JPH0669912B2 - 組積構築物を撥水性に含浸する方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、（Ａ１）オルガノアル
コキシシランおよび／または（Ａ２）アルコキシ基含有
オルガノシロキサンおよび（Ｂ）水溶性の酸と、ＳｉＣ
を介して結合した塩基性窒素を有する基を有するオルガ
ノポリシロキサンとの塩を含む水で希釈した高分散含浸
組成物で組積構築物を処理することにより組積構築物を
撥水性に含浸する方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】組積構築物において吸い上げられる湿分
に対抗するための注入剤として、アルカリアルキルシリ
コネート、アルカリ金属ケイ酸塩、その混合物および有
機溶剤または水に溶かしたアルコキシ基含有の有機ケイ
素化合物またはアルコキシ基含有の有機ケイ素化合物の
水性分散液が使用される。

【０００３】文化財保護および建築物再開発のための学
問的−技術的研究チーム社団法人（Wissenschaftlich-T
echnischen Arbeitskreises fuer Denkmalpflege undBa
uwerksanierung e.V., Muenchen）の組積の除湿の報告
から発行された説明書１〜８６において、水に溶かした
調製剤、たとえばアルカリアルキルシリコネート、アル
カリ金属ケイ酸塩およびシランの導入の前に、穿孔を石
灰水で前洗浄することが推奨されている。この場合、注
入剤中に存在し、水に溶けた作用物質が、組積中へ導入
されたカルシウムイオンによって沈殿し、ゲル化する。

【０００４】水に溶けたアルカリアルキルシリコネー
ト、場合により、英国特許第１１７７６６２号明細書
（C. T. Kyte; Gallwey Chemical Co. Ltd., Marlow,
英国、発行日1970年1月14日）に記載されたようにアル
カリ金属ケイ酸塩と組み合わせて使用する場合に、組積
構築物中で水溶性の吸湿性の風化性の炭酸塩が生じる。
厚い組積構築物の場合では作用物質形成のために必要な
空気からのＣＯ₂の侵入が著しく困難である。

【０００５】注入剤中の作用物質として組積構築物にお
いて吸い上げられる湿分に対抗するために適した水溶性
シラン、たとえばメチルシラン−トリス−メチルグリコ
レートは、衛生上有害であり、部分的な奇形の原因とな
りえる。

【０００６】英国特許第１３７４６１１号明細書（J.
G. CoombsPrice; 発行日1974年11月20日、Dow Corning
Ltd., London）には、組積構築物において蒸気の侵入し
ない遮断を形成する方法が記載されており、この方法に
おいて、有機溶剤中に溶かしたアルコキシ基含有有機ケ
イ素化合物を穿孔を通して組積構築物中へ導入してい
る。しかし、この溶剤の使用は、特に居住している住居
において火災の危険性および環境汚染につながる。

【０００７】米国特許第４６６１５５１号明細書（H. M
ayer et al.; 発行日1987年4月28日、Wacker-Chemie Gm
bH, Muenchen）において、レンガ壁において吸い上げら
れる湿分に対する遮断を形成するために、イソオクチル
トリメトキシシラン、水溶性の酸と窒素含有オルガノポ
リシロキサンとの塩、ｎ−ヘキサノールおよび酢酸から
なる水で希釈した高分散組成物の使用を記載している。
この組成物は湿った組積構築物において急速に分配し、
組積構築物と反応することによりさらに水の吸い上げを
妨害する遮断を形成する。しかし、その組積構築物が古
い場合に、この組成物は悪い効果を引き起こす。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、水で
希釈した組成物を使用してかつ古い組積構築物でも良好
におよび確実に含浸するような、組積構築物を撥水性に
含浸する衛生上懸念のない方法を提供することであっ
た。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は、次の成分： （Ａ１）オルガノアルコキシシランおよび／または（Ａ
２）アルコキシ基含有オルガノシロキサンおよび（ Ｂ
）水溶性有機酸または無機酸とオルガノポリシロキサ
ンとの塩を含み、前記オルガノポリシロキサンは他のオ
ルガノシロキサン単位に対して付加的に、ＳｉＣを介し
て結合した塩基性窒素を有する一価の基がオルガノポリ
シロキサンの重量に対して少なくとも０．５重量％の量
で塩基性窒素を有するようなシロキサン単位を含有する
水で希釈した高分散含浸組成物で組積構築物を処理する
ことにより組積構築物を撥水性に含浸する方法におい
て、前記組積構築物をアルカリ性にすることを特徴とす
る組積構築物を撥水性に含浸する方法に関する。

