JPH0667773B2 - タイル用釉薬 - Google Patents
タイル用釉薬Info
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- JPH0667773B2 JPH0667773B2 JP63166493A JP16649388A JPH0667773B2 JP H0667773 B2 JPH0667773 B2 JP H0667773B2 JP 63166493 A JP63166493 A JP 63166493A JP 16649388 A JP16649388 A JP 16649388A JP H0667773 B2 JPH0667773 B2 JP H0667773B2
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Landscapes
- Glass Compositions (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はタイル用釉薬に係り、特に内装用タイルを1回
の焼成のみで製造する、所謂一度焼きに用いるタイル用
釉薬に関する。
の焼成のみで製造する、所謂一度焼きに用いるタイル用
釉薬に関する。
[従来の技術] 従来より、内装用タイルは2回焼成過程を経る、所謂二
度焼により製造されている。即ち、従来の内装用タイル
は坏土の成形及び乾燥の後、第1回目の焼成(素焼き)
を行ない、冷却後、この素焼きタイルに釉掛けし、第2
回目の焼成を行うことにより製造されている。
度焼により製造されている。即ち、従来の内装用タイル
は坏土の成形及び乾燥の後、第1回目の焼成(素焼き)
を行ない、冷却後、この素焼きタイルに釉掛けし、第2
回目の焼成を行うことにより製造されている。
このように二度焼きする理由の一つとして、内装用タイ
ルは外装用タイルに比べ厚く釉掛けして(即ち、釉薬を
多量に掛け、釉の厚さを大きくして)光沢に富む施釉面
を形成する必要がある点が挙げられる。
ルは外装用タイルに比べ厚く釉掛けして(即ち、釉薬を
多量に掛け、釉の厚さを大きくして)光沢に富む施釉面
を形成する必要がある点が挙げられる。
即ち、仮に内装用タイルを一度焼きにて製造しようとし
て厚く釉掛けを行なうと、釉薬から大量の水分が坏土成
形体側に浸出する。しかして、釉薬に含まれる水分が坏
土成形体に少しでも過剰に吸収されると、該坏土成形体
が膨潤して変形してしまうのである。また、坏土成形体
は吸水量も少ないので、多量の泥漿釉を該成形体の上に
掛けても流れ落ちてしまい、釉固形分(グレーズ、graz
e)を必要な量だけ成形体表面状に残留させることがで
きない。この場合釉薬の水分を少なくすれば、厚く釉掛
けしても坏土成形体への吸収水量が少なくなり、成形体
の膨潤はある程度押えられ、また成形体表面上への釉固
形分の残留量も多くなるものの、従来の釉薬において水
分を少なくして高比重としたものは同時に粘性も高くな
り、成形体の表面全体に均一に施釉することが著しく困
難になっていた。
て厚く釉掛けを行なうと、釉薬から大量の水分が坏土成
形体側に浸出する。しかして、釉薬に含まれる水分が坏
土成形体に少しでも過剰に吸収されると、該坏土成形体
が膨潤して変形してしまうのである。また、坏土成形体
は吸水量も少ないので、多量の泥漿釉を該成形体の上に
掛けても流れ落ちてしまい、釉固形分(グレーズ、graz
e)を必要な量だけ成形体表面状に残留させることがで
きない。この場合釉薬の水分を少なくすれば、厚く釉掛
けしても坏土成形体への吸収水量が少なくなり、成形体
の膨潤はある程度押えられ、また成形体表面上への釉固
形分の残留量も多くなるものの、従来の釉薬において水
分を少なくして高比重としたものは同時に粘性も高くな
り、成形体の表面全体に均一に施釉することが著しく困
難になっていた。
なお、二度焼きする場合には、坏土成形体は素焼き品と
