JPH0671888A - 記録装置 - Google Patents
記録装置Info
- Publication number
- JPH0671888A JPH0671888A JP5068257A JP6825793A JPH0671888A JP H0671888 A JPH0671888 A JP H0671888A JP 5068257 A JP5068257 A JP 5068257A JP 6825793 A JP6825793 A JP 6825793A JP H0671888 A JPH0671888 A JP H0671888A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ink
- thin film
- resistor
- heating resistor
- sio
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2/14016—Structure of bubble jet print heads
- B41J2/14088—Structure of heating means
- B41J2/14112—Resistive element
- B41J2/1412—Shape
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2/14016—Structure of bubble jet print heads
- B41J2/14032—Structure of the pressure chamber
- B41J2/14056—Plural heating elements per ink chamber
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2/14016—Structure of bubble jet print heads
- B41J2/14088—Structure of heating means
- B41J2/14112—Resistive element
- B41J2/14129—Layer structure
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1601—Production of bubble jet print heads
- B41J2/1603—Production of bubble jet print heads of the front shooter type
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1601—Production of bubble jet print heads
- B41J2/1604—Production of bubble jet print heads of the edge shooter type
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1626—Manufacturing processes etching
- B41J2/1629—Manufacturing processes etching wet etching
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1631—Manufacturing processes photolithography
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1632—Manufacturing processes machining
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2202/00—Embodiments of or processes related to ink-jet or thermal heads
- B41J2202/01—Embodiments of or processes related to ink-jet heads
- B41J2202/03—Specific materials used
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2202/00—Embodiments of or processes related to ink-jet or thermal heads
- B41J2202/01—Embodiments of or processes related to ink-jet heads
- B41J2202/11—Embodiments of or processes related to ink-jet heads characterised by specific geometrical characteristics
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
- Non-Adjustable Resistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明はパルス加熱によってインク液滴を記
録媒体に向けて飛翔させる形式の記録装置に関するもの
で、特に薄膜発熱抵抗体の構成の簡略化、熱効率とイン
ク吐出周波数の大幅な向上を目的とする。 【構成】 オリフィス近傍に設けられた発熱抵抗体はＣ
ｒ−Ｓｉ−ＳｉＯまたはＴａ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵
抗体３／Ｎｉ薄膜導体４で構成されている。また、イン
ク通路８のインク溜め９側端部に、インク溜め側に向か
って拡がる空間を形成し、該空間内に前記発熱抵抗体、
あるいは別の発熱抵抗体を設ける。
録媒体に向けて飛翔させる形式の記録装置に関するもの
で、特に薄膜発熱抵抗体の構成の簡略化、熱効率とイン
ク吐出周波数の大幅な向上を目的とする。 【構成】 オリフィス近傍に設けられた発熱抵抗体はＣ
ｒ−Ｓｉ−ＳｉＯまたはＴａ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵
抗体３／Ｎｉ薄膜導体４で構成されている。また、イン
ク通路８のインク溜め９側端部に、インク溜め側に向か
って拡がる空間を形成し、該空間内に前記発熱抵抗体、
あるいは別の発熱抵抗体を設ける。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、熱エネルギーを利用し
てインク液滴を記録媒体に向けて飛翔させる形式の記録
装置に関するものである。
てインク液滴を記録媒体に向けて飛翔させる形式の記録
装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】パルス加熱によってインクの一部を急速
に気化させ、その膨張力によってインク液滴をオリフィ
スから吐出させる方式のインクジェット記録装置は特開
昭４８−９６２２号公報、特開昭５４−５１８３７号公
報等によって開示されている。
に気化させ、その膨張力によってインク液滴をオリフィ
スから吐出させる方式のインクジェット記録装置は特開
昭４８−９６２２号公報、特開昭５４−５１８３７号公
報等によって開示されている。
【０００３】このパルス加熱の最も簡便な方法は発熱抵
抗体にパルス通電することであり、その具体的な方法が
社団法人、日本工業技術振興協会主催のハードコピー先
端技術研究会（１９９２年２月２６日開催）、またはHe
wlett-Packard-Journal,Aug.1988で発表されている。こ
れら従来の発熱抵抗体の共通する基本的構成は、図２０
に示すように、薄膜抵抗体１３と薄膜導体１４を酸化防
止層１５で被覆し、この上に該酸化防止層１５のキャビ
テーション破壊を防ぐ目的で、耐キャビテーション層１
６、１７を１〜２層被覆するというものであった。
抗体にパルス通電することであり、その具体的な方法が
社団法人、日本工業技術振興協会主催のハードコピー先
端技術研究会（１９９２年２月２６日開催）、またはHe
wlett-Packard-Journal,Aug.1988で発表されている。こ
れら従来の発熱抵抗体の共通する基本的構成は、図２０
に示すように、薄膜抵抗体１３と薄膜導体１４を酸化防
止層１５で被覆し、この上に該酸化防止層１５のキャビ
テーション破壊を防ぐ目的で、耐キャビテーション層１
６、１７を１〜２層被覆するというものであった。
【０００４】このように複雑な構成としなければならな
い最大の原因は薄膜抵抗体１３にある。すなわち、従来
より該薄膜抵抗体として使用できる程度に比抵抗が大き
く、耐熱性、耐パルス性に富む材料としてはＴａＡｌ、
ＨｆＢ2など多くの材料が知られ、また利用されている
が、これらは全て酸化雰囲気中で加熱すると焼損してし
まうため、厚さ数μｍのＳｉＯ2やＳｉ3Ｎ4酸化防止層
１５で被覆しなければならなかった。前記薄膜抵抗体を
インク中で使用しても、インク中の溶存空気によって酸
化されてしまうので事情は同じである。
い最大の原因は薄膜抵抗体１３にある。すなわち、従来
より該薄膜抵抗体として使用できる程度に比抵抗が大き
く、耐熱性、耐パルス性に富む材料としてはＴａＡｌ、
ＨｆＢ2など多くの材料が知られ、また利用されている
が、これらは全て酸化雰囲気中で加熱すると焼損してし
まうため、厚さ数μｍのＳｉＯ2やＳｉ3Ｎ4酸化防止層
１５で被覆しなければならなかった。前記薄膜抵抗体を
インク中で使用しても、インク中の溶存空気によって酸
化されてしまうので事情は同じである。
【０００５】また、インク中でのパルス加熱で発生する
気泡が急激に消滅する際、キャビテーションが発生する
が、該キャビテーションは酸化防止層１５にクラックを
発生させ易く、ひいては薄膜抵抗体１３の焼損事故につ
ながる恐れがある。そこで、上記問題点を解決する目的
で、約０．４μｍの厚さのＴａ薄膜を耐キャビテーショ
ン層１６として用いるのが一般的である。
気泡が急激に消滅する際、キャビテーションが発生する
が、該キャビテーションは酸化防止層１５にクラックを
発生させ易く、ひいては薄膜抵抗体１３の焼損事故につ
ながる恐れがある。そこで、上記問題点を解決する目的
で、約０．４μｍの厚さのＴａ薄膜を耐キャビテーショ
ン層１６として用いるのが一般的である。
【０００６】このように、従来の発熱抵抗体は厚くて熱
容量の大きい２層の保護層（薄膜抵抗体の５０〜１００