【００１０】本発明は、本発明により使用可能な希釈し
た含浸組成物の効果が塩基性の組積構築物において著し
く高められるという発見に基づいている。しかし、古い
組積構築物はたいていは塩基性を示さない。

【００１１】組積構築物において、含浸組成物の作用物
質が湿った組積構築物において急速に分配され、組積構
築物と反応する場合、上方向に上昇する湿分流が作用物
質を著しく希釈するかまたは作用物質を遮断帯域から洗
い流す前に、地面から吸い上げられる湿分に対する有効
な遮断を形成する。本発明により使用される作用物質の
急速な反応にとって、組積構築物のアルカリ性の環境が
必要である。

【００１２】本発明により高められた塩基含量により、
古い組積構築物は、本発明により使用される水で希釈し
た高分散含浸組成物と、大気のＣＯ₂含量により中和さ
れていない新しいアルカリ性の組積構築物と同様に急速
に反応する。新しい組積構築物の場合でも、本発明によ
る方法により湿分に対する含浸を改善することができ
る。

【００１３】組積構築物をアルカリ性にするためには、
水に可溶性でありかつ衛生上危険のない無機および有機
の強塩基が適している。

【００１４】しかし、組積構築物は、アルカリ金属また
はアルカリ土類金属の水酸化物の水溶液を用いてアルカ
リ性にすることが有利である。水酸化リチウム、水酸化
ナトリウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム
および水酸化バリウム溶液が最も適している。組積構築
物のアルカリ性化のために水酸化カルシウム水溶液を使
用することが特に有利である。それというのも、過剰量
の水酸化カルシウムは組積構築物と極めて良好に結合
し、大気のＣＯ₂含量により固化して石灰になるためで
ある。

【００１５】アルカリ金属およびアルカリ土類金属の水
酸化物の水溶液の濃度は、０．０１〜２０重量％である
のが望ましい。水酸化カルシウム溶液を使用する場合
に、０．０５重量％〜飽和までの濃度が好ましい。

【００１６】このアルカリ性水溶液は含浸組成物の導入
の前または後に組積構築物に導入することができる。し
かし、アルカリ性水溶液は、含浸組成物の注入の前に組
積構築物に導入するのが好ましい。アルカリ性水溶液を
２〜３日前に導入するのが特に好ましい。この場合、ア
ルカリ性水溶液は穿孔を介して組積構築物中へ導入する
のが好ましい。この場合、加圧してまたは加圧せずに作
業することができる。含浸組成物を導入するのと同じ穿
孔を使用するのが有利である。

【００１７】組積構築物中に導入する前の含浸組成物の
アルカリ性化は問題にならない、それというのも、これ
により分散液は破壊され（Ａ１）オルガノアルコキシシ
ランおよび／または（Ａ２）オルガノシロキサンは組積
構築物で急速に分配されないためである。

【００１８】本発明による方法は、多様な種類の組積構
築物、たとえばレンガ、鉄筋コンクリートまたは鉄筋の
入っていないコンクリート、発泡モルタル、ライン地方
の軽石、石灰石を含めた天然石、漆喰、スラッグレンガ
および石灰質砂岩の撥水性含浸のために適している。

【００１９】本発明による方法は、特に、すでに十分に
湿った古い組積構築物の深部含浸に適している。本発明
の方法は、組積構築物中に吸い上げられた湿分に対抗す
るために使用するのが有利である。この場合、穿孔は地
面の水準のすぐ上で外側および内側で組積に穿孔され
る。次にこの穿孔中に含浸組成物およびアルカリ性水溶
液が導入される。この組積はこの位置では完全に湿って
いる。含浸組成物とアルカリ性水溶液との反応の後に遮
断層が形成される。それにより組積構築物は完全に乾燥
する。

【００２０】本発明により使用される含浸組成物は、オ
ルガノアルコキシシラン（Ａ１）または多様なオルガノ
アルコキシシランの混合物を含有することができる。オ
ルガノアルコキシシランは少なくとも１個、多くとも３
個のＳｉＣを介して結合した炭化水素基および少なくと
も１個、多くとも３個のアルコキシ基を含有する。オル
ガノアルコキシシランの製造は、W. Noll, 第２版,196
8, Verlag Chemie, Weinheim, Kap.3.3に記載されてい
る。

【００２１】オルガノアルコキシシラン（Ａ１）は、１
個または２個の、同じまたは異なるＳｉＣを介して結合
した一価のＣ₁〜Ｃ₁₅炭化水素基を有し、残りの基は同
じまたは異なるＣ₁〜Ｃ₆アルコキシ基である。

【００２２】Ｃ₁〜Ｃ₁₅炭化水素基の例は、アルキル
基、たとえばメチル−、エチル−、ｎ−プロピル−、イ
ソプロピル−、ｎ−ブチル−、イソブチル−、ｔ−ブチ
ル−、ｎ−ペンチル−、イソペンチル−、ネオペンチル
−、ｔ−ペンチル基；ヘキシル基、たとえばｎ−ヘキシ
ル基；ヘプチル基、たとえばｎ−ヘプチル基；オクチル
基、たとえばｎ−オクチル基およびイソオクチル基、た
とえば２，２，４−トリメチルペンチル基；ノニル基、
たとえばｎ−ノニル基；デシル基、ｎ−デシル基；ドデ
シル基、オクタデシル基、たとえばｎ−オクタデシル
基；アルケニル基、たとえばビニル−およびアリール
基；シクロアルキル基、たとえばシクロペンチル−、シ
クロヘキシル−、シクロヘプチル基およびメチルシクロ
ヘキシル基；アリル基、たとえばフェニル−、ナフチル
−、アントリル−およびフェナントリル基；アルカリー
ル基、たとえばｏ−、ｍ−、ｐ−トリル基；キシリル基
およびエチルフェニル基；アラルキル基、たとえばベン
ジル基、α−およびβ−フェニルエチル基である。

【００２３】ハロゲン置換Ｃ₁〜Ｃ₁₅炭化水素基の例
は、フッ素−、塩素−、臭素−およびヨウ素原子で置換
されたアルキル基、たとえば３，３，３−トリフルオロ
−ｎ−プロピル基、２，２，２，２′，２′，２′−ヘ
キサフルオロイソプロピル基、ヘプタフルオロイソプロ
ピル基およびハロゲンアリール基、たとえばｏ−、ｍ−
およびｐ−クロロフェニル基である。

【００２４】非置換のＣ₁〜Ｃ₈アルキル基およびフェニ
ル基が特に有利である。

【００２５】オルガノアルコキシシラン（Ａ１）のＣ₁
〜Ｃ₆アルコキシ基の例はメトキシ−、エトキシ−、ｎ
−プロポキシ−、イソプロポキシ−、ｎ−ブトキシ−、
イソブトキシ−、ｓ−ブトキシ−、ｔ−ブトキシ基；ペ
ンチルオキシ基、たとえばｎ−ペンチルオキシ基および
ヘキシルオキシ基、たとえばｎ−ヘキシルオキシ基であ
る。メトキシ−およびエトキシ基が特に有利である。

【００２６】アルコキシ基はハロゲン原子で置換されて
いてもよいが、これは有利ではない。

【００２７】本発明により使用された含浸組成物はアル
コキシ基含有オルガノシロキサン（Ａ２）または複数の
オルガノシロキサンの混合物を含有することができる。
このオルガノシロキサンは、ケイ素原子が酸素原子を介
して結合しており、かつＳｉＣ結合した有機基を含有す
るオリゴマーまたはポリマーの有機ケイ素化合物であ
る。このオルガノシロキサンは付加的に、組積構築物と
の結合を容易にするヒドロキシル基を含有してもよい。

【００２８】オルガノシロキサンは２０００ｍｍ²／ｓ
の粘度を上回ってはならない、さもないと、組積構築物
中の試料表面での良好な分配が補償されないためであ
る。

【００２９】たとえば、欧州特許第５３２２３号明細書
に記載された一般式：

【００３０】

【化１】

【００３１】［式中、Ｒは同じまたは異なる一価の、場
合によりハロゲン置換された、ＳｉＣを介して結合した
Ｃ₁〜Ｃ₁₅炭化水素基を表わし、Ｒ¹は同じまたは異なる
一価のＣ₁〜Ｃ₆アルキル基を表わし、ｘは０、１、２ま
たは３を表わし、平均で０．９〜１．８を表わし、ｙは
０、１、２または３を表わし、平均で０．０１〜２．０
を表わし、ｚは０、１、２または３を表わし、平均で
０．０〜０．５を表わし、ただし、ｘ、ｙおよびｚの総
和は３．５以下であり、オルガノシロキサン（Ａ２）は
２５℃で３００ｍｍ²／ｓ以下の粘度を有するものとす
る］で示されるオルガノシロキサン（Ａ２）が特に適し
ている。

【００３２】５〜１００ｍｍ²／ｓの粘度を有するオル
ガノシロキサン（Ａ２）が最も有利である。

【００３３】Ｃ₁〜Ｃ₁₅炭化水素基の例は、オルガノア
ルコキシシラン（Ａ１）において前記したＣ₁〜Ｃ₁₅炭
化水素基およびハロゲン置換Ｃ₁〜Ｃ₁₅炭化水素基であ
る。非置換のＣ₁〜Ｃ₈アルキル基およびフェニル基が特
に有利である。前記した式中には記載されていないが、
基Ｒの一部はケイ素原子に直接結合した水素原子に置き
換えられていてもよい。しかしこれは有利ではない。

【００３４】基Ｒ¹の例は、メチル−、エチル−、ｎ−
プロピル−、イソプロピル、ｎ−ブチル−、ｓ−ブチル
−およびｔ−ブチル基；ペンチル基、たとえばｎ−ペン
チル基およびヘキシル基、たとえばｎ−ヘキシル基であ
り、その中でメチル基およびエチル基が特に有利であ
る。

【００３５】オルガノシロキサン（Ａ２）として特に有
利であるのは、水中でメチルトリクロロシランおよびＣ
₁〜Ｃ₈アルキルトリクロロシラン、またはフェニルトリ
クロロシランと、メタノールまたはエタノールとの反応
により得られるようなものである。

【００３６】塩（Ｂ）およびその製造は、米国特許第４
６６１５５１号明細書に記載されている。本発明による
方法において、式：

【００３７】

【化２】

【００３８】［式中、Ｒ²は同じまたは異なる一価の、
塩基性窒素を有していない、ＳｉＣを介して結合したＣ
₁〜Ｃ₁₅炭化水素基または水素を表わし、Ｒ³は同じまた
は異なる塩基性窒素を有する一価のＳｉＣ結合基を表わ
し、Ｒ⁴は水素原子または同じまたは異なるＣ₁〜Ｃ₄ア
ルキル基を表わし、ａは０、１、２または３を表わし、
平均で０〜２を表わし、特に０〜１．８を表わし、ｂは
０または１を表わし、平均で０．１〜０．６を表わし、
特に０．１５〜０．３０を表わし、ｃは０、１、２また
は３を表わし、平均で０．１または０．８を表わし、特
に０．２〜０．６を表わし、ａ、ｂおよびｃのそれぞれ
の平均値の総和は３．４以下である］でｍ示されるポリ
シロキサンから得られるような塩（Ｂ）を使用するのが
有利である。２５℃での粘度／分子量は１〜２０００、
有利に１０〜１００ｍｍ²／ｓである。

【００３９】１個の水素原子が結合しているそれぞれの
ケイ素原子に、さらに１個の炭化水素基、得にメチル基
が結合しているのが有利である。Ｒ²についてのＣ₁〜Ｃ
₁₅炭化水素基の例は、オルガノアルコキシシラン（Ａ
１）において前記したＣ₁〜Ｃ_{1 5}炭化水素基である。メ
チル基およびフェニル基が特に有利である。

【００４０】基Ｒ³として、式： Ｒ⁵ ₂ＮＲ⁶− ［式中、Ｒ⁵は水素または同じまたは異なるＣ₁〜Ｃ₁₅ア
ルキル−またはＣ₁〜Ｃ_{1 5}アミノアルキル基を表わし、
Ｒ⁶は二価のＣ₁〜Ｃ₁₈炭化水素基を表わす］で示される
ようなものが有利である。

【００４１】Ｒ²についてのアルキル基の前記した例
は、Ｒ⁵にも当てはまる。基Ｒ⁵がＣ₁〜Ｃ₁₅アミノアル
キル基を表わす場合、このアミノ基は２個の水素原子を
有するのが有利である。

【００４２】前記した式のそれぞれの窒素原子には少な
くとも１個の水素原子が結合しているのが有利である。

【００４３】二価の炭化水素基Ｒ⁶の例は、飽和アルキ
レン基、たとえばメチレン−およびエチレン基、ならび
にプロピレン−、ブチレン−、ペンチレン−、ヘキシレ
ン−、シクロへキシレン−およびオクタデシレン基また
は不飽和アルキレン−またはアリーレン基、たとえばヘ
キセニル基およびフェニレン基であり、その中でｎ−プ
ロピレン基が特に有利である。

【００４４】塩（Ｂ）の製造のために、塩の形でその他
の含浸組成物の成分に対して化学的に不活性に挙動する
全ての水溶性の有機または無機の酸が適している。この
種の酸の例は、塩酸、硫酸、リン酸、酢酸およびプロピ
オン酸である。酢酸およびプロピオン酸が有利である。

【００４５】本発明により使用された含浸組成物は、
（Ａ１）アルコキシシランおよび／または（Ａ２）オル
ガノシロキサンおよび水溶性の有機または無機の酸とオ
ルガノポリシロキサンとの塩に対して付加的に、（Ｃ）
Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ基を有し、かつ２５℃で２０ｍｍ²
／ｓ以上の粘度を有するモノマーおよび／またはポリマ
ーのケイ酸エステルを含有してもよい。一定のケイ酸エ
ステルまたは異なるケイ酸エステルの混合物が使用でき
る。このケイ酸エステル（Ｃ）の製造は、W. Noll, 第
２版１９６８年、Verlag Chemie, Weinheim, 第１１章
に記載されている。有利なケイ酸エステルはＣ₁〜Ｃ₃ア
ルコキシ基を含有し、２５℃で１〜５ｍｍ²／ｓの粘度
を有する。