された後に釉掛けされているから、従来の泥漿釉を厚く
釉掛けしても該素焼き品には膨潤、変形は生じない。ま
た、泥漿釉中の水分が素早く吸収されるので、釉固形分
を厚く、しかも均一に素焼き品の表面に付着させること
ができる。
された後に釉掛けされているから、従来の泥漿釉を厚く
釉掛けしても該素焼き品には膨潤、変形は生じない。ま
た、泥漿釉中の水分が素早く吸収されるので、釉固形分
を厚く、しかも均一に素焼き品の表面に付着させること
ができる。
[発明が解決しようとする問題点] 叙上の通り、従来の泥漿釉は、これを一度焼き方式にて
内装用タイルを製造する際の釉薬として使用すると、坏
土成形体が膨潤、変形していまい、美麗な内装用タイル
を製造することはできなかった。また、釉薬も成形体か
ら流れ落ちてしまい、均一な施釉層を形成することがで
きなかった。
内装用タイルを製造する際の釉薬として使用すると、坏
土成形体が膨潤、変形していまい、美麗な内装用タイル
を製造することはできなかった。また、釉薬も成形体か
ら流れ落ちてしまい、均一な施釉層を形成することがで
きなかった。
[問題点を解決するための手段] 本発明は、一度焼きにて内装用タイルを製造することを
可能とするタイル用釉薬を提供するものである。
可能とするタイル用釉薬を提供するものである。
本発明のタイル用釉薬は、フリットを含有する泥漿状の
タイル用釉薬において、全体として100重量部の下記
〜を含む成分と、この成分100重量部に対して0
〜15重量部の顔料を含み、比重が1.7〜2.0であ
りかつ25℃における粘度が5〜100cp(センチ・
ポアズ)であることを特徴とする。
タイル用釉薬において、全体として100重量部の下記
〜を含む成分と、この成分100重量部に対して0
〜15重量部の顔料を含み、比重が1.7〜2.0であ
りかつ25℃における粘度が5〜100cp(センチ・
ポアズ)であることを特徴とする。
SiO2 55〜65重量% Al2O3 10〜18重量% CaO 18〜25重量% アルカリ金属の酸化物 0.5〜4重量% ZrO2 0〜10重量% B2O3 0〜2重量% MgO、BaO、SrO及びZnOの1種又は2種以上 合計で0〜10重量% を含むフリット : 50〜80重量部 長石 : 10〜25重量部 粘土 : 0.5〜10重量部 ジルコン : 0〜20重量部 珪砂 : 0〜10重量部 アルミナ : 0〜5重量部 酸化チタン : 0〜10重量部 炭酸バリウム : 0〜10重量部 酸化亜鉛 : 0〜5重量部 [作用] かかる本発明のタイル用釉薬は、比重が1.7〜2.0
と大きく固形分濃度が高いため、厚く釉掛けを行なった
場合でも、坏土成形体への吸収水量が少なく、従って、
坏土成形体が膨潤して変形することがなく、また、成形
体表面上への釉固形分の残留量も多く、一度に多量の釉
掛けをすることが可能である。しかも、本発明のタイル
用釉薬は粘度が5〜100cpと比較的低粘性であるた
め、容易に均一厚に施釉することができる。
と大きく固形分濃度が高いため、厚く釉掛けを行なった
場合でも、坏土成形体への吸収水量が少なく、従って、
坏土成形体が膨潤して変形することがなく、また、成形
体表面上への釉固形分の残留量も多く、一度に多量の釉
掛けをすることが可能である。しかも、本発明のタイル
用釉薬は粘度が5〜100cpと比較的低粘性であるた
め、容易に均一厚に施釉することができる。
以下、本発明の釉薬の特性による作用を、その好ましい
態様と共に詳細に説明する。
態様と共に詳細に説明する。
本発明のタイル用釉薬の比重は1.7〜2.0とする。
釉薬の比重を1.7以上とすると、釉薬の水分が少なく
なり、坏土成形体に過剰の水分が吸収されて、成形体が
膨潤して変形するのが防止される。また、多量の泥漿釉
を成形体上に掛けた場合、成形体表面上に必要量の釉固
形分を残留させることができ、厚掛けが可能とされる。
