JPH0666510B2 - 光メモリ書き込み方式 - Google Patents
光メモリ書き込み方式Info
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- JPH0666510B2 JPH0666510B2 JP21073284A JP21073284A JPH0666510B2 JP H0666510 B2 JPH0666510 B2 JP H0666510B2 JP 21073284 A JP21073284 A JP 21073284A JP 21073284 A JP21073284 A JP 21073284A JP H0666510 B2 JPH0666510 B2 JP H0666510B2
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- semiconductor laser
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Landscapes
- Semiconductor Lasers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は注入電流と出射光量との間にヒステリシス特性
を示す双安定半導体レーザを用いた光メモリの書き込み
方式に関する。
を示す双安定半導体レーザを用いた光メモリの書き込み
方式に関する。
(従来技術) 従来、電気信号の論理演算を高速で行なうデバイスとし
ては、カレント・スイッチを基本ブロックとしてカレン
トモードロジックが知られており更には近年GaAs FETや
ジョセフソン結合素子等を用いた超高速論理演算デバイ
スの研究が進められている。
ては、カレント・スイッチを基本ブロックとしてカレン
トモードロジックが知られており更には近年GaAs FETや
ジョセフソン結合素子等を用いた超高速論理演算デバイ
スの研究が進められている。
しかしながら画像情報等の2次元的で大量なデータの高
速ディジタル情報処理を電気信号で行なうには演算速
度、消費電力等の面で限界がある。このため高速で2次
元並列の情報処理に親和性のある光信号を光のままディ
ジタル情報処理することのできる光論理演算デバイスの
実現が望まれており、このような光論理演算デバイスに
は光情報を読み書きすることのできる光メモリが不可欠
である。
速ディジタル情報処理を電気信号で行なうには演算速
度、消費電力等の面で限界がある。このため高速で2次
元並列の情報処理に親和性のある光信号を光のままディ
ジタル情報処理することのできる光論理演算デバイスの
実現が望まれており、このような光論理演算デバイスに
は光情報を読み書きすることのできる光メモリが不可欠
である。
このような光メモリとしては例えば文献エレクトロニク
ス・レター(Electronics Letter)第17巻741ページ記
載の双安定半導体レーザが知られている。
ス・レター(Electronics Letter)第17巻741ページ記
載の双安定半導体レーザが知られている。
第5図500は双安定半導体レーザの具体例を示す断面図
である。構造は通常用いられる電流注入形の半導体レー
ザとほぼ同じであり、例えば、GaAlAs/GaAsやInGaAsP/I
nPを材料とするダブルヘテロ接合構造のレーザである。
但し、電極501が一様ではなく、一部に電流の注入され
ない部分502が存在していることが通常の半導体レーザ
とは異なっている。上記電流の非注入領域502は可飽和
吸収体として働くので第5図の双安定半導体レーザでは
注入電流i対光出力Po特性にヒステリシス特性をもたせ
ることができる。なお、電極を不均一にするかわりに、
発光領域である活性層の部分に不均一性をもたせ、一部
に可飽和吸収領域を設置することにより同様な双安定特
性を持たせることができる。これらの双安定半導体レー
ザでは注入電流iを適当に選ぶことによって、外部から
の注入光Piに対する出射光Poの特性にも双安定特性が得
られる。
である。構造は通常用いられる電流注入形の半導体レー
ザとほぼ同じであり、例えば、GaAlAs/GaAsやInGaAsP/I
nPを材料とするダブルヘテロ接合構造のレーザである。
但し、電極501が一様ではなく、一部に電流の注入され
ない部分502が存在していることが通常の半導体レーザ
とは異なっている。上記電流の非注入領域502は可飽和
吸収体として働くので第5図の双安定半導体レーザでは
注入電流i対光出力Po特性にヒステリシス特性をもたせ
ることができる。なお、電極を不均一にするかわりに、
発光領域である活性層の部分に不均一性をもたせ、一部
に可飽和吸収領域を設置することにより同様な双安定特