【００４６】有利なケイ酸エステルの例は、テトラメチ
ルシリケート、テトラエチルシリケートおよびテトライ
ソプロピルシリケートである。

【００４７】本発明により製造された希釈されていない
含浸組成物は、オルガノアルコキシシラン（Ａ１）を有
利に２０〜８０重量％、特に３５〜５５重量５を含有す
る。

【００４８】オルガノシロキサン（Ａ２）の有利な量
は、希釈されていない組成物において、５〜８０重量
％、特に１０〜３０重量％である。

【００４９】アルキルアルコキシシラン（Ａ１）とオル
ガノシロキサン（Ａ２）との重量比は、希釈されていな
い組成物において、０：１〜１：０であり、有利に２：
１〜１０：１である。

【００５０】本発明により使用した希釈されていない含
浸組成物は、塩（Ｂ）を有利に５〜５０重量％、特に１
５〜３０重量％含有する。

【００５１】本発明により使用した希釈されていない含
浸組成物が、付加的にケイ酸エステル（Ｃ）を含有する
場合、この量は３０重量％以下、有利に５〜１５重量％
である。

【００５２】含浸組成物は本発明による方法において、
１：４〜１：３０、有利に１：１１〜１：１４の重量比
で、水で希釈され、高分散形で使用される。この含浸組
成物は、水で希釈すると、透明な混合物を生じる。

【００５３】含浸組成物は、前記した成分に対して付加
的に、添加物として、殺真菌剤、殺細菌剤、アルジサイ
ド、殺微生物剤、香料、腐食防止剤および消泡剤を含有
してもよい。希釈されていない含浸組成物は、添加剤を
それぞれ有利に０．００１〜１重量％、特に０．０１〜
０．１重量％の量で含有する。

【００５４】次の例において、他に記載のない場合に、 ａ） 全ての量の数値は重量に関し、 ｂ） 全ての圧力は０．１０ＭＰａ（絶対）であり、 ｃ） 全ての温度は２５℃である。

【００５５】

【実施例】

オルガノシロキサン（Ａ２）の製造 連続的に作業する反応装置において、メチルトリクロロ
シラン２重量部とｉ−オクチルトリクロロシラン１重量
部との混合物と、水１重量部とメタノール２重量部との
混合物とを、１４ｍｍ²／ｓの粘度を有する加水分解物
が得られるように反応させた。

【００５６】塩（Ｂ）の製造 攪拌機、滴下漏斗および還流冷却器を備えた１ｌの三口
フラスコ中で、攪拌しながら、メタノール４ｇ中のＫＯ
Ｈ０．２ｇと、式： ＣＨ₃Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）_0.8Ｏ_1.1 で示される平均分子量約６００ｇ／ｍｏｌおよび粘度約
２０ｍｍ²／ｓを有するオルガノポリシロキサン５００
ｇとの混合物に、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミ
ノプロピルトリメトキシシラン１５０ｇを添加し、こう
して得られた混合物を６時間加熱還流させた。引き続き
３０℃に冷却し、１０％の塩酸２．５ｍｌと共に混合し
た。１４０℃まで加熱することにより、引き続きメタノ
ールを留去し、こうして得られたＫＣｌの塩（Ｂ）を濾
過することにより分離した。この塩（Ｂ）は重量に対し
て２．９％の塩基性窒素を含有していた。

【００５７】飽和水酸化カルシウムの製造 水酸化カルシウムまたは消石灰を水に分散させた。２４
時間後に上相の透明な水溶液をデカントし、本発明によ
る方法に使用した。

【００５８】含浸組成物の製造 前記した塩（Ｂ）２４．２重量部を、順番に、酢酸６重
量部、イソオクチルトリメトキシシラン４５．６重量
部、テトラエチルシリケート１３．８重量部および前記
したオルガノシロキサン（Ａ２）１０．４重量部と混合
し、９０℃で５時間加熱し、その際、透明な溶液が形成
された。冷却した後、得られた含浸組成物を、後に記載
する例中での詳細に応じて、水で希釈した。高分散の透
明な混合物が得られた。

【００５９】例１ ２４×１２×７．５ｃｍの寸法および４０９１ｇの平均
重量ならびに１８．９重量％の最大吸水能力を有するの
使用済みのレンガを、一方は水中で（シリーズａ）、も
う一方は飽和水酸化カルシウム溶液中で（シリーズｂ）
３日間貯蔵し、次いで、室温で４時間、個々に表面的に
空気にさらした。次いで両方の試験系列のレンガの頭側
（頭側とはレンガの両方の幅の狭い側、つまり１２×
７．５ｃｍの側と理解される）を、１：１１に水で希釈
した前記のように製造した含浸組成物中で１ｃｍの深さ
で２４時間漬けた。

【００６０】計量した後、すぐに両方の試験系列のレン
ガの同じ側を水に１ｃｍの深さで漬けた。レンガの重量
変化を週単位の計量により追跡し、表Ｉに記載した水含
量が計算された。

【００６１】 表Ｉ：レンガの水含量（ｇ） レンガ 初期重量 １週間 ２週間 ３週間 ４週間 ５週間シリ -ス゛ａ 591.4 609.2 618.3 629.9 634.5 636.6シリ -ス゛ｂ 508.4 105.4 86.5 68.8 67.5 66.8 水に関する初期重量は、レンガを希釈した含浸組成物に
２４時間浸した後のレンガ重量と試験の前のレンガ重量
の差として計算した。

【００６２】例２ 例１からのレンガと同様の計測で６．７重量％の最大の
吸水能力を有する燒結したレンガを、３日間水中で貯蔵
した。４時間室温で空気にさらした後、頭側を前記のよ
うに製造し１：９に水で希釈した含浸組成物中に１ｃｍ
の深さで浸した。

【００６３】計量した後、レンガを２つのシリーズに分
けた。シリーズａは処理した側を水道水に１ｃｍの深さ
で浸し、シリーズｂは処理した側を飽和水酸化カルシウ
ム溶液に１ｃｍの深さで浸した。レンガの重量変化を週
単位の計量により追跡し、表ＩＩに記載した水含量が計
算された。

【００６４】 表ＩＩ：レンガの水含量（ｇ） レンガ Ａ1 １週間 ２週間 ３週間 ４週間 ５週間 ６週間 ７週間シリ -ス゛ａ 247.1 253.8 256.4 261.4 264.0 267.3 272.1 273.2シリ -ス゛ｂ 239.0 243.7 259.7 251.7 243.2 43.7 31.0 25.0 Ａ1：水に関する初期重量は、レンガを希釈した含浸組
成物中に２４時間浸した後のレンガ重量と、試験する前
のレンガ重量との差として計算した。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特公 昭63−16415（ＪＰ，Ｂ２) 特公 平４−22945（ＪＰ，Ｂ２)

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 次の成分： （Ａ１）オルガノアルコキシシランおよび／または（Ａ
   ２）アルコキシ基含有オルガノシロキサンおよび（ Ｂ
   ）水溶性有機酸または無機酸とオルガノポリシロキサ
   ンとの塩を含み、前記オルガノポリシロキサンは他のオ
   ルガノシロキサン単位に対して付加的に、ＳｉＣを介し
   て結合した塩基性窒素を有する一価の基がオルガノポリ
   シロキサンの重量に対して少なくとも０．５重量％の量
   で塩基性窒素を有するようなシロキサン単位を含有する
   水で希釈した高分散含浸組成物で組積構築物を処理する
   ことにより組積構築物を撥水性に含浸する方法におい
   て、前記組積構築物をアルカリ性にすることを特徴とす
   る組積構築物を撥水性に含浸する方法。
2. 【請求項２】 含浸組成物が付加的に（Ｃ）Ｃ₁〜Ｃ₆ア
   ルコキシ基を有しかつ２５℃で２０ｍｍ²／ｓの粘度を
   有するモノマーおよび／またはポリマーのケイ酸エステ
   ルを含有する請求項１記載の方法。