釉薬の比重が1.7未満では釉薬中の水分が過多とな
り、上記の膨潤、変形が生じ、厚掛けもできない。一
方、釉薬の比重が2.0を越えると、釉薬の水分量が不
足し、坏土成形体の不均一な吸収率を十分に補うことが
できず、平滑に厚掛けすることが困難となる。従って、
本発明のおいては、釉薬の比重は1.7〜2.0とす
る。
釉薬の比重を1.7以上とすると、釉薬の水分が少なく
なり、坏土成形体に過剰の水分が吸収されて、成形体が
膨潤して変形するのが防止される。また、多量の泥漿釉
を成形体上に掛けた場合、成形体表面上に必要量の釉固
形分を残留させることができ、厚掛けが可能とされる。
釉薬の比重が1.7未満では釉薬中の水分が過多とな
り、上記の膨潤、変形が生じ、厚掛けもできない。一
方、釉薬の比重が2.0を越えると、釉薬の水分量が不
足し、坏土成形体の不均一な吸収率を十分に補うことが
できず、平滑に厚掛けすることが困難となる。従って、
本発明のおいては、釉薬の比重は1.7〜2.0とす
る。
また、本発明のタイル用釉薬の粘度は5〜100cpで
ある。粘度が100cpを越えると粘性が高すぎ、均一
かつ平滑な施釉面を得ることができない。一方、粘度が
5cp未満のものは、上述のような好適な高比重範囲を
満足するのが困難である。従って、本発明においては、
釉薬の比重は5〜100cpとする。釉薬の特に好まし
い粘度は10〜40cpである。
ある。粘度が100cpを越えると粘性が高すぎ、均一
かつ平滑な施釉面を得ることができない。一方、粘度が
5cp未満のものは、上述のような好適な高比重範囲を
満足するのが困難である。従って、本発明においては、
釉薬の比重は5〜100cpとする。釉薬の特に好まし
い粘度は10〜40cpである。
このような本発明の釉薬は、適当な組成のフリット、そ
の他長石、粘土、ジルコン(珪酸ジルコニウム)等を前
記配合組成となるように、水、アルコール、その他適宜
の液体に分散させて釉薬を調製する際に、適当な分散剤
を用いて比重、粘度を調整することにより、容易に得る
ことができる。この場合、分散剤としては、カルボン酸
系分散剤、リン酸系分散剤、フミン酸系分散剤等の一般
に釉薬の分散剤として市販されているものを用いること
ができる。市販されている分散剤としては、例えば、特
殊ポリカルボン酸型高分子水溶液(KE−512瓦応化
学工業(株)製)等が挙げられる。
の他長石、粘土、ジルコン(珪酸ジルコニウム)等を前
記配合組成となるように、水、アルコール、その他適宜
の液体に分散させて釉薬を調製する際に、適当な分散剤
を用いて比重、粘度を調整することにより、容易に得る
ことができる。この場合、分散剤としては、カルボン酸
系分散剤、リン酸系分散剤、フミン酸系分散剤等の一般
に釉薬の分散剤として市販されているものを用いること
ができる。市販されている分散剤としては、例えば、特
殊ポリカルボン酸型高分子水溶液(KE−512瓦応化
学工業(株)製)等が挙げられる。
本発明の釉薬を坏土成形体に釉掛けする方法としては幕
掛け法が好適である。この幕掛け法は、坏土成形体を連
続的に搬送するコンべアの該搬送方向と交差する方向に
泥漿釉の水膜(カーテン)を形成し、坏土成形体をこの
水膜の下をくぐらせて該成形体の上面に釉層を厚く形成
するものである。上記水膜を形成するために、コンベア
の搬送面の上側には搬送方向と交差する方向に延在する
スリット状開口を底面に有する流出凾が設置され、泥漿
釉はこの流出凾内において一定レベルとなるように供給
される。
掛け法が好適である。この幕掛け法は、坏土成形体を連
続的に搬送するコンべアの該搬送方向と交差する方向に
泥漿釉の水膜(カーテン)を形成し、坏土成形体をこの
水膜の下をくぐらせて該成形体の上面に釉層を厚く形成
するものである。上記水膜を形成するために、コンベア
の搬送面の上側には搬送方向と交差する方向に延在する
スリット状開口を底面に有する流出凾が設置され、泥漿
釉はこの流出凾内において一定レベルとなるように供給
