JPH09129700A - 基板の保持方法及びそれを用いた搬送装置 - Google Patents

基板の保持方法及びそれを用いた搬送装置

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JPH09129700A
JPH09129700A JP7282986A JP28298695A JPH09129700A JP H09129700 A JPH09129700 A JP H09129700A JP 7282986 A JP7282986 A JP 7282986A JP 28298695 A JP28298695 A JP 28298695A JP H09129700 A JPH09129700 A JP H09129700A
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JP
Japan
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substrate
holding
carrier
unit
holding unit
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Pending
Application number
JP7282986A
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English (en)
Inventor
Yuuki Yoshikawa
勇希 吉川
Toshiya Ota
稔也 太田
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Publication date
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 キャリア内での基板間隔を小さくしても、他
の基板と干渉することなく基板を取り出せる基板の保持
方法、及びその方法を用いた搬送装置を提案すること。 【解決手段】 基板を保持する工程に、該基板に外力を
加えると共にその外力の大きさを調節する工程を付加し
た。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば液晶表示デ
バイス用基板の製造における基板搬送に用いられる、基
板の保持方法、及びその方法を用いた搬送装置に関す
る。特に、大寸法の基板に好適に用いられる。
【0002】
【従来の技術】最近、液晶表示デバイスが多く用いられ
るようになり、且つその寸法は大寸法化している。それ
に伴って、製造工程において、液晶表示デバイス用基板
自身の自重による変形が問題になってきた。即ち、基板
の自重変形のためにキャリア内の基板収納数が制限され
ること、収納スペースに自重変形量を考慮すると装置が
大型化すること、液晶パターンを転写する時のレチクル
及び感光基板の撓みに起因して分解能が低下することな
どである。本発明で言う基板とは、前記レチクル及び感
光基板を含むものであり、半導体製造用のレチクル及び
ウェハーをも含む。
【0003】従来技術を図6〜図8により説明する。図
6は従来の方法による装置の概念図である。同図におい
て、1はキャリア、2はキャリア1内に格納された基
板、3は前記キャリア1を載置し駆動機構4・5により
上下方向(図のZ方向)に移動可能なキャリアエレベー
タである。アーム6が案内機構7及び駆動機構8・9に
よって左右方向(図のX方向)に移動可能である。キャ
リア1はアーム6側に開口を有する。アーム6を左に移
動するとアーム6はキャリア1の内部に進入する。アー
ム6を右に移動するとアーム6はキャリア1から離脱す
る。アーム6の左右移動とキャリアエレベータ3の上下
移動とにより、基板2をキャリア1から取り出し、図示
しない装置、例えば露光装置に供給する。
【0004】図7(a)は図6の要部のA矢視図であ
る。キャリア1の左右の内面には突起部1a、1bが等
間隔で多数設けられている。基板2が、その両端部を突
起部1a、1bに支持され、収納されている。基板2
は、その自重によって中凹に変形している。キャリア1
には多数枚の基板が収納されているが、収納された全て
の基板が同様に変形しているので、各基板の間隔は何処
でも(基板の端部でも、中央部でも)ほぼ等間隔であ
る。
【0005】アーム6は図8のように先端が別れ、左右
2本の試料保持部6a、6bを有する。前記保持部6
a、6bはそれぞれ真空吸着部6c、6dを有する。真
空吸着部6c、6dは真空源(不図示)に弁(不図示)
を介して接続されており、前記弁を開くことによって真
空吸着部6c、6dの上に載置された基板2を吸着し保
持する。
【0006】基板をキャリアから取り出す、従来の方法
による手順は以下の通りである。 キャリアエレベータ3を移動し、アーム6の保持部6
a、6bをキャリア1から取り出す基板2aとその下の
基板2bの間に差し込めるようにキャリアエレベータ1
の高さを調整する。 アーム6を前進させ、保持部6a、6bを基板2aと
2bの間に差し込む。(図7(a)) キャリアエレベータ1を基板2aが試料保持部の真空
吸着部6c、6dに接する迄下げると共に、前記弁を開
いて基板2aを真空吸着部6c、6dに吸着する。
【0007】アーム6を後退させる。基板2aをキャ
リア1に収納する場合は、上記手順を逆にたどる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】前記の方法において
は、手順において基板2aがキャリアの突起部1a、
1bから離れた時点で、基板2aを支持する点がキャリ
アの突起部1a、1b、即ち基板2aの両端からアーム
の真空吸着部6c、6dに変化する。その結果、基板2
aの支持点がより内側になるので、基板2aの自重によ
る変形状態が図7(b)のように、最大変形量が減少す
