JPH0669018B2 - パタ−ン露光装置 - Google Patents
パタ−ン露光装置Info
- Publication number
- JPH0669018B2 JPH0669018B2 JP60285071A JP28507185A JPH0669018B2 JP H0669018 B2 JPH0669018 B2 JP H0669018B2 JP 60285071 A JP60285071 A JP 60285071A JP 28507185 A JP28507185 A JP 28507185A JP H0669018 B2 JPH0669018 B2 JP H0669018B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- holder
- sample
- vacuum
- stage
- chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/7075—Handling workpieces outside exposure position, e.g. SMIF box
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はパターン露光装置に関し、特に試料を設置する
真空試料室を備えたパターン露光装置における、真空試
料室への試料本体の固定機構に関する。
真空試料室を備えたパターン露光装置における、真空試
料室への試料本体の固定機構に関する。
従来、半導体集積回路等のパターンを石英ガラス基板や
シリコンウェハー等の試料上に描画する為の電子ビーム
露光装置やイオンビーム露光装置において、試料を高真
空に保たれた試料室に設置する際は、第３図に示す如き
試料ホルダーを用いていた。
シリコンウェハー等の試料上に描画する為の電子ビーム
露光装置やイオンビーム露光装置において、試料を高真
空に保たれた試料室に設置する際は、第３図に示す如き
試料ホルダーを用いていた。
第３図(a)(b)は従来例でありICホトマスク用ガラス基板
のホルダーとそのBB断面図である。ホルダー21に挿入さ
れたガラス基板１は押えバネ10により水平方向の押さ
れ、基板上端がホルダーに接し水平方向の位置決めが行
なわれる。又、鉛直方向には持上げバネ23によりガラス
基板１をタブ８に押当て位置決めを行なっている。
のホルダーとそのBB断面図である。ホルダー21に挿入さ
れたガラス基板１は押えバネ10により水平方向の押さ
れ、基板上端がホルダーに接し水平方向の位置決めが行
なわれる。又、鉛直方向には持上げバネ23によりガラス
基板１をタブ８に押当て位置決めを行なっている。
基板上に半導体IC等のパターンを描画する際は前述のガ
ラス基板１を挿入したホルダー21を、まず大気圧の試料
交換室に設置する。次に試料交換室を試料室と同じ真空
度に減圧する。その後、ホルダーごと試料室のステージ
に乗せ固定し、パターン描画を行なう。ガラス基板上の
パターン描画の位置精度はサブミクロンのオーダーで行
なう必要がある。
ラス基板１を挿入したホルダー21を、まず大気圧の試料
交換室に設置する。次に試料交換室を試料室と同じ真空
度に減圧する。その後、ホルダーごと試料室のステージ
に乗せ固定し、パターン描画を行なう。ガラス基板上の
パターン描画の位置精度はサブミクロンのオーダーで行
なう必要がある。
しかし、従来装置における試料室でのガラス基板固定方
法によると、次の如き不都合がある。すなわち、ホルダ
ーを設置した試料交換室を大気圧から高真空に減圧する
と、断熱膨張によりホルダー、ガラス基板の温度降下が
起こる。この状態でホルダーを試料室中のステージ上に
設置すると時間経過と共にホルダーとガラス基板の温度
が徐々に上昇することになる。この温度上昇は、低膨張
係数の石英材質のガラス基板に対してはほとんど影響を
与えない。しかし、金属材質から成るホルダーは熱膨張
により位置ずれを起こし、ホルダーに固定されたガラス
基板も位置ずれを起こしてしまう。パターン描画時は、
ステージ上の基準点を基点座標として相対的な位置関係
に従ってガラス基板上に描画を行なう。従って、描画中
に前述の相対位置関係が崩れると、描画したパターンの
位置精度が低下する。
法によると、次の如き不都合がある。すなわち、ホルダ
ーを設置した試料交換室を大気圧から高真空に減圧する
と、断熱膨張によりホルダー、ガラス基板の温度降下が
起こる。この状態でホルダーを試料室中のステージ上に
設置すると時間経過と共にホルダーとガラス基板の温度
が徐々に上昇することになる。この温度上昇は、低膨張
係数の石英材質のガラス基板に対してはほとんど影響を