される。
ところで、従来において内装用タイルを製造するに当
り、二度焼きを行なう理由として、次の理由もある。即
ち、前述の如く、外装用タイルに比べ、内装用タイルは
厚く釉掛けする必要があるのであるが、仮に一度焼きす
るために坏土成形体(圧粉体)に厚く釉掛けすると、焼
成過程において坏土から発生するガスが釉層を通過しに
くくなり、半溶融ないしは溶融状態にある釉層を突き破
り、釉層にクレータ状のガス噴出穴や気泡、ピンホー
ル、亀裂等の泡吹き現象と称される事態が生じてしまう
のである。
り、二度焼きを行なう理由として、次の理由もある。即
ち、前述の如く、外装用タイルに比べ、内装用タイルは
厚く釉掛けする必要があるのであるが、仮に一度焼きす
るために坏土成形体(圧粉体)に厚く釉掛けすると、焼
成過程において坏土から発生するガスが釉層を通過しに
くくなり、半溶融ないしは溶融状態にある釉層を突き破
り、釉層にクレータ状のガス噴出穴や気泡、ピンホー
ル、亀裂等の泡吹き現象と称される事態が生じてしまう
のである。
即ち、坏土成形体(素地)を焼成するプロセスにおいて
は、該坏土中に含まれる炭酸塩系鉱物の熱分解や有機物
質の燃焼に伴ってガスが発生する。このガス発生は、極
めてゆっくりと昇温する場合には700〜800℃程度
で完了するのであるが、ローラーハースキルン等を採用
する高生産効率製造法の下では昇温速度が大であり、上
記ガス発生反応は遅延し、周囲温度が1000℃を超え
る領域にまでずれ込むようになる。殊に、成形体内部に
おいては該成形体表面に比べ昇温が遅れるから周囲温度
が1100℃になってもガス発生反応が継続している場
合すらある。
は、該坏土中に含まれる炭酸塩系鉱物の熱分解や有機物
質の燃焼に伴ってガスが発生する。このガス発生は、極
めてゆっくりと昇温する場合には700〜800℃程度
で完了するのであるが、ローラーハースキルン等を採用
する高生産効率製造法の下では昇温速度が大であり、上
記ガス発生反応は遅延し、周囲温度が1000℃を超え
る領域にまでずれ込むようになる。殊に、成形体内部に
おいては該成形体表面に比べ昇温が遅れるから周囲温度
が1100℃になってもガス発生反応が継続している場
合すらある。
従来のタイル用釉薬においては、1000℃前後程度か
ら急速に軟化を開始し、溶融状態となってタイル素地表
面を覆うようになるのであるが、このように溶けた釉が
表面を覆った後でも前記の如く素地内部からガスが発生
してくることになると前記の泡吹き現象が生じてしまう
のである。
ら急速に軟化を開始し、溶融状態となってタイル素地表
面を覆うようになるのであるが、このように溶けた釉が
表面を覆った後でも前記の如く素地内部からガスが発生
してくることになると前記の泡吹き現象が生じてしまう
のである。
二度焼き方式によれば、素地は素焼品となっており、2
度目の焼成時には素地からのガス発生は無く、厚く釉掛
けしても泡吹き現象が発生せず、光沢に富み奇麗な平坦
施釉面を有する内装用タイルが製造される。
度目の焼成時には素地からのガス発生は無く、厚く釉掛
けしても泡吹き現象が発生せず、光沢に富み奇麗な平坦
施釉面を有する内装用タイルが製造される。
このように、従来の釉薬を用いて内装用タイルを一度焼
き方式にて製造しようとすると、泡吹き現象が生じ、お
よそ製品とするには適わない釉面となってしまう。この
ようなことからも従来では、内装用タイルは二度焼きに
よらざるを得ず、それだけ焼成燃料コストが高く、焼成
の手間等も嵩み、生産性が低いものとなっていた。
き方式にて製造しようとすると、泡吹き現象が生じ、お
よそ製品とするには適わない釉面となってしまう。この
ようなことからも従来では、内装用タイルは二度焼きに
よらざるを得ず、それだけ焼成燃料コストが高く、焼成
の手間等も嵩み、生産性が低いものとなっていた。
このような泡吹き現象を防止して、一度焼きにより良好
な厚掛けを可能とする釉薬として、本発明においては、
全体として100重量部の下記〜を含む成分と、こ
の成分100重量部に対して0〜15重量部の顔料を含
むものを採用する。
な厚掛けを可能とする釉薬として、本発明においては、
全体として100重量部の下記〜を含む成分と、こ
の成分100重量部に対して0〜15重量部の顔料を含
むものを採用する。
SiO2 55〜65重量% Al2O3 10〜18重量% CaO 18〜25重量% アルカリ金属の酸化物 0.5〜4重量% ZrO2 0〜10重量% B2O3 0〜2重量% MgO、Ba0、SrO及びZnOの1種 又は2種以上 合計で0〜10重量% を含むフリット:50〜80重量部 長石:10〜25重量部 粘土:0.5〜10重量部 ジルコン:0〜20重量部 珪砂:0〜10重量部 アルミナ:0〜5重量部 酸化チタン:0〜10重量部 炭酸バリウム:0〜10重量部 酸化亜鉛:0〜5重量部 上記組成のタイル用釉薬に含まれるフリットは、アルカ
リ金属の酸化物及びB2O3成分が微量であり、軟化開
始点よりも高い温度に加熱しても粘性低下が緩慢であ
り、軟化開始温度よりも相当高温にならないと素地表面
を全面的に、所謂べたっと覆うようにはならない。ま
た、フリット以外の成分も同様である。そのため、素地
内部からガスが発生しても、このガスはフリット粒子の
間を通り抜けて外部に容易に抜け出すことができるよう
になり、泡吹き現象が防止される。
リ金属の酸化物及びB2O3成分が微量であり、軟化開
始点よりも高い温度に加熱しても粘性低下が緩慢であ
り、軟化開始温度よりも相当高温にならないと素地表面
を全面的に、所謂べたっと覆うようにはならない。ま
た、フリット以外の成分も同様である。そのため、素地
内部からガスが発生しても、このガスはフリット粒子の
間を通り抜けて外部に容易に抜け出すことができるよう
になり、泡吹き現象が防止される。
以下、上記組成の釉薬の各成分の作用をその好ましい態
様と共に詳細に説明する。
様と共に詳細に説明する。
先ず、フリットの成分について説明する。
のフリットにおいて、SiO2、Al2O3は高軟化
点フリットを構成する主成分であり、アルミノシリケー
ト系ガラスの骨格部分を構成する。
点フリットを構成する主成分であり、アルミノシリケー
ト系ガラスの骨格部分を構成する。
また、CaOとアルカリ金属の酸化物(以下、R2Oと
略)とは、それぞれ上記アルミノシリケートのネットワ
ークを部分的に断ち切り、そのガラス化を促進し、軟化
開始温度を低下させる作用を有する。
略)とは、それぞれ上記アルミノシリケートのネットワ
ークを部分的に断ち切り、そのガラス化を促進し、軟化
開始温度を低下させる作用を有する。
上記のフリットにおいて、その化学組成は、SiO2
が55〜65重量%(以下%と略)、Al2O3が10
〜18%、CaOが18〜25%、R2Oが0.5〜4
%とし、それぞれ上記範囲を逸脱するとフリットの軟化
温度が過度に低くなって泡吹き現象をもたらしたり、逆
に軟化温度が過度に高くなって素地焼成後においても釉
が十分には溶けない事態が生じる。特に好ましい範囲
は、SiO2は57〜62.0%、Al2O3は12〜
16%、CaOは19〜21%、R2Oは1〜3%であ
る。Li2Oはなくてもよいが、二度焼に準ずる釉面の
平滑性を得るためには添加するのが好ましい。このLi
2Oの含有%は0.5〜1.5%の範囲が好ましい。
0.5%未満では平滑性の改善効果が少なく、1.5%
を超えると釉面にピンホールが出易くなる。
が55〜65重量%(以下%と略)、Al2O3が10
〜18%、CaOが18〜25%、R2Oが0.5〜4
%とし、それぞれ上記範囲を逸脱するとフリットの軟化
温度が過度に低くなって泡吹き現象をもたらしたり、逆
に軟化温度が過度に高くなって素地焼成後においても釉
が十分には溶けない事態が生じる。特に好ましい範囲
は、SiO2は57〜62.0%、Al2O3は12〜