性を持たせることができる。これらの双安定半導体レー
ザでは注入電流iを適当に選ぶことによって、外部から
の注入光Piに対する出射光Poの特性にも双安定特性が得
られる。
第6図(a),(b)は前記第5図の双安定半導体レーザの動
作を説明するための図である。第6図(a)は入射光量Pi
=0とした時の注入電流iと出射光量Poとの関係を示す
図である。すなわち注入電流iをicから増加させたとき
にはi=iuで急激に出射光量Poが増加し、逆に注入電流
iをiu以上の値から減少させた場合には出射光量Poはi
=idで急激に減少するようなヒステリシス特性を示し、
i=ibにおいて出射光量0およびPohの2つの安定点A
およびBを有する。第6図(b)に示した600は第5図にお
いて注入電流i=iwとした時の入射光量Piと出射光量Po
との関係を示す。すなわち出射光量Po=0の第1の安定
点Aにある時に入射光量Piを0から増加させた場合は出
射光量PoはPi=Piuで急激に増加し以降入射量Pi=Pihか
ら減少させた場合には出射光量Poはほとんど減少せずに
出射光量Po=Pohの第2の安定点Bに移る。第6図(a)に
おける点A,Bはそれぞれ第6図(b)における点A,B
と同一の点を表わす。
作を説明するための図である。第6図(a)は入射光量Pi
=0とした時の注入電流iと出射光量Poとの関係を示す
図である。すなわち注入電流iをicから増加させたとき
にはi=iuで急激に出射光量Poが増加し、逆に注入電流
iをiu以上の値から減少させた場合には出射光量Poはi
=idで急激に減少するようなヒステリシス特性を示し、
i=ibにおいて出射光量0およびPohの2つの安定点A
およびBを有する。第6図(b)に示した600は第5図にお
いて注入電流i=iwとした時の入射光量Piと出射光量Po
との関係を示す。すなわち出射光量Po=0の第1の安定
点Aにある時に入射光量Piを0から増加させた場合は出
射光量PoはPi=Piuで急激に増加し以降入射量Pi=Pihか
ら減少させた場合には出射光量Poはほとんど減少せずに
出射光量Po=Pohの第2の安定点Bに移る。第6図(a)に
おける点A,Bはそれぞれ第6図(b)における点A,B
と同一の点を表わす。
(発明が解決しようとする問題点) 第6図(a)において、注入電流iの値をiwからibに減少
させると、第6図(b)の601に示すように入出射光量特性
は出射光量Poが立ち上がる入射光量PiがPiuからPiu′に
増加し、これにより双安定半導体レーザは、入射光量Pi
を0からPihに増加させても、発振状態に至らず、出射
光量Poは0のままに留まる。
させると、第6図(b)の601に示すように入出射光量特性
は出射光量Poが立ち上がる入射光量PiがPiuからPiu′に
増加し、これにより双安定半導体レーザは、入射光量Pi
を0からPihに増加させても、発振状態に至らず、出射
光量Poは0のままに留まる。
第7図は従来技術による光メモリ書き込み方式を示す図
である。
である。
第7図において、第5図と同一番号を付したものは第5
図と同一の構成要素を示す。
図と同一の構成要素を示す。
第8図は第7図に示した光メモリの動作を説明するため
のタイムチャートを示す。
のタイムチャートを示す。
第8図によれば、第7図に示した双安定半導体レーザ50
0の電極501には可変定電流源700によって800で示す注入
電流iが供給されておりこれにより活性層701の一端702
から入射される801で示す光信号Piを記憶し、活性層701
の一端702および他端703から802で示す光信号Poを出射
する。
0の電極501には可変定電流源700によって800で示す注入
電流iが供給されておりこれにより活性層701の一端702
から入射される801で示す光信号Piを記憶し、活性層701
の一端702および他端703から802で示す光信号Poを出射
する。
第6図(b)に示したように注入電流iの値がibである限
りはたとえ光量Pihの光信号Piが入射されても第7図に
示した双安定半導体レーザ500は前回書き込まれた値に
応じて光量0あるいはPohのいずれか一方の出射光Poを
保持している。
りはたとえ光量Pihの光信号Piが入射されても第7図に
示した双安定半導体レーザ500は前回書き込まれた値に
応じて光量0あるいはPohのいずれか一方の出射光Poを
保持している。
ここで、第8図803に示すように注入電流iの値を第6
図(a)に示すibからひとたびicに減少すると双安定半導
体レーザ500は第6図(a)に示すA,Bいずれの安定点に
あってもリセットされ、出射光Poの光量は0となる。こ
の後に、第8図804に示す如く注入電流iの値を第6図
(a)に示すiwに増加すると、第6図(b)に示す如く、双安