与えない。しかし、金属材質から成るホルダーは熱膨張
により位置ずれを起こし、ホルダーに固定されたガラス
基板も位置ずれを起こしてしまう。パターン描画時は、
ステージ上の基準点を基点座標として相対的な位置関係
に従ってガラス基板上に描画を行なう。従って、描画中
に前述の相対位置関係が崩れると、描画したパターンの
位置精度が低下する。
上記問題を解決する為には、試料交換室とホルダー、試
料室、ステージ等の温度制御を高い精度で行なえば良い
が、断熱膨張を考慮した温度制御を精度よく行なうこと
は難しい。その他にはホルダーの温度変化がなくなる
迄、ホルダーをステージ上に放置する方法があるが装置
の生産性の面から極めて不利である。
料室、ステージ等の温度制御を高い精度で行なえば良い
が、断熱膨張を考慮した温度制御を精度よく行なうこと
は難しい。その他にはホルダーの温度変化がなくなる
迄、ホルダーをステージ上に放置する方法があるが装置
の生産性の面から極めて不利である。
本発明はホルダーの熱膨張によるガラス基板の位置ずれ
をなくすパターン露光装置を提供するものである。
をなくすパターン露光装置を提供するものである。
前記目的を達成するため、本発明に係るパターン露光装
置は、ステージ一体型ホルダーと、搬送ホルダーとを有
するパターン露光装置であって、 ステージ一体型ホルダーは、真空試料室内に固定して設
置され、搬送ホルダーにより送込まれた試料の対向する
縁部を挟持し該試料を前記真空試料室内の真空雰囲気中
に保持するものであり、 搬送ホルダーは、前記真空試料室内に送込むべき試料の
対向する縁部を摺動可能に挟持し、前記真空試料室の真
空度と同圧に減圧した交換室と前記真空試料室内のステ
ージ一体型ホルダーとの間を往復動し、前記試料をロッ
ドで押出して前記ステージ一体型ホルダーに移し替える
ものである。
置は、ステージ一体型ホルダーと、搬送ホルダーとを有
するパターン露光装置であって、 ステージ一体型ホルダーは、真空試料室内に固定して設
置され、搬送ホルダーにより送込まれた試料の対向する
縁部を挟持し該試料を前記真空試料室内の真空雰囲気中
に保持するものであり、 搬送ホルダーは、前記真空試料室内に送込むべき試料の
対向する縁部を摺動可能に挟持し、前記真空試料室の真
空度と同圧に減圧した交換室と前記真空試料室内のステ
ージ一体型ホルダーとの間を往復動し、前記試料をロッ
ドで押出して前記ステージ一体型ホルダーに移し替える
ものである。
次に本発明の一実施例について図面を参照して説明す
る。
る。
第２図(a),(b)は本発明において、交換室から試料室へ
試料を搬送する搬送ホルダー３を示すもので、図におい
て、ガラス基板１はホルダーフック２側から搬送ホルダ
ー３に挿入される。搬送ホルダー３に挿入されたガラス
基板１は樹脂性の押え板4,4′により上下から押えられ
る。下方の押え板４′はバネ５によりガラス基板１が搬
送中に移動しない程度の力で押し上げられている。
試料を搬送する搬送ホルダー３を示すもので、図におい
て、ガラス基板１はホルダーフック２側から搬送ホルダ
ー３に挿入される。搬送ホルダー３に挿入されたガラス
基板１は樹脂性の押え板4,4′により上下から押えられ
る。下方の押え板４′はバネ５によりガラス基板１が搬
送中に移動しない程度の力で押し上げられている。
ガラス基板１は搬送ホルダー３に設置された状態で大気
圧の交換室へ置かれ、交換室の圧力を真空試料室の真空
度と同圧に減圧した後、試料室に搬送される。通常生産
性を上げる為、交換室には複数の試料が置かれ、搬送過
程ではエレベータによる上下移動、交換室から試料室へ
の水平移動があるが、搬送ホルダーに保護され、試料そ
のものへの損傷は発生しない。
圧の交換室へ置かれ、交換室の圧力を真空試料室の真空
度と同圧に減圧した後、試料室に搬送される。通常生産
性を上げる為、交換室には複数の試料が置かれ、搬送過
程ではエレベータによる上下移動、交換室から試料室へ
の水平移動があるが、搬送ホルダーに保護され、試料そ
のものへの損傷は発生しない。
第１図は本実施例におけるステージ一体型ホルダーへの
試料の設置機構を示す。第１図において、搬送ホルダー
３は搬送ホルダー挿入ロッド６により交換室から試料室
のローディングポジションまで移動される。ローディン
グポジションにおいて試料挿入ロッド７が押え板4,4′
により半固定にされているガラス基板１をステージ一体
型ホルダー11に挿入する。ガラス基板１のステージ一体
型ホルダー11への挿入が完了すると、搬送ホルダー３は
ホルダーフック２をロッド６の先端で保持することによ
り交換室に引き戻される。その後、ガラス基板１はステ
ージ一体型ホルダー11のタブ８と試料持上げピン９によ