16%、CaOは19〜21%、R2Oは1〜3%であ
る。Li2Oはなくてもよいが、二度焼に準ずる釉面の
平滑性を得るためには添加するのが好ましい。このLi
2Oの含有%は0.5〜1.5%の範囲が好ましい。
0.5%未満では平滑性の改善効果が少なく、1.5%
を超えると釉面にピンホールが出易くなる。
のフリットは、B2O3、MgO、ZnO、SrO及
びBaOを含んでも良い。これらの酸化物を必要に応じ
含有させることにより、フリットの軟化点を低下させる
ことができる。これらの酸化物は、過度に多く含有する
とフリットの軟化点が過度に低下し、また軟化開始後急
速にフリットの粘性を低下させるようになるので、B2
O3は2%以下とりわけ1%以下、MgOは5%以下と
りわけ3%以下、ZnOは5%以下とりわけ3%以下、
SrOは5%以下とりわけ3%以下、BaOは5%以下
とりわけ3%以下とするのが好ましい。なお、MgO、
BaO、SrO及びZnOが合量でも10%以下とす
る。
びBaOを含んでも良い。これらの酸化物を必要に応じ
含有させることにより、フリットの軟化点を低下させる
ことができる。これらの酸化物は、過度に多く含有する
とフリットの軟化点が過度に低下し、また軟化開始後急
速にフリットの粘性を低下させるようになるので、B2
O3は2%以下とりわけ1%以下、MgOは5%以下と
りわけ3%以下、ZnOは5%以下とりわけ3%以下、
SrOは5%以下とりわけ3%以下、BaOは5%以下
とりわけ3%以下とするのが好ましい。なお、MgO、
BaO、SrO及びZnOが合量でも10%以下とす
る。
本発明のフリットは、素地の隠蔽力を付与するZrO2
を10%以下含有していても良い。
を10%以下含有していても良い。
上記のフリットは、さらに必要に応じ他のBaO等の
酸化物や塩化物、硫酸塩等の化合物を含んでも良いが、
それらは合量でも3%以下とりわけ1%以下とするのが
好ましい。
酸化物や塩化物、硫酸塩等の化合物を含んでも良いが、
それらは合量でも3%以下とりわけ1%以下とするのが
好ましい。
上記のフリットは常法に従い、通常のフリット用原料
を調合及び溶融後、冷却し、次いで粉砕することにより
製造することができる。
を調合及び溶融後、冷却し、次いで粉砕することにより
製造することができる。
上記の長石及びの粘土は、それぞれ釉薬の融点を上
げる作用を有する。釉薬の好適な融点を得るために、長
石を10〜25重量部、とりわけ12〜18重量部、カ
オリン、蛙目等の粘土を0.5〜10重量部好ましくは
1〜3重量部とする。
げる作用を有する。釉薬の好適な融点を得るために、長
石を10〜25重量部、とりわけ12〜18重量部、カ
オリン、蛙目等の粘土を0.5〜10重量部好ましくは
1〜3重量部とする。
ジルコン(珪酸ジルコニウム)は隠蔽力を付与する成
分であって、その配合量は0〜20重量部、好ましくは
10〜15重量部とする。
分であって、その配合量は0〜20重量部、好ましくは
10〜15重量部とする。
珪砂、アルミナ、酸化チタン、炭酸バリウム、
酸化亜鉛は、釉薬の融点の調節、並びに、ブライトマ
ットの調整を行なう成分であって、それぞれ配合量は、
珪砂0〜10重量部、アルミナ0〜5重量部、酸化チタ
ン0〜10重量部、炭酸バリウム0〜10重量部、酸化
亜鉛0〜5重量部とする。
酸化亜鉛は、釉薬の融点の調節、並びに、ブライトマ
ットの調整を行なう成分であって、それぞれ配合量は、
珪砂0〜10重量部、アルミナ0〜5重量部、酸化チタ
ン0〜10重量部、炭酸バリウム0〜10重量部、酸化
亜鉛0〜5重量部とする。
顔料は、タイルの施釉面の意匠性の向上の目的で、必要
に応じて配合される。顔料としてはタイル用に用いられ
る顔料であればいずれも使用することができ、その配合
量は、上記〜の成分の合計100重量部に対して、
0〜15重量部とする。
に応じて配合される。顔料としてはタイル用に用いられ
る顔料であればいずれも使用することができ、その配合
量は、上記〜の成分の合計100重量部に対して、
0〜15重量部とする。
[実施例] 以下、本発明を実施例及び比較例に基いてさらに詳細に
説明する。
説明する。
なお、以下の実施例及び比較例において、タイル用の坏
土成形体としては次のものを用いた。
土成形体としては次のものを用いた。
即ち、ろう石45重量部、粘土40重量部、石灰石10
重量部及びシャモット5重量部をボールミルで粉砕、混
合し、水分を加え、350kg/cm2で成形し、これを嵌
装したものである。この成形体(素地)の大きさは10
cm×10cm×0.5cmである。
重量部及びシャモット5重量部をボールミルで粉砕、混
合し、水分を加え、350kg/cm2で成形し、これを嵌
装したものである。この成形体(素地)の大きさは10
cm×10cm×0.5cmである。
また、この成形体を焼成するには全長25mのローラー
ハースキルンを用い、走行速度1.0m/分、焼成帯最
高温度1190℃とした。
ハースキルンを用い、走行速度1.0m/分、焼成帯最
高温度1190℃とした。
実施例1〜8、比較例1〜4 原料として長石、珪石、石灰石を採用し、これらを乾
燥、粉砕、篩分けした後調合し、るつぼ中で1400℃
にて1時間溶融した後急冷し、第1表に示す化学組成の
フリットNo.1〜3を調製した。
燥、粉砕、篩分けした後調合し、るつぼ中で1400℃
にて1時間溶融した後急冷し、第1表に示す化学組成の
フリットNo.1〜3を調製した。
このフリットを用いて、長石、粘土、ジルコン等と共に
第2表に示す配合でボールミルにて混合し、これに水及
びカルボン酸系分散剤を第2表に示す量加え、更にボー
ルミル中で混合し、第2表に示す比重及び粘度の泥漿釉
とした。この泥漿釉を幕掛け法により前記成形体表面
に、乾燥後の厚さが0.6mm程度となるように塗付し、
乾燥後焼成した。
第2表に示す配合でボールミルにて混合し、これに水及
びカルボン酸系分散剤を第2表に示す量加え、更にボー
ルミル中で混合し、第2表に示す比重及び粘度の泥漿釉
とした。この泥漿釉を幕掛け法により前記成形体表面
に、乾燥後の厚さが0.6mm程度となるように塗付し、
乾燥後焼成した。
焼成後、タイルを観察したところ、実施例1〜8のもの
はいずれも釉面は泡吹きも全くなく、平坦で光沢を帯
び、厚い釉薬層を有する高級感に富む内装用タイルであ
ることが認められた。
はいずれも釉面は泡吹きも全くなく、平坦で光沢を帯
び、厚い釉薬層を有する高級感に富む内装用タイルであ
ることが認められた。
一方、比較例1〜4のうち、比較例1〜3のものは焼成
中に泡が吹き、比較例4のものは光沢が不足し、いずれ
も一度焼きでは実使用に耐えないことが確認された。
中に泡が吹き、比較例4のものは光沢が不足し、いずれ
も一度焼きでは実使用に耐えないことが確認された。
[効果] 以上の実施例及び比較例からも明らかな通り、本発明の
タイル用釉薬を用いることにより美麗な厚掛けした釉薬
層を有するタイルが一度焼きにして製造される。従っ
て、本発明のタイル用釉薬を採用することにより内装用
タイルの製造コストが大幅に低減される。
タイル用釉薬を用いることにより美麗な厚掛けした釉薬
層を有するタイルが一度焼きにして製造される。従っ
て、本発明のタイル用釉薬を採用することにより内装用
タイルの製造コストが大幅に低減される。
Claims (1)
- 【請求項1】フリットを含有する泥漿状のタイル用釉薬
において、全体として100重量部の下記〜を含む
成分と、この成分100重量部に対して0〜15重量部
の顔料を含み、比重が1.7〜2.0でありかつ25℃
における粘度が5〜100cpであることを特徴とする
タイル用釉薬。 SiO2 55〜65重量% Al2O3 10〜18重量% CaO 18〜25重量% アルカリ金属の酸化物 0.5〜4重量% ZrO2 0〜10重量% B2O3 0〜2重量% MgO、BaO、SrO及びZnOの1種又は2種以上 合計で0〜10重量% を含むフリット : 50〜80重量部 長石 : 10〜25重量部 粘土 : 0.5〜10重量部 ジルコン : 0〜20重量部 珪砂 : 0〜10重量部 アルミナ : 0〜5重量部 酸化チタン : 0〜10重量部 炭酸バリウム : 0〜10重量部 酸化亜鉛 : 0〜5重量部
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63166493A JPH0667773B2 (ja) | 1987-08-10 | 1988-07-04 | タイル用釉薬 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19951087 | 1987-08-10 | ||
| JP62-199510 | 1987-08-10 | ||
| JP63166493A JPH0667773B2 (ja) | 1987-08-10 | 1988-07-04 | タイル用釉薬 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01133960A JPH01133960A (ja) | 1989-05-26 |
| JPH0667773B2 true JPH0667773B2 (ja) | 1994-08-31 |
Family
ID=26490847
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63166493A Expired - Lifetime JPH0667773B2 (ja) | 1987-08-10 | 1988-07-04 | タイル用釉薬 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0667773B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2774860B2 (ja) * | 1990-07-09 | 1998-07-09 | 日本碍子株式会社 | 石模様ほうろう製品の製造方法 |
| JPH04349144A (ja) * | 1991-05-24 | 1992-12-03 | Inax Corp | 超光沢釉 |
| CN111333433B (zh) * | 2020-05-19 | 2020-09-18 | 蒙娜丽莎集团股份有限公司 | 一种高耐磨远红外陶瓷抛釉砖及其制备方法 |
| CN111470884B (zh) * | 2020-06-24 | 2020-12-11 | 蒙娜丽莎集团股份有限公司 | 一种高硬度高耐磨全抛釉陶瓷砖及其制备方法 |
| CN112624744B (zh) * | 2020-12-02 | 2023-03-31 | 广西欧神诺陶瓷有限公司 | 一种具有高底面粘结强度的瓷砖及其制备方法和应用 |
| CN114956564B (zh) * | 2022-07-07 | 2024-07-19 | 深圳市国瓷永丰源瓷业有限公司 | 釉浆、施釉陶瓷及其制备方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5445318A (en) * | 1977-09-19 | 1979-04-10 | Teruko Tsuji | Method of making decorative porcelain |
-
1988
- 1988-07-04 JP JP63166493A patent/JPH0667773B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01133960A (ja) | 1989-05-26 |
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