倍）を通してインクをパルス加熱（パルス幅５〜１０μ
ｓ）しなければならないので、加熱の時間が遅れてしま
う不都合があったと同時に、気泡の消滅時においてもな
お、発熱抵抗体表面は高い温度を保ったままとなり、不
要な気泡（弱いながらも）を再発生させてしまってい
た。これは、当然のことながらインクの安定な吐出の障
害となり、吐出周期の短縮の隘路になっている。
容量の大きい２層の保護層（薄膜抵抗体の５０〜１００
倍）を通してインクをパルス加熱（パルス幅５〜１０μ
ｓ）しなければならないので、加熱の時間が遅れてしま
う不都合があったと同時に、気泡の消滅時においてもな
お、発熱抵抗体表面は高い温度を保ったままとなり、不
要な気泡（弱いながらも）を再発生させてしまってい
た。これは、当然のことながらインクの安定な吐出の障
害となり、吐出周期の短縮の隘路になっている。
【０００７】これを改善するため、保護層を不要化でき
る耐酸化性のある材料の開発が試みられてはいるが、実
用レベルには到達していないのが現状である。
る耐酸化性のある材料の開発が試みられてはいるが、実
用レベルには到達していないのが現状である。
【０００８】一方、前記構成の発熱抵抗体を用いつつ、
吐出周期の短縮の試み（特開昭６１−１０６２５９号公
報、特開昭６２−２４０５５８号公報）がなされている
が、前者は原理的にも吐出周期の短縮につながらず、後
者は隣接ノズルへの影響が大きいクロストークの問題を
解決できないので、いずれの方法も実用化されていない
のが現状である。
吐出周期の短縮の試み（特開昭６１−１０６２５９号公
報、特開昭６２−２４０５５８号公報）がなされている
が、前者は原理的にも吐出周期の短縮につながらず、後
者は隣接ノズルへの影響が大きいクロストークの問題を
解決できないので、いずれの方法も実用化されていない
のが現状である。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】上記した種々の問題を
抱えている従来の発熱抵抗体を抜本的に改善するために
は、水性インク中での使用に耐え得る耐酸化性、耐キャ
ビテーション性及び耐電食性に富む薄膜抵抗体材料を開
発しなければならない。それと同時に、水性インク中で
の使用に耐え得る薄膜導体材料も開発する必要がある。
勿論、この２つの材料とも、保護層を必要としないこと
が前提となる。そして、この保護層のない発熱抵抗体だ
けでも上述したようにインク吐出周期の短縮に貢献する
が、更に大きな短縮効果を図るべく新方式を開発し、併
せて低コスト、高信頼性、高熱効率でかつ高速印字の可
能なインクジェットプリンタを提供することが本発明の
目的である。
抱えている従来の発熱抵抗体を抜本的に改善するために
は、水性インク中での使用に耐え得る耐酸化性、耐キャ
ビテーション性及び耐電食性に富む薄膜抵抗体材料を開
発しなければならない。それと同時に、水性インク中で
の使用に耐え得る薄膜導体材料も開発する必要がある。
勿論、この２つの材料とも、保護層を必要としないこと
が前提となる。そして、この保護層のない発熱抵抗体だ
けでも上述したようにインク吐出周期の短縮に貢献する
が、更に大きな短縮効果を図るべく新方式を開発し、併
せて低コスト、高信頼性、高熱効率でかつ高速印字の可
能なインクジェットプリンタを提供することが本発明の
目的である。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的は、オリフィス
近傍に設けられた発熱抵抗体にパルス通電することによ
って液滴状インクを該吐出口から吐出させて記録する記
録装置において、前記発熱抵抗体をＣｒ−Ｓｉ−ＳｉＯ
またはＴａ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵抗体とＮｉ薄膜導
体とで構成することによって達成される。そして、前記
Ｃｒ−Ｓｉ−ＳｉＯまたはＴａ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜
抵抗体の形状を非対称とすることにより、上記目的は更
に効率よく達成される。
近傍に設けられた発熱抵抗体にパルス通電することによ
って液滴状インクを該吐出口から吐出させて記録する記
録装置において、前記発熱抵抗体をＣｒ−Ｓｉ−ＳｉＯ
またはＴａ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵抗体とＮｉ薄膜導
体とで構成することによって達成される。そして、前記
Ｃｒ−Ｓｉ−ＳｉＯまたはＴａ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜
抵抗体の形状を非対称とすることにより、上記目的は更
に効率よく達成される。
【００１１】また、吐出周期の大幅な短縮は、インク溜
めと、オリフィスと、該インク溜めとオリフィスを連通
するインク流路と、該インク流路内の前記オリフィス近
傍に設けられた発熱抵抗体を有する記録装置の前記イン
ク流路端部に、インク溜め側に向かって拡がる空間を形
成し、該インク流路内の該空間に前記発熱抵抗体あるい
は別の発熱抵抗体を設けることによって達成される。
めと、オリフィスと、該インク溜めとオリフィスを連通
するインク流路と、該インク流路内の前記オリフィス近
傍に設けられた発熱抵抗体を有する記録装置の前記イン
ク流路端部に、インク溜め側に向かって拡がる空間を形
成し、該インク流路内の該空間に前記発熱抵抗体あるい
は別の発熱抵抗体を設けることによって達成される。
【００１２】
【作用】上記のように構成された保護層のない発熱抵抗
体は、実施例で詳細に説明するように、水性インク中で
の過剰な投入エネルギ（必要印加エネルギの２倍）と１
μｓという非常に短いパルス駆動の条件で１０億パルス
以上の寿命を示す。しかも、従来の発熱抵抗体に比べ、
必要印加エネルギは１／３０以下と大幅に低減できる。
体は、実施例で詳細に説明するように、水性インク中で
の過剰な投入エネルギ（必要印加エネルギの２倍）と１
μｓという非常に短いパルス駆動の条件で１０億パルス
以上の寿命を示す。しかも、従来の発熱抵抗体に比べ、
必要印加エネルギは１／３０以下と大幅に低減できる。
【００１３】また、実施例で詳細に説明するように、イ
ンク溜め側に向かって広がる空間を形成したインク流路
の該空間内に吐出用または加圧用の発熱抵抗体を設ける
ことによって、該発熱抵抗体の発熱に伴って発生する気
泡の拡大と収縮に異方性が生じ、クロストークを発生さ
せることなくインクの高速補充が可能となる。
ンク溜め側に向かって広がる空間を形成したインク流路
の該空間内に吐出用または加圧用の発熱抵抗体を設ける
ことによって、該発熱抵抗体の発熱に伴って発生する気
泡の拡大と収縮に異方性が生じ、クロストークを発生さ
せることなくインクの高速補充が可能となる。
【００１４】
〔実施例１〕図１はパルス加熱によってオンデマンド記
録するインクジェットプリントヘッドに使用される本発
明の発熱抵抗体の断面図である。
録するインクジェットプリントヘッドに使用される本発
明の発熱抵抗体の断面図である。
【００１５】ガラス基板１の上に、特開昭５８−８４４
０１号公報に開示され、１９８２年Ｓａｎ Ｄｉｅｇｏ
で開催されたElectronics Components Conferenceにて
発表されたＣｒ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵抗体３を約７
００Åの厚さで形成し、この上に厚さ約２０００ÅのＮ
ｉ薄膜導体４、４´を積層した後、フォトエッチングに
よって、例えば幅、長さ共に約４０μｍの発熱抵抗体形
状に形成する。この時、Ｃｒ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵
抗体３のエッチングには沸硝酸系のエッチング液を用い
るため、図２で示すようにガラス基板１の上には約１５
００Åの厚さのＴａ2Ｏ5熱酸化膜２を予め形成しておい
て該ガラス基板１の保護をしておいてもよい。
０１号公報に開示され、１９８２年Ｓａｎ Ｄｉｅｇｏ
で開催されたElectronics Components Conferenceにて
発表されたＣｒ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵抗体３を約７
００Åの厚さで形成し、この上に厚さ約２０００ÅのＮ
ｉ薄膜導体４、４´を積層した後、フォトエッチングに
よって、例えば幅、長さ共に約４０μｍの発熱抵抗体形
状に形成する。この時、Ｃｒ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵
抗体３のエッチングには沸硝酸系のエッチング液を用い
るため、図２で示すようにガラス基板１の上には約１５
００Åの厚さのＴａ2Ｏ5熱酸化膜２を予め形成しておい
て該ガラス基板１の保護をしておいてもよい。
【００１６】前記発熱抵抗体を、例えば図３、図４に示
すような構成のインクジェットプリントヘッドに用い、
インク溜め９、インク流路８、オリフィス７に満たされ
たインクをＣｒ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵抗体３のパル
ス加熱によってオリフィス７から液滴として吐出させ、
オリフィス前面におかれた記録紙（図示せず）に記録す
る。
すような構成のインクジェットプリントヘッドに用い、
インク溜め９、インク流路８、オリフィス７に満たされ
たインクをＣｒ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵抗体３のパル
ス加熱によってオリフィス７から液滴として吐出させ、
オリフィス前面におかれた記録紙（図示せず）に記録す
る。
【００１７】ここでまず、図１に示す保護層のない発熱
抵抗体が水性インク中でどのような特性を示すのかにつ
いて説明する。
抵抗体が水性インク中でどのような特性を示すのかにつ
いて説明する。
【００１８】本発明に用いるＣｒ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄
膜抵抗体が耐酸化性に優れた材料であることは、前述の
特開昭５８−８４４０１号公報等で明らかである。そこ
で、本出願人は前記Ｃｒ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵抗体
の優れた特性に着目し、水性インク中での耐電食性及び
耐キャビテーション性も良好であろうことを予測した。
このように考えると、残された課題は充分な耐電食性の
ある薄膜導体の開発と、発熱抵抗体としての総合性能の
評価、確認である。
膜抵抗体が耐酸化性に優れた材料であることは、前述の
特開昭５８−８４４０１号公報等で明らかである。そこ
で、本出願人は前記Ｃｒ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵抗体
の優れた特性に着目し、水性インク中での耐電食性及び
耐キャビテーション性も良好であろうことを予測した。
このように考えると、残された課題は充分な耐電食性の
ある薄膜導体の開発と、発熱抵抗体としての総合性能の
評価、確認である。
【００１９】図５に薄膜導体材料の耐電食性評価方法
を、図６にはこれを用いて評価した各種金属薄膜の耐電
食特性を示す。
を、図６にはこれを用いて評価した各種金属薄膜の耐電
食特性を示す。
【００２０】本評価は、絶縁距離を１０μｍ、厚さを約
１０００Åとした金属薄膜を、１分間水中にて直流電圧
を印加し、印加電圧と電食量との関係を調べたものであ
る。インク中ではなくて水中での試験としたのは、既に
使用されているいくつかの水性インクのＰＨが７．０と
中性だからであり、普遍性があるからである。
１０００Åとした金属薄膜を、１分間水中にて直流電圧
を印加し、印加電圧と電食量との関係を調べたものであ
る。インク中ではなくて水中での試験としたのは、既に
使用されているいくつかの水性インクのＰＨが７．０と
中性だからであり、普遍性があるからである。
【００２１】図６の結果から明らかなように、耐食性が
ＮｉまたはＴａ、Ｗ、Ｍｏ、ＡｌまたはＣｒの順に良好
なこと、Ｃｒ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵抗体と積層して
選択ウエットエッチングができること（Ｔａは不可）、
実装技術面からも取り扱いやすいことなどから、薄膜導
体としてＮｉが最適材料であることが分かった。
ＮｉまたはＴａ、Ｗ、Ｍｏ、ＡｌまたはＣｒの順に良好
なこと、Ｃｒ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵抗体と積層して
選択ウエットエッチングができること（Ｔａは不可）、
実装技術面からも取り扱いやすいことなどから、薄膜導
体としてＮｉが最適材料であることが分かった。
【００２２】そこで、Ｎｉ薄膜導体の耐食性を更に詳細
に評価した結果を図７に示す。すなわち、２０Ｖ／１０
μｍ程度の電圧で２０〜３０分間、連続して印加しても
ほとんど電食しないことが分かる。
に評価した結果を図７に示す。すなわち、２０Ｖ／１０
μｍ程度の電圧で２０〜３０分間、連続して印加しても
ほとんど電食しないことが分かる。
【００２３】一方、図３及び図４に示すＮｉ薄膜導体
４、４´に印加される電圧と時間について見ると、後述
するようにパルス駆動条件は１μｓの印加パルス幅で
０．５〜１Ｗ／ｄｏｔとなる。Ｃｒ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金
薄膜抵抗体３の抵抗値は約２０００Ωなので、Ｎｉ薄膜
導体４、４´間に印加する電圧は３２〜４５Ｖとなる。
また、前記Ｃｒ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵抗体３の長さ
は約４０μｍとしたので、８〜１２Ｖ／１０μｍのパル
ス電圧がＮｉ薄膜導体間に印加されることになる。従っ
て、仮にパルス電圧が１０億パルス印加されると、実質
的な電圧印加時間は１μｓ×１０億パルス＝１７分間と
なり、図７の結果から考えると全く問題にならない条件
（電圧裕度で３倍以上、印加エネルギで１０倍以上）で
あることが分かる。
４、４´に印加される電圧と時間について見ると、後述
するようにパルス駆動条件は１μｓの印加パルス幅で
０．５〜１Ｗ／ｄｏｔとなる。Ｃｒ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金
薄膜抵抗体３の抵抗値は約２０００Ωなので、Ｎｉ薄膜
導体４、４´間に印加する電圧は３２〜４５Ｖとなる。
また、前記Ｃｒ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵抗体３の長さ
は約４０μｍとしたので、８〜１２Ｖ／１０μｍのパル
ス電圧がＮｉ薄膜導体間に印加されることになる。従っ
て、仮にパルス電圧が１０億パルス印加されると、実質
的な電圧印加時間は１μｓ×１０億パルス＝１７分間と
なり、図７の結果から考えると全く問題にならない条件
（電圧裕度で３倍以上、印加エネルギで１０倍以上）で
あることが分かる。
【００２４】そこで、Ｃｒ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵抗
体３と厚さ約２０００ÅのＮｉ薄膜導体４、４´からな
る保護層を有さない発熱抵抗体について、水中にてステ
ップアップストレステスト（以下ＳＳＴとする）を行な
った。その結果を図８に示す。なお、図８には前記発熱
抵抗体の空気中でのＳＳＴ結果についても記されてい
る。
体３と厚さ約２０００ÅのＮｉ薄膜導体４、４´からな
る保護層を有さない発熱抵抗体について、水中にてステ
ップアップストレステスト（以下ＳＳＴとする）を行な
った。その結果を図８に示す。なお、図８には前記発熱
抵抗体の空気中でのＳＳＴ結果についても記されてい
る。
【００２５】まず空気中でのＳＳＴ破壊電力に比べ、水
中での破壊電力が１／２．５と小さいことが分かる。こ
れは明らかに、水中ではキャビテーションによる破壊が
主因であることを示している。しかし、実際に駆動する
電力は後述するように０．５〜１Ｗ／ｄｏｔなので、前
述のキャビテーション破壊電力は実駆動電力の１０〜２
０倍と大きく、耐キャビテーション性に何の問題もない
ことが分かる。しかも、耐電食性についても予測通りの
寿命を示すことが推測できる。
中での破壊電力が１／２．５と小さいことが分かる。こ
れは明らかに、水中ではキャビテーションによる破壊が
主因であることを示している。しかし、実際に駆動する
電力は後述するように０．５〜１Ｗ／ｄｏｔなので、前
述のキャビテーション破壊電力は実駆動電力の１０〜２
０倍と大きく、耐キャビテーション性に何の問題もない
ことが分かる。しかも、耐電食性についても予測通りの
寿命を示すことが推測できる。
【００２６】そこで、この発熱抵抗体を水性インク中に
浸し、１μｓ、２Ｗ／ｄｏｔの過電力を１０億パルス印
加してみたが、抵抗値には何の変化も認められず、実寿
命の点でもなんら問題のない特性を示した。そして、前
記発熱抵抗体を図３、４に示すインクジェットプリント
ヘッドに採用して印字性能を評価したところ、既に市販
されている他社のヘッドに比べ、表１に示すような大幅
な特性の向上を得られることが分かった。
浸し、１μｓ、２Ｗ／ｄｏｔの過電力を１０億パルス印
加してみたが、抵抗値には何の変化も認められず、実寿
命の点でもなんら問題のない特性を示した。そして、前
記発熱抵抗体を図３、４に示すインクジェットプリント
ヘッドに採用して印字性能を評価したところ、既に市販
されている他社のヘッドに比べ、表１に示すような大幅
な特性の向上を得られることが分かった。
【００２７】
【表１】
【００２８】すなわち、本発明の発熱抵抗体では、ほぼ
同一印字条件で必要印字エネルギが１／３０〜１／６０
と大幅に小さくなり、吐出周波数が２５〜６０％も向上
したのである。これは、保護層のない発熱抵抗体による
直接加熱と１μｓという超短パルス加熱、並びに気泡の
収縮時には既に発熱抵抗体表面が充分低い温度まで冷さ
れていることによって発熱抵抗体上で再発泡現象が起こ
らず、インクのメニスカスの復帰が速く行われるように
なったことによる。また、必要印字エネルギが数１０分
の１と小さくなることも、薄膜抵抗体の５０〜１００倍
の厚さの保護層を必要とする従来の発熱抵抗体と比較す
ればその理由は明らかである。そしてこの事実は、従来
のヘッドに投入されるエネルギの９８〜９９％がヘッド
基板とインクの加熱（発泡以外の）に使用されているこ
とを示しており、インクの焦げつき易さやヘッドの温度
制御が不可欠であることなどをよく示している。
同一印字条件で必要印字エネルギが１／３０〜１／６０
と大幅に小さくなり、吐出周波数が２５〜６０％も向上
したのである。これは、保護層のない発熱抵抗体による
直接加熱と１μｓという超短パルス加熱、並びに気泡の
収縮時には既に発熱抵抗体表面が充分低い温度まで冷さ
れていることによって発熱抵抗体上で再発泡現象が起こ
らず、インクのメニスカスの復帰が速く行われるように
なったことによる。また、必要印字エネルギが数１０分
の１と小さくなることも、薄膜抵抗体の５０〜１００倍
の厚さの保護層を必要とする従来の発熱抵抗体と比較す
ればその理由は明らかである。そしてこの事実は、従来
のヘッドに投入されるエネルギの９８〜９９％がヘッド
基板とインクの加熱（発泡以外の）に使用されているこ
とを示しており、インクの焦げつき易さやヘッドの温度
制御が不可欠であることなどをよく示している。
【００２９】〔実施例２〕図９、図１０に他の実施例を
示す。
示す。
【００３０】特開昭５４−３９５２９号公報には薄膜抵
抗体の形状が台形となっている発熱抵抗体が記載されて
いる。しかし、前記薄膜抵抗体の上には厚い保護層があ
るため、該保護層を介してインクに伝わる熱は均一なも
のとなり、「薄膜抵抗体の台形形状」というメリットを
生かしきれないでいた。
抗体の形状が台形となっている発熱抵抗体が記載されて
いる。しかし、前記薄膜抵抗体の上には厚い保護層があ
るため、該保護層を介してインクに伝わる熱は均一なも
のとなり、「薄膜抵抗体の台形形状」というメリットを
生かしきれないでいた。
【００３１】これに対し本実施例の特徴は、実施例１に
記載の保護層のない発熱抵抗体を用い、Ｃｒ−Ｓｉ−Ｓ
ｉＯ合金薄膜抵抗体２１または３１をインク流路の方向
に対して非対称とすることによって気泡の発生とその拡
大に方向性を持たせ、インクへの圧力をオリフィス方向
には強く、インク溜方向には相対的に弱くすることにあ
る。すなわち、前記Ｃｒ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵抗体
２１、３１の発熱面温度分布をインク流路の方向に対し
て非対称とし、気泡の発生と拡大を異方的にすること
で、インク溜方向への逆流速度が遅くなり、その分だけ
インク溜方向からのインク供給速度が速くなり、次の吐
出に必要なインクを吐出口付近に速やかに補充すること
ができるようになるのである。そして前述したインクの
速やかなる補充は吐出周波数を向上させ、印字速度が遅