り鉛直方向の押えバネ10により水平方向の位置決め及び
固定が行なわれる。
試料の設置機構を示す。第１図において、搬送ホルダー
３は搬送ホルダー挿入ロッド６により交換室から試料室
のローディングポジションまで移動される。ローディン
グポジションにおいて試料挿入ロッド７が押え板4,4′
により半固定にされているガラス基板１をステージ一体
型ホルダー11に挿入する。ガラス基板１のステージ一体
型ホルダー11への挿入が完了すると、搬送ホルダー３は
ホルダーフック２をロッド６の先端で保持することによ
り交換室に引き戻される。その後、ガラス基板１はステ
ージ一体型ホルダー11のタブ８と試料持上げピン９によ
り鉛直方向の押えバネ10により水平方向の位置決め及び
固定が行なわれる。
電子ビーム、或はイオンビームでパターンの描画を行な
う際は、ステージ一体型ホルダー上の基準点12を基準座
標として行なわれる。したがって、交換室の断熱膨張が
及ぼすパターン描画位置精度への影響は無視することが
できる。
う際は、ステージ一体型ホルダー上の基準点12を基準座
標として行なわれる。したがって、交換室の断熱膨張が
及ぼすパターン描画位置精度への影響は無視することが
できる。
以上説明したように本発明のパターン露光装置は試料を
交換室から真空試料室へ搬送するホルダーと試料室のス
テージ上で試料の固定を行なうホルダーとをそれぞれ独
立に有し、試料を試料室に設置する際、予め真空試料室
に備えられたホルダーに依り試料本体を固定するように
したので、ホルダーの熱膨張によるガラス基板の位置ず
れを防止することができ、容易にパターン描画位置精度
を向上させることができる効果を有するものである。
交換室から真空試料室へ搬送するホルダーと試料室のス
テージ上で試料の固定を行なうホルダーとをそれぞれ独
立に有し、試料を試料室に設置する際、予め真空試料室
に備えられたホルダーに依り試料本体を固定するように
したので、ホルダーの熱膨張によるガラス基板の位置ず
れを防止することができ、容易にパターン描画位置精度
を向上させることができる効果を有するものである。
第１図は本発明の一実施例を示す機構図、第２図(a)は
本発明の搬送用ホルダーの平面図、第２図(b)はA-A線断
面図、第３図(a)は従来の試料ホルダーの平面図、第３
図(b)はB-B線断面図である。 １……ガラス基板、２……ホルダーフック、３……試料
搬送ホルダー、4,4′……押え板、５……バネ、６……
搬送ホルダー挿入ロッド、７……試料挿入ロッド、８…
…タブ、９……試料持上げピン、10……押えバネ、11…
…ステージ一体型ホルダー、12……基準点、21……試料
ホルダー、23……持上げバネ。
本発明の搬送用ホルダーの平面図、第２図(b)はA-A線断
面図、第３図(a)は従来の試料ホルダーの平面図、第３
図(b)はB-B線断面図である。 １……ガラス基板、２……ホルダーフック、３……試料
搬送ホルダー、4,4′……押え板、５……バネ、６……
搬送ホルダー挿入ロッド、７……試料挿入ロッド、８…
…タブ、９……試料持上げピン、10……押えバネ、11…
…ステージ一体型ホルダー、12……基準点、21……試料
ホルダー、23……持上げバネ。
Claims (1)
- 【請求項１】ステージ一体型ホルダーと、搬送ホルダー
とを有するパターン露光装置であって、 ステージ一体型ホルダーは、真空試料室内に固定して設
置され、搬送ホルダーにより送込まれた試料の対向する
縁部を挟持し該試料を前記真空試料室内の真空雰囲気中
に保持するものであり、 搬送ホルダーは、前記真空試料室内に送込むべき試料の
対向する縁部を摺動可能に挟持し、前記真空試料室の真
空度と同圧に減圧した交換室と前記真空試料室内のステ
ージ一体型ホルダーとの間を往復動し、前記試料をロッ
ドで押出して前記ステージ一体型ホルダーに移し替える
ものであることを特徴とするパターン露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60285071A JPH0669018B2 (ja) | 1985-12-18 | 1985-12-18 | パタ−ン露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60285071A JPH0669018B2 (ja) | 1985-12-18 | 1985-12-18 | パタ−ン露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62144324A JPS62144324A (ja) | 1987-06-27 |
| JPH0669018B2 true JPH0669018B2 (ja) | 1994-08-31 |