定半導体レーザ500は光量Pihの入射光Piによってセット
することができる。すなわち、第7図に示した双安定半
導体レーザ500は注入電流iの値がiwとなる期間804に活
性層701の一端702に入射される光信号Piに応じた値を記
憶し、以後注入電流iの値がibである限りその値を保持
する。
図(a)に示すibからひとたびicに減少すると双安定半導
体レーザ500は第6図(a)に示すA,Bいずれの安定点に
あってもリセットされ、出射光Poの光量は0となる。こ
の後に、第8図804に示す如く注入電流iの値を第6図
(a)に示すiwに増加すると、第6図(b)に示す如く、双安
定半導体レーザ500は光量Pihの入射光Piによってセット
することができる。すなわち、第7図に示した双安定半
導体レーザ500は注入電流iの値がiwとなる期間804に活
性層701の一端702に入射される光信号Piに応じた値を記
憶し、以後注入電流iの値がibである限りその値を保持
する。
第7図に示した従来技術による光メモリ書き込み方式は
活性層701の一端702から入射された光信号Piの値を注入
電流iを制御することによってラッチする。
活性層701の一端702から入射された光信号Piの値を注入
電流iを制御することによってラッチする。
本発明の目的は活性層の一端および他端にそれぞれ入射
される2つの光信号のいずれか一方を選択して記憶する
ことのできる光メモリ書き込み方式を提供することにあ
る。
される2つの光信号のいずれか一方を選択して記憶する
ことのできる光メモリ書き込み方式を提供することにあ
る。
(問題点を解決するための手段) 本発明は電極が共振軸方向に第1および第2の電極の2
つに分割されている双安定半導体レーザと、前記第1お
よび第2の電極にそれぞれ第1および第2の注入電流を
供給する第1および第2の可変電流源とによって構成さ
れる光メモリにおいて、前記第1および第2の注入電流
値を互いに独立に制御することによって前記双安定半導
体レーザの活性層の第1の電極側端面および第2の電極
側端面からそれぞれ入射される2つの光信号のいずれか
一方の値を記憶することを特徴とする光メモリ書き込み
方式である。
つに分割されている双安定半導体レーザと、前記第1お
よび第2の電極にそれぞれ第1および第2の注入電流を
供給する第1および第2の可変電流源とによって構成さ
れる光メモリにおいて、前記第1および第2の注入電流
値を互いに独立に制御することによって前記双安定半導
体レーザの活性層の第1の電極側端面および第2の電極
側端面からそれぞれ入射される2つの光信号のいずれか
一方の値を記憶することを特徴とする光メモリ書き込み
方式である。
(作用) 本発明は上述の構成をとることにより双安定半導体レー
ザの活性層の両端にそれぞれ加えられる光信号のいずれ
か一方を選択して記憶することを可能にした。
ザの活性層の両端にそれぞれ加えられる光信号のいずれ
か一方を選択して記憶することを可能にした。
すなわち、双安定半導体レーザとして溝をはさんで電極
が共振軸方向に2つに分割されているタンデム電極構造
の双安定半導体レーザを用いるとともに2つの電極にそ
れぞれ供給されている2つの注入電流を個々に制御する
ことにより、活性層の両端にそれぞれ入射されている光
信号のいずれか一方を選択して記憶することができる。
が共振軸方向に2つに分割されているタンデム電極構造
の双安定半導体レーザを用いるとともに2つの電極にそ
れぞれ供給されている2つの注入電流を個々に制御する
ことにより、活性層の両端にそれぞれ入射されている光
信号のいずれか一方を選択して記憶することができる。
(実施例) 以下本発明の実施例について図面を参照して詳細に説明
する。
する。
第3図300は本発明に用いる双安定半導体レーザの具体
例を示す断面図である。基本的構造は第5図に示した双
安定半導体レーザ500とほぼ同じであるが、本発明では
電極が溝をはさんで共振軸方向に電極301と電極302との
2つに分割されていることが第5図に示した双安定半導
体レーザ500と異なっている。
例を示す断面図である。基本的構造は第5図に示した双
安定半導体レーザ500とほぼ同じであるが、本発明では
電極が溝をはさんで共振軸方向に電極301と電極302との
2つに分割されていることが第5図に示した双安定半導
体レーザ500と異なっている。
このような双安定半導体レーザとしては昭和57年度電子
通信学会光・電波部門全国大会講演論文集(分冊2)27
2番に述べられているものが知られている。この文献に
は、本発明に使用できる双安定半導体レーザの2つの電
極を互いに接続して、1つの電流源回路で駆動した場合
の動作しか記載されていない。また、入力される光信号
も1つである。
通信学会光・電波部門全国大会講演論文集(分冊2)27
