JPH0666720A - ガス検出装置 - Google Patents
ガス検出装置Info
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- JPH0666720A JPH0666720A JP21780492A JP21780492A JPH0666720A JP H0666720 A JPH0666720 A JP H0666720A JP 21780492 A JP21780492 A JP 21780492A JP 21780492 A JP21780492 A JP 21780492A JP H0666720 A JPH0666720 A JP H0666720A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 １台のガス検出装置でガスの検出、およびガ
スの発生位置を特定することが可能なガス検出装置を得
る。 【構成】 半導体レーザ１からのレーザビームをビーム
スプリッタ７ａ、７ｂにより２本のビームに分離して各
ビームを構造体表面１１へ投光し、各ビームによって発
生する散乱光を受光する受光系１２ａ、１２ｂを各ビー
ムに対して独立に設けるとともに、２組の投受光系を両
者の位置関係を保った状態で回転する手段２０を設け、
各ビームについて、ガスの検出したときの回転角を記録
し、ガスの発生位置を演算により求める。
スの発生位置を特定することが可能なガス検出装置を得
る。 【構成】 半導体レーザ１からのレーザビームをビーム
スプリッタ７ａ、７ｂにより２本のビームに分離して各
ビームを構造体表面１１へ投光し、各ビームによって発
生する散乱光を受光する受光系１２ａ、１２ｂを各ビー
ムに対して独立に設けるとともに、２組の投受光系を両
者の位置関係を保った状態で回転する手段２０を設け、
各ビームについて、ガスの検出したときの回転角を記録
し、ガスの発生位置を演算により求める。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、ガスによる赤外線の
吸光現象を利用してガスを検知し、さらにガスの発生位
置を特定するガス検出装置に関するものである。
吸光現象を利用してガスを検知し、さらにガスの発生位
置を特定するガス検出装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ガスはそれぞれ固有の赤外線吸収スペク
トルを持っていることから、ガスを透過する前後の赤外
線スペクトルを比較することにより特定のガスを検出で
きる。図３は、例えば特願平２ー２６２５７０号明細書
に示された従来のガス検出装置を示す構成図である。図
において、１は半導体レーザ（以下、ＬＤと記す）、２
はＬＤの駆動回路、３は出射ビームを平行ビームに変換
するビームコリメート系、４はエタロン、５はエタロン
４に取り付けられた回転機構、６は回転機構５を駆動制
御するコントローラ、７はＬＤビームを分離するビーム
スプリッタ、８はＬＤビームを外部へ投光するための光
路偏向用の鏡、９はビームスプリッタ７を透過した光を
受光する検出器、１０は検出器９からの出力を増幅する
アンプ、１１は検査空間内にある構造体などの表面、１
２は構造体表面１１からの散乱光を集光する集光鏡、１
３は集光した散乱光を受光する検出器、１４は検出器１
３からの出力を増幅するアンプ、１５はアンプ１４から
の出力の比を取る割算器、１６はメモリ、１７はガスの
有無を判断する判定回路である。
トルを持っていることから、ガスを透過する前後の赤外
線スペクトルを比較することにより特定のガスを検出で
きる。図３は、例えば特願平２ー２６２５７０号明細書
に示された従来のガス検出装置を示す構成図である。図
において、１は半導体レーザ（以下、ＬＤと記す）、２
はＬＤの駆動回路、３は出射ビームを平行ビームに変換
するビームコリメート系、４はエタロン、５はエタロン
４に取り付けられた回転機構、６は回転機構５を駆動制
御するコントローラ、７はＬＤビームを分離するビーム
スプリッタ、８はＬＤビームを外部へ投光するための光
路偏向用の鏡、９はビームスプリッタ７を透過した光を
受光する検出器、１０は検出器９からの出力を増幅する