Family
ID=17686770
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60285071A Expired - Fee Related JPH0669018B2 (ja) | 1985-12-18 | 1985-12-18 | パタ−ン露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0669018B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07177642A (ja) * | 1993-12-22 | 1995-07-14 | Nippon Plast Co Ltd | ケーブル用リール装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20110244396A1 (en) * | 2010-04-01 | 2011-10-06 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exchange method of object, exposure method, and device manufacturing method |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59111327A (ja) * | 1982-12-17 | 1984-06-27 | Hitachi Ltd | 試料交換装置 |
-
1985
- 1985-12-18 JP JP60285071A patent/JPH0669018B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07177642A (ja) * | 1993-12-22 | 1995-07-14 | Nippon Plast Co Ltd | ケーブル用リール装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62144324A (ja) | 1987-06-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5692873A (en) | Apparatus for holding a piece of semiconductor | |
| JP3828808B2 (ja) | 部品実装装置および部品実装方法 | |
| JPH08306765A (ja) | ハンドラ装置用トレイ装着台 | |
| JPH05190414A (ja) | 基板吸着装置 | |
| CN101090994B (zh) | 掩模保持机构以及成膜装置 | |
| JPH0669018B2 (ja) | パタ−ン露光装置 | |
| JPH11233400A (ja) | 露光装置、ウエハチャックのクリーニング方法、クリーニング用砥石およびデバイス製造方法 | |
| JPH06510639A (ja) | ボンディングによって結合される基板をスタックする方法及び装置 | |
| JPH09148417A (ja) | 基板熱処理装置 | |
| JPH0375318B2 (ja) | ||
| JP4084393B2 (ja) | 部品実装装置および部品実装方法 | |
| JPS6139734B2 (ja) | ||
| JP3708984B2 (ja) | 被処理材の固定装置 | |
| JPS60167245A (ja) | 試料保持装置 | |
| JP2008251944A (ja) | 露光装置 | |
| JPH053241A (ja) | 板状体搬送装置 | |
| KR100641497B1 (ko) | 고정돌기를 구비한 운반 로봇의 이송 아암 | |
| JP2856001B2 (ja) | 基板搬送方法 | |
| JPH0617299Y2 (ja) | 半導体製造装置用ステージへの被処理材固定装置 | |
| JPH0648853Y2 (ja) | 半導体製造装置用ステージへの被処理材固定装置 | |
| JPH07130824A (ja) | 基板処理装置 | |
| JPH09129700A (ja) | 基板の保持方法及びそれを用いた搬送装置 | |
| JPH041016Y2 (ja) | ||
| JPH0737318Y2 (ja) | 枚葉ウエハ処理装置用ウエハ保持機構 | |
| JPH0526753Y2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |