノキシジメ
タン錯体の結晶形の異なる少なくとも2種からなる混合
錯体を溶解性高分子マトリックス中に配合して用いられ
ることを特徴とするトップテープフィルム。 - 【請求項2】ベースフィルムの一面に、7,7,8,8−テト
ラシアノキシジメタン錯体結晶を含有する透明導電性高
分子皮膜を形成したキャリアテープ用トップテープフィ
ルムであって、該錯体結晶が、炭素数1〜3の低級アル
キル基のアルキル(イソ)キノリニウム系またはアルキ
ルモルホリニウム系若しくはアルキル−α−ピコリニウ
ム系のアルキル基置換7,7,8,8−テトラシアノキシジメ
タン錯体の結晶形の異なる少なくとも2種からなる混合
錯体を溶解性高分子マトリックス中に配合して用いら
れ、前記ベースフィルムの他面にヒートシール性接着剤
層を備えたことを特徴とするトップテープフィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2141979A JPH0665181B2 (ja) | 1990-05-31 | 1990-05-31 | トップテープフィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2141979A JPH0665181B2 (ja) | 1990-05-31 | 1990-05-31 | トップテープフィルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0436998A JPH0436998A (ja) | 1992-02-06 |
| JPH0665181B2 true JPH0665181B2 (ja) | 1994-08-22 |
Family
ID=15304576
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2141979A Expired - Fee Related JPH0665181B2 (ja) | 1990-05-31 | 1990-05-31 | トップテープフィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0665181B2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS636792A (ja) * | 1986-06-27 | 1988-01-12 | キヤノン株式会社 | 帯電防止層および帯電防止方法 |
| JPH046159Y2 (ja) * | 1988-01-26 | 1992-02-20 |
-
1990
- 1990-05-31 JP JP2141979A patent/JPH0665181B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0436998A (ja) | 1992-02-06 |
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