るように変化し、直上の基板2cとの間隔が狭くなる。
この時点では、基板2aの両端とキャリアの突起部1
a、1bの間隔は極小であり、基板2aを安全にキャリ
ア1から引き出すことはできない。
【0009】そこで、キャリアエレベータ3を更に下
げ、基板2aとキャリアの突起部1a、1bとの間隔を
適当量とする。この時、キャリアエレベータ3を下げ過
ぎると基板2aが直上の基板2cに接触してしまう。基
板2aの支持点が真空吸着部6c、6dに移行してから
キャリアエレベータ3を下げることができる量は、基板
2aの支持が基板支持部3a、3bに移行した時点での
直上の基板2cとの最小間隔である。これは収納状態
(図7(a))での基板間隔から支持点の移行による基
板の変形変化量を減じたものである。
【0010】従って、キャリア1からアーム6への受け
渡しによって支持点間隔が変化する従来の方法では、基
板2aを他の基板と干渉することなく取り出すために、
キャリア1内での基板間隔を基板の変形量の変化を考慮
して大きくせざるを得ない。その結果、キャリア1に収
納可能な基板枚数が制限され、製造装置の連続自動運転
可能枚数が制限され、生産性が阻害されるという欠点が
あった。
【0011】本発明の課題は、キャリア内での基板間隔
を小さくしても、他の基板と干渉することなく基板を取
り出せる基板の保持方法、及びその方法を用いた搬送装
置を提案することである。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の第1は、複数枚の基板を所定の間隔で収納
するキャリアとの間で基板を収受する、基板の搬送装置
において、以下の工程を含む方法で基板を保持する(請
求項1)。
【0013】前後移動によって前記キャリアに挿脱自
在な保持部に基板を保持する、保持工程。 前記基板の、前記保持工程で保持された部分以外の位
置に外力を加え、前記基板を前記キャリア内に収納され
て自重変形した形状、又は変形が少ない形状にする、変
形工程。
【0014】そして、第2に、数枚の基板を所定の間隔
で収納するキャリアとの間で基板を収受する基板の搬送
装置において、以下の工程を含む方法で基板を保持する
(請求項2)。 前後移動によって前記キャリアに挿脱自在な、先端が
2本に分岐した保持部の、それぞれの分岐に少なくとも
1個設けられた真空吸着部に基板を吸着して保持する、
保持工程。
【0015】前記基板の、前記保持工程で保持された
部分の中央に、前記保持部に対して、前記基板の垂直方
向に移動可能な第2基板保持部の真空吸着部に前記基板
を吸着し、前記第2基板保持部を前記基板の垂直方向に
移動させて、前記基板を前記キャリア内に収納されて自
重変形した形状、又は変形が少ない形状にする、変形工
程。
【0016】そして、第3に、基板を保持する第1基板
保持部、該第1基板保持部に対して、前記基板の垂直方
向に移動可能に設けられた第2基板保持部、及び該第2
基板保持部を駆動する駆動部を備え、前記第2基板保持
部の動きによって前記基板の形状を前記キャリア内に収
納されて自重変形した形状、又は変形が少ない形状にす
る基板搬送装置とした(請求項3)。
【0017】
【発明の実施の形態】本発明の方法は、従来装置の基板
保持部6を改良した装置で用いられる。それ以外の部分
は従来装置と同様であるので説明を省略する。図1〜図
3は、本発明の方法の実施形態を説明する概念図であ
る。図4、図5はそれぞれ同実施形態のアームの平面図
及び縦断面図である。図4、図5に示すように、アーム
60は先端が分岐し、それぞれ真空強着部60d、60
eを有する第1試料保持部60a、60bを形成する。
第2試料保持部60cが第1保持部60a、60bの中
央に、第1保持部60a、60b対して、案内部61に
沿って上下方向に移動可能に設けられ、駆動部62によ
って駆動される。第2保持部60cも真空吸着部60f
を備えている。真空吸着部60dc〜6fは真空源(不
図示)に弁(不図示)を介して接続されており、前記弁
を開くことによって真空吸着部60d〜6fに載置され
た基板20を吸着し保持する。かかる装置を用いて基板
20aをキャリア10から取り出す、本発明の方法によ
る手順は以下の通りである(図1〜図3参照)。
【0018】駆動部62のモーター63を所定の方向
に回転(正転)させ、第2基板保持部60cの真空吸着
部60f上面を少なくとも基板の自重による変形量だけ
第1基板保持部の真空吸着部60d、60eの上面より
も下に下げる。 キャリアエレベータ30を移動し、第1保持部60
a、60b及び第2保持部60c(以下保持部60a〜
60cと言う)をキャリア10から取り出す基板20a
とその下の基板20bの間に差し込めるようにキャリア
エレベータ30の高さを調整する。
【0019】アーム60を前進させ、保持部60a〜
60cを基板20aと20bの間に差し込む(図1)。 キャリアエレベータ30を、基板20aの下面が第1
保持部の真空吸着部60d、60eに接する迄下げると
共に、真空吸着部60d、60eに接続された前記弁を
開いて基板20aを真空吸着部60d、60eに吸着す
る(図2)(保持工程)。
【0020】キャリアエレベータ30を更に下げ、基
板20aをキャリアの突起部10a、10bから離脱さ
せる。 モーター63を逆転させて第2保持部60cを上昇さ
せ、その真空吸着部60fが基板20aの下面に接する
ようにした後、真空吸着部60fに接続された前記弁を
開いて基板20aを真空吸着する。
【0021】モーター63を正転させて第2保持部6
0cを所定量下に下げ、基板20aの形状がキャリア1
0に収納されている時の形状に近くなるようにする(図
3)(変形工程)。 アーム60を後退させる。基板20aをキャリア10
に収納する場合は、上記手順を逆にたどる。
【0022】上記手順ので、第2保持部60cを所定
量下に下げることは基板20に外力を加えることであ
る。又、ここで言う所定量は、基板20aがキャリア1
0に収納されている時の変形量と、第1保持部の真空吸
着部60d、60eに保持されている時の変形量の差に
ほぼ等しく、実測しても良いが、理論計算で求めること
ができる。
【0023】又、手順において、第1保持部60a、
60bに対する第2保持部60cの高さを適当に調整す
ることによって、基板の形状を変えることができ、例え
ば最大撓み量が最小になるようにすることができる。こ
れは、図9のように収納スペース96に余裕が無い場合
や、基板の平面度を高く保ったまま、基板を収受したい
場合に有効である。図9の収納ケース90の基板支持部
95a、95bは、支持された基板2の撓みが最小とな
る位置に配置されている。
【0024】本発明の方法及び搬送装置は、前記基板に
限らず薄板形状の試料の搬送に適用し得る。
【0025】
【発明の効果】基板をアームで保持したときの変形状態
を任意に変えることができる。その結果、基板の間隔が
最小の状態で基板をキャリアから取り出すことができ
る。そして、キャリアに収納できる基板の枚数を増やす
ことができるので、製造装置の連続運転時間が長くな
り、生産性が向上する。また、基板を平面度良く保ちな
がら他の機器と収受する事ができるので、転写された像
の品質が良くなる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の方法の実施形態を説明する概念図であ
り、基板がキャリアに収納されている状態を示す図。
【図2】図1において、基板の支持が第1保持部に移行
した時点の状態を示す図。
【図3】図1において、第2保持部で外力を加え基板の
変形状態を調整した状態を示す図。
【図4】図1のアームの平面図。
【図5】図4の縦断面図。
【図6】従来の方法の実施形態の概念図。
【図7】図6の要部を示すA矢視図。
【図8】保持部の平面図
【図9】他の収納ケースの断面図。
【符号の説明】
1、10……キャリア 1a、1b、10a、10b……突起部 2、20……基板 2a、20a……取り出す基板 2b、20b……その下の基板 2c……直上の基板 3、30……キャリアエレベータ 6、60……アーム 6a、6b……基板保持部 60a、60b……第1基板保持部 60c……第2基板保持部 6c、6d、60d、60e、60f……真空吸着部 62……駆動部 90……別の収納ケース 95a、95b……基板支持部 96……スペース

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】複数枚の基板を所定の間隔で収納するキャ
    リアとの間で基板を収受する、基板の搬送装置におい
    て、 以下の工程を含むことを特徴とする、基板の保持方法。 前後移動によって前記キャリアに挿脱自在な保持部に
    基板を保持する、保持工程。 前記基板の、前記保持工程で保持された部分以外の位
    置に外力を加え、前記基板を前記キャリア内に収納され
    て自重変形した形状、又は変形が少ない形状にする、変
    形工程。
  2. 【請求項2】複数枚の基板を所定の間隔で収納するキャ
    リアとの間で基板を収受する基板の搬送装置において、 以下の工程を含むことを特徴とする、基板の保持方法。 前後移動によって前記キャリアに挿脱自在な、先端が
    2本に分岐した保持部の、それぞれの分岐に少なくとも
    1個設けられた真空吸着部に基板を吸着して保持する、
    保持工程。 前記基板の、前記保持工程で保持された部分の中央
    に、前記保持部に対して、前記基板の垂直方向に移動可
    能な第2基板保持部の真空吸着部に前記基板を吸着し、
    前記第2基板保持部を前記基板の垂直方向に移動させ
    て、前記基板を前記キャリア内に収納されて自重変形し
    た形状、又は変形が少ない形状にする、変形工程。
  3. 【請求項3】 基板を保持する第1基板保持部、該第1
    基板保持部に対して、前記基板の垂直方向に移動可能に
    設けられた第2基板保持部、及び該第2基板保持部を駆
    動する駆動部を備え、前記第2基板保持部の動きによっ
    て前記基板の形状を前記キャリア内に収納されて自重変
    形した形状、又は変形が少ない形状にすることを特徴と
    する基板搬送装置。
JP7282986A 1995-10-31 1995-10-31 基板の保持方法及びそれを用いた搬送装置 Pending JPH09129700A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002289664A (ja) * 2001-03-26 2002-10-04 Toray Ind Inc 基板搬送用ハンドおよび基板搬送方法ならびにこれらを用いたカラーフィルター製造装置および製造方法
JP2006264948A (ja) * 2005-03-25 2006-10-05 Toppan Printing Co Ltd 基板移送装置
JP2007049112A (ja) * 2005-07-15 2007-02-22 Nidec Sankyo Corp 基板搬出搬入補助装置
KR100707008B1 (ko) * 1999-12-21 2007-04-11 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 액정표시소자의 유리기판 수납 장치

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JP2006264948A (ja) * 2005-03-25 2006-10-05 Toppan Printing Co Ltd 基板移送装置
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