JPH0670147B2 - 二軸配向ポリエステルフイルム - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ＜産業上の利用分野＞ 本発明は二軸配向ポリエステルフイルムに関し、更に詳
しくは高酸素濃度雰囲気中でプラズマ処理を施した滑剤
微粒子を添加含有させたポリエステルからなり、耐削れ
性，滑り性に優れ、さらに耐スクラッチ性の改善された
二軸配向ポリエステルフイルムに関する。

＜従来技術＞ ポリエチレンテレフタレートフイルムに代表されるポリ
エステルフイルムは、その優れた物理的，化学的特性の
故に、広い用途に用いられ、例えば磁気テープ用，コン
デンサー用，写真用，包装用,OHP用等に用いられてい
る。

ポリエステルフイルムにおいてはその滑り性や耐削れ性
がフイルムの製造工程および各用途における加工工程の
作業性の良否、さらにはその製品品質の良否を左右する
大きな要因となっている。これらが不足すると、例えば
ポリエステルフイルム表面に磁性層を塗布し、磁気テー
プとして用いる場合には、磁性層塗布時におけるコーテ
ィングロールとフイルム表面との摩擦が激しく、またこ
れによるフイルム表面の摩耗も激しく、極端な場合には
フイルム表面へのしわ，擦り傷等が発生する。また磁性
層塗布後のフイルムをスリットしてオーディオ，ビデオ
またはコンピューター用テープ等に加工した後でも、リ
ールやカセット等からの引き出し、巻き上げその他の操
作の際に、多くのガイド部，再生ヘッド等との間で摩耗
が著しく生じ、擦り傷，歪の発生，さらにはポリエステ
ルフイルム表面削れ等による白粉状物質を析出させる結
果、磁気記録信号の欠落、即ちドロップアウトの大きな
原因となることが多い。

一般にフイルムの滑り性の改良には、フイルム表面凹凸
を付与することによりガイドロール等との間の接触面積
を減少せしめる方法が採用されており、大別して（ｉ）
フイルム原料に用いる高分子の触媒残渣から不活性の微
粒子を析出せしめる方法と、（ii）不活性の微粒子を添
加せしめる方法が用いられている。これら原料高分子中
の微粒子は、その大きさが大きい程、滑り性の改良効果
が大であるのが一般的であるが、磁気テープ、特にビデ
オ用のごとき精密用途には、その粒子が大きいこと自体
がドロップアウト等の欠点発生の原因ともなり得るた
め、フイルム表面の凹凸は出来るだけ微細である必要が
あり、これら相反する特性を同時に満足すべき要求がな
されているのが現状である。

また、上記不活性微粒子を含有するポリエステルからな
るフイルムは、通常二軸延伸によって該微粒子とポリエ
ステルの境界に剥離が生じ、該微粒子の囲りにボイドが
形成されている。このボイドは、微粒子が大きいほど、
形状が板状より球状ほど、また微粒子が単一粒子で変形
しにくいほど、そしてまた未延伸フイルムを延伸する際
に延伸面積倍率が大きいほど、また低温で行うほど大き
くなる。このボイドは、大きくなればなる程突起の形状
がゆるやかな形となって摩擦係数を高くすると共に繰り
返し使用時に生じた二軸配向ポリエステルフイルムのボ
イド上に小さな傷（スクラッチ）によっても粒子の脱落
が起り、耐久性を低下させると共に削れ粉発生の原因と
なっている。不活性微粒子として、炭酸カルシウム，酸
化チタン，カオリン等の１種または２種以上（大粒子と
小粒子の組合せ）を添加することが従来からよく行われ
ている（特開昭51-34272号，特開昭52-78953号，特開昭
52-78954号，特開昭53-41355号，特開昭53-71154号等）
がこれら微粒子は大きなボイドを形成することから上述
の問題を内在しており、この改善も望まれている。ま
た、ポリエステル製造時に析出させた析出粒子（例えば
ポリエステルオリゴマー金属塩等）はボイドが小さく、
削れ性がよいが、走行性，耐スクラッチ性に劣る等の欠
点を有している。

＜発明の目的＞ 本発明者は、これら不都合を解消し、滑剤微粒子周辺の
ボイドが小さく且つフイルム表面が適度に粗れることに
よってフイルムの滑り性と耐削れ性が向上し、しかも各
用途に適した表面の二軸配向ポリエステルフイルムを得
るために鋭意検討の結果、本発明に至ったものである。

従って、本発明の目的は、ボイドが小さく、滑り性，耐
削れ性，耐スクラッチ性に優れた二軸配向ポリエステル
フイルムを提供することにある。

＜発明の構成・効果＞ 本発明の目的は、本発明によれば、酸素濃度50％以上の
雰囲気中でプラズマ処理を施した微粒子を0.005〜３重
量％添加含有させたポリエステルからなることを特徴と
する二軸配向ポリエステルフイルムによって達成され
る。

本発明におけるポリエステルとは、芳香族ジカルボン酸
を主たる酸成分とし、脂肪族グリコールを主たるグリコ
ール成分とするポリエステルである。かかるポリエステ
ルは実質的に線状であり、そしてフイルム形成性特に溶
融成形によるフイルム形成性を有する。芳香族ジカルボ
ン酸としては、例えばテレフタル酸，ナフタレンジカル
ボン酸，イソフタル酸，ジフェノキシエタンジカルボン
酸，ジフェニルジカルボン酸，ジフェニルエーテルジカ
ルボン酸，ジフェニルスルホンジカルボン酸，ジフェニ
ルケトンジカルボン酸，アンスラセンジカルボン酸等を
挙げることができる。脂肪族グリコールとしては、例え
ばエチレングリコール，トリメチレングリコール，テト
ラメチレングリコール，ペンタメチレングリコール，ヘ
キサメチレングリコール，デカメチレングリコール等の
如き炭素数２〜10のポリメチレングリコールあるいはシ
クロヘキサンジメタノールの如き脂環族ジオール等を挙
げることができる。

本発明において、ポリエステルとしては例えばアルキレ
ンテレフタレートおよび／またはアルキレンナフタレー
トを主たる構成成分とするものが好ましく用いられる。

かかるポリエステルのうちでも例えばポリエチレンテレ
フタレート，ポリエチレン−2,6−ナフタレートはもち
ろんのこと、例えば全酸成分の80モル％以上がテレフタ
ル酸および／または2,6−ナフタレンジカルボン酸であ
り、全グリコール成分の80モル％以上がエチレングリコ
ールである共重合体が好ましい。その際全酸成分の20モ
ル％以下はテレフタル酸および／または2,6−ナフタレ
ンジカルボン酸以外の上記芳香族ジカルボン酸であるこ
とができ、また例えばアジピン酸，セバチン酸等の如き
脂肪族ジカルボン酸；シクロヘキサン−1,4−ジカルボ
ン酸の如き脂環族ジカルボン酸等であることができる。
また、全グリコール成分の20モル％以下は、エチレング
リコール以外の上記グリコールであることができ、ある
いは例えばハイドロキノン，レゾルシン,2,2−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）プロパン等の如き芳香族ジオー
ル;1,4−ジヒドロキシメチルベンゼンの如き芳香環を含
む脂肪族ジオール；ポリエチレングリコール，ポリプロ
ピレングリコール，ポリテトラメチレングリコール等の
如きポリアルキレングリコール（ポリオキシアルキレン
グリコール）等であることもできる。

また、本発明におけるポリエステルには、例えばヒドロ
キシ安息香酸の如き芳香族オキシ酸；ω−ヒドロキシカ
プロン酸の如き脂肪族オキシ酸等のオキシカルボン酸に
由来する成分を、ジカルボン酸成分およびオキシカルボ
ン酸成分の総量に対し20％モル％以下で共重合あるいは
結合するものも包含される。

