JPH0669314A - ウエハボート回転装置 - Google Patents
ウエハボート回転装置Info
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- JPH0669314A JPH0669314A JP4239995A JP23999592A JPH0669314A JP H0669314 A JPH0669314 A JP H0669314A JP 4239995 A JP4239995 A JP 4239995A JP 23999592 A JP23999592 A JP 23999592A JP H0669314 A JPH0669314 A JP H0669314A
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- boat
- wafer boat
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- H10P72/70—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping
- H10P72/76—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping using mechanical means, e.g. clamps or pinches
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- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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- H10P72/10—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof using carriers specially adapted therefor, e.g. front opening unified pods [FOUP]
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- Y10S414/135—Associated with semiconductor wafer handling
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y10S414/135—Associated with semiconductor wafer handling
- Y10S414/14—Wafer cassette transporting
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ウエハ移載時にウエハの周縁側部をウエハ保
持溝の底部から離間させることにより熱膨張差を十分に
吸収し得るようにし、スリップの発生を防止する。 【構成】 ウエハボート10の両端を支持するボート支
持部18と、これを垂直面内に回転させる垂直回転駆動
機構22と、ボート支持部を上下方向へ移動させる垂直
駆動機構26と、ボート支持部を水平面内に回転させる
水平回転駆動機構30を有するウエハボート回転装置に
おいて、ボート支持部にウエハ支承部材52をその長手
方向に沿って形成する。これにより、水平状態に寝かさ
れたウエハボートを持ち上げる時にこれに収容されるウ
エハWをウエハボート10から僅かに持ち上げ、ウエハ
ボートを起立させる。これにより、熱処理時におけるウ
エハとウエハボートとの間に生ずる膨張差を容易に吸収
する。
持溝の底部から離間させることにより熱膨張差を十分に
吸収し得るようにし、スリップの発生を防止する。 【構成】 ウエハボート10の両端を支持するボート支
持部18と、これを垂直面内に回転させる垂直回転駆動
機構22と、ボート支持部を上下方向へ移動させる垂直
駆動機構26と、ボート支持部を水平面内に回転させる
水平回転駆動機構30を有するウエハボート回転装置に
おいて、ボート支持部にウエハ支承部材52をその長手
方向に沿って形成する。これにより、水平状態に寝かさ
れたウエハボートを持ち上げる時にこれに収容されるウ
エハWをウエハボート10から僅かに持ち上げ、ウエハ
ボートを起立させる。これにより、熱処理時におけるウ
エハとウエハボートとの間に生ずる膨張差を容易に吸収
する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ウエハボート回転装置
に関する。
に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、半導体ウエハや液晶ウエハの製
造工程において、このウエハ表面に酸化膜、金属膜、単
結晶膜等を形成したり、不純物拡散等が行われるが、こ
の種の処理を行う装置として酸化装置、CVD装置、エ
ピタキシャル装置、拡散装置等の熱処理装置が知られて
いる。この熱処理装置内でウエハの処理を行う場合に
は、高温に耐え、しかも高温により不純物を発生しない
耐熱性材料、例えば石英により形成されたウエハボート
に例えば6ロットすなわち150枚のウエハを等ピッチ
配列で支持させて処理が行われる。
造工程において、このウエハ表面に酸化膜、金属膜、単
結晶膜等を形成したり、不純物拡散等が行われるが、こ
の種の処理を行う装置として酸化装置、CVD装置、エ
ピタキシャル装置、拡散装置等の熱処理装置が知られて
いる。この熱処理装置内でウエハの処理を行う場合に
は、高温に耐え、しかも高温により不純物を発生しない
耐熱性材料、例えば石英により形成されたウエハボート
に例えば6ロットすなわち150枚のウエハを等ピッチ
配列で支持させて処理が行われる。
【0003】通常、熱処理装置としては、ウエハボート
を立てた状態で処理炉内に収容するようになされた縦型
処理炉が主として用いられている。そして、このウエハ
ボートにウエハを移載する方式には、ウエハボートを立
てた状態でアームを用いて1枚或いは5枚ずつのウエハ
を移載するようになされたスタンドアロン方式やウエハ
ボートを一旦水平に寝かせて一度に25枚ずつのウエハ