いというバブルジェットプリンタの弱点を改善できる。
記載の保護層のない発熱抵抗体を用い、Ｃｒ−Ｓｉ−Ｓ
ｉＯ合金薄膜抵抗体２１または３１をインク流路の方向
に対して非対称とすることによって気泡の発生とその拡
大に方向性を持たせ、インクへの圧力をオリフィス方向
には強く、インク溜方向には相対的に弱くすることにあ
る。すなわち、前記Ｃｒ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵抗体
２１、３１の発熱面温度分布をインク流路の方向に対し
て非対称とし、気泡の発生と拡大を異方的にすること
で、インク溜方向への逆流速度が遅くなり、その分だけ
インク溜方向からのインク供給速度が速くなり、次の吐
出に必要なインクを吐出口付近に速やかに補充すること
ができるようになるのである。そして前述したインクの
速やかなる補充は吐出周波数を向上させ、印字速度が遅
いというバブルジェットプリンタの弱点を改善できる。
【００３２】なお、Ｃｒ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵抗体
の形状は本実施例に示した以外であっても非対称であれ
ばよい。
の形状は本実施例に示した以外であっても非対称であれ
ばよい。
【００３３】〔実施例３〕次に保護層のある従来の発熱
抵抗体を用いても、インク吐出周期の大幅な短縮が可能
な新方式を本実施例で説明する。そして実施例１で述べ
た保護層を不要とする発熱抵抗体をこれに用いれば、イ
ンクの吐出周期は更なる改善を見せ、前述したように熱
効率が従来の３０〜６０倍となる。そこで、本実施例で
は実施例１で述べた発熱抵抗体を用いた例を示し、吐出
周波数が更に大幅に向上することを説明する。
抵抗体を用いても、インク吐出周期の大幅な短縮が可能
な新方式を本実施例で説明する。そして実施例１で述べ
た保護層を不要とする発熱抵抗体をこれに用いれば、イ
ンクの吐出周期は更なる改善を見せ、前述したように熱
効率が従来の３０〜６０倍となる。そこで、本実施例で
は実施例１で述べた発熱抵抗体を用いた例を示し、吐出
周波数が更に大幅に向上することを説明する。
【００３４】実施例の詳細な説明の前に、まず、規制さ
れた流路内で発生する気泡の拡大、収縮のシミュレーシ
ョン結果を図１１を用いて説明する。
れた流路内で発生する気泡の拡大、収縮のシミュレーシ
ョン結果を図１１を用いて説明する。
【００３５】シミュレーションを簡単にするため、発熱
抵抗体の昇温領域は円形とする。図１１の（ａ）では、
円形発熱抵抗体４１のある基板上にインクの動きを規制
するものがない状態での気泡の拡大を一定時間毎に見た
ものである。上段が上から見たもの、下段がその側面図
である。（ｂ）は、上方への気泡の拡大を規制する天板
を設けた状態、（ｃ）は更に側壁を設けた場合で、現在
実用化されているインクジェットプリントヘッドの１つ
はこの方式を採用している。前記（ａ）〜（ｃ）のイン
クの運動空間は発熱抵抗体４１に対して対称であり、気
泡の拡大時における周辺へのインクの流出と収縮時にお
けるインク流入は発熱抵抗体４１を中心として対称とな
っている。
抵抗体の昇温領域は円形とする。図１１の（ａ）では、
円形発熱抵抗体４１のある基板上にインクの動きを規制
するものがない状態での気泡の拡大を一定時間毎に見た
ものである。上段が上から見たもの、下段がその側面図
である。（ｂ）は、上方への気泡の拡大を規制する天板
を設けた状態、（ｃ）は更に側壁を設けた場合で、現在
実用化されているインクジェットプリントヘッドの１つ
はこの方式を採用している。前記（ａ）〜（ｃ）のイン
クの運動空間は発熱抵抗体４１に対して対称であり、気
泡の拡大時における周辺へのインクの流出と収縮時にお
けるインク流入は発熱抵抗体４１を中心として対称とな
っている。
【００３６】これに対し、（ｄ）に示す非対称空間内に
発熱抵抗体４１が置かれた場合、より大きな空間へのイ
ンクの流出速度が相対的に遅くなる一方、非対称形状に
拡大した減圧気泡の収縮時には、より大きな空間からの
インクの流入量が多くなることも加わって、気泡の消滅
点はより狭い流路側に移るのである。すなわち、気泡の
拡大、収縮の両時点でインクを一定方向に流す異方的な
力（ポンピング作用）を発生させることができるのであ
る。
発熱抵抗体４１が置かれた場合、より大きな空間へのイ
ンクの流出速度が相対的に遅くなる一方、非対称形状に
拡大した減圧気泡の収縮時には、より大きな空間からの
インクの流入量が多くなることも加わって、気泡の消滅
点はより狭い流路側に移るのである。すなわち、気泡の
拡大、収縮の両時点でインクを一定方向に流す異方的な
力（ポンピング作用）を発生させることができるのであ
る。
【００３７】なお、（ｄ）ではインク流路の一方の側壁
を拡げることで非対称空間を形成したが、天板の一方を
拡げたり、基板に溝を設けて拡大空間を形成したり、こ
れらを組み合わせたりする方法を採用しても同様の効果
が得られることはいうまでもない。
を拡げることで非対称空間を形成したが、天板の一方を
拡げたり、基板に溝を設けて拡大空間を形成したり、こ
れらを組み合わせたりする方法を採用しても同様の効果
が得られることはいうまでもない。
【００３８】更に、本実施例を理解し易くするために、
吐出周波数を決定している要因について詳しく説明す
る。
吐出周波数を決定している要因について詳しく説明す
る。
【００３９】オリフィスからインクを安定に吐出させる
必要条件の１つは、オリフィス先端部に形成される安定
なメニスカスにあることはよく知られている。すなわ
ち、インクの吐出によって大きく窪んだメニスカスが再
び元の位置に復帰できて始めて再吐出が可能となるので
ある。一方、この大きく窪んだメニスカスを元の位置に
復帰させる力は、インク通路壁とインク間に働く表面張
力を利用することしかできないのが現状である。すなわ
ち、メニスカスが自然に復帰するのを待つしかないので
ある。
必要条件の１つは、オリフィス先端部に形成される安定
なメニスカスにあることはよく知られている。すなわ
ち、インクの吐出によって大きく窪んだメニスカスが再
び元の位置に復帰できて始めて再吐出が可能となるので
ある。一方、この大きく窪んだメニスカスを元の位置に
復帰させる力は、インク通路壁とインク間に働く表面張
力を利用することしかできないのが現状である。すなわ
ち、メニスカスが自然に復帰するのを待つしかないので
ある。
【００４０】一般に、保護層を有する従来の発熱抵抗体
の場合、メニスカスの最大後退時はインク吐出の完了時
点である約３０μｓ後となっている。しかし、前述のよ
うにメニスカスの復帰には表面張力を利用しているた
め、その復帰にはインク吐出の完了時間の約１０倍の２
００〜３００μｓの時間が必要となり、これが吐出周波
数を決定づけているのである。
の場合、メニスカスの最大後退時はインク吐出の完了時
点である約３０μｓ後となっている。しかし、前述のよ
うにメニスカスの復帰には表面張力を利用しているた
め、その復帰にはインク吐出の完了時間の約１０倍の２
００〜３００μｓの時間が必要となり、これが吐出周波
数を決定づけているのである。
【００４１】メニスカスの復帰時間についてもう少し詳
細に見ることとする。前記厚い保護層の表面温度の上昇
は発熱抵抗体自身の昇温から数μｓ程度の遅れがある。
しかも、気泡発生後、前記保護層表面が断熱状態になっ
てもなお、保護層表面は数μｓの間昇温を続ける。パル
ス加熱終了後、基板への熱流出によって発熱抵抗体は冷
却されるが、保護層と薄膜抵抗体下層の断熱層による時
定数から評価すると、気泡の消滅する３０μｓ時点の保
護層表面温度はなお１００〜２００℃の高温状態にあ
る。そのため、インクは再加熱され、弱いながらも気泡
が再発生してしまう。この再発泡がメニスカスの復帰に
悪影響を与え、復帰時間を必要以上に長くするのであ
る。
細に見ることとする。前記厚い保護層の表面温度の上昇
は発熱抵抗体自身の昇温から数μｓ程度の遅れがある。
しかも、気泡発生後、前記保護層表面が断熱状態になっ
てもなお、保護層表面は数μｓの間昇温を続ける。パル
ス加熱終了後、基板への熱流出によって発熱抵抗体は冷
却されるが、保護層と薄膜抵抗体下層の断熱層による時
定数から評価すると、気泡の消滅する３０μｓ時点の保
護層表面温度はなお１００〜２００℃の高温状態にあ
る。そのため、インクは再加熱され、弱いながらも気泡
が再発生してしまう。この再発泡がメニスカスの復帰に
悪影響を与え、復帰時間を必要以上に長くするのであ
る。
【００４２】これに対し保護層を不要とした本発明の実
施例１に記載の発熱抵抗体は、１μｓという短パルス駆
動であって、しかもインクへの熱伝導の時間的な遅れが
全く生じない。従って、薄膜抵抗体下層の断熱層の厚さ
も従来の数分の１の厚さ（ＳｉＯ2で１〜２μｍ）とす
ることができ、気泡消滅時の発熱抵抗体の温度は常温近
くまで冷却される。従って、前述したような気泡の再発
生を生ずることがなくなり、メニスカスの復帰が速くな
り、吐出周波数の向上につながるようになった。
施例１に記載の発熱抵抗体は、１μｓという短パルス駆
動であって、しかもインクへの熱伝導の時間的な遅れが
全く生じない。従って、薄膜抵抗体下層の断熱層の厚さ
も従来の数分の１の厚さ（ＳｉＯ2で１〜２μｍ）とす
ることができ、気泡消滅時の発熱抵抗体の温度は常温近
くまで冷却される。従って、前述したような気泡の再発
生を生ずることがなくなり、メニスカスの復帰が速くな
り、吐出周波数の向上につながるようになった。
【００４３】しかし、更なる吐出周波数の向上を目指す
ため、本実施例では既に述べたポンピング作用を利用す
ることによって、上記メニスカスの復帰を人工的に速
め、これによって吐出周波数の大幅な改善を行った具体
例を説明する。
ため、本実施例では既に述べたポンピング作用を利用す
ることによって、上記メニスカスの復帰を人工的に速
め、これによって吐出周波数の大幅な改善を行った具体
例を説明する。
【００４４】図１２、図１３はその具体例であり、図
３、図４に示したインクジェットプリントヘッドに上記
加圧用発熱抵抗体２０を加え、吐出用発熱抵抗体１０と
直列に接続して同時にパルス加熱する方法を記してい
る。
３、図４に示したインクジェットプリントヘッドに上記
加圧用発熱抵抗体２０を加え、吐出用発熱抵抗体１０と
直列に接続して同時にパルス加熱する方法を記してい
る。
【００４５】ここでは吐出用発熱抵抗体１０の約１／２
のエネルギが加圧用発熱抵抗体２０に印加されるよう、
その抵抗値を１／２とし、該加圧用発熱抵抗体２０によ
るクロストークの発生を抑制している。吐出用発熱抵抗
体１０と加圧用発熱抵抗体２０との距離は１５０〜２５
０μｍ程度離れていれば充分であり、加圧用発熱抵抗体
２０と側壁端（インク通路端であり、インク溜めに至
近）との距離は１００〜１５０μｍ、そしてインク通路
はインク溜めに向かって拡げられた空間を有し、通路端
近くにインク溜めを設けることでクロストークを発生さ
せずに吐出インクの高速補充が可能となっている。
のエネルギが加圧用発熱抵抗体２０に印加されるよう、
その抵抗値を１／２とし、該加圧用発熱抵抗体２０によ
るクロストークの発生を抑制している。吐出用発熱抵抗
体１０と加圧用発熱抵抗体２０との距離は１５０〜２５
０μｍ程度離れていれば充分であり、加圧用発熱抵抗体
２０と側壁端（インク通路端であり、インク溜めに至
近）との距離は１００〜１５０μｍ、そしてインク通路
はインク溜めに向かって拡げられた空間を有し、通路端
近くにインク溜めを設けることでクロストークを発生さ
せずに吐出インクの高速補充が可能となっている。
【００４６】前記図１２、図１３のインクジェットプリ
ントヘッドに水性インクを満たし、共通電極４´と個別
電極４間に０．５〜１Ｗ／ｄｏｔ、１μｓのパルス電圧
を印加してインクの吐出特性を評価したところ、吐出周
波数を１５〜１８ＫＨｚまで上げることができた。但
し、１５ＫＨｚ以上では吐出方向の不安定さが見られる
場合があり、より高速化するためには尚一層の改善が必
要であることが分かった。しかし、本実施例での１５Ｋ
Ｈｚ以下の安定した駆動は従来の技術（３〜４ＫＨｚ）
を大幅に越える高速印字を達成できることを示し、低電
力化と共にヘッドの温度制御を大幅に簡易化でき、この
ヘッドを用いたプリンタ等の高性能化（３〜４倍の高速
印字）、低コスト化を達成できた。
ントヘッドに水性インクを満たし、共通電極４´と個別
電極４間に０．５〜１Ｗ／ｄｏｔ、１μｓのパルス電圧
を印加してインクの吐出特性を評価したところ、吐出周
波数を１５〜１８ＫＨｚまで上げることができた。但
し、１５ＫＨｚ以上では吐出方向の不安定さが見られる
場合があり、より高速化するためには尚一層の改善が必
要であることが分かった。しかし、本実施例での１５Ｋ
Ｈｚ以下の安定した駆動は従来の技術（３〜４ＫＨｚ）
を大幅に越える高速印字を達成できることを示し、低電
力化と共にヘッドの温度制御を大幅に簡易化でき、この
ヘッドを用いたプリンタ等の高性能化（３〜４倍の高速
印字）、低コスト化を達成できた。
【００４７】なお、加圧用発熱抵抗体２０の形状につい
ての制約は特にないが、実施例２で示したようなインク
吐出方向に非対称の形状の発熱抵抗体を用いれば、該発
熱抵抗体自体に気泡の異方性を生じさせる力が発生する
ため、オリフィス７へインクを押し出す力や、インクを
インク流路８へ送り込む力が更に増幅されることとな
り、より好ましい。
ての制約は特にないが、実施例２で示したようなインク
吐出方向に非対称の形状の発熱抵抗体を用いれば、該発
熱抵抗体自体に気泡の異方性を生じさせる力が発生する
ため、オリフィス７へインクを押し出す力や、インクを
インク流路８へ送り込む力が更に増幅されることとな
り、より好ましい。
【００４８】〔実施例４〕実施例３とほぼ同様の構成を
有し、オリフィスの向きがインク通路と同一方向である
点で相違する実施例を図１４、図１５に示す。ここで、
実施例３と同一の符号は同じものを指す。
有し、オリフィスの向きがインク通路と同一方向である
点で相違する実施例を図１４、図１５に示す。ここで、
実施例３と同一の符号は同じものを指す。
【００４９】本実施例でも、ガラス基板１上には吐出用
発熱抵抗体１０と加圧用発熱抵抗体２０が形成されてい
る。一方、ガラス等の材料からなる天板６には、インク
流路８と、インク溜め９と、前記インク流路８の端部が
インク溜め９側に向かって拡がるような空間が形成され
ている。そして、前記吐出用発熱抵抗体１０の位置はオ
リフィス７近傍であり、前記加圧用発熱抵抗体２０の位
置は前記空間内であって、双方の発熱抵抗体とも他のイ
ンク流路への干渉を防止するため夫々のインク流路８内
に形成されている。
発熱抵抗体１０と加圧用発熱抵抗体２０が形成されてい
る。一方、ガラス等の材料からなる天板６には、インク
流路８と、インク溜め９と、前記インク流路８の端部が
インク溜め９側に向かって拡がるような空間が形成され
ている。そして、前記吐出用発熱抵抗体１０の位置はオ
リフィス７近傍であり、前記加圧用発熱抵抗体２０の位
置は前記空間内であって、双方の発熱抵抗体とも他のイ
ンク流路への干渉を防止するため夫々のインク流路８内
に形成されている。
【００５０】なお、吐出用発熱抵抗体１０、加圧用発熱
抵抗体２０には制約は特にないが、実施例１に記載のＣ
ｒ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵抗体とＮｉ薄膜導体で形成
されたものであれば更なる高速印字を達成できる。ま
た、インク吐出方向に非対称の形状の発熱抵抗体を用い
れば、該発熱抵抗体自体に気泡の異方性を生じさせる力
が発生するため、オリフィス７へインクを押し出す力
や、インクをインク流路８へ送り込む力が更に増幅され
ることとなり、より好ましい。
抵抗体２０には制約は特にないが、実施例１に記載のＣ
ｒ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵抗体とＮｉ薄膜導体で形成
されたものであれば更なる高速印字を達成できる。ま
た、インク吐出方向に非対称の形状の発熱抵抗体を用い
れば、該発熱抵抗体自体に気泡の異方性を生じさせる力
が発生するため、オリフィス７へインクを押し出す力
や、インクをインク流路８へ送り込む力が更に増幅され
ることとなり、より好ましい。
【００５１】〔実施例５〕図１６、１７も他の実施例を
示す断面図である。動作、その他の特性は実施例４とほ
とんど同じであるので省略する。本実施例が実施例４と
異なるところは、インク流路８内の空間を隔壁５を用い
て設けた点である。こうすることによって天板となるガ
ラス基板をフォトエッチングによって作成する工程が簡
略化でき、得られる効果は実施例４と同等という利点が
ある。しかしこの方法は、インク流路アレーのピッチを
更に細かくする場合には限界がある。この場合は実施例
４と実施例５の方法を併用してもよい。
示す断面図である。動作、その他の特性は実施例４とほ
とんど同じであるので省略する。本実施例が実施例４と
異なるところは、インク流路８内の空間を隔壁５を用い
て設けた点である。こうすることによって天板となるガ
ラス基板をフォトエッチングによって作成する工程が簡
略化でき、得られる効果は実施例４と同等という利点が
ある。しかしこの方法は、インク流路アレーのピッチを
更に細かくする場合には限界がある。この場合は実施例
４と実施例５の方法を併用してもよい。
【００５２】〔実施例６〕実施例３で述べたポンピング
作用を持つ図１１（ｄ）の構成を吐出用発熱抵抗体とす
る実施例を図１８、図１９に示す。本実施例は上記実施
例４、５を簡素化したもので、性能的な差はほとんどな
いといってよい。
作用を持つ図１１（ｄ）の構成を吐出用発熱抵抗体とす
る実施例を図１８、図１９に示す。本実施例は上記実施
例４、５を簡素化したもので、性能的な差はほとんどな
いといってよい。
【００５３】本実施例の構成からなるヘッドであれば、
実施例１で示した保護層なしの発熱抵抗体、保護層を必
要とする従来の発熱抵抗体のいずれを用いても吐出周波
数の大幅な向上（２〜３倍化）が可能であるが、実施例
１で示したＣｒ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵抗体／Ｎｉ薄
膜導体構成の発熱抵抗体を用いれば熱効率は約５０倍と
なり、吐出周波数が更に２０〜３０％向上することは実
施例２で述べた通りである。すなわち、本ヘッドの吐出
周波数も１５ＫＨｚ程度までは安定に稼働させることが
できる領域であり、実施例２との唯一の相違点はインク
の吐出速度が約１／２の７ｍ／ｓと遅いことである。
実施例１で示した保護層なしの発熱抵抗体、保護層を必
要とする従来の発熱抵抗体のいずれを用いても吐出周波
数の大幅な向上（２〜３倍化）が可能であるが、実施例
１で示したＣｒ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵抗体／Ｎｉ薄
膜導体構成の発熱抵抗体を用いれば熱効率は約５０倍と
なり、吐出周波数が更に２０〜３０％向上することは実
施例２で述べた通りである。すなわち、本ヘッドの吐出
周波数も１５ＫＨｚ程度までは安定に稼働させることが
できる領域であり、実施例２との唯一の相違点はインク
の吐出速度が約１／２の７ｍ／ｓと遅いことである。
【００５４】但し、前述のように本実施例においても、
インク通路端を拡げて空間を作るだけの側壁厚さが必要
であるが、これはインク通路列の作製可能密度、すなわ
ちドット密度の若干の低下となるので、高密度印字が必
要な場合はオリフィス列を傾斜させて印字する方法を採
用する必要がある。この発熱抵抗体に対しても、実施例
２に示した非対称形状とすることでクロストークなどの
マージンを増加させることができることはいうまでもな
いであろう。
インク通路端を拡げて空間を作るだけの側壁厚さが必要
であるが、これはインク通路列の作製可能密度、すなわ
ちドット密度の若干の低下となるので、高密度印字が必
要な場合はオリフィス列を傾斜させて印字する方法を採
用する必要がある。この発熱抵抗体に対しても、実施例
２に示した非対称形状とすることでクロストークなどの
マージンを増加させることができることはいうまでもな
いであろう。
【００５５】〔実施例７〕Ｔａ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜
抵抗体が前記Ｃｒ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵抗体同様に
優れた耐酸化性能を持つ材料であることが知られている
（特開昭５３−１１０３７４号公報及び特開昭５７−６
１５８２号公報に記載）。すなわち、Ｔａ−Ｓｉ−Ｓｉ
Ｏ合金薄膜抵抗体も前記Ｃｒ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵
抗体と同じように非常に硬い材料であり、従って耐キャ
ビテーション性に優れた材料であろうことが推定でき
る。そこで、実施例１のＣｒ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵
抗体をＴａ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵抗体に置き換え、
実施例１と同様にＮｉ薄膜導体を用いて発熱抵抗体（図
１）を作成し、ＳＳＴを行なった。
抵抗体が前記Ｃｒ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵抗体同様に
優れた耐酸化性能を持つ材料であることが知られている
（特開昭５３−１１０３７４号公報及び特開昭５７−６
１５８２号公報に記載）。すなわち、Ｔａ−Ｓｉ−Ｓｉ
Ｏ合金薄膜抵抗体も前記Ｃｒ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵
抗体と同じように非常に硬い材料であり、従って耐キャ
ビテーション性に優れた材料であろうことが推定でき
る。そこで、実施例１のＣｒ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵
抗体をＴａ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵抗体に置き換え、
実施例１と同様にＮｉ薄膜導体を用いて発熱抵抗体（図
１）を作成し、ＳＳＴを行なった。
【００５６】その結果はＣｒ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵
抗体の結果（図８）とほぼ同一の特性を示した。僅かな
相違点は、Ｃｒ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵抗体の場合、
抵抗値変化率がマイナス側に変化した後破断するのに対
し、Ｔａ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵抗体では徐々にプラ
ス側に変化して破断することだけであった。勿論、水性
インク中での寿命試験でも何ら問題となる変化が認めら
れなかったことはいうまでもない。
抗体の結果（図８）とほぼ同一の特性を示した。僅かな
相違点は、Ｃｒ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵抗体の場合、
抵抗値変化率がマイナス側に変化した後破断するのに対
し、Ｔａ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵抗体では徐々にプラ
ス側に変化して破断することだけであった。勿論、水性
インク中での寿命試験でも何ら問題となる変化が認めら
れなかったことはいうまでもない。
【００５７】また、Ｔａ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵抗体
を用いた発熱抵抗体で実施例２〜６と同様の試作、評価
を行なったが、Ｃｒ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵抗体を用
いた場合とほぼ同様の結果を得られたことはいうまでも
ない。
を用いた発熱抵抗体で実施例２〜６と同様の試作、評価
を行なったが、Ｃｒ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵抗体を用
いた場合とほぼ同様の結果を得られたことはいうまでも
ない。
【００５８】
【発明の効果】本発明によれば、発熱抵抗体を最も単純
な２層構造とすることができ、その製造工程を約１／３
と大幅に簡略化することができる。しかも、１μＳとい
う超短パルス駆動と、気泡消滅時において発熱抵抗体が
常温近くまで温度低下するという冷却効率のよさは、イ
ンク吐出周期の大幅な短縮を可能とし、更に３０〜６０
倍の熱効率の向上は消費電力の削減のみに止まらず、ヘ
ッドの温度制御を容易にして、インク吐出の安定化に大
きく貢献できる。
な２層構造とすることができ、その製造工程を約１／３
と大幅に簡略化することができる。しかも、１μＳとい
う超短パルス駆動と、気泡消滅時において発熱抵抗体が
常温近くまで温度低下するという冷却効率のよさは、イ
ンク吐出周期の大幅な短縮を可能とし、更に３０〜６０
倍の熱効率の向上は消費電力の削減のみに止まらず、ヘ
ッドの温度制御を容易にして、インク吐出の安定化に大
きく貢献できる。
【００５９】更にポンピング作用を持つヘッド構成は、
インク吐出周期の大幅な短縮を可能とし、インクジェッ
トプリンタの唯一ともいえる欠点となっていた遅い印字
速度を抜本的に改善できる。
インク吐出周期の大幅な短縮を可能とし、インクジェッ
トプリンタの唯一ともいえる欠点となっていた遅い印字
速度を抜本的に改善できる。
【図１】 本発明の実施例となるインクジェットプリン
トヘッド用発熱抵抗体の断面図である。
トヘッド用発熱抵抗体の断面図である。
【図２】 他の実施例となるインクジェットプリントヘ
ッド用発熱抵抗体の断面図である。
ッド用発熱抵抗体の断面図である。
【図３】 図１の発熱抵抗体用いたヘッドの概略断面図
である。
である。
【図４】 図３のＢ−Ｂ´断面図である。
【図５】 薄膜導体材料の耐電食特性評価方法を示す概
略斜視図である。
略斜視図である。
【図６】 各種金属薄膜の耐電食特性を示すグラフであ
る。
る。
【図７】 Ｎｉ薄膜導体の耐電食特性を示すグラフであ
る。
る。
【図８】 本発明の発熱抵抗体のＳＳＴ特性示すグラフ
である。
である。
【図９】 Ｃｒ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵抗体の形状を
示す平面図である。
示す平面図である。
【図１０】 Ｃｒ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵抗体の形状
を示す平面図である。
を示す平面図である。
【図１１】 気泡の発生状態及び消滅状態を示す模式図
である。
である。
【図１２】 本発明の他の実施例となるヘッドの構成を
示す概略断面図である。
示す概略断面図である。
【図１３】 図１２のＢ−Ｂ´断面図である。
【図１４】 本発明の他の実施例となるヘッドの構成を
示す概略断面図である。
示す概略断面図である。
【図１５】 図１４のＢ−Ｂ´断面図である。
【図１６】 本発明の他の実施例となるヘッドの構成を
示す概略断面図である。
示す概略断面図である。
【図１７】 図１６のＢ−Ｂ´断面図である。
【図１８】 本発明の他の実施例となるヘッドの構成を
示す概略断面図である。
示す概略断面図である。
【図１９】 図１８のＢ−Ｂ´断面図である。
【図２０】 従来の発熱抵抗体の断面図である。
１は基板、２はＴａ2Ｏ5耐エッチング層、３はＣｒ−Ｓ
ｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵抗体、４、４´は薄膜導体、５は
隔壁、６は天板、７はオリフィス、８はインク通路、９
はインク溜めである。
ｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵抗体、４、４´は薄膜導体、５は
隔壁、６は天板、７はオリフィス、８はインク通路、９
はインク溜めである。
Claims (6)
- 【請求項１】 インク吐出口近傍に設けられた発熱抵抗
体にパルス通電することによって液滴状インクを該吐出
口から吐出させて記録する記録装置において、前記発熱
抵抗体がＣｒ−Ｓｉ−ＳｉＯまたはＴａ−Ｓｉ−ＳｉＯ
合金薄膜抵抗体とＮｉ薄膜導体からなることを特徴とす
る記録装置。 - 【請求項２】 前記Ｃｒ−Ｓｉ−ＳｉＯまたはＴａ−Ｓ
ｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵抗体がインク流路の方向に対して
非対称形状となっていることを特徴とする請求項１記載
の記録装置。 - 【請求項３】 インク溜めと、インク吐出口と、該イン
ク溜めとインク吐出口を連通するインク流路と、該イン
ク流路内の前記インク吐出口近傍に設けられた発熱抵抗
体を有する記録装置であって、前記インク流路端部に、
インク溜め側に向かって拡がる空間を形成し、該インク
流路内の該空間に前記発熱抵抗体を設けることを特徴と
する記録装置。 - 【請求項４】 インク溜めと、インク吐出口と、該イン
ク溜めとインク吐出口を連通するインク流路と、該イン
ク流路内の前記インク吐出口近傍に設けられた発熱抵抗
体を有する記録装置であって、前記インク流路端部に、
インク溜め側に向かって拡がる空間を形成し、該インク
流路内の該空間に前記発熱抵抗体とは別の発熱抵抗体を
設けることを特徴とする記録装置。 - 【請求項５】 前記各発熱抵抗体はＣｒ−Ｓｉ−ＳｉＯ
またはＴａ−Ｓｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵抗体とＮｉ薄膜導
体からなることを特徴とする請求項３、４記載の記録装
置。 - 【請求項６】 前記Ｃｒ−Ｓｉ−ＳｉＯまたはＴａ−Ｓ
ｉ−ＳｉＯ合金薄膜抵抗体がインク流路の方向に対して
非対称形状となっていることを特徴とする請求項５記載
の記録装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06825793A JP3320825B2 (ja) | 1992-05-29 | 1993-03-26 | 記録装置 |
| DE4317944A DE4317944C2 (de) | 1992-05-29 | 1993-05-28 | Tintenstrahl-Aufzeichnungskopf |
| US08/580,273 US5831648A (en) | 1992-05-29 | 1995-12-27 | Ink jet recording head |
| US08/587,803 US5710583A (en) | 1992-05-29 | 1995-12-29 | Ink jet image recorder |
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13849892 | 1992-05-29 | ||
| JP4-138498 | 1992-07-03 | ||
| JP4-176731 | 1992-07-03 | ||
| JP17673192 | 1992-07-03 | ||
| JP06825793A JP3320825B2 (ja) | 1992-05-29 | 1993-03-26 | 記録装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000305982A Division JP2001088305A (ja) | 1992-05-29 | 2000-10-05 | 記録装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0671888A true JPH0671888A (ja) | 1994-03-15 |
| JP3320825B2 JP3320825B2 (ja) | 2002-09-03 |
Family
ID=27299680
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP06825793A Expired - Fee Related JP3320825B2 (ja) | 1992-05-29 | 1993-03-26 | 記録装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5710583A (ja) |
| JP (1) | JP3320825B2 (ja) |
| DE (1) | DE4317944C2 (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08207291A (ja) * | 1994-07-14 | 1996-08-13 | Hitachi Koki Co Ltd | インク噴射記録ヘッドの製造方法および記録装置 |
| US5621524A (en) * | 1994-07-14 | 1997-04-15 | Hitachi Koki Co., Ltd. | Method for testing ink-jet recording heads |
| US5790154A (en) * | 1995-12-08 | 1998-08-04 | Hitachi Koki Co., Ltd. | Method of manufacturing an ink ejection recording head and a recording apparatus using the recording head |
| US5821960A (en) * | 1995-09-18 | 1998-10-13 | Hitachi Koki Co., Ltd. | Ink jet recording head having first and second connection lines |
| US5966153A (en) * | 1995-12-27 | 1999-10-12 | Hitachi Koki Co., Ltd. | Ink jet printing device |
| US6595622B2 (en) | 2001-03-29 | 2003-07-22 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Ink jet printhead with thick substrate providing reduced warpage |
| US6786576B2 (en) | 2002-01-17 | 2004-09-07 | Masao Mitani | Inkjet recording head with minimal ink drop ejecting capability |
| US6932461B2 (en) | 2002-12-16 | 2005-08-23 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Ink-jet recording head |
| US6962407B2 (en) | 2000-06-07 | 2005-11-08 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Inkjet recording head, method of manufacturing the same, and inkjet printer |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3573515B2 (ja) * | 1995-03-03 | 2004-10-06 | 富士写真フイルム株式会社 | インク噴射記録ヘッド、記録装置、およびインク噴射記録ヘッドの製造方法 |
| US5831648A (en) * | 1992-05-29 | 1998-11-03 | Hitachi Koki Co., Ltd. | Ink jet recording head |
| US5980024A (en) * | 1993-10-29 | 1999-11-09 | Hitachi Koki Co, Ltd. | Ink jet print head and a method of driving ink therefrom |
| JP3404830B2 (ja) * | 1993-10-29 | 2003-05-12 | 富士写真フイルム株式会社 | インク噴射記録方法 |
| AUPN231395A0 (en) * | 1995-04-12 | 1995-05-04 | Eastman Kodak Company | Electrostatic drop separation in lift printing |
| JPH09123437A (ja) * | 1995-08-28 | 1997-05-13 | Seiko Epson Corp | インクジェットプリンタ及びインクジェット記録用インク |
| US6132030A (en) * | 1996-04-19 | 2000-10-17 | Lexmark International, Inc. | High print quality thermal ink jet print head |
| JPH09300623A (ja) * | 1996-05-17 | 1997-11-25 | Hitachi Koki Co Ltd | インクジェット記録ヘッド及びその装置 |
| KR20020009281A (ko) * | 2000-07-25 | 2002-02-01 | 윤종용 | 잉크젯 프린터 헤드 |
| US6951622B2 (en) * | 2002-08-08 | 2005-10-04 | Industrial Technology Research Institute | Method for fabricating an integrated nozzle plate and multi-level micro-fluidic devices fabricated |
| USD818559S1 (en) | 2016-05-20 | 2018-05-22 | Ecolab Usa Inc. | Insect trap |
| JP6976743B2 (ja) | 2017-06-29 | 2021-12-08 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッド用基板、液体吐出ヘッド、液体吐出装置、導電層の形成方法、及び液体吐出ヘッド用基板の製造方法 |
Family Cites Families (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5123626Y2 (ja) * | 1971-06-17 | 1976-06-17 | ||
| JPS5311037A (en) * | 1976-07-19 | 1978-02-01 | Toshiba Corp | Thin film thermal head |
| JPS53110374A (en) * | 1977-03-08 | 1978-09-27 | Fujitsu Ltd | Manufacture of semiconductor device |
| JPS5439529A (en) * | 1977-09-05 | 1979-03-27 | Hitachi Ltd | Transfer control system for magnetic bubble element and the like |
| JPS5451837A (en) * | 1977-09-30 | 1979-04-24 | Ricoh Co Ltd | Ink jet head device |
| JPS5459936A (en) * | 1977-10-03 | 1979-05-15 | Canon Inc | Recording method and device therefor |
| US4345262A (en) * | 1979-02-19 | 1982-08-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink jet recording method |
| JPS5931943B2 (ja) * | 1979-04-02 | 1984-08-06 | キヤノン株式会社 | 液体噴射記録法 |
| JPS5761582A (en) * | 1980-10-01 | 1982-04-14 | Toshiba Corp | Thermal printing head method of manufacutre thereof |
| GB2104452B (en) * | 1981-06-29 | 1985-07-31 | Canon Kk | Liquid jet recording head |
| JPS5884401A (ja) * | 1981-11-13 | 1983-05-20 | 株式会社日立製作所 | 抵抗体 |
| JPS5882770A (ja) * | 1981-11-13 | 1983-05-18 | Hitachi Ltd | 感熱記録ヘツド |
| JPS59199256A (ja) * | 1983-04-28 | 1984-11-12 | Canon Inc | 液体噴射記録方法 |
| JPH0647291B2 (ja) * | 1984-08-17 | 1994-06-22 | 京セラ株式会社 | サ−マルヘツド |
| JPS61159701A (ja) * | 1984-12-28 | 1986-07-19 | 株式会社東芝 | サ−マルヘツドおよびその製造方法 |
| US4719478A (en) * | 1985-09-27 | 1988-01-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Heat generating resistor, recording head using such resistor and drive method therefor |