2番に述べられているものが知られている。この文献に
は、本発明に使用できる双安定半導体レーザの2つの電
極を互いに接続して、1つの電流源回路で駆動した場合
の動作しか記載されていない。また、入力される光信号
も1つである。
第3図に示した双安定半導体レーザ300の電極301および
302にはそれぞれ注入電流i1およびi2が供給されてお
り、これによって活性層303の一端304および他端305に
それぞれ入射されている2つの光信号P1およびP2のいず
れか一方の値を記憶し、活性層303の両端から光信号Po
を出射する。
302にはそれぞれ注入電流i1およびi2が供給されてお
り、これによって活性層303の一端304および他端305に
それぞれ入射されている2つの光信号P1およびP2のいず
れか一方の値を記憶し、活性層303の両端から光信号Po
を出射する。
第4図は第3図に示した双安定半導体レーザ300の特性
を示す図である。第4図(a)に示すように第3図に示し
た双安定半導体レーザ300は入射光量P1=0,注入電流i
2=i2bとした時に注入電流i1と出射光量Poとの間に400
で示すヒステリシス特性を有し、注入電流i1の値をi1b
に設定することによって2つの安定点AおよびBを示
す。更にまた、第3図に示した双安定半導体レーザ300
は、i2=i2wとした場合にも、ヒステリシス特性400と同
様のヒステリシス特性を有する。第4図(b)は注入電流i
2=i2bとした時の入射光量P1と出射光量Poとの関係を示
す図であり、第3図に示した双安定半導体レーザ300は
注入電流i1の値を第4図(a)に示したi1bの値に設定する
ことにより401で示す特性を有する。ここで注入電流i1
の値を第4図(b)に示すi1wに設定すると、双安定半導体
レーザ300は402で示す特性を示す。
を示す図である。第4図(a)に示すように第3図に示し
た双安定半導体レーザ300は入射光量P1=0,注入電流i
2=i2bとした時に注入電流i1と出射光量Poとの間に400
で示すヒステリシス特性を有し、注入電流i1の値をi1b
に設定することによって2つの安定点AおよびBを示
す。更にまた、第3図に示した双安定半導体レーザ300
は、i2=i2wとした場合にも、ヒステリシス特性400と同
様のヒステリシス特性を有する。第4図(b)は注入電流i
2=i2bとした時の入射光量P1と出射光量Poとの関係を示
す図であり、第3図に示した双安定半導体レーザ300は
注入電流i1の値を第4図(a)に示したi1bの値に設定する
ことにより401で示す特性を有する。ここで注入電流i1
の値を第4図(b)に示すi1wに設定すると、双安定半導体
レーザ300は402で示す特性を示す。
更にまた、第3図に示した双安定半導体レーザ300は、i
2=i2wとした場合にも、401,402と同様の特性を有す
る。
2=i2wとした場合にも、401,402と同様の特性を有す
る。
一方第4図(c)に示すように第3図に示した双安定半導
体レーザ300はまた入射光量P2=0、注入電流i2=i2bと
した時に注入電流i2と出射光量Poとの間に403で示すヒ
ステリシス特性を有し注入電流i2の値をi2bに設定する
ことによって2つの安定点AおよびBを示す。更にま
た、第3図に示した双安定半導体レーザ300は、i1=i1w
とした場合にも、403と同様のヒステリシス特性を有す
る。第4図(d)は注入電流i1=i1bとした時の入射光量P2
と出射光量Poとの関係を示す図であり、第3図に示した
双安定半導体レーザ300は注入電流i2の値を第4図(c)に
示したi2bの値に設定することにより404で示す特性を有
する。ここで注入電流i2の値を第4図(c)に示すi2wに設
定すると双安定半導体レーザ300は403で示す特性を示
す。更にまた、第3図に示した双安定半導体レーザ300
は、i1=i1wとした場合にも、403,404と同様の特性を
有する。第4図(a)における点A,Bはそれぞれ第4図
(b)〜(d)における点A,Bと同一の点を表わす。
体レーザ300はまた入射光量P2=0、注入電流i2=i2bと
した時に注入電流i2と出射光量Poとの間に403で示すヒ
ステリシス特性を有し注入電流i2の値をi2bに設定する
ことによって2つの安定点AおよびBを示す。更にま
た、第3図に示した双安定半導体レーザ300は、i1=i1w
とした場合にも、403と同様のヒステリシス特性を有す
る。第4図(d)は注入電流i1=i1bとした時の入射光量P2
と出射光量Poとの関係を示す図であり、第3図に示した
双安定半導体レーザ300は注入電流i2の値を第4図(c)に
示したi2bの値に設定することにより404で示す特性を有
する。ここで注入電流i2の値を第4図(c)に示すi2wに設
定すると双安定半導体レーザ300は403で示す特性を示
す。更にまた、第3図に示した双安定半導体レーザ300
は、i1=i1wとした場合にも、403,404と同様の特性を
有する。第4図(a)における点A,Bはそれぞれ第4図
(b)〜(d)における点A,Bと同一の点を表わす。
第1図は本発明の実施例を示す図である。
第1図において、第3図と同一番号を付したものは第3
図と同一の構成要素を示す。
図と同一の構成要素を示す。
第2図は第1図に示した光メモリの動作を説明するため
のタイムチャートである。第2図によれば第1図に示し
た双安定半導体レーザ300の電極301および302にはそれ
ぞれ可変定電流源100および101によって200および201で
示す注入電流が供給されており、これによって活性層30
3の一端304および他端305から入射され、それぞれ第2
図202および203で示される光信号P1およびP2のいずれか
一方の値を記憶し、活性層303の一端304および他端305
から204で示す光信号Poを出射する。
のタイムチャートである。第2図によれば第1図に示し
た双安定半導体レーザ300の電極301および302にはそれ
ぞれ可変定電流源100および101によって200および201で
示す注入電流が供給されており、これによって活性層30
3の一端304および他端305から入射され、それぞれ第2
図202および203で示される光信号P1およびP2のいずれか
一方の値を記憶し、活性層303の一端304および他端305
から204で示す光信号Poを出射する。
第4図(b)および(d)に示したように注入電流i1,i2がそ
れぞれi1b,i2bである限りはたとえ光量P1h,P2hの光信
号P1,P2がそれぞれ活性層303の一端304および他端305
に入射されても第1図に示した双安定半導体レーザ300
は前回書き込まれた値に応じて光量0あるいはPohのい
ずれか一方の出射光Poを保持している。
れぞれi1b,i2bである限りはたとえ光量P1h,P2hの光信
号P1,P2がそれぞれ活性層303の一端304および他端305
に入射されても第1図に示した双安定半導体レーザ300
は前回書き込まれた値に応じて光量0あるいはPohのい
ずれか一方の出射光Poを保持している。
ここで第2図205,206に示すように注入電流i1,i2のい
ずれか一方の値をそれぞれ第4図(a),(b)に示すi1c,i
2cに減少すると、双安定半導体レーザ300は第4図(a),
(c)に示すA,Bいずれの安定点にあってもリセットさ
れ、出射光Poの光量は0となる。この後に例えば第2図
206に示すように注入電流i2の値を第4図(a)に示すi2w
に増加すると、第4図(b)に示す如く双安定半導体レー
ザ300は光量P1hの入射光P1によってセットすることがで
き、注入電流i1の値がi1bを保っている限り活性層303の
一端304に入射されている光信号P1は前記のセット動作
には何等の影響を及ぼすことがない。すなわち第1図に
示した半導体レーザ300は注入電流i1,i1bを保ち注入電
流i2の値がi2wとなる期間206に活性層303の他端305に入
射される光信号P2に応じた値を記憶し、以後注入電流
i1,i2の値がそれぞれi1b,i2bである限りその値を保持
する。
ずれか一方の値をそれぞれ第4図(a),(b)に示すi1c,i
2cに減少すると、双安定半導体レーザ300は第4図(a),
(c)に示すA,Bいずれの安定点にあってもリセットさ
れ、出射光Poの光量は0となる。この後に例えば第2図
206に示すように注入電流i2の値を第4図(a)に示すi2w
に増加すると、第4図(b)に示す如く双安定半導体レー
ザ300は光量P1hの入射光P1によってセットすることがで
き、注入電流i1の値がi1bを保っている限り活性層303の
一端304に入射されている光信号P1は前記のセット動作
には何等の影響を及ぼすことがない。すなわち第1図に
示した半導体レーザ300は注入電流i1,i1bを保ち注入電
流i2の値がi2wとなる期間206に活性層303の他端305に入
射される光信号P2に応じた値を記憶し、以後注入電流
i1,i2の値がそれぞれi1b,i2bである限りその値を保持
する。
同様にして第1図の半導体レーザ300は注入電流i2がi2b
を保ち注入電流i1の値がi1wとなる期間207に活性層303
の一端304に入射される光信号P1に応じた値を記憶し以
後注入電流i1,i2の値がそれぞれi1b,i2bである限りそ
の値を保持する。
を保ち注入電流i1の値がi1wとなる期間207に活性層303
の一端304に入射される光信号P1に応じた値を記憶し以
後注入電流i1,i2の値がそれぞれi1b,i2bである限りそ
の値を保持する。
(発明の効果) 以上述べたように、第1図に示した双安定半導体レーザ
300によれば、2つの電極301,302に供給される注入電
極i1,i2を制御することにより活性層303の一端304およ
び他端305にそれぞれ加えられる光信号P1,P2のいずれ
か一方を選択して記憶し、前記活性層303の一端304およ
び他端305から光信号Poを出射することができる。
300によれば、2つの電極301,302に供給される注入電
極i1,i2を制御することにより活性層303の一端304およ
び他端305にそれぞれ加えられる光信号P1,P2のいずれ
か一方を選択して記憶し、前記活性層303の一端304およ
び他端305から光信号Poを出射することができる。
すなわち本発明による光メモリ書き込み方式によれば双
方向の光メモリ動作を得ることができる効果を有するも
のである。
方向の光メモリ動作を得ることができる効果を有するも
のである。
第1図は本発明の実施例を示す構成図、第2図は第1図
に示した光メモリの動作を説明するためのタイミングチ
ャートを示す図、第3図は本発明に用いる双安定半導体
レーザの具体例を示す断面図、第4図は第3図に示した
双安定半導体レーザの特性を示す図、第5図は従来技術
による光メモリに用いられている双安定半導体レーザの
具体例を示す断面図、第6図は第5図に示した双安定半
導体レーザの特性を示す図、第7図は従来技術による光
メモリ書き込み方式を示す図、第8図は第7図に示した
光メモリの動作を説明するためのタイミングチャートを
示す図である。 図において100,101および700は可変定電流源、300およ
び500は双安定半導体レーザをそれぞれ表わす。
に示した光メモリの動作を説明するためのタイミングチ
ャートを示す図、第3図は本発明に用いる双安定半導体
レーザの具体例を示す断面図、第4図は第3図に示した
双安定半導体レーザの特性を示す図、第5図は従来技術
による光メモリに用いられている双安定半導体レーザの
具体例を示す断面図、第6図は第5図に示した双安定半
導体レーザの特性を示す図、第7図は従来技術による光
メモリ書き込み方式を示す図、第8図は第7図に示した
光メモリの動作を説明するためのタイミングチャートを
示す図である。 図において100,101および700は可変定電流源、300およ
び500は双安定半導体レーザをそれぞれ表わす。
Claims (1)
- 【請求項1】電極が共振軸方向に第1および第2の電極
の2つに分割されている双安定半導体レーザと、前記第
1および第2の電極にそれぞれ第1および第2の注入電
流を供給する第1および第2の可変電流源とによって構
成される光メモリにおいて、前記第1および第2の注入
電流値を互いに独立に制御することによって前記双安定
半導体レーザの活性層の第1の電極側端面および第2の
電極側端面からそれぞれ入射される2つの光信号のいず
れか一方の値を記憶することを特徴とする光メモリ書き
込み方式。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21073284A JPH0666510B2 (ja) | 1984-10-08 | 1984-10-08 | 光メモリ書き込み方式 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21073284A JPH0666510B2 (ja) | 1984-10-08 | 1984-10-08 | 光メモリ書き込み方式 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6188587A JPS6188587A (ja) | 1986-05-06 |
| JPH0666510B2 true JPH0666510B2 (ja) | 1994-08-24 |
Family
ID=16594188
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21073284A Expired - Lifetime JPH0666510B2 (ja) | 1984-10-08 | 1984-10-08 | 光メモリ書き込み方式 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0666510B2 (ja) |
-
1984
- 1984-10-08 JP JP21073284A patent/JPH0666510B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6188587A (ja) | 1986-05-06 |
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