を一括して移載し、150枚総てのウエハを移載した後
にボートを起立させるようになされたバッチ式などが知
られている。スタンドアロン方式は、その機構上、1つ
の処理炉に対して1つの移載装置を設けなければならな
いのに対して、バッチ方式の場合は複数、例えば4つの
処理炉に対して1つの移載装置を設ければよく、そのた
めに、省スペース化及びコスト削減の見地よりバッチ方
式が採用される傾向にある。
を立てた状態で処理炉内に収容するようになされた縦型
処理炉が主として用いられている。そして、このウエハ
ボートにウエハを移載する方式には、ウエハボートを立
てた状態でアームを用いて1枚或いは5枚ずつのウエハ
を移載するようになされたスタンドアロン方式やウエハ
ボートを一旦水平に寝かせて一度に25枚ずつのウエハ
を一括して移載し、150枚総てのウエハを移載した後
にボートを起立させるようになされたバッチ式などが知
られている。スタンドアロン方式は、その機構上、1つ
の処理炉に対して1つの移載装置を設けなければならな
いのに対して、バッチ方式の場合は複数、例えば4つの
処理炉に対して1つの移載装置を設ければよく、そのた
めに、省スペース化及びコスト削減の見地よりバッチ方
式が採用される傾向にある。
【0004】そして、このバッチ方式を採用する場合に
は、上述のようにウエハの収容されているウエハボート
を垂直に立てたりこれを水平に寝かせたりするためのウ
エハボート回転装置が必要とされる。このウエハボート
回転装置を図6及び図7に基づいて説明すると、このウ
エハボート回転装置2は、複数、例えば4基の熱処理炉
4を直列に配列してなる熱処理装置6と、キャリア8内
に収容されている例えば25枚のウエハWを水平状態に
寝かせられているウエハボート10に移載機構12を用
いて移載するウエハ移載装置14との間に設けられる。
は、上述のようにウエハの収容されているウエハボート
を垂直に立てたりこれを水平に寝かせたりするためのウ
エハボート回転装置が必要とされる。このウエハボート
回転装置を図6及び図7に基づいて説明すると、このウ
エハボート回転装置2は、複数、例えば4基の熱処理炉
4を直列に配列してなる熱処理装置6と、キャリア8内
に収容されている例えば25枚のウエハWを水平状態に
寝かせられているウエハボート10に移載機構12を用
いて移載するウエハ移載装置14との間に設けられる。
【0005】このウエハボート回転装置2は、図7にも
示すようにウエハボート10の両端を保持する一対のア
ーム16を備えたボート支持部18を有しており、この
ボート支持部18はモータ等を内蔵する垂直回転駆動機
構22の回転軸20へ取り付けられており、これを垂直
面内に回転するように構成される。この垂直回転駆動機
構22は、垂直方向へ起立されたボールネジ24とこれ
を回転するモータ(図示せず)よりなる垂直駆動機構2
6に取り付けられており、ボート支持部18を上下方向
へ移動し得るように構成される。そして、この垂直駆動
機構26の下端部には、基台28内に収容されたモータ
等によりなる水平回転駆動機構30が設けられており、
上記垂直駆動機構26を水平面内に回転させることによ
りボート支持部18も水平面内に回転し得るようになっ
ている。
示すようにウエハボート10の両端を保持する一対のア
ーム16を備えたボート支持部18を有しており、この
ボート支持部18はモータ等を内蔵する垂直回転駆動機
構22の回転軸20へ取り付けられており、これを垂直
面内に回転するように構成される。この垂直回転駆動機
構22は、垂直方向へ起立されたボールネジ24とこれ
を回転するモータ(図示せず)よりなる垂直駆動機構2
6に取り付けられており、ボート支持部18を上下方向
へ移動し得るように構成される。そして、この垂直駆動
機構26の下端部には、基台28内に収容されたモータ
等によりなる水平回転駆動機構30が設けられており、
上記垂直駆動機構26を水平面内に回転させることによ
りボート支持部18も水平面内に回転し得るようになっ
ている。
【0006】ウエハを移載する場合には、ウエハ移載装
置14上のキャリア8の下方より移載機構12の支持体
(図示せず)を上昇させて25枚のウエハWを一括して
上方に支持し、上方に支持されたウエハを移載機構12
のウエハ挟持体(図示せず)により一括して挟持し、こ
の状態でウエハ移載装置の図示しないボート置き台に水
平に支持されているウエハボート10に水平移動する。
そして、ウエハ挟持体が下降してウエハボート10にウ
エハを移動すると、挟持を解除して移載を行う。この操
作は例えば6回行われて全体として150枚のウエハW
の移載が行われる。このようにウエハの移載が完了する
とボート支持部18の両端のアーム16によりウエハボ
ート10の両端を支持し、垂直回転駆動機構22を90
°回転させてウエハボート10を起立させると同時に水
平回転駆動機構30を180°回転させてウエハボート
10を熱処理装置6側に向ける。
置14上のキャリア8の下方より移載機構12の支持体
(図示せず)を上昇させて25枚のウエハWを一括して
上方に支持し、上方に支持されたウエハを移載機構12
のウエハ挟持体(図示せず)により一括して挟持し、こ
の状態でウエハ移載装置の図示しないボート置き台に水
平に支持されているウエハボート10に水平移動する。
そして、ウエハ挟持体が下降してウエハボート10にウ
エハを移動すると、挟持を解除して移載を行う。この操
作は例えば6回行われて全体として150枚のウエハW
の移載が行われる。このようにウエハの移載が完了する
とボート支持部18の両端のアーム16によりウエハボ
ート10の両端を支持し、垂直回転駆動機構22を90
°回転させてウエハボート10を起立させると同時に水
平回転駆動機構30を180°回転させてウエハボート
10を熱処理装置6側に向ける。
【0007】そして、垂直駆動機構26を適宜駆動する
ことにより、このウエハボート10を、熱処理装置6の
移動ステージ32上に移載する。このステージ32は、
各熱処理炉4の搬出入口側に沿って敷設された搬送路3
4に沿って所望の熱処理路4まで移動し、ステージ上に
載置されたウエハボートは各熱処理炉4に設けたロボッ
トアーム36により熱処理炉側のエレベータ(図示せ
ず)へ移載され、このエレベータが上昇することによっ
てウエハボートに収容されたウエハが熱処理炉内へ導入
されることになる。尚、処理済みのウエハを搬出する場
合には、上記した操作を逆に行うことになる。
ことにより、このウエハボート10を、熱処理装置6の
移動ステージ32上に移載する。このステージ32は、
各熱処理炉4の搬出入口側に沿って敷設された搬送路3
4に沿って所望の熱処理路4まで移動し、ステージ上に
載置されたウエハボートは各熱処理炉4に設けたロボッ
トアーム36により熱処理炉側のエレベータ(図示せ
ず)へ移載され、このエレベータが上昇することによっ
てウエハボートに収容されたウエハが熱処理炉内へ導入
されることになる。尚、処理済みのウエハを搬出する場
合には、上記した操作を逆に行うことになる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】ところで、ウエハボー
ト10は図8乃至図10に示すように通常、2つの支持
板38間に4本のウエハ支持棒40を掛け渡し、これら
ウエハ支持棒40に多数、例えば150のウエハ保持溝
42を形成して構成されており、この溝42内にウエハ
周縁部を保持させるようになっている。水平状態に寝か
されたウエハボート10にウエハWを移載すると、下側
ウエハ保持棒40Bのウエハ保持溝42内の溝底部44
にウエハWの周縁側部46が直接接触して支持され、こ
の状態で支持板38に突出形成した受部47を保持して
ウエハボート10を起立させて熱処理炉4内でウエハW
に熱処理が施されることになる。
ト10は図8乃至図10に示すように通常、2つの支持
板38間に4本のウエハ支持棒40を掛け渡し、これら
ウエハ支持棒40に多数、例えば150のウエハ保持溝
42を形成して構成されており、この溝42内にウエハ
周縁部を保持させるようになっている。水平状態に寝か
されたウエハボート10にウエハWを移載すると、下側
ウエハ保持棒40Bのウエハ保持溝42内の溝底部44
にウエハWの周縁側部46が直接接触して支持され、こ
の状態で支持板38に突出形成した受部47を保持して
ウエハボート10を起立させて熱処理炉4内でウエハW
に熱処理が施されることになる。
【0009】この熱処理時においては、ボート10を構
成する石英とウエハとの熱膨張率に差があることから膨
張差に相当する量だけウエハWはウエハ保持溝42の内
壁面に対して滑らなければならない。この場合、ウエハ
サイズが6インチ等のように比較的軽量のときには何ら
問題なく膨張差が吸収されていたが、ウエハサイズが8
インチになって大径化するに従ってウエハ重量が増加し
て例えば6インチに対して8インチウエハの重量は約2
倍になり、このために熱処理時にウエハWが十分に滑り
きらずにボートとの間における膨張差を吸収することが
できなくなってしまった。そのため、ウエハ周縁部にお
いてストレスが過度に大きくなり、この結晶方向に沿っ
てスリップが生じるという改善点を有していた。
成する石英とウエハとの熱膨張率に差があることから膨
張差に相当する量だけウエハWはウエハ保持溝42の内
壁面に対して滑らなければならない。この場合、ウエハ
サイズが6インチ等のように比較的軽量のときには何ら
問題なく膨張差が吸収されていたが、ウエハサイズが8
インチになって大径化するに従ってウエハ重量が増加し
て例えば6インチに対して8インチウエハの重量は約2
倍になり、このために熱処理時にウエハWが十分に滑り
きらずにボートとの間における膨張差を吸収することが
できなくなってしまった。そのため、ウエハ周縁部にお
いてストレスが過度に大きくなり、この結晶方向に沿っ
てスリップが生じるという改善点を有していた。
【0010】この問題点を解決するためにウエハボート
のウエハ保持溝の形状等を種々変更することも考えられ
るが、ウエハボートとウエハとの熱膨張差を十分に吸収
し得ずに、根本的な解決に至っていない。本発明は、以
上のような問題点に着目し、これを有効に解決すべく創
案されたものである。本発明の目的は、ウエハ移載時に
ウエハの周縁側部をウエハ保持溝の底部から離間させる
ことにより熱膨張差を十分に吸収し得るようにし、スリ
ップの発生を防止することができるウエハボート回転装
置を提供することにある。
のウエハ保持溝の形状等を種々変更することも考えられ
るが、ウエハボートとウエハとの熱膨張差を十分に吸収
し得ずに、根本的な解決に至っていない。本発明は、以
上のような問題点に着目し、これを有効に解決すべく創
案されたものである。本発明の目的は、ウエハ移載時に
ウエハの周縁側部をウエハ保持溝の底部から離間させる
ことにより熱膨張差を十分に吸収し得るようにし、スリ
ップの発生を防止することができるウエハボート回転装
置を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記問題点を
解決するために、水平方向に支持されたウエハボートに
対してウエハの移載を行うウエハ移載装置と、垂直方向
に支持されたウエハボート内のウエハに熱処理を施す熱
処理装置との間に設けられるウエハボート回転装置にお
いて、前記ウエハボートの両端を支持するボート支持部
と、前記支持部を垂直面内に回転させる垂直回転駆動機
構と、前記ボート支持部を上下方向へ移動させる垂直駆
動機構と、前記ボート支持部を水平面内に回転させる水
平回転駆動機構と、前記ボート支持部に設けられ、前記
ウエハボートを持ち上げる時にこれに収容される前記ウ
エハをウエハボートから僅かに持ち上げるウエハ支承部
材とを有するようにしたものである。
解決するために、水平方向に支持されたウエハボートに
対してウエハの移載を行うウエハ移載装置と、垂直方向
に支持されたウエハボート内のウエハに熱処理を施す熱
処理装置との間に設けられるウエハボート回転装置にお
いて、前記ウエハボートの両端を支持するボート支持部
と、前記支持部を垂直面内に回転させる垂直回転駆動機
構と、前記ボート支持部を上下方向へ移動させる垂直駆
動機構と、前記ボート支持部を水平面内に回転させる水
平回転駆動機構と、前記ボート支持部に設けられ、前記
ウエハボートを持ち上げる時にこれに収容される前記ウ
エハをウエハボートから僅かに持ち上げるウエハ支承部
材とを有するようにしたものである。
【0012】
【作用】本発明は、以上のように構成したので、水平方
向に寝かされたウエハボート10をボート支持部により
持ち上げる時、このボート支持部に設けられたウエハ支
承部材が下方より僅かな距離だけウエハをボート支持部
に対して押し上げてウエハの下方周縁側部をボート水平
時におけるウエハ保持溝の底部から離間させる。この状
態で垂直回転駆動機構22を駆動させることによりウエ
ハボート10を起立させる。従って、ウエハボート10
が起立された状態ではウエハの周縁側部はウエハ保持溝
の底部(ボート起立時においては垂直状態になってい
る)から僅かに離間している。この状態で、水平回転駆
動機構30及び垂直駆動機構26を適宜駆動することに
よりウエハボートを熱処理装置側へ受け渡し、熱処理が
行われる。従って、ウエハボートとウエハの熱膨張差は
ウエハが十分に滑ることにより吸収され、これにストレ
スが加わることを防止することができる。
向に寝かされたウエハボート10をボート支持部により
持ち上げる時、このボート支持部に設けられたウエハ支
承部材が下方より僅かな距離だけウエハをボート支持部
に対して押し上げてウエハの下方周縁側部をボート水平
時におけるウエハ保持溝の底部から離間させる。この状
態で垂直回転駆動機構22を駆動させることによりウエ
ハボート10を起立させる。従って、ウエハボート10
が起立された状態ではウエハの周縁側部はウエハ保持溝
の底部(ボート起立時においては垂直状態になってい
る)から僅かに離間している。この状態で、水平回転駆
動機構30及び垂直駆動機構26を適宜駆動することに
よりウエハボートを熱処理装置側へ受け渡し、熱処理が
行われる。従って、ウエハボートとウエハの熱膨張差は
ウエハが十分に滑ることにより吸収され、これにストレ
スが加わることを防止することができる。
【0013】
【実施例】以下に、本発明のウエハボート回転装置の一
実施例を添付図面に基づいて詳述する。図1は本発明に
係るウエハボート回転装置の一実施例を示す斜視図、図
2は図1に示すウエハボート回転装置のボート支持部を
示す斜視図、図3はウエハボートを保持した時の状態を
示すボート支持部の側面図、図4はボート支持部を示す
断面図である。尚、図6及び図7に示す従来構造と同一
部分については同一符号を付す。
実施例を添付図面に基づいて詳述する。図1は本発明に
係るウエハボート回転装置の一実施例を示す斜視図、図
2は図1に示すウエハボート回転装置のボート支持部を
示す斜視図、図3はウエハボートを保持した時の状態を
示すボート支持部の側面図、図4はボート支持部を示す
断面図である。尚、図6及び図7に示す従来構造と同一
部分については同一符号を付す。
【0014】このウエハボート回転装置50は、図6に
示す場合と同様に、複数、例えば4基の熱処理炉4を直
列に配列してなる熱処理装置6と、キャリア8内に収容
されている例えば25枚のウエハWを水平状態に寝かせ
られているウエハボート10に移載機構12を用いて移
載するウエハ移載装置14との間に設けられている。こ
の回転装置50は、ウエハボート10の両端の受部47
を支持するボート支持部18と、このボート支持部18
を垂直面内に回転させる垂直回転駆動機構22と、上記
ボート支持部18を上下方向へ移動させる垂直駆動機構
26と、ボート支持部18を水平面内に回転させる水平
回転駆動機構30と、ウエハボート10の持ち上げ時に
これに収容されるウエハWをウエハボートから僅かに持
ち上げる本発明の特長とするウエハ支承部材52とによ
り主に構成されている。
示す場合と同様に、複数、例えば4基の熱処理炉4を直
列に配列してなる熱処理装置6と、キャリア8内に収容
されている例えば25枚のウエハWを水平状態に寝かせ
られているウエハボート10に移載機構12を用いて移
載するウエハ移載装置14との間に設けられている。こ
の回転装置50は、ウエハボート10の両端の受部47
を支持するボート支持部18と、このボート支持部18
を垂直面内に回転させる垂直回転駆動機構22と、上記
ボート支持部18を上下方向へ移動させる垂直駆動機構
26と、ボート支持部18を水平面内に回転させる水平
回転駆動機構30と、ウエハボート10の持ち上げ時に
これに収容されるウエハWをウエハボートから僅かに持
ち上げる本発明の特長とするウエハ支承部材52とによ
り主に構成されている。
【0015】具体的には、上記垂直回転駆動機構22
は、図示されないモータ等を内蔵しており、この回転軸
20を上記ボート支持部18の長さ方向の中心部に接続
してこのボート支持部18を垂直面内に回転し得るよう
に構成されている。上記垂直駆動機構26は、垂直方向
へ起立されたボールネジ24とこれを回転するモータ5
4とにより主に構成されており、このボールネジ24に
沿って移動する移動体56に上記垂直回転駆動機構22
を連結してボート支持部18を上下方向へ昇降し得るよ
うに構成されている。この垂直駆動機構26の全体は、
矩形状に成形された筐体58により被われている。そし
て、この垂直駆動機構26の下端部には、基台28内に
収容されたモータ等よりなる水平回転駆動機構30が設
けられており、必要に応じて上記垂直駆動機構26を水
平面内に回転させることによりボート支持部18を水平
面内に回転し得るように構成されている。
は、図示されないモータ等を内蔵しており、この回転軸
20を上記ボート支持部18の長さ方向の中心部に接続
してこのボート支持部18を垂直面内に回転し得るよう
に構成されている。上記垂直駆動機構26は、垂直方向
へ起立されたボールネジ24とこれを回転するモータ5
4とにより主に構成されており、このボールネジ24に
沿って移動する移動体56に上記垂直回転駆動機構22
を連結してボート支持部18を上下方向へ昇降し得るよ
うに構成されている。この垂直駆動機構26の全体は、
矩形状に成形された筐体58により被われている。そし
て、この垂直駆動機構26の下端部には、基台28内に
収容されたモータ等よりなる水平回転駆動機構30が設
けられており、必要に応じて上記垂直駆動機構26を水
平面内に回転させることによりボート支持部18を水平
面内に回転し得るように構成されている。
【0016】一方、上記ボート支持部18は、その長さ
方向の中心が回転軸20に連結されると共にウエハボー
ト10の長さと略同等になされた支持柱60を有してい
る。この支持柱60の両端には上方へY字状に拡開され
た一対のボート支持アーム62が設けられており、この
部分にウエハボート10の両端の受部47を支持し得る
ように構成されている。そして、上記支持柱60の下部
からはウエハボート10の下方に相当する部分に向けて
ウエハ支承部材52の支承アーム64が水平方向へ延在
されている。この支承アーム64は、例えばステンレス
等により所定の剛性を有するように形成されており、ウ
エハWの荷重に対応し得るようになっている。そして、
この支承アーム64には、支持柱60の長さ方向に沿っ
て、所定の間隔だけ離間された一方のウエハ持ち上げ板
66が形成されており、ウエハボート10を持ち上げる
ときに、ウエハWを下側ウエハ保持棒40Bよりも僅か
な距離L1、例えば0.5〜1.0mm程度だけ持ち上
げるように構成されている。
方向の中心が回転軸20に連結されると共にウエハボー
ト10の長さと略同等になされた支持柱60を有してい
る。この支持柱60の両端には上方へY字状に拡開され
た一対のボート支持アーム62が設けられており、この
部分にウエハボート10の両端の受部47を支持し得る
ように構成されている。そして、上記支持柱60の下部
からはウエハボート10の下方に相当する部分に向けて
ウエハ支承部材52の支承アーム64が水平方向へ延在
されている。この支承アーム64は、例えばステンレス
等により所定の剛性を有するように形成されており、ウ
エハWの荷重に対応し得るようになっている。そして、
この支承アーム64には、支持柱60の長さ方向に沿っ
て、所定の間隔だけ離間された一方のウエハ持ち上げ板
66が形成されており、ウエハボート10を持ち上げる
ときに、ウエハWを下側ウエハ保持棒40Bよりも僅か
な距離L1、例えば0.5〜1.0mm程度だけ持ち上
げるように構成されている。
【0017】そのために、ウエハ持ち上げ板66の高さ
L2は、水平状態に維持されたウエハボート10にウエ
ハWを移載したときのウエハ周縁側部の輪郭68よりも
僅かな距離、例えば0.5〜1.0mm程度だけその上
端が上方に位置するように設定されている。ウエハWと
して8インチのものを使用する場合には、両ウエハ持ち
上げ板66間の距離L3は約108mmに設定され、こ
の時ウエハ持ち上げ板66の高さL2は約28mmに設
定されてウエハ下端部が支承アーム64と接触しないよ
うに構成されている。
L2は、水平状態に維持されたウエハボート10にウエ
ハWを移載したときのウエハ周縁側部の輪郭68よりも
僅かな距離、例えば0.5〜1.0mm程度だけその上
端が上方に位置するように設定されている。ウエハWと
して8インチのものを使用する場合には、両ウエハ持ち
上げ板66間の距離L3は約108mmに設定され、こ
の時ウエハ持ち上げ板66の高さL2は約28mmに設
定されてウエハ下端部が支承アーム64と接触しないよ
うに構成されている。
【0018】また、このウエハ持ち上げ板66の厚さL
5は約4mmに設定されると共にその上端部は、ウエハ
Wの円弧形状に対応させて相互に内向き方向に下方傾斜
させて形成されている。このウエハ持ち上げ板66の材
質としては、高温に対して強く、安定している材料、例
えばテフロン或いは石英が使用されており、ウエハWに
対して金属コンタミ等が生じないようにしている。ま
た、このウエハ持ち上げ板66の長さ方向においては、
ウエハボート10の途中に介設される補強部材(図示せ
ず)との干渉を避けるための逃げ凹部70が形成される
と共にこの逃げ凹部70においては2つのウエハ持ち上
げ板66間を連結する補強板72が設けられている。
5は約4mmに設定されると共にその上端部は、ウエハ
Wの円弧形状に対応させて相互に内向き方向に下方傾斜
させて形成されている。このウエハ持ち上げ板66の材
質としては、高温に対して強く、安定している材料、例
えばテフロン或いは石英が使用されており、ウエハWに
対して金属コンタミ等が生じないようにしている。ま
た、このウエハ持ち上げ板66の長さ方向においては、
ウエハボート10の途中に介設される補強部材(図示せ
ず)との干渉を避けるための逃げ凹部70が形成される
と共にこの逃げ凹部70においては2つのウエハ持ち上
げ板66間を連結する補強板72が設けられている。
【0019】次に、以上のように構成された本実施例の
動作について説明する。まず、ウエハ移載装置14の図
示しないボート置き台に水平に寝かせた状態で支持され
ているウエハボート10に、移載機構12を用いてキャ
リア8内の25枚の全てのウエハWを一度に一括して移
載し、この移載操作を例えば6回繰り返して行うことに
より150枚のウエハWをウエハボート10に移載して
移載操作を完了する。この状態においては図9及び図1
0に示すようにウエハWはウエハ保持棒40に形成した
ウエハ保持溝42内に完全に収容されており、ウエハW
の周縁側部46と溝底部44は接触している。
動作について説明する。まず、ウエハ移載装置14の図
示しないボート置き台に水平に寝かせた状態で支持され
ているウエハボート10に、移載機構12を用いてキャ
リア8内の25枚の全てのウエハWを一度に一括して移
載し、この移載操作を例えば6回繰り返して行うことに
より150枚のウエハWをウエハボート10に移載して
移載操作を完了する。この状態においては図9及び図1
0に示すようにウエハWはウエハ保持棒40に形成した
ウエハ保持溝42内に完全に収容されており、ウエハW
の周縁側部46と溝底部44は接触している。
【0020】次に、ウエハボート回転装置50を駆動す
ることにより、このボート支持部18を水平状態に維持
した状態でウエハボート10の下方よりこれを持ち上げ
る。この時の状態は図3に示される。すると、ウエハボ
ート10の両端に突出形成された受部47がY字状に形
成されたボート支持アーム62に支持されてウエハボー
ト全体が上方へ持ち上げられることになる。このウエハ
持ち上げ時において、ボート支持部18の支承アーム6
4には一対のウエハ持ち上げ板66が形成されているこ
とから図4に示すようにこの上端部がウエハの下側周縁
側部46と当接してこれを僅かな距離L1、例えば0.
5〜1.0mm程度だけ同時に押し上げることになり、
結果的に、図5にも示すように下側ウエハ保持棒40B
のウエハ保持溝42の溝底部44とウエハWの周縁側部
46とは略距離L1だけ離間し、これらの接触状態が断
たれることになる。
ることにより、このボート支持部18を水平状態に維持
した状態でウエハボート10の下方よりこれを持ち上げ
る。この時の状態は図3に示される。すると、ウエハボ
ート10の両端に突出形成された受部47がY字状に形
成されたボート支持アーム62に支持されてウエハボー
ト全体が上方へ持ち上げられることになる。このウエハ
持ち上げ時において、ボート支持部18の支承アーム6
4には一対のウエハ持ち上げ板66が形成されているこ
とから図4に示すようにこの上端部がウエハの下側周縁
側部46と当接してこれを僅かな距離L1、例えば0.
5〜1.0mm程度だけ同時に押し上げることになり、
結果的に、図5にも示すように下側ウエハ保持棒40B
のウエハ保持溝42の溝底部44とウエハWの周縁側部
46とは略距離L1だけ離間し、これらの接触状態が断
たれることになる。
【0021】このようにして、ボート支持部18により
水平状態のウエハボート10を持ち上げると同時にウエ
ハ自体もウエハボート10に対して僅かな距離L1だけ
持ち上げられるのでウエハの周縁側部46は溝底部44
から離れることになる。このような状態で垂直回転駆動
機構22を90°低速で回転させることによりウエハボ
ート10を垂直方向に起立させると同時に水平回転駆動
機構30を180°回転させてウエハボート10を熱処
理装置6側に向ける。そして、垂直駆動機構26を適宜
駆動させてウエハボート10を降下させることにより、
このウエハボート10を起立状態で移動ステージ32上
に移載する。このステージ32は各熱処理炉4の搬出入
口側に沿って敷設された搬送路34に沿って所望の熱処
理炉4まで移動し、ステージ上に載置されたウエハボー
ト10は各熱処理炉4に設けたロボットアーム36によ
り熱処理炉側のエレベータ(図示せず)へ移載され、こ
のエレベータが上昇することによってウエハボートが熱
処理炉へ導入される。
水平状態のウエハボート10を持ち上げると同時にウエ
ハ自体もウエハボート10に対して僅かな距離L1だけ
持ち上げられるのでウエハの周縁側部46は溝底部44
から離れることになる。このような状態で垂直回転駆動
機構22を90°低速で回転させることによりウエハボ
ート10を垂直方向に起立させると同時に水平回転駆動
機構30を180°回転させてウエハボート10を熱処
理装置6側に向ける。そして、垂直駆動機構26を適宜
駆動させてウエハボート10を降下させることにより、
このウエハボート10を起立状態で移動ステージ32上
に移載する。このステージ32は各熱処理炉4の搬出入
口側に沿って敷設された搬送路34に沿って所望の熱処
理炉4まで移動し、ステージ上に載置されたウエハボー
ト10は各熱処理炉4に設けたロボットアーム36によ
り熱処理炉側のエレベータ(図示せず)へ移載され、こ
のエレベータが上昇することによってウエハボートが熱
処理炉へ導入される。
【0022】このように、熱処理炉へ導入されたウエハ
Wには所望のプロセス条件に従って熱処理が施されるこ
とになる。この熱処理においては、ウエハボート10を
構成する石英材料よりもウエハの方が熱膨張率が大きい
ためにこれらの間に熱膨張差が発生することになるが、
前述のようにウエハの周縁側部46は溝底部44(ウエ
ハボート起立時においては起立している)から離間して
いるので、ウエハWは上側ウエハ保持棒40Aのウエハ
保持溝42の接触面及び下側ウエハ保持棒40Bのウエ
ハ保持溝42の接触面において均等に滑ることにより、
結果的に、ウエハWの周縁部には過度のストレスが加わ
ることがないのでウエハにスリップが発生することを確
実に阻止することができる。
Wには所望のプロセス条件に従って熱処理が施されるこ
とになる。この熱処理においては、ウエハボート10を
構成する石英材料よりもウエハの方が熱膨張率が大きい
ためにこれらの間に熱膨張差が発生することになるが、
前述のようにウエハの周縁側部46は溝底部44(ウエ
ハボート起立時においては起立している)から離間して
いるので、ウエハWは上側ウエハ保持棒40Aのウエハ
保持溝42の接触面及び下側ウエハ保持棒40Bのウエ
ハ保持溝42の接触面において均等に滑ることにより、
結果的に、ウエハWの周縁部には過度のストレスが加わ
ることがないのでウエハにスリップが発生することを確
実に阻止することができる。
【0023】このように熱処理時において、ウエハWの
全ての周縁側部をフリー状態としたのでウエハボートと
ウエハとの間に生ずる熱膨張差をウエハが滑ることで容
易に吸収することができる。尚、ウエハの熱処理が終了
した場合には、上記した手順を逆に行うことにより処理
済のウエハWを搬出することができる。上記実施例にあ
ってはウエハ持ち上げ板66を2枚設けた場合について
説明したが、これに限定されず、このウエハ持ち上げ板
66を図4におけるウエハ中心部の真下に位置させて1
枚だけ設けると共にこの持ち上げ板66に所定の厚みを
持たせるようにしてもよい。また、本発明は、熱処理装
置として、酸化装置、CVD装置、エピタキシャル装
置、拡散装置等の種々の熱処理装置に適用することがで
きる。
全ての周縁側部をフリー状態としたのでウエハボートと
ウエハとの間に生ずる熱膨張差をウエハが滑ることで容
易に吸収することができる。尚、ウエハの熱処理が終了
した場合には、上記した手順を逆に行うことにより処理
済のウエハWを搬出することができる。上記実施例にあ
ってはウエハ持ち上げ板66を2枚設けた場合について
説明したが、これに限定されず、このウエハ持ち上げ板
66を図4におけるウエハ中心部の真下に位置させて1
枚だけ設けると共にこの持ち上げ板66に所定の厚みを
持たせるようにしてもよい。また、本発明は、熱処理装
置として、酸化装置、CVD装置、エピタキシャル装
置、拡散装置等の種々の熱処理装置に適用することがで
きる。
【0024】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のウエハボ
ート回転装置によれば次のような優れた作用効果を発揮
することができる。水平状態に維持されたウエハボート
を持ち上げるときにウエハをウエハボートに対して僅か
に持ち上げた状態でウエハボートを起立させることがで
き、ウエハ周縁側部を溝底部から離間させることができ
る。従って、熱処理時に熱膨張差に起因するウエハの滑
りを過度なストレスを発生させることなく行わせること
ができるので、ウエハにスリップが発生することを阻止
することができ、歩留まりも向上させることができる。
ート回転装置によれば次のような優れた作用効果を発揮
することができる。水平状態に維持されたウエハボート
を持ち上げるときにウエハをウエハボートに対して僅か
に持ち上げた状態でウエハボートを起立させることがで
き、ウエハ周縁側部を溝底部から離間させることができ
る。従って、熱処理時に熱膨張差に起因するウエハの滑
りを過度なストレスを発生させることなく行わせること
ができるので、ウエハにスリップが発生することを阻止
することができ、歩留まりも向上させることができる。
【図1】本発明に係るウエハボート回転装置の一実施例
を示す斜視図である。
を示す斜視図である。
【図2】図1に示すウエハボート回転装置のボート支持
部を示す斜視図である。
部を示す斜視図である。
【図3】ウエハボートを保持した時の状態を示すボート
支持部の側面図である。
支持部の側面図である。
【図4】ボート支持部を示す断面図である。
【図5】本発明の作用を説明するためのウエハ保持棒の
部分拡大図である。
部分拡大図である。
【図6】ウエハボート回転装置の設置場所を説明するた
めの関連装置全体の概略平面図である。
めの関連装置全体の概略平面図である。
【図7】従来のウエハボート回転装置を示す斜視図であ
る。
る。
【図8】ウエハボートを保持した時の状態を示す従来の
ボート支持部の側面図である。
ボート支持部の側面図である。
【図9】図8中のA−A線矢視断面図である。
【図10】従来装置の作用を説明するためのウエハ保持
棒の部分拡大図である。
棒の部分拡大図である。
4 熱処理炉 6 熱処理装置 10 ウエハボート 14 ウエハ移載装置 18 ボート支持部 22 垂直回転駆動機構 26 垂直駆動機構 30 水平回転駆動機構 32 移動ステージ 42 ウエハ保持溝 46 ウエハの周縁側部 50 ウエハボート回転装置 52 ウエハ支承部材 56 ウエハ持ち上げ板 W ウエハ
Claims (1)
- 【請求項1】 水平方向に支持されたウエハボートに対
してウエハの移載を行うウエハ移載装置と、垂直方向に
支持されたウエハボート内のウエハに熱処理を施す熱処
理装置との間に設けられるウエハボート回転装置におい
て、前記ウエハボートの両端を支持するボート支持部
と、前記支持部を垂直面内に回転させる垂直回転駆動機
構と、前記ボート支持部を上下方向へ移動させる垂直駆
動機構と、前記ボート支持部を水平面内に回転させる水
平回転駆動機構と、前記ボート支持部に設けられ、前記
ウエハボートを持ち上げる時にこれに収容される前記ウ
エハをウエハボートから僅かに持ち上げるウエハ支承部
材とを有することを特徴とするウエハボートの回転装
置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23999592A JP3322912B2 (ja) | 1992-08-17 | 1992-08-17 | ウエハボート回転装置及びこれを用いた熱処理装置 |
| KR1019930015293A KR100285081B1 (ko) | 1992-08-17 | 1993-08-06 | 웨이퍼보트 회전장치 |
| US08/103,666 US5356261A (en) | 1992-08-17 | 1993-08-10 | Wafer boat rotating apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23999592A JP3322912B2 (ja) | 1992-08-17 | 1992-08-17 | ウエハボート回転装置及びこれを用いた熱処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0669314A true JPH0669314A (ja) | 1994-03-11 |
| JP3322912B2 JP3322912B2 (ja) | 2002-09-09 |
Family
ID=17052909
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23999592A Expired - Fee Related JP3322912B2 (ja) | 1992-08-17 | 1992-08-17 | ウエハボート回転装置及びこれを用いた熱処理装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5356261A (ja) |
| JP (1) | JP3322912B2 (ja) |
| KR (1) | KR100285081B1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019071425A (ja) * | 2018-11-29 | 2019-05-09 | ピコサン オーワイPicosun Oy | Ald反応炉における基板の装填 |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5609376A (en) * | 1995-09-08 | 1997-03-11 | Micron Technology, Inc. | Wafer carrier handle assembly |
| US6036426A (en) * | 1996-01-26 | 2000-03-14 | Creative Design Corporation | Wafer handling method and apparatus |
| JPH10147432A (ja) * | 1996-11-20 | 1998-06-02 | Tokyo Electron Ltd | カセットチャンバ |
| JP3548373B2 (ja) * | 1997-03-24 | 2004-07-28 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
| US6085125A (en) * | 1998-05-11 | 2000-07-04 | Genmark Automation, Inc. | Prealigner and planarity teaching station |
| US6352399B1 (en) | 1999-07-07 | 2002-03-05 | Amtech Systems, Inc. | Twin tower wafer boat loading system and method |
| US6537010B2 (en) | 1999-07-07 | 2003-03-25 | Amtech Systems, Incorporated | Wafer boat support and method for twin tower wafer boat loader |
| KR100416697B1 (ko) * | 2001-06-04 | 2004-02-05 | 주식회사 옵토웨이퍼테크 | 수직형 액상 에피택시 장비 |
| JP4327206B2 (ja) * | 2007-01-30 | 2009-09-09 | 東京エレクトロン株式会社 | 縦型熱処理装置及び縦型熱処理方法 |
| US7563725B2 (en) * | 2007-04-05 | 2009-07-21 | Solyndra, Inc. | Method of depositing materials on a non-planar surface |
| US7855156B2 (en) * | 2007-05-09 | 2010-12-21 | Solyndra, Inc. | Method of and apparatus for inline deposition of materials on a non-planar surface |
| US20090011573A1 (en) * | 2007-07-02 | 2009-01-08 | Solyndra, Inc. | Carrier used for deposition of materials on a non-planar surface |
| WO2009051764A1 (en) * | 2007-10-15 | 2009-04-23 | Solyndra, Inc. | Support system for solar energy generator panels |
| JP7429252B2 (ja) | 2022-03-18 | 2024-02-07 | 株式会社Kokusai Electric | 基板処理装置、半導体装置の製造方法、基板処理方法及びプログラム |
| CN117293074A (zh) * | 2023-10-26 | 2023-12-26 | 北京七星华创集成电路装备有限公司 | 晶舟移载装置 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5030057A (en) * | 1987-11-06 | 1991-07-09 | Tel Sagami Limited | Semiconductor wafer transferring method and apparatus and boat for thermal treatment of a semiconductor wafer |
| JP2683675B2 (ja) * | 1989-01-26 | 1997-12-03 | 東京エレクトロン株式会社 | 搬送装置 |
| JPH03125453A (ja) * | 1989-10-09 | 1991-05-28 | Toshiba Corp | 半導体ウエハ移送装置 |
| US5123804A (en) * | 1990-06-15 | 1992-06-23 | Tokyo Electron Sagami Limited | Horizontal/vertical conversion handling apparatus |
| KR0153250B1 (ko) * | 1990-06-28 | 1998-12-01 | 카자마 겐쥬 | 종형 열처리 장치 |
| US5163832A (en) * | 1990-10-30 | 1992-11-17 | Tokyo Electron Sagami Limited | Vertical heat-treating apparatus |
-
1992
- 1992-08-17 JP JP23999592A patent/JP3322912B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1993
- 1993-08-06 KR KR1019930015293A patent/KR100285081B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1993-08-10 US US08/103,666 patent/US5356261A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019071425A (ja) * | 2018-11-29 | 2019-05-09 | ピコサン オーワイPicosun Oy | Ald反応炉における基板の装填 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR940004757A (ko) | 1994-03-15 |
| JP3322912B2 (ja) | 2002-09-09 |
| KR100285081B1 (ko) | 2001-04-02 |
| US5356261A (en) | 1994-10-18 |
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