| JPS62152860A (ja) * | 1985-12-27 | 1987-07-07 | Canon Inc | 液体噴射記録ヘツド |
| JPH0712689B2 (ja) * | 1986-01-20 | 1995-02-15 | 京セラ株式会社 | サ−マルヘツド |
| JPS62240558A (ja) * | 1986-04-14 | 1987-10-21 | Canon Inc | 液体噴射記録ヘツド |
| DE3717294C2 (de) * | 1986-06-10 | 1995-01-26 | Seiko Epson Corp | Tintenstrahlaufzeichnungskopf |
| US4931813A (en) * | 1987-09-21 | 1990-06-05 | Hewlett-Packard Company | Ink jet head incorporating a thick unpassivated TaAl resistor |
| JP2612580B2 (ja) * | 1987-12-01 | 1997-05-21 | キヤノン株式会社 | 液体噴射記録ヘッド及び該ヘッド用基板 |
| JPH01190459A (ja) * | 1988-01-26 | 1989-07-31 | Ricoh Co Ltd | 液体噴射記録ヘッド |
| US5053787A (en) * | 1988-01-27 | 1991-10-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink jet recording method and head having additional generating means in the liquid chamber |
| JPH03246055A (ja) * | 1990-02-26 | 1991-11-01 | Canon Inc | インクジェット記録装置およびインクジェット記録ヘッドの回復方法 |
| JPH0733091B2 (ja) * | 1990-03-15 | 1995-04-12 | 日本電気株式会社 | インクジェット記録方法及びそれを用いたインクジェットヘッド |
| JPH06238933A (ja) * | 1992-07-03 | 1994-08-30 | Hitachi Koki Co Ltd | サーマルプリントヘッド及びサーマルプリンタ |
-
1993
- 1993-03-26 JP JP06825793A patent/JP3320825B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1993-05-28 DE DE4317944A patent/DE4317944C2/de not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-12-29 US US08/587,803 patent/US5710583A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08207291A (ja) * | 1994-07-14 | 1996-08-13 | Hitachi Koki Co Ltd | インク噴射記録ヘッドの製造方法および記録装置 |
| US5621524A (en) * | 1994-07-14 | 1997-04-15 | Hitachi Koki Co., Ltd. | Method for testing ink-jet recording heads |
| US5697144A (en) * | 1994-07-14 | 1997-12-16 | Hitachi Koki Co., Ltd. | Method of producing a head for the printer |
| US5821960A (en) * | 1995-09-18 | 1998-10-13 | Hitachi Koki Co., Ltd. | Ink jet recording head having first and second connection lines |
| US5790154A (en) * | 1995-12-08 | 1998-08-04 | Hitachi Koki Co., Ltd. | Method of manufacturing an ink ejection recording head and a recording apparatus using the recording head |
| US5966153A (en) * | 1995-12-27 | 1999-10-12 | Hitachi Koki Co., Ltd. | Ink jet printing device |
| US6962407B2 (en) | 2000-06-07 | 2005-11-08 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Inkjet recording head, method of manufacturing the same, and inkjet printer |
| US7043837B2 (en) | 2000-06-07 | 2006-05-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of manufacture of inkjet printer head |
| US6595622B2 (en) | 2001-03-29 | 2003-07-22 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Ink jet printhead with thick substrate providing reduced warpage |
| US6786576B2 (en) | 2002-01-17 | 2004-09-07 | Masao Mitani | Inkjet recording head with minimal ink drop ejecting capability |
| US6932461B2 (en) | 2002-12-16 | 2005-08-23 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Ink-jet recording head |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE4317944A1 (de) | 1993-12-09 |
| US5710583A (en) | 1998-01-20 |
| JP3320825B2 (ja) | 2002-09-03 |
| DE4317944C2 (de) | 1996-08-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0671888A (ja) | 記録装置 | |
| US5831648A (en) | Ink jet recording head | |
| JPH0117862B2 (ja) | ||
| JPH0344912B2 (ja) | ||
| JPS6345308B2 (ja) | ||
| JP4011952B2 (ja) | 液体吐出ヘッドおよび該液体吐出ヘッドを備える記録装置 | |
| JP4976890B2 (ja) | 液体吐出装置および液体吐出ヘッドの駆動方法 | |
| JPH05301345A (ja) | インクジェットヘッド | |
| JP3572866B2 (ja) | インクジェット記録装置およびその制御方法 | |
| JP2001088305A (ja) | 記録装置 | |
| JP2005022413A (ja) | インクジェットプリントヘッドの駆動方法 | |
| JP2004025851A (ja) | インクジェット記録装置及び記録方法 | |
| JPH0237301B2 (ja) | Ekitaifunshakirokuho | |
| JP3404830B2 (ja) | インク噴射記録方法 | |
| JPS59124863A (ja) | 液体噴射記録ヘッド | |
| JPS6342577B2 (ja) | ||
| US5980024A (en) | Ink jet print head and a method of driving ink therefrom | |
| JP3277203B2 (ja) | 液体噴射記録装置及び記録ヘッド | |
| JP3119211B2 (ja) | 液体噴射記録装置 | |
| JP2984415B2 (ja) | 発熱素子を用いたインクジェット記録装置 | |
| JP3436623B2 (ja) | インク噴射記録装置およびインク噴射記録方法 | |
| JPS647871B2 (ja) | ||
| JPS6342578B2 (ja) | ||
| JP2002172783A5 (ja) | ||
| JPH04118247A (ja) | インクジェット記録装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20001031 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080621 Year of fee payment: 6 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080621 Year of fee payment: 6 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080621 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090621 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090621 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100621 Year of fee payment: 8 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |