JPH0676226A

JPH0676226A - 磁気ヘッドおよびその製造方法

Info

Publication number: JPH0676226A
Application number: JP23093092A
Authority: JP
Inventors: Moichi Otomo; 茂一大友; Yasuhiro Kato; 泰裕加藤; Hidetoshi Moriwaki; 英稔森脇
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1992-08-31
Filing date: 1992-08-31
Publication date: 1994-03-18

Abstract

(57)【要約】【目的】高密度記録に適した記録再生特性、量産性の
優れた磁気ヘッドを提供する。【構成】コア基体部１０の斜面上に強磁性金属膜１１
を被着した磁気コア半体１２，１２’を、前記強磁性金
属膜同志が一致するようにギャップ材１３を介して接合
一体化し、テープ摺動面１５上の強磁性金属膜以外の部
分の少なくともギャップ深さまでを非磁性充填材１６で
構成する。テープ摺動面の前記非磁性充填材１６に隣接
する部分の強磁性金属膜１１’の厚さを、コア基体部に
被着された強磁性金属膜１１の厚さよりも小さくする。【効果】摺動面にフェライトが露出しないためノイズ
が小さく、後部磁気回路の断面積が大きいため記録再生
効率が高く、接合ブロックを形成した後トラック幅加工
を行うため、トラック幅精度が高い。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は磁気ヘッドに関し、特に
ノイズが小さく、高密度記録に好適な磁気ヘッドおよび
その製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年高密度磁気記録の進歩は著しく、記
録密度の増加により装置の小型化、高性能化が進んでい
る。高密度磁気記録を実現するためには、媒体を高保磁
力にすることが有利であり、このため近年ＶＴＲ等で
は、保磁力１２００から１５００Ｏｅの高保磁力メタル
テープが使用されている。一方磁気ヘッドでは、これら
の高保磁力媒体に充分記録を行うために、飽和磁束密度
の高い非晶質合金やＦｅＡｌＳｉ合金等の強磁性金属材
料がコア材料として用いられるようになって来ている。
このような強磁性金属材料を用いた磁気ヘッドの一つと
して、記録再生を行うギャップ近傍を強磁性金属材料で
構成し、後部磁気コアを高透磁率フェライト材料で構成
する、いわゆる複合型磁気ヘッドが用いられている。こ
のようなヘッドの一例として特開昭６２−１５７３０６
号公報に記載の複合型磁気ヘッドがある。

【０００３】このヘッドは、図２に示すように、磁気コ
ア部101、102を高透磁率フェライトで構成し、ギャップ
ｇ近傍に強磁性金属膜103,104を被着して記録再生トラ
ックを構成したものである。

【０００４】上記従来のヘッドは、高保磁力テープへの
記録再生特性の優れるという利点があるが、フェライト
がテープ摺動面に露出しているため、テープを摺動した
場合に、フェライト部より摺動ノイズを発生するという
問題がある。とくにこの摺動ノイズはデータ転送速度が
大きく、そのためテープとの相対速度が早い、ディジタ
ルＶＴＲ，高精細ＶＴＲなどの場合に大きな問題とな
る。

【０００５】このような摺動ノイズを防ぐ手段の１例と
して、図３に示した特開昭６０−１８２５０７号公報に
記載のヘッドがある。このヘッドでは、テープ摺動面近
傍のコアをノイズを発生しない非磁性材107,108とし、
後部の磁気コア105,106をフェライトとして、ギャップ
近傍には強磁性金属膜109,110を被着して記録再生トラ
ックを構成することにより、テープの摺動によるノイズ
の発生を防ぐ。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかし、この磁気ヘッ
ドには以下のようなヘッド製造上の問題点がある。図２
に示した磁気ヘッドの製造方法の概略を図４に示した。
この磁気ヘッドでは、(イ)において高透磁率フェライト
からなる基板111の表面に傾いたＶ字状の溝112を形成
し、(ロ)において溝の斜面上に強磁性金属膜113を被着
形成する。次に(ハ)において、溝112内に非磁性材114を
充填し、基板の表面を平面研削する。さらに(ニ)におい
て、第２の溝115を形成し、基板表面を鏡面研磨を行っ
て、ギャップ形成面とし、磁気コア半体ブロック116を
作製する。また、同様の形状で巻線溝を形成した磁気コ
ア半体117を作製する。次に(ホ)において、上記で形成
した磁気コア半体ブロック116,117同志をギャップ材を
介して、強磁性金属膜の端面が一致するように突合せ
て、ガラスにより溶着するとともに、第２の溝に非磁性
材118を充填して、ブロック119を得る。さらにX-X線お
よびX'-X'線を切断して図２に示した磁気ヘッドを得
る。

【０００７】一方、図３に示した磁気ヘッドを作製する
には、(イ)において高透磁率フェライト120に耐摩耗性
非磁性材121を接合した複合基板125を作製し、(ロ)にお
いてＶ字状の溝122を形成し、この上に(ハ)において強
磁性金属膜123を被着形成する。次に(ニ)において複合
基板の上面を研削、研磨し磁気コア半体ブロック126を
作製する。また(ホ)において巻線溝124を形成し、磁気
コア半体ブロック127を作製する。次にこれらの磁気コ
ア半体ブロック126、127同志を、ギャップ材を介して突
合せ、ガラスにより溶着したのち、c,c'線で切断するこ
とにより、図３に示した磁気ヘッドを得る。

【０００８】図４に示した磁気ヘッドの製造方法におい
ては、基板111を大きな形状とし、図４(ニ)において第
２の溝115の方向と垂直方向に切断することにより、磁
気コア半体ブロック116、117を基板111から複数個作製
することができる。これは、磁気ヘッドの量産性を向上
する上で効果がある。しかし、図５に示した磁気ヘッド
の製造方法においては、複合基板125を用いるため、図
５(ニ)において溝122の方向と直角方向に切断して磁気
コア半体ブロック126、127を複数個作製することが出来
ない。従って、複合基板125を用いて作製する、摺動面
が非磁性材で構成される図３に示したような磁気ヘッド
は、図２に示した磁気ヘッドに比較して量産性が劣ると
いう問題がある。

【０００９】さらに、図２、図３に示した磁気ヘッドの
もう一つの問題として、以下の点がある。すなわち、こ
れらのヘッドは磁気ヘッドコア半体同志を機械的位置合
わせをおこなって接合するため、図６のテープ摺動面の
ように、トラックずれを生じやすい。これは、高密度記
録に使用する狭トラックヘッドにとって大きな問題とな
る。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明では、上記問題を
解決し、記録再生特性、量産性に優れ、摺動ノイズが発
生せず、さらにトラック幅精度の優れた磁気ヘッドを提
供するために、以下の手段を用いる。すなわち、高透磁
率フェライトからなる基板に形成した溝の斜面上に、強
磁性金属膜を所要のトラック幅となる厚さより厚く被着
形成した磁気コア半体ブロックを用意し、強磁性金属膜
の端面が一致するように磁気コア半体ブロック同志を接
合した接合ブロックを作製し、しかるのちに接合ブロッ
クのテープ摺動面上に、強磁性金属膜をトラック幅分残
して、トラック幅と平行に少なくもギャップ深さまでの
溝を形成し、この溝に非磁性充填材を充填して接合ブロ
ックを切断して、磁気ヘッドを得る。この結果、後部磁
気コアが高透磁率フェライト、ギャップ近傍が強磁性金
属膜からなり、強磁性金属膜以外のテープ摺動面が非磁
性材で構成される磁気ヘッドが得られる。

【００１１】本発明の磁気ヘッドに用いられる強磁性金
属膜としては、Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉを磁性元素とし、Ｚ
ｒ，Ｔａ，Ｎｂ，Ｔｉ，Ｈｆ等の金属元素、あるいはＳ
ｉ，Ｃなどのメタロイド元素を非晶質化元素とした強磁
性非晶質合金、また、ＦｅＡｌＳｉ系（センダスト）、
Ｎｉ−Ｆｅ系（パーマロイ）、Ｆｅ−Ｃ系結晶質合金、
また、Ｆｅ，ＣｏにＣ，Ｎ，Ｂを含み、さらにＺｒ，Ｔ
ｉ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｈｆ等を添加した微結晶合金等が挙げ
られる。これらの強磁性金属膜は、スパッタリング、真
空蒸着などの薄膜形成法により形成される。

【００１２】テープ摺動面上に形成した溝に充填する非
磁性充填材としては、フォルステライト（２ＭｇＯ−Ｓ
ｉＯ₂），ステアタイト（ＭｇＯ−ＳｉＯ₂），Ａｌ
₂Ｏ₃，ＳｉＯ₂などの材料を用いることができる。これ
らは、真空蒸着法やスパッタリング法で形成される。ま
た、各種のガラスを溶融充填することにより、上記非磁
性充填材に用いることが出来る。

【００１３】

【作用】上記磁気ヘッドの構成および製造方法におい
て、強磁性金属膜の膜厚をトラック幅よりも大とし、接
合ブロックを作製したのちにテープ摺動面上に溝を形成
する際にトラック幅を規制することにより、従来のヘッ
ドにおける図６に示したトラックずれによるトラック幅
精度の低下を防ぐことが出来る。また、上記溝に非磁性
充填材を充填することにより、ギャップ近傍のテープが
摺接する部分に高透磁率フェライトが露出せず、摺動ノ
イズを防ぐことが出来る。さらに、図５に示した高透磁
率フェライトと非磁性材との複合基板を作製する必要が
なく、このため前述のように、大きい基板から複数の磁
気コア半体ブロックを作製することが出来、量産性に優
れている。また、図５に示した磁気ヘッドの製造方法に
比較して、トラック幅を規制する第２の溝を形成する必
要がなく、このため生産性に優れている。

【００１４】本発明の磁気ヘッドでは、高透磁率フェラ
イトを基板として用いる替わりに、耐摩耗性非磁性材を
基板として用いてもよい。この場合、磁気回路は強磁性
金属膜のみが構成する。本磁気ヘッドにおいても、接合
ブロックの摺動面上に溝を形成することにより、トラッ
ク幅の規制を行うことが出来、トラック幅精度を高める
上で効果がある。本磁気ヘッドにおいて用いられる耐摩
耗性非磁性材としては、ＭｎＯ−ＮｉＯ系、ＮｉＯ−Ｔ
ｉ₂Ｏ₃系、αＦｅ₂Ｏ₃、等のセラミックスが用いられ
る。

【００１５】接合ブロックの摺動面上に溝を形成し、非
磁性充填材を充填してトラック幅を規程するヘッドの例
として、特開平４−３０３０８号公報に記載のヘッドが
ある。このヘッドにおいては、トラック幅規制溝を磁気
ヘッドの側面と平行に設ける。このため、基板に高透磁
率フェライトを用いた場合にはテープ摺動面の強磁性金
属膜に隣接した部分にフェライトが残って、ノイズを発
生するおそれがある。また基板に耐摩耗性非磁性基板を
用いた場合には、テープ摺動面上の強磁性金属膜の長さ
が短くなり、記録再生効率の点で不利となる。

【００１６】

【実施例】次に、本発明を実施例を用いて詳細に説明す
る。

【００１７】＜実施例１＞本発明の磁気ヘッドの１実施
例の斜視図を図１(a)に、テープ摺動面を(b),(c)に示し
た。本ヘッドは、高透磁率フェライトからなるコア基体
部１０に形成した斜面上に、高飽和磁束密度を有する強
磁性金属膜１１を被着した磁気ヘッドコア半体１２，１
２’を、ギャップ材１３を介して接合材１４を用いて一
体化した構造を有する。テープ摺動面１５上の強磁性金
属膜部分以外の少なくともギャップ深さまでを、非磁性
充填材１６で構成する。テープ摺動面の前記非磁性充填
材１６に隣接する部分の強磁性金属膜１１’の厚さは、
コア基体部に被着された強磁性金属膜１１の厚さよりも
小さい。コア基体部にはコイル巻線窓１７を設け、コイ
ルを巻回して記録再生信号を入出する。

【００１８】本ヘッドの構造により、後部磁気回路は高
透磁率フェライトと強磁性金属磁性膜で構成される。こ
のため後部磁気回路の断面積が大きく、記録再生効率の
高いヘッドが得られる。記録再生トラックを構成する前
部磁気回路は高飽和磁束密度を有する強磁性金属膜で構
成される。このため、高保磁力テープに対して充分な記
録磁界を発生することが出来る。テープ摺動面は強磁性
金属膜と非磁性充填材で構成されるため、フェライトに
よる摺動ノイズを生じない。また、図６に示したよう
な、左右磁気コア半体でのトラックずれを生ぜず、図１
（ｂ）のようにトラック幅精度の高い磁気ヘッドが得ら
れる。

【００１９】本発明の磁気ヘッドでは、図１（ｂ）に示
したように、強磁性金属膜１１’として非磁性絶縁材を
介して積層した多層膜を使用することが出来る。これに
より渦電流を防止し、高周波まで記録再生特性のすぐれ
た磁気ヘッドを得ることが出来る。また、本発明の磁気
ヘッドにおいて、製造方法によって図１（ｃ）に示すよ
うに高透磁率フェライトからなるコア基体部がヘッドの
端部に残ることがある。このような構成の場合でも、テ
ープが主として摺動するのはギャップ近傍であり、ヘッ
ド端部はテープが摺動しないか、テープが摺動してもそ
の接触力は極めて弱いため、ギャップからフェライトま
での距離Ｌが摺動面の幅Ｗよりも大きい場合には、摺動
ノイズに影響を与えないと考えられる。

【００２０】＜実施例２＞図７に、本発明のもう一つの
磁気ヘッドの例を示した。本ヘッドは、耐摩耗性非磁性
材からなるコア基体部１０に形成した斜面上に、高飽和
磁束密度を有する強磁性金属膜１１を被着した磁気ヘッ
ドコア半体１２，１２’を、ギャップ材１３を介して接
合材１４を用いて一体化した構造を有する。テープ摺動
面１５上の強磁性金属膜部分以外の少なくともギャップ
深さまでを、非磁性充填材１６で構成する。テープ摺動
面の前記非磁性充填材１６に隣接する部分の強磁性金属
膜１１’の厚さは、コア基体部に被着された強磁性金属
膜１１の厚さよりも小さくする。コア基体部にはコイル
巻線窓１７を設け、コイルを巻回して記録再生信号を入
出する。

【００２１】本ヘッドでは、前部および後部磁気回路と
も高飽和磁束密度を有する強磁性金属膜で構成され、高
保磁力テープに対して充分な記録磁界を発生することが
出来る。トラック幅を決めるテープ摺動面の強磁性金属
膜１１’の厚さよりも後部磁気コアの強磁性金属膜１１
の厚さを大きいく出来るため、後部磁気コアの磁気抵抗
が低く出来、記録再生効率を向上することが出来る。ま
た左右磁気コア半体でのトラックずれが生ぜず、トラッ
ク幅精度の高い磁気ヘッドが得られる。

【００２２】＜実施例３＞実施例１に示した磁気ヘッド
を例に、本発明の磁気ヘッドの製造方法を図８，図９，
図１０に示した。

【００２３】ａ）図８（イ）に示したように、磁気ヘッ
ドのコア基体部となるべき高透磁率フェライトからなる
基板１９に斜面２０を有するほぼＶ字状の溝２１を互い
に平行に複数本形成する。

【００２４】ここで、高透磁率フェライトは、Ｍｎ−Ｚ
ｎフェライトの単結晶または多結晶材が用いられる。ま
た、Ｎｉ−Ｚｎフェライトを用いることも出来る。基板
１９に溝２１を形成するには、ダイヤモンドブレードを
使用し、高速ダイサーにより機械的に加工する。また、
腐食液を用いた化学的エッチング法、電解研磨法、さら
に、イオンミリングなどの薄膜加工法により加工する方
法がある。

【００２５】ｂ）次に、図８（ロ）に示すように、基板
１９の表面全体に強磁性金属磁性膜を被着、形成する。

【００２６】強磁性金属磁性膜は、前記のように、Ｃｏ
ＮｂＺｒ，ＣｏＴａＺｒなどの強磁性非晶質合金、Ｆｅ
ＡｌＳｉ系、ＦｅＧａＳｉ系等の結晶質磁性合金、また
ＦｅＴａＣ，ＦｅＺｒＣ，ＦｅＨｆＣ，ＣｏＴａＣ，Ｃ
ｏＺｒＣ，ＦｅＴａＮ，ＦｅＺｒＮなどの微結晶磁性合
金が用いられる。これらの膜の形成には、主として２極
スパッタリング法、高速スパッタリング法、イオンビー
ムスパッタリング法等のスパッタリング法を用いる。

【００２７】ｃ）次に図８（ハ）に示すように、溝２１
に低融点ガラス等の非磁性材２３を充填し、基板１９の
表面を研削、研磨し、ギャップ形成面２４とする。これ
により、磁気コア半体ブロック２５を作製する。また、
図９（ニ）に示すように、（ハ）と同様の磁気コア半体
ブロック２５’に巻線溝２６を形成する。さらにギャッ
プ形成面２４、２４’のいずれか、あるいは双方にＳｉ
Ｏ₂などのギャップ材をスパッタリング等により被着す
る。

【００２８】本実施例では、１枚の基板１９から１個づ
つの磁気コア半体ブロック２５、２５’を作製するごと
く示したが、前述のように、大きい基板から磁気コア半
体大ブロックを作製し、溝２１と垂直方向および平行方
向に切断して、多数の磁気コア半体ブロック２５、２
５’を作製することが出来る。これにより、量産性を著
しく向上することが出来る。

【００２９】ｄ）次に図９（ホ）に示すように、磁気コ
ア半体ブロック２５，２５’の磁性膜端面２７、２７’
が一致するようにギャップ材を介して、ギャップ形成面
２４、２４’を突合せ、低融点ガラス２３を加熱溶融し
て磁気コア半体ブロック同志を結合して、結合ブロック
２８を作製する。

【００３０】磁気コア半体ブロックの結合には、上記の
ように溝２１に充填した低融点ガラスを結合材とする方
法の他に、巻線溝２６に低融点ガラス棒を挿入して結合
材として用いる方法、巻線溝以外に結合溝を設けて低融
点ガラスを充填して結合する方法、ギャップ面に低融点
ガラスの薄い膜を形成して結合材として用いる方法、こ
れらを併用する方法がある。

【００３１】ｅ）次に図９（ヘ）に示すように、結合ブ
ロック２８のテープ摺動面に、少なくともギャップデプ
スの深さで、強磁性金属磁性膜２２を残して、これと平
行な摺動面溝３０を形成する。

【００３２】この溝の形成にはａ）の工程で述べた、ダ
イヤモンドブレードおよび高速ダイサーを使用する機械
加工法が用いられる。また、各種エッチング法やイオン
ミリング法も可能である。

【００３３】本工程の際には、図１０（ト）に示すよう
に、強磁性金属磁性膜２２が磁気コア半体ブロック２
５，２５’の間でずれていても、両ブロックを通して一
点鎖線のように加工を行うために、最終的なトラック幅
はトラックずれの無い精度の高いものとなる。従って、
本発明の磁気ヘッドは高密度記録用狭トラックヘッドに
適したものとなる。

【００３４】ｆ）次に図１０（ト）に示すように、上記
摺動面溝３０に、非磁性充填材３１を充填し、研削等に
より不要な非磁性材を除去する。

【００３５】本工程において非磁性充填材としては、前
記のようにフォルステライト、ステアタイトなどの酸化
物を用いることが出来る。これらの材料は、真空蒸着法
により、高速で形成することが出来、熱膨張係数もフェ
ライトに近い値を有するため、ヘッド特性を維持し、ま
た内部応力によるクラック等を防止するために有用であ
る。また、スパッタリング法により形成したＡｌ₂Ｏ₃，
ＳｉＯ₂等の酸化物をも用いることが出来る。これらは
硬度が極めて高く耐摩耗性に優れているため、摩耗寿命
の長いヘッドを得ることが出来る。また、上記のように
薄膜形成法により形成した膜を用いる代わりに、低融点
ガラス等を加熱溶融し、摺動面溝に充填して用いること
が出来る。非磁性充填材として低融点ガラスを用いる場
合には、この軟化点が、前記の工程ｄ）で結合ブロック
を作製するために用いた結合材の軟化点より低いことが
必要である。

【００３６】ｇ）次いで、図１０（チ）の破線部を切断
し、摺動面を曲面状に加工して、第１図に示した磁気ヘ
ッドが得られる。

【００３７】ＶＴＲに用いられる磁気ヘッドでは、ヘッ
ドの走行方向に対してギャップを５〜２０度傾けるアジ
マス角度を付けるのが一般的である。図１０（リ）のテ
ープ摺動面に示したように、アジマス角θ傾けて結合ブ
ロック２８を切断しヘッドを得る場合、破線ａのように
強磁性金属膜２２の傾きと同一方向に傾けて切断する方
法と、破線ｂのように強磁性金属膜２２の傾きと逆方向
に傾けて切断する方法がある。これらのうち破線ａのよ
うに強磁性金属膜と同一方向に傾ける方が、磁気ヘッド
内の強磁性金属膜２２の長さを大きくとれるため記録再
生特性に優れ、また磁気ヘッドの走行方向と金属膜の方
向の傾きが小さいため、走行性にも有利である。

【００３８】＜実施例４＞図１１に本発明の磁気ヘッド
の別の例を示した。本実施例では、テープ摺動面１５上
の強磁性金属膜１１’のギャップ近傍に狭トラック切欠
き部３２を設ける。これにより、トラック幅に対して前
部磁気回路においても強磁性金属膜の膜厚がトラック幅
より大となるため前部磁気回路の磁気抵抗が減少し、記
録再生効率の増加を図ることが出来る。狭トラック切欠
き部は、実施例３に示した製造方法の図９（ヘ）におい
て、摺動面溝３０を加工した後あるいは同時に、各種エ
ッチング法あるいはイオンミリング法等により形成する
ことが出来る。また、近年フォーカスイオンビーム発生
装置の発展により、ギャップ近傍に局所的に狭トラック
切欠き部を加工することも可能になった。

【００３９】図１２（イ）、（ロ）に本発明の磁気ヘッ
ドの別の例を示した。（ロ）は（イ）のギャップ付近を
拡大した図である。本実施例では、非磁性充填材１６と
強磁性金属膜１１’の間にＣｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｔａ，Ｎ
ｂ，Ｔｉ，Ｚｒなどの非磁性金属膜３３を設ける。この
膜は、非磁性充填材と強磁性金属膜の密着性を改善し、
あるいは両者の間の反応を防止する。

【００４０】強磁性金属膜１１’として渦電流防止のた
めの多層膜を使用している場合には、非磁性金属膜３３
を強磁性金属膜に直接被着することにより、左右磁気コ
アの強磁性金属膜が電気的に導通し問題を生ずる場合が
ある。図１２（ハ）のように、非磁性金属膜３３と強磁
性金属膜１１’の間に非磁性絶縁膜３４を被着すること
により上記問題を解決出来る。

【００４１】

【発明の効果】以上に述べたように、テープ摺動面上で
強磁性金属膜以外のコア基体部を除去し、非磁性充填材
で充填した構造とすることにより、記録再生特性に優
れ、摺動ノイズがなく、量産性が高く、トラック幅精度
の高い磁気ヘッドを提供することが出来た。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気ヘッドを示す斜視図および平面
図。

【図２】従来の磁気ヘッドを示す斜視図。

【図３】従来の磁気ヘッドを示す斜視図。

【図４】従来の磁気ヘッドの製造方法を示す断面図。

【図５】従来の磁気ヘッドの製造方法を示す斜視図。

【図６】従来の磁気ヘッドの問題点を示す平面図。

【図７】本発明の磁気ヘッドの例を示す斜視図。

【図８】本発明の磁気ヘッドの製造方法を示す斜視図。

【図９】本発明の磁気ヘッドの製造方法を示す斜視図。

【図１０】本発明の磁気ヘッドの製造方法を示す斜視
図。

【図１１】本発明の磁気ヘッドの例を示す平面図。

【図１２】本発明の磁気ヘッドの例を示す平面図。

【符号の説明】

１０ …コア基体部１１、１１’、２２ …強磁性金属膜１２、１２’ …磁気コア半体１３ …ギャップ材１４ …接合材１５、２９ …テープ摺動面１６、３１ …非磁性充填材１７ …巻線窓１８ …非磁性絶縁材１９ …基板２０ …斜面２１ …溝２３ …非磁性材２４、２４’ …ギャップ形成面２５、２５’ …磁気コア半体ブロック２６ …巻線溝２７、２７’ …磁性膜端面２８ …結合ブロック３０ …摺動面溝３２ …狭トラック切欠き部３３ …非磁性金属膜３４ …非磁性絶縁膜

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】コア基体部の斜面上に強磁性金属膜を被着
した２個の磁気コア半体を、前記強磁性金属膜同志が一
致するようにギャップ材を介して接合一体化した磁気ヘ
ッドにおいて、強磁性金属膜のみが記録再生トラックを
構成するように、強磁性金属膜と平行で少なくともギャ
ップ深さまでの溝をテープ摺動面に形成して強磁性金属
膜の厚みを減じるとともにコア基体部を除去し、前記摺
動面上の溝に非磁性充填材を充填してなることを特徴と
する磁気ヘッド。
【請求項２】コア基体部が高透磁率フェライトである請
求項１の磁気ヘッド。
【請求項３】コア基体部が耐摩耗性非磁性材である請求
項１の磁気ヘッド。
【請求項４】アジマス角を有する磁気ヘッドにおいて、
ギャップ面に対する上記強磁性金属膜の傾斜の方向と磁
気ヘッド側面の傾斜の方向が同一であることを特徴とし
た請求項１ないし３のうちいずれかに記載の磁気ヘッ
ド。
【請求項５】コア基体部の斜面上に強磁性金属膜を被着
した２個の磁気コア半体を、前記強磁性金属膜同志が一
致するようにギャップ材を介して接合一体化した磁気ヘ
ッドの製造方法において、前記コア基体部となるべき基
板に斜面を有する溝を形成する工程、前記斜面上に強磁
性金属膜を被着する工程、前記溝に非磁性材を充填する
工程、前記基板の余分な非磁性材および強磁性金属膜を
研削、研磨により除去してギャップ形成面とし、磁気コ
ア半体ブロックを作製する工程、少なくとも一方の磁気
コア半体ブロックにコイル巻線用の溝を形成する工程、
磁気コア半体ブロックのギャップ形成面にギャップ材を
被着する工程、強磁性金属膜同志が一致するようにギャ
ップ材を介して２個の磁気コア半体ブロックを接合一体
化し、接合ブロックを作製する工程、接合ブロックのテ
ープ摺動面に強磁性金属膜と平行で少なくともギャップ
深さまでの溝を形成する工程、前記摺動面上の溝に非磁
性充填材を充填する工程、余分な非磁性充填材を除去す
る工程、所定のコア幅に接合ブロックを切断し、磁気ヘ
ッドとする工程を有する磁気ヘッドの製造方法。