さらに本発明におけるポリエステルには実質的に線状で
ある範囲の量、例えば全酸成分に対し２モル％以下の量
で、３官能以上のポリカルボン酸またはポリヒドロキシ
化合物、例えばトリメリット酸，ペンタエリスリトール
等を共重合したものも包含される。

上記ポリエステルは、それ自体公知であり、且つそれ自
体公知の方法で製造することができる。

上記ポリエステルとしては、Ｏ−クロロフェノール中の
溶液として35℃で測定して求めた固有粘度が約0.4〜約
0.9のものが好ましい。

本発明における二軸配向ポリエステルフイルムは、その
フイルム表面に多数の微細な突起を有している。そして
これら多数の微細な突起は、フイルム中に添加含有され
ている無機もしくは有機の微粒子に由来する。この微粒
子は、平均粒径が0.05〜４μｍ、さらには0.1〜３μ
ｍ、特に0.1〜２μｍであるものが好ましい。この平均
粒径が小さすぎると、滑り性や耐スクラッチ性の向上効
率が不十分であり、また大きすぎると、フイルム表面が
粗れすぎるので、好ましくない。

本発明において滑剤微粒子の添加含有量は、ポリエステ
ルに対して、0.005〜３重量％とする必要がある。好ま
しくは0.01〜1.0重量％であり、さらに好ましくは0.05
〜0.5重量％である。この添加含有量が0.005重量％未満
では、滑り性や耐削れ性の向上効果が不十分であり、一
方３重量％を越えると製造工程でのフイルムの切断が多
発し、好ましくない。

上述の微粒子としては、本発明においては、好ましくは
二酸化ケイ素（水和物，ケイ藻土，ケイ砂，石英等を
含む），アルミナ；SiO₂分を30重量％以上含有する
ケイ酸塩（例えば非晶質或いは結晶質の粘土鉱物，アル
ミノシリケート（焼成物や水和物を含む）、温石綿，ジ
ルコン，フライアッシュ等）、Mg,Zn,Zr,およびTiの
酸化物；Ca,およびBaの硫酸塩；Li,Na,およびCaの
リン酸塩（１水素塩や２水素塩を含む）；Li,Na,およ
びＫの安息香酸塩；Ca,Ba,Zn,およびMnのテレフタル
酸塩；Mg,Ca,Ba,Zn,Cd,Pb,Sr,Mn,Fe,Co,およびNiのチ
タン酸塩；Ba,およびPbのクロム酸塩；炭素（例え
ばカーボンブラック，グラファイト等）；ガラス（例
えばガラス粉，ガラスビーズ等）；Ca,およびMgの炭
酸塩；ホタル石；およびZnSが例示される。さらに
好ましくは、無水ケイ酸，含水ケイ酸，酸化アルミニウ
ム，ケイ酸アルミニウム（焼成物，水和物等を含む），
燐酸１リチウム，燐酸３リチウム，燐酸ナトリウム，燐
酸バリウム，酸化チタン，安息香酸リチウム，これらの
化合物の複塩（水和物を含む），ガラス粉，粘土（カオ
リン，ベントナイト，白土等を含む），タルク，ケイ藻
土，炭酸カルシウム等が例示される。

その他の微粒子としては、架橋ポリスチレン粒子，架橋
アクリル粒子等の如き架橋有機粒子が好ましく例示され
る。これら架橋有機粒子を構成する成分として、例えば
（メタ）アクリル酸，（メタ）アクリル酸エステル（例
えばメチルメタクリレート，ブチルアクリレート等）等
の如き不飽和非イオン性モノマー，マレイン酸ジアルキ
ルエステルの如き不飽和ジカルボン酸エステル，スチレ
ンの如き不飽和ビニル化合物，アクリロニトリルの如き
不飽和ニトリル化合物，不飽和カルボン酸のような官能
性モノマー，ヒドロキシエチルメタクリレートのような
ヒドロキシルを有するモノマー，グリシジルメタクリレ
ートのようなエポキシド基を有するモノマー，不飽和ス
ルホン酸等が挙げられる。

本発明においては、上述の微粒子はポリエステルに添加
含有させる前に酸素濃度50％以上の雰囲気中でプラズマ
処理を施す必要がある。ここで、プラズマ処理とは高電
圧を付与した電極近傍で発生するプラズマによる処理を
行うものである。プラズマは、分子または原子が解離
し、中性原子の他に陽イオンとこれにほぼつり合った数
の陰イオンまたは電子を含んだ気体となった状態であ
る。そしてこの様な状態を起こさせる外的条件として、
数千度から数万度に達する温度以外の方法を用いる、い
わゆる低温プラズマを用いる。

このような低温プラズマを生ずる電源としては、周知の
如き高周波，マイクロウエーブ，直流，交流などがあ
り、また放電の方式としてはグロー放電，コロナ放電な
どがある。

このようなプラズマを用いて滑剤微粒子を均一に処理す
るために該微粒子を撹拌するのが望ましい。

プラズマ気体としては、空気，酸素，水素，アンモニ
ア，二酸価炭素，四フッ化炭素，窒素，アルゴン，ヘリ
ウム等の反応性または非反応性の気体またはこれら気体
の二種以上の混合物を用いることができる。しかし、本
発明におけるプラズマ処理の目的は微粒子の表面に酸化
による極性基を付与することにあり、このため酸素濃度
を高めた雰囲気中でプラズマ処理することが必要であ
る。そして、酸素濃度は50％以上、好ましくは75％以
上、さらに好ましくは90％以上である。酸素濃度が高い
方が各種の微粒子の表面に酸化による極性基を有効に付
与することができる。

プラズマ処理において、処理装置内の真空度は低圧で処
理する場合には0.01〜10mmHg、さらには0.05〜5mmHg、
特に0.1〜2mmHgであることが好ましい。また常圧で処理
する場合には処理気体を処理する微粒子と接触させるよ
うにして処理することもできる。

処理時間は、プラズマ気体の種類，プラズマの出力，微
粒子の種類等によって、適切に選択することが好まし
い。

プラズマ処理した微粒子を含有するポリエステルは、通
常ポリエステルを形成するための反応時、例えばエステ
ル交換法による場合のエステル交換反応中あるいは重縮
合反応中の任意の時期、または直接重合法による場合の
任意の時期に、上記微粒子（好ましくはグリコール中の
スラリーとして）を反応系中に添加することにより製造
することができる。好ましくは、重縮合反応の初期例え
ば固有粘度が約0.3に至るまでの間に、該微粒子を反応
系中に添加するのが好ましい。

本発明における二軸配向ポリエステルフイルムは、その
製造法によって特に制限を受けないが、通常所定割合の
微粒子を含有するポリエステルを溶融し、スリット状の
ダイからシート状に押出し、キャスティングドラムで冷
却固化して未延伸シートとなし、続いて該未延伸シート
を二軸方向に延伸して製品（フイルム）となし、さらに
加熱処理（ヒートセット），横方向の熱収縮率の調節処
理をすることによって製造される。その際、例えば延伸
温度は一段目延伸温度（例えば縦方向延伸温度:T₁）を
（Tg−10）〜（Tg＋45）℃の範囲（但し、Tg:ポリエス
テルのガラス転移温度）とし、二段目延伸温度（例えば
横方向延伸温度:T₂）を（T₁＋15）〜（T₁＋40）℃の範
囲とし、延伸倍率は一段目延伸では2.5〜6.0倍、特に3.
5〜5.5倍とし、二段目延伸では2.5〜4.0倍、特に2.8〜
3.7倍とするのが好ましい。さらに得られる二軸延伸フ
イルムは好ましくは150〜245℃、さらに好ましくは170
〜240℃の範囲の温度で１〜200秒程度熱固定する。さら
に、通常テンターにおける熱処理条件を調節して横方向
の熱収縮率を調整し、その後縦弛緩処理を行うこともで
きる。

本発明における二軸配向ポリエステルフイルムは、微粒
子の周りのボイドが小さいという特徴を有する。これ
は、滑剤微粒子のポリエステルに対する親和性がプラズ
マ処理によって高められたことによる、と考えられる。
この親和性をボイド比で表現すると、通常滑剤の種類に
もよるが、プラズマ処理をしない微粒子の場合に比して
プラズマ処理をした微粒子の場合のボイド比が0.1以
上、さらには0.2以上、特に0.3以上改善され、小さくな
っている。二軸配向ポリエステルフイルムのボイド比
は、微粒子の種類，プラズマ処理の条件，延伸処理の条
件等によって変化するが、1.7以下、さらには1.5以下、
特に1.3以下であることが好ましい。このボイド比が小
さい程、耐削れ性，耐スクラッチ性が優れたものとな
る。また、二軸配向ポリエステルは摩擦係数が0.4以下
であることが好ましい。

本発明における二軸配向ポリエステルフイルムは、優れ
た滑り性および耐削れ性を有し、切り傷，白粉等の発生
量が著しく少ないという特徴を有する。この二軸配向ポ
リエステルフイルムはこれらの特性を活かして各種の用
途に広く用いることができる。例えば、磁気記録用例え
ばビデオ用，オーディオ用，コンピューター用などのベ
ースフイルムとして用いると、優れた電磁変換特性，滑
り性，走行耐久性等が得られる。またコンデンサー用途
に用いると、低い摩擦係数，優れた巻回性，低いつぶれ
荷重，高い透明性等が得られる。上述のように、この二
軸配向ポリエステルフイルムは磁気記録媒体のベースフ
イルム、特に磁気テープのベースフイルムに用いるのが
好ましいが、これに限定されるものでなく、電気用途，
包装用途および蒸着用フイルム等の他の分野へも広く適
用することができる。またフイルムはその片面または両
面に易接着処理例えば易接着層コーティング，コロナ処
理等の表面処理が施されていてもよい。さらにフイルム
は帯電防止剤，紫外線吸収剤，着色剤などの第３成分を
含んでいてもかまわない。

＜実施例＞ 以下、実施例を掲げて本発明をさらに説明する。なお本
発明における種々の物性値および特性は以下の如く測定
されたものである。

（１）微粒子の平均粒径（DP） 島津製作所製CP−50型セントリフュグル パーティクル
サイズ アナライザー （Centrifugal Particle Size Analyser）を用いて測定
する。得られる遠心沈降曲線を基に算出した各粒径の粒
子とその存在量との積算曲線から、50マスパーセントに
相当する粒径を読み取り、この値を上記平均粒径とする
（Book「粒度測定技術」日刊工業新聞社発行,1975年，
頁242〜247参照）。

（２）ボイド比 試料フイルム小片を走査型電子顕微鏡用試料台に固定
し、日本電子（株）製スパッターリング装置（JFC-1100
型イオンスパッタリング装置）を用いてフイルム表面に
下記条件にてイオンエッチング処理を施す。条件は、ベ
ルジャー内に試料を設置し、約10^-3Torrの真空状態まで
真空度を上げ、電圧0.25KV,電流12.5mAにて約10分間イ
オンエッチングを実施する。更に同装置にて、フイルム
表面に金スパッターを施し、走査型電子顕微鏡にて例え
ば10000〜30000倍で観察し、日本レギュレーター（株）
製ルーゼックス500にて少なくとも50個の微粒子の長径
とボイドの長径を測定し、次式 で求めるホイド比の数平均値で表わす。

（３）フイルム表面粗さ（Ra） 中心線平均粗さ（Ra）としてJIS−B0601で定義される値
であり、本発明では（株）小坂研究所の触針式表面粗さ
計（SURFCORDER SE-30C）を用いて測定する。測定条件
は次の通りである。

（ａ）触針先端半径:2μｍ （ｂ）測定圧力:30mg （ｃ）カットオフ:0.25mm （ｄ）測定長:0.5mm （ｅ）データーのまとめ方 同一資料について５回繰返し測定し、最も大きい値を１
つ除き、残り４つのデーターの平均値の小数点以下４桁
目を四捨五入し、小数点以下３桁目まで表示する。

（４）摩擦係数（μｋ） 温度20℃，湿度60％の環境で、巾1/2インチに裁断した
フイルムを、固定棒（表面粗さ0.3μｍ）に角度θ＝（1
52/180）πラジアン（152゜）で接触させて毎秒200mmの
速さで10m移動（摩擦）させる。入り口テンションT₁が3
5gとなるようにテンションコントローラーを調整した時
の出口テンション（T₂:g）を、上記移動を200回繰返し
たのちに出口テンション検出機で検出し、次式で走行摩
擦係数μｋを算出する。

μｋ＝（2.303/θ）log（T₂/T₁） ＝0.868log（T₂/35） （５）削れ性 フイルムの走行面の削れ性を５段のミニスーパーカレン
ダーを使用して評価する。カレンダーはナイロンロール
とスチールロールの５段カレンダーであり、処理温度は
80℃，フイルムにかかる線圧は200Kg/cm,フイルムスピ
ードは50m/分で走行させる。走行フイルムは全長2000m
走行させた時点でカレンダーのトップローラーに付着す
る汚れで、フイルムの削れ性を次の４段階で評価する。

◎ナイロンロールの汚れ全くなし ○ナイロンロールの汚れほとんどなし ×ナイロンロールが汚れる ××ナイロンロールがひどく汚れる （６）耐スクラッチ性 1/2インチ巾に切断したフイルムを上記（４）の摩擦係
数測定装置を用いて、フイルム面が固定棒に152゜の角
度で接触する様にかけ、20cm/sec速度で10m走行させ、
これを50回繰返した後の該フイルムの表面に入ったスク
ラッチの太さ，深さ，数を総合して次の５段階で判定す
る。

◎1/2インチ巾のフイルムに全くスクラッチが認められ
ない ○1/2インチ巾のフイルムにほとんどスクラッチが認め
られない △1/2インチ巾のフイルムにスクラッチが認められる
（何本か） ×1/2インチ巾のフイルムに太いスクラッチが何本か認
められる ××1/2インチ巾のフイルムに太く深いスクラッチが多
数全面に認められる （７）ピン削れ性 上記（４）に記載の条件，内容でフイルムの摩擦係数
（μｋ）を測定した後、固定棒（ピン）に付着する汚れ
でベースフイルムの削れ性を次の４段階で評価する。

◎固定棒（ピン）の汚れ全くなし ○固定棒（ピン）の汚れほどんどなし △固定棒（ピン）が汚れる ×固定棒（ピン）がひどく汚れる （８）ドロップアウト 市販のドロップアウトカウンター（例えばシバソクVH01
BZ型）にて５μsec×10dBのドロップアウトをカウント
し、１分間のカウント数を算出する。

（９）電磁変換特性（クロマS/N） 市販の家庭用VTRをもちいて50％白レベル信号（100％白
レベル信号はピーク：ツー：ピークの電圧が0.714ボル
トである）に、100％クロマレベル信号を重畳した信号
を記録し、その再生信号をシバソクソイズメーターType
925Rを用いて測定を行う。クロマS/Nの定義はシバソク
の定義に従い次のとおりである。

ここでES（p-p）は白レベル信号の再生信号のピーク：
ツー：ピークの電圧差（p-p）である。

ES（p-p）＝0.714V（p-p） また、EN（rms）はクロマレベル信号の再生信号のピー
クの電圧の平方根値である。

EN（rms）＝AMノイズ実効値電圧（Ｖ） 比較例１〜６ ジメチルテレフタレートとエチレングリコールとを、エ
ステル交換触媒として酢酸マンガンを、重合触媒として
三酸化アンチモンを、安定剤として亜燐酸を、さらに滑
剤として第１表に示す微粒子を添加して、常法により重
合し、固有粘度（オルソクロロフェノール,35℃）0.62
のポリエチレンテレフタレートを得た。

このポリエチレンテレフタレートのペレットを170℃で
３時間乾燥後押出機ホッパーに供給し、溶融温度280〜3
00℃で溶融し、この溶融ポリマーを1mmのスリット状ダ
イを通して表面仕上げ0.3s程度、表面温度20℃の回転冷
却ドラム上に形成押出し、200μｍの未延伸フイルムを
得た。

このようにして得られた未延伸フイルムを75℃にて予熱
し、さらに低速，高速のロール間で15mm上方より900℃
の表面温度の1Rヒーター１本にて加熱して3.6倍に延伸
し、急冷し、続いてステンターに供給し、105℃にて横
方向に3.7倍に延伸した。得られた二軸配向フイルムを2
05℃の温度で５秒間熱固定し、厚み15μｍの熱固定二軸
配向フイルムを得た。

このフイルムの特性を第１表に示す。

実施例１〜22 滑剤として第２表に示す種類のものを、プラズマ処理装
置（東芝（株）製）を用いて撹拌させながら酸素高濃度
下で周波数13.56MHz,マイクロ波電力200Wで処理した。

得られたプラズマ処理滑剤を用いる以外は比較例１〜６
と同様に行って二軸配向ポリエステルフイルムを得た。

これらのフイルムの特性を第２表に示すが、これらのフ
イルムは比較例１〜６に比して、耐削れ性，走行性，耐
スクラッチ性に優れている。

また、高酸素濃度条件の方が、これらのフイルム特性は
優れている。

比較例7,8および実施例23,24 比較例５および３で得られたフイルム、並びに実施例11
および19で得られたフイルムを各々ベースとして、フイ
ルム上に、下記組成 Co含有酸化鉄粉末 100重量部 エスレックＡ（積水化学製塩化ビニル−酢酸ビニル共重
合体） 10 〃 ニッポラン2304（日本ポリウレタン製ポリウレタンエラ
ストマー） 10 〃 コロネートＬ（日本ポリウレタン製ポリイソシアネー
ト） ５ 〃 レシチン １ 〃 メチルエチルケトン 75 〃 メチルイソブチルケトン 75 〃 トルエン 75 〃 添加剤（準滑剤，シリコン樹脂） 0.15 〃 を持つ磁性粉末塗料をグラビアロールにより塗布し、ド
クターナイフにより磁性塗料層をスムージングし、磁性
塗料の未だ乾かぬ間に常法により磁気配向させ、しかる
後オーブンに導いて乾燥キュアリングした。さらにカレ
ンダー加工して塗布表面を均一にし、スリットした約５
μｍの磁性層を形成した1/2インチ巾の磁気テープを作
成した。この磁気テープの特性を第３表に示す。

実施例23,24で得た磁気テープは、ベースフイルムの優
れた耐削れ性と耐スクラッチ性によって削れ、スクラッ
チが認められず、従ってテープの削れから発生するドロ
ップアウト（D/O）は少なく良好であり、また電磁変換
特性も好レベルを保っている。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ２９Ｋ 67:00 105:16 Ｂ２９Ｌ 7:00 4Ｆ

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】酸素濃度50％以上の雰囲気中でプラスマ処
   理を施した微粒子を0.005〜３重量％添加含有させたポ
   リエステルからなることを特徴とする二軸配向ポリエス
   テルフイルム。
2. 【請求項２】微粒子の平均粒径が0.05〜４μｍである請
   求項１記載の二軸配向ポリエステルフイルム。