アンプ、１１は検査空間内にある構造体などの表面、１
２は構造体表面１１からの散乱光を集光する集光鏡、１
３は集光した散乱光を受光する検出器、１４は検出器１
３からの出力を増幅するアンプ、１５はアンプ１４から
の出力の比を取る割算器、１６はメモリ、１７はガスの
有無を判断する判定回路である。
【０００３】ＬＤ１の出力光はＬＤ駆動回路２によって
発振スペクトルの一つをガスの吸光波長に同調され、ビ
ームコリメート系３により平行ビームに変換された後、
エタロン４に入射させられる。エタロン４はビームの入
射角によって透過波長が変化する狭帯域のフィルタであ
るので、回転機構５、コントローラ６によって回転させ
ることによりガスの吸収波長とガスを吸光しない波長と
を選択可能である。エタロン４を透過した光は、一部は
ビームスプリッタ７を透過し、モニタ強度として検出器
９で光電変換され、アンプ１０によって増幅される。一
方、ビームスプリッタ７で反射した光は鏡８により光路
を偏向させられ、検出空間へ投光される。投光された光
は検出空間内にある構造体表面１１で散乱する。発生し
た散乱光は集光鏡１２によって検出器１３に集められ、
光電変換された後、アンプ１４によって増幅される。検
出器１３によって得られた受光強度信号と、検出器９に
よって検出されたモニタ強度信号はともに割算器１５へ
入力され、強度比（受光強度／モニタ強度）が演算さ
れ、メモリ１６に入力される。メモリ１６では、コント
ローラ６より出力される透過波長選択信号をもとに、ガ
スを吸収する波長での強度比とガスを吸収しない波長で
の強度比が所定のメモリに格納される。判定回路１７で
はガスを吸収する場合とガスを吸収しない場合の強度比
を比較することによりガスの有無を判定する。
発振スペクトルの一つをガスの吸光波長に同調され、ビ
ームコリメート系３により平行ビームに変換された後、
エタロン４に入射させられる。エタロン４はビームの入
射角によって透過波長が変化する狭帯域のフィルタであ
るので、回転機構５、コントローラ６によって回転させ
ることによりガスの吸収波長とガスを吸光しない波長と
を選択可能である。エタロン４を透過した光は、一部は
ビームスプリッタ７を透過し、モニタ強度として検出器
９で光電変換され、アンプ１０によって増幅される。一
方、ビームスプリッタ７で反射した光は鏡８により光路
を偏向させられ、検出空間へ投光される。投光された光
は検出空間内にある構造体表面１１で散乱する。発生し
た散乱光は集光鏡１２によって検出器１３に集められ、
光電変換された後、アンプ１４によって増幅される。検
出器１３によって得られた受光強度信号と、検出器９に
よって検出されたモニタ強度信号はともに割算器１５へ
入力され、強度比（受光強度／モニタ強度）が演算さ
れ、メモリ１６に入力される。メモリ１６では、コント
ローラ６より出力される透過波長選択信号をもとに、ガ
スを吸収する波長での強度比とガスを吸収しない波長で
の強度比が所定のメモリに格納される。判定回路１７で
はガスを吸収する場合とガスを吸収しない場合の強度比
を比較することによりガスの有無を判定する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記のような従来のガ
ス検出装置では、レーザの軸上のみがガスの検出範囲と
なる。このため、検知範囲を２次元に拡張するために
は、図４に示すように、ガス検出装置２６を回転させて
レーザビーム２５を走査し、発生したガス２７を検出す
る必要があった。しかし、この場合はガスの発生した方
向は特定できるが、発生した地点までの距離は特定でき
ない。上記のような従来のガス検出装置を用いてガスの
発生位置の特定をする場合は、図５に示すように、２台
のガス検出装置２６ａ、２６ｂをそれぞれ回転させて、
発生したガス２７を２本のレーザビーム２５ａ、２５ｂ
によって検出し、その結果を比較してガスの発生位置の
特定をおこなう必要があった。
ス検出装置では、レーザの軸上のみがガスの検出範囲と
なる。このため、検知範囲を２次元に拡張するために
は、図４に示すように、ガス検出装置２６を回転させて
レーザビーム２５を走査し、発生したガス２７を検出す
る必要があった。しかし、この場合はガスの発生した方
向は特定できるが、発生した地点までの距離は特定でき
ない。上記のような従来のガス検出装置を用いてガスの
発生位置の特定をする場合は、図５に示すように、２台
のガス検出装置２６ａ、２６ｂをそれぞれ回転させて、
発生したガス２７を２本のレーザビーム２５ａ、２５ｂ
によって検出し、その結果を比較してガスの発生位置の
特定をおこなう必要があった。
【０００５】この発明は、このような問題点を解消する
ためになされたものであり、１台のガス検出装置でガス
の発生位置を特定することが可能なガス検出装置を得る
ことを目的とする。
ためになされたものであり、１台のガス検出装置でガス
の発生位置を特定することが可能なガス検出装置を得る
ことを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明に係るガス検出
装置は、ＬＤビームを２本のビームに分離して各ビーム
を外部へ投光し、各ビームによって発生する散乱光を受
光する受光系を各ビームに対して独立に設けるととも
に、２組の投受光系を両者の位置関係を保った状態で回
転する手段を設け、各ビームについて、ガスの検出した
ときの回転角を記録し、ガスの発生位置を演算により求
めるものである。
装置は、ＬＤビームを２本のビームに分離して各ビーム
を外部へ投光し、各ビームによって発生する散乱光を受
光する受光系を各ビームに対して独立に設けるととも
に、２組の投受光系を両者の位置関係を保った状態で回
転する手段を設け、各ビームについて、ガスの検出した
ときの回転角を記録し、ガスの発生位置を演算により求
めるものである。
【０００７】また、上記構成において、ビームスプリッ
タにより分離された２本のレーザビームをそれぞれ異な
る周波数で強度変調する変調器を設け、検出手段の検出
結果から上記変調器の駆動信号に同期した信号をそれぞ
れ選択してガスの発生を検出するようにするとよい。
タにより分離された２本のレーザビームをそれぞれ異な
る周波数で強度変調する変調器を設け、検出手段の検出
結果から上記変調器の駆動信号に同期した信号をそれぞ
れ選択してガスの発生を検出するようにするとよい。
【０００８】
【作用】上記のように構成されたガス検出装置では、投
受光系を回転するとそれに伴って２本のビームの光路が
回転する。このため、検出領域のある地点でガスが発生
すると、そのガスを検出する方向が各ビームにおいて異
なる。ここで、各ビームにおけるガスの検出角度が定ま
るとガスの発生位置が一義的に定まることから、各ビー
ムにおける検出角度を測定することにより、ガスの発生
位置を特定することが可能となる。
受光系を回転するとそれに伴って２本のビームの光路が
回転する。このため、検出領域のある地点でガスが発生
すると、そのガスを検出する方向が各ビームにおいて異
なる。ここで、各ビームにおけるガスの検出角度が定ま
るとガスの発生位置が一義的に定まることから、各ビー
ムにおける検出角度を測定することにより、ガスの発生
位置を特定することが可能となる。
【０００９】また、変調器により２本のレーザビームを
それぞれ異なる周波数で強度変調して投光すれば、検出
手段において２つのレーザビームを分離でき信頼性が増
す。
それぞれ異なる周波数で強度変調して投光すれば、検出
手段において２つのレーザビームを分離でき信頼性が増
す。
【００１０】
実施例１．図１はこの発明の一実施例を示す構成図であ
り、１〜６、９〜１１は上記従来装置のものと同一であ
り、７ａ、７ｂ、８ａ、８ｂ、１２ａ、１２ｂ、１３
ａ、１３ｂは上記従来装置７、８、１２、１３と同一の
ものを２組ずつ設けたものである。１８ａ、１８ｂはチ
ョッパ等の光強度変調器、１９ａ、１９ｂはそれぞれ光
強度変調器１８ａ、１８ｂの駆動信号に同期した信号の
みを選択し増幅するアンプ、２０は送受光系１〜５、７
ａ〜９、１２ａ〜１３ｂ、１８ａ、１８ｂを回転させる
回転台、２１は回転台２０を制御する回転台制御器、２
２はアンプ１９ａとアンプ１０、アンプ１９ｂとアンプ
１０の出力信号のそれぞれ比を取る割算器、２３はガス
検出装置の回転角に対する割算器出力の変化を記憶する
機能を持つメモリ、２４は測定結果からガスの発生を検
出し、その位置を特定するための位置検出回路である。
り、１〜６、９〜１１は上記従来装置のものと同一であ
り、７ａ、７ｂ、８ａ、８ｂ、１２ａ、１２ｂ、１３
ａ、１３ｂは上記従来装置７、８、１２、１３と同一の
ものを２組ずつ設けたものである。１８ａ、１８ｂはチ
ョッパ等の光強度変調器、１９ａ、１９ｂはそれぞれ光
強度変調器１８ａ、１８ｂの駆動信号に同期した信号の
みを選択し増幅するアンプ、２０は送受光系１〜５、７
ａ〜９、１２ａ〜１３ｂ、１８ａ、１８ｂを回転させる
回転台、２１は回転台２０を制御する回転台制御器、２
２はアンプ１９ａとアンプ１０、アンプ１９ｂとアンプ
１０の出力信号のそれぞれ比を取る割算器、２３はガス
検出装置の回転角に対する割算器出力の変化を記憶する
機能を持つメモリ、２４は測定結果からガスの発生を検
出し、その位置を特定するための位置検出回路である。
【００１１】図２は位置検出回路２４の検出アルゴリズ
ムを示す説明図である。Ｐはガス発生点であり、１１は
検出空間をとりまく壁などの構造体である。２０は上記
回転台であり、Ｏはその回転軸の中心である。Ａ、Ｂは
ガス検出用の２本のビームの出射点であり、２５ａ、２
５ｂはそれぞれ出射点Ａ、Ｂから出射されて構造体１１
で散乱し検出器に戻る２本のビームである。
ムを示す説明図である。Ｐはガス発生点であり、１１は
検出空間をとりまく壁などの構造体である。２０は上記
回転台であり、Ｏはその回転軸の中心である。Ａ、Ｂは
ガス検出用の２本のビームの出射点であり、２５ａ、２
５ｂはそれぞれ出射点Ａ、Ｂから出射されて構造体１１
で散乱し検出器に戻る２本のビームである。
【００１２】前記のように構成されたガス検出装置にお
いては、１本のビームによるガス検出の方法は従来装置
と同一である。ビームスプリッタ７ａ、７ｂを透過した
ビームは、モニタ強度として検出器９で光電変換され、
アンプ１０により増幅される。一方、ビームスプリッタ
７ａ、７ｂで反射したビームはそれぞれ変調器１８ａ、
１８ｂにより互いに異なる周波数で強度変調され、鏡８
ａ、８ｂにより光路を偏向させられ、検出空間へ投光さ
れる。投光された光は検出空間内にある構造体表面１１
で散乱する。発生した散乱光は集光鏡１２ａ、１２ｂに
よって検出器１３ａ、１３ｂに集められ、光電変換され
た後、アンプ１９ａでは光強度変調器１８ａの駆動信号
に同期した信号のみ、アンプ１９ｂでは光強度変調器１
８ｂの駆動信号に同期した信号のみが選択され増幅され
る。アンプ１９ａ、１９ｂで増幅された受光強度信号
は、検出器９によって検出されたモニタ強度信号ととも
に割算器２２へ入力され、それぞれ強度比（受光強度／
モニタ強度）が演算される。演算された上記強度比は、
回転台制御器２１からのガス検出装置の回転角情報とと
もにメモリ２３に入力される。さらに、回転台２０によ
り、送受光系１〜５、７ａ〜９、１２ａ〜１３ｂ、１８
ａ、１８ｂを回転させながら、回転角度に対する上記強
度比の変化をメモリ２３に蓄え、位置検出回路２４によ
り、メモリ２３に蓄えられたデータをもとに、ガスの発
生を検出し発生位置の特定をおこなう。
いては、１本のビームによるガス検出の方法は従来装置
と同一である。ビームスプリッタ７ａ、７ｂを透過した
ビームは、モニタ強度として検出器９で光電変換され、
アンプ１０により増幅される。一方、ビームスプリッタ
７ａ、７ｂで反射したビームはそれぞれ変調器１８ａ、
１８ｂにより互いに異なる周波数で強度変調され、鏡８
ａ、８ｂにより光路を偏向させられ、検出空間へ投光さ
れる。投光された光は検出空間内にある構造体表面１１
で散乱する。発生した散乱光は集光鏡１２ａ、１２ｂに
よって検出器１３ａ、１３ｂに集められ、光電変換され
た後、アンプ１９ａでは光強度変調器１８ａの駆動信号
に同期した信号のみ、アンプ１９ｂでは光強度変調器１
８ｂの駆動信号に同期した信号のみが選択され増幅され
る。アンプ１９ａ、１９ｂで増幅された受光強度信号
は、検出器９によって検出されたモニタ強度信号ととも
に割算器２２へ入力され、それぞれ強度比（受光強度／
モニタ強度）が演算される。演算された上記強度比は、
回転台制御器２１からのガス検出装置の回転角情報とと
もにメモリ２３に入力される。さらに、回転台２０によ
り、送受光系１〜５、７ａ〜９、１２ａ〜１３ｂ、１８
ａ、１８ｂを回転させながら、回転角度に対する上記強
度比の変化をメモリ２３に蓄え、位置検出回路２４によ
り、メモリ２３に蓄えられたデータをもとに、ガスの発
生を検出し発生位置の特定をおこなう。
【００１３】位置検出回路２４の検出アルゴリズムを図
２を参照しながら説明する。基準とする回転台２０の回
転角における出射点Ａ、Ｂの位置をそれぞれ点Ａ0、Ｂ0
とする。回転台２０を回転させるとビーム２５ａ、ビー
ム２５ｂの光路は点Ｏを中心として回転する。このと
き、ビーム２５ａの受光強度はガス発生点Ｐを通る場合
に最も小さくなる。そのときのビーム２５ａの出射点Ａ
の位置を点Ａ1 とする。同様にビーム２５ｂの受光強度
が最も小さくなるときのビーム２５ｂの出射点Ｂの位置
をを点Ｂ2とする。すると線分Ａ1Ｏ、線分Ｂ2Ｏ、∠Ａ0
ＯＢ0、∠ＰＡ1Ｏ、∠ＰＢ2Ｏはあらかじめわかってお
り、∠Ａ0ＯＡ1、∠Ｂ0ＯＢ2 は測定により求めること
ができるので、ガス発生点Ｐの方位角∠Ａ0ＯＰ、ガス
発生点Ｐ までの距離ＯＰを計算により求めることが可
能である。
２を参照しながら説明する。基準とする回転台２０の回
転角における出射点Ａ、Ｂの位置をそれぞれ点Ａ0、Ｂ0
とする。回転台２０を回転させるとビーム２５ａ、ビー
ム２５ｂの光路は点Ｏを中心として回転する。このと
き、ビーム２５ａの受光強度はガス発生点Ｐを通る場合
に最も小さくなる。そのときのビーム２５ａの出射点Ａ
の位置を点Ａ1 とする。同様にビーム２５ｂの受光強度
が最も小さくなるときのビーム２５ｂの出射点Ｂの位置
をを点Ｂ2とする。すると線分Ａ1Ｏ、線分Ｂ2Ｏ、∠Ａ0
ＯＢ0、∠ＰＡ1Ｏ、∠ＰＢ2Ｏはあらかじめわかってお
り、∠Ａ0ＯＡ1、∠Ｂ0ＯＢ2 は測定により求めること
ができるので、ガス発生点Ｐの方位角∠Ａ0ＯＰ、ガス
発生点Ｐ までの距離ＯＰを計算により求めることが可
能である。
【００１４】なお、図２において、∠ＰＡ1Ｏ＝∠ＰＢ2
Ｏ＝９０゜、∠Ａ0ＯＢ0＝１８０゜、線分Ａ0Ｏ＝線分
Ｂ0Ｏとなるように検出器の方向、及び２つの検出器の
位置関係を設定すれば、計算が容易となる。
Ｏ＝９０゜、∠Ａ0ＯＢ0＝１８０゜、線分Ａ0Ｏ＝線分
Ｂ0Ｏとなるように検出器の方向、及び２つの検出器の
位置関係を設定すれば、計算が容易となる。
【００１５】実施例２．また、上記実施例では変調器１
８ａ、１８ｂを設けて、検出手段において２つのレーザ
ビームを区別できるようにしたが、集光鏡１２ａ、１２
ｂが壁との距離に対し十分離れており、２本のレーザビ
ームが分離できればなくてもよい。
８ａ、１８ｂを設けて、検出手段において２つのレーザ
ビームを区別できるようにしたが、集光鏡１２ａ、１２
ｂが壁との距離に対し十分離れており、２本のレーザビ
ームが分離できればなくてもよい。
【００１６】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、ＬＤ
ビームを２本のビームに分離して外部へ投光し、それぞ
れのビームの散乱光を独立して受光するとともに、投光
受光系を回転させ、各ビームについて、ガスの検出した
ときの回転角を記録し、ガスの発生位置を演算により求
めるようにしたので、１台のガス検出器でガスの検出と
位置の特定が可能となる。
ビームを２本のビームに分離して外部へ投光し、それぞ
れのビームの散乱光を独立して受光するとともに、投光
受光系を回転させ、各ビームについて、ガスの検出した
ときの回転角を記録し、ガスの発生位置を演算により求
めるようにしたので、１台のガス検出器でガスの検出と
位置の特定が可能となる。
【００１７】また、上記構成において、ビームスプリッ
タにより分離された２本のレーザビームをそれぞれ異な
る周波数で強度変調する変調器を設け、検出手段の検出
結果から上記変調器の駆動信号に同期した信号をそれぞ
れ選択してガスの発生を検出するようにすれば、検出手
段において２つのレーザビームを分離でき信頼性が増
す。
タにより分離された２本のレーザビームをそれぞれ異な
る周波数で強度変調する変調器を設け、検出手段の検出
結果から上記変調器の駆動信号に同期した信号をそれぞ
れ選択してガスの発生を検出するようにすれば、検出手
段において２つのレーザビームを分離でき信頼性が増
す。
【図１】この発明の実施例１を示す構成図である。
【図２】この発明の実施例１に係わる位置検出回路の検
出アルゴリズムを示す説明図である。
出アルゴリズムを示す説明図である。
【図３】従来のガス検出装置を示す構成図である。
【図４】従来のガス検出器の問題点を説明する説明図で
ある。
ある。
【図５】従来のガス検出器の問題点を説明する説明図で
ある。
ある。
１ 半導体レーザ ７ａ ビームスプリッタ ７ｂ ビームスプリッタ ８ａ 鏡 ８ｂ 鏡 ９ 検出器 １１ 構造体表面 １２ａ 集光鏡 １２ｂ 集光鏡 １３ａ 検出器 １３ｂ 検出器 １８ａ 光強度変調器 １８ｂ 光強度変調器 １９ａ アンプ １９ｂ アンプ ２０ 回転台 ２１ 回転台制御器 ２２ 割算器 ２３ メモリ ２４ 位置検出回路 ２５ａ レーザビーム ２５ｂ レーザビーム ２６ ガス検出装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宇佐美 照夫 尼崎市塚口本町８丁目１番１号 三菱電機 株式会社産業システム研究所内
Claims (2)
- 【請求項１】 特定ガスの吸光波長に波長を合わせた半
導体レーザ、上記半導体レーザのビームを少なくとも２
本に分離するビームスプリッタ、２本のレーザビームを
それぞれ独立した空間に投光する２つの投光手段、上記
各レーザービームによって構造体表面で発生した散乱光
をそれぞれ検出する２つの検出手段、少なくとも上記投
光手段、および上記検出手段を回転させる回転手段、上
記各レーザビームについて、ガスを検出した時点の回転
角を記録する記録手段、並びに検出結果からガスの発生
を検出するとともに、上記回転角から演算によりガスの
発生位置を求める演算手段を備えたガス検出装置。 - 【請求項２】 ビームスプリッタにより分離された２本
のレーザビームを変調器によりそれぞれ異なる周波数で
強度変調して投光し、検出手段の検出結果から上記変調
器の駆動信号に同期した信号をそれぞれ選択してガスの
発生を検出するようにした請求項１記載のガス検出装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21780492A JPH0666720A (ja) | 1992-08-17 | 1992-08-17 | ガス検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21780492A JPH0666720A (ja) | 1992-08-17 | 1992-08-17 | ガス検出装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0666720A true JPH0666720A (ja) | 1994-03-11 |
Family
ID=16710001
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21780492A Pending JPH0666720A (ja) | 1992-08-17 | 1992-08-17 | ガス検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0666720A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015139559A (ja) * | 2014-01-29 | 2015-08-03 | セイコーエプソン株式会社 | 光源装置及び観察装置 |
-
1992
- 1992-08-17 JP JP21780492A patent/JPH0666720A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015139559A (ja) * | 2014-01-29 | 2015-08-03 | セイコーエプソン株式会社 | 光源装置及び観察装置 |
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