JPH0676660B2 - 成形用金型およびその製法 - Google Patents
成形用金型およびその製法Info
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- JPH0676660B2 JPH0676660B2 JP1127648A JP12764889A JPH0676660B2 JP H0676660 B2 JPH0676660 B2 JP H0676660B2 JP 1127648 A JP1127648 A JP 1127648A JP 12764889 A JP12764889 A JP 12764889A JP H0676660 B2 JPH0676660 B2 JP H0676660B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は成形用金型およびその製法に関し、より詳しく
は成形加工の際少なくとも被加工物と当接する表面に、
イオンの注入と真空蒸着を同時に行うことにより、被加
工物の母材金属と、注入イオンと、蒸着物質とによる三
元系の非晶質合金層を形成した成形用金型およびその製
法に関する。
は成形加工の際少なくとも被加工物と当接する表面に、
イオンの注入と真空蒸着を同時に行うことにより、被加
工物の母材金属と、注入イオンと、蒸着物質とによる三
元系の非晶質合金層を形成した成形用金型およびその製
法に関する。
一般に、打抜き、絞りなどの成形加工は、被加工物を所
望の形状に成形するための機械的な加工が繰り返される
ものであり、用いる金型には過酷な加圧状態が課される
こととなる。このような成形加工は、通常被加工物を積
極的に加熱することなく室温または室温に近い温度で行
うため、被加工物に変形抵抗が高く、成形用金型には極
めて過酷な条件が課されることとなる。しかも、より高
い生産性の要求から、金型寿命の長いものが益々強く求
められるようになっている。
望の形状に成形するための機械的な加工が繰り返される
ものであり、用いる金型には過酷な加圧状態が課される
こととなる。このような成形加工は、通常被加工物を積
極的に加熱することなく室温または室温に近い温度で行
うため、被加工物に変形抵抗が高く、成形用金型には極
めて過酷な条件が課されることとなる。しかも、より高
い生産性の要求から、金型寿命の長いものが益々強く求
められるようになっている。
そのため、成形用金型としては、熱処理技術の改良と相
俟って、これまで種々の合金鋼の開発あるいは粉末冶金
技術からの産物である超硬合金の応用などといった材料
面からの改良がなされてきた。
俟って、これまで種々の合金鋼の開発あるいは粉末冶金
技術からの産物である超硬合金の応用などといった材料
面からの改良がなされてきた。
他方、より一層生産性の高い優れた工具材料を開発する
ため、材料表面に種々の金属間化合物をコーティングす
る技術が発達してきた。例えば、真空蒸着法、イオンス
パッタリング法、イオンプレーティング法などのいわゆ
るPVD法や、気相めっき法ともいうべきCVD法などによっ
て工具表面にTiNなどの金属間化合物をコーティングす
ることにより、工具寿命を延長させる試みである。
ため、材料表面に種々の金属間化合物をコーティングす
る技術が発達してきた。例えば、真空蒸着法、イオンス
パッタリング法、イオンプレーティング法などのいわゆ
るPVD法や、気相めっき法ともいうべきCVD法などによっ
て工具表面にTiNなどの金属間化合物をコーティングす
ることにより、工具寿命を延長させる試みである。
しかしながら、PVD法によるコーティング層は材料表面
における密着性が悪く、過酷な動的荷重のかかる成形用
金型表面に施しても到底耐えられるものではなかった。
における密着性が悪く、過酷な動的荷重のかかる成形用
金型表面に施しても到底耐えられるものではなかった。
後者のCVD法による場合は、PVD法よりも材料表面におけ
るコーティング層の密着性は幾分改善されるが、この場
合も、材料表面に明確に識別されるコーティング層を形
成することとなるので、過酷な動的加圧条件では依然と
してコーティング層が剥離するという問題があった。
るコーティング層の密着性は幾分改善されるが、この場
合も、材料表面に明確に識別されるコーティング層を形
成することとなるので、過酷な動的加圧条件では依然と
してコーティング層が剥離するという問題があった。
更に、CVD法では金型を高温に加熱する必要がある（例
えば、TiN或いはTiCをコーティングする場合、1000℃程
度に加熱する）ので、金型の焼入れ処理が焼戻されて金
型基質そのものの強度的な低下をきたしたり、熱歪によ
る寸法制度の狂いが生じたりして金型として不都合であ
る。この不都合を解消するためには、材料に著しく制約
を課す必要があって実用的ではなかった。
えば、TiN或いはTiCをコーティングする場合、1000℃程
度に加熱する）ので、金型の焼入れ処理が焼戻されて金
型基質そのものの強度的な低下をきたしたり、熱歪によ
る寸法制度の狂いが生じたりして金型として不都合であ
る。この不都合を解消するためには、材料に著しく制約
を課す必要があって実用的ではなかった。
上記従来技術の課題に鑑み、本発明の目的は、過酷な成
形加工にも耐えられ強度が高く、且つ工具寿命の長い生
産性に優れた成形用金型、およびその製法を提供する事
にある。
形加工にも耐えられ強度が高く、且つ工具寿命の長い生
産性に優れた成形用金型、およびその製法を提供する事
にある。
上記目的を達成するため、本発明にかかる成形用金型の
特徴構成は、 成形加工の際少なくとも被加工物と当接する表面に、イ
オンの注入と真空蒸着とを同時に行うことによって形成
された改質表面処理層を備える成形用金型であって、前
記イオンの注入量（イオン電流密度:mA/cm2）Ｘと金属
元素の蒸着量（蒸着速度：Å/sec）Ｙとを、 10X｛（cm2・Å）／（mA・sec）｝≦Ｙ≦250X｛（cm2・
Å）／（mA・sec）｝ の関係に設定して、前記改質表面処理層を、被加工物の
母材金属と、注入イオンと、蒸着物質とによる三元系の
非晶質合金層によって形成した点にある。
特徴構成は、 成形加工の際少なくとも被加工物と当接する表面に、イ
オンの注入と真空蒸着とを同時に行うことによって形成
された改質表面処理層を備える成形用金型であって、前
記イオンの注入量（イオン電流密度:mA/cm2）Ｘと金属
元素の蒸着量（蒸着速度：Å/sec）Ｙとを、 10X｛（cm2・Å）／（mA・sec）｝≦Ｙ≦250X｛（cm2・
Å）／（mA・sec）｝ の関係に設定して、前記改質表面処理層を、被加工物の
母材金属と、注入イオンと、蒸着物質とによる三元系の
非晶質合金層によって形成した点にある。
更に、本発明にかかる成形用金型の製法の特徴構成は、 成形加工の際少なくとも被加工物と当接する表面に、イ
オンの注入と真空蒸着を同時に行うことにより金型の表
層を改質する成形用金型の製法であって、前記イオンの
注入量（イオン電流密度:mA/cm2）Ｘと金属元素の蒸着
量（蒸着速度：Å/sec）Ｙとを、 10X｛（cm2・Å）／（mA・sec）｝≦Ｙ≦250X｛（cm2・
Å）／（mA・sec）｝ の関係に設定して、前記金型の表層に、被加工物の母材
金属と、注入イオンと、蒸着物質とによる三元系の非晶
質合金層を形成する点にある。
オンの注入と真空蒸着を同時に行うことにより金型の表
層を改質する成形用金型の製法であって、前記イオンの
注入量（イオン電流密度:mA/cm2）Ｘと金属元素の蒸着
量（蒸着速度：Å/sec）Ｙとを、 10X｛（cm2・Å）／（mA・sec）｝≦Ｙ≦250X｛（cm2・
Å）／（mA・sec）｝ の関係に設定して、前記金型の表層に、被加工物の母材
金属と、注入イオンと、蒸着物質とによる三元系の非晶
質合金層を形成する点にある。
この非晶質合金層を形成する方法により成形用金型の表
層にミキシングされるイオンは、例えば、元素周期律表
における第III族〜第VI族および第VIII族に属する元素
の１種または２種以上であることが望ましい。
層にミキシングされるイオンは、例えば、元素周期律表
における第III族〜第VI族および第VIII族に属する元素
の１種または２種以上であることが望ましい。
このうち、ミキシングをＮイオンの注入とTiの蒸着によ
り行うと、特に好ましい非晶質合金層が得られる。
り行うと、特に好ましい非晶質合金層が得られる。
その他にもミキシング元素として、TaC,TiC,VC,BN,TiN,
Fe2Nなどを用いることができる。
Fe2Nなどを用いることができる。
上記の如く構成した本発明にかかる形成用金型およびそ
の製法の作用は次の通りである。
の製法の作用は次の通りである。
成形用金型の表面に、イオンの注入と真空蒸着を同時に
行うことによって、被加工物の母材金属と、注入イオン
と、蒸着物質とによる三元系の非晶質合金層からなる改
質表面処理層が形成され、その非晶質合金層が、イオン
の注入量（イオン電流密度:mA/cm2）Ｘと金属元素の蒸
着量（蒸着速度：Å/sec）Ｙが、 10X｛（cm2・Å）／（mA・sec）｝≦Ｙ≦250X｛（cm2・
Å）／（mA・sec）｝ の関係により形成されるので、耐摩耗性に優れた改質表
面処理層を構成することができる。
行うことによって、被加工物の母材金属と、注入イオン
と、蒸着物質とによる三元系の非晶質合金層からなる改
質表面処理層が形成され、その非晶質合金層が、イオン
の注入量（イオン電流密度:mA/cm2）Ｘと金属元素の蒸
着量（蒸着速度：Å/sec）Ｙが、 10X｛（cm2・Å）／（mA・sec）｝≦Ｙ≦250X｛（cm2・
Å）／（mA・sec）｝ の関係により形成されるので、耐摩耗性に優れた改質表
面処理層を構成することができる。
しかも、その改質表面処理層は、イオンによる金属もし
くは金属間化合物が材料基質と一体的にミキシングされ
て形成されているので、このような金型の表層は、PVD
法やCVD法によって形成されるような明確な２層に分離
されることがなく、金型基質とコーティング層とが混然
一体となっていて、過酷な動的加圧条件にも表層が剥離
するといったことがなく、極めて強度の高い表層を備え
る金型を実現できた。
くは金属間化合物が材料基質と一体的にミキシングされ
て形成されているので、このような金型の表層は、PVD
法やCVD法によって形成されるような明確な２層に分離
されることがなく、金型基質とコーティング層とが混然
一体となっていて、過酷な動的加圧条件にも表層が剥離
するといったことがなく、極めて強度の高い表層を備え
る金型を実現できた。
上記ミキシング法として代表的なものにダイナミックミ
キシング法がある。この方法は、IVD（Ion and Vapor D
eposition）法とも称されるもの（M.Saut,K.Fukui and
F.Fujimoto,Proc.5th Symp.ISIAT,349頁、1982年）であ
って、通常のイオン注入法より低いイオン加速エネルギ
ーを用い、真空蒸着とイオン注入とを同時に行うもので
ある。ミキシングによる非晶質合金層形成の初期段階で
は、蒸着原子の一部はイオンとの衝突による反跳で基質
内に侵入するが、それと同時に入射イオンも基質に注入
され基質との間に非晶質合金層が形成されることとな
る。従って、予め試料表面に蒸着その他の方法によりコ
ーティング層を形成した後イオンを注入する方法とは、
原理的にも効果の点でも異なる。
キシング法がある。この方法は、IVD（Ion and Vapor D
eposition）法とも称されるもの（M.Saut,K.Fukui and
F.Fujimoto,Proc.5th Symp.ISIAT,349頁、1982年）であ
って、通常のイオン注入法より低いイオン加速エネルギ
ーを用い、真空蒸着とイオン注入とを同時に行うもので
ある。ミキシングによる非晶質合金層形成の初期段階で
は、蒸着原子の一部はイオンとの衝突による反跳で基質
内に侵入するが、それと同時に入射イオンも基質に注入
され基質との間に非晶質合金層が形成されることとな
る。従って、予め試料表面に蒸着その他の方法によりコ
ーティング層を形成した後イオンを注入する方法とは、
原理的にも効果の点でも異なる。
更に、本発明では、注入する元素の選択が容易であり目
的に応じて各種の表層を形成することができるのみなら
ず、各元素がイオン状態であることから極めて活性であ
るというイオン注入技術を利用しているので、注入され
た基質との一体性が良く、２種以上のイオンをミキシン
グしたとしても基質に確実に所望の金属間化合物を形成
させることができるのである。
的に応じて各種の表層を形成することができるのみなら
ず、各元素がイオン状態であることから極めて活性であ
るというイオン注入技術を利用しているので、注入され
た基質との一体性が良く、２種以上のイオンをミキシン
グしたとしても基質に確実に所望の金属間化合物を形成
させることができるのである。
Ｎイオン注入量（Ｎイオン電流密度mA/cm2）ＸとTiの蒸
着量（蒸着速度Å/sec）Ｙの関係において、Ti蒸着量が
10X未満又は250Xを越えると好ましいミキシング層が得
られない。
着量（蒸着速度Å/sec）Ｙの関係において、Ti蒸着量が
10X未満又は250Xを越えると好ましいミキシング層が得
られない。
前記構成による作用は次の通りである。
すなわち、イオンの注入量（イオン電流密度mA/cm2）Ｘ
と金属元素の蒸着量（蒸着速度Å/sec）Ｙが、前述の関
係をもって形成されることにより、被加工物の表層部分
に、単なるコーティング層ではなく、母材金属と、注入
イオンと、蒸着物質とが混然一体となった三元系の非晶
質合金層からなる耐剥離性に優れた高強度の改質表面処
理層を得られた。
と金属元素の蒸着量（蒸着速度Å/sec）Ｙが、前述の関
係をもって形成されることにより、被加工物の表層部分
に、単なるコーティング層ではなく、母材金属と、注入
イオンと、蒸着物質とが混然一体となった三元系の非晶
質合金層からなる耐剥離性に優れた高強度の改質表面処
理層を得られた。
しかも、イオン注入されミキシングされた表層は機械的
特性に優れた非晶質合金層を備えていて、この非晶質合
金層は溶融状態から急冷して製造される非晶金属とは異
なる、熱的に安定性が高く、従って連続的な成形加工に
よる加熱に際しても表層が変質し劣化することがないた
め、強度が高くて長寿命な金型を得られる。
特性に優れた非晶質合金層を備えていて、この非晶質合
金層は溶融状態から急冷して製造される非晶金属とは異
なる、熱的に安定性が高く、従って連続的な成形加工に
よる加熱に際しても表層が変質し劣化することがないた
め、強度が高くて長寿命な金型を得られる。
又、このように母材金属と一体化した改質表面処理層と
することで、母材金属の表面に重ねてコーティング層を
別途形成するというものではないので、コーティング層
の厚み分だけ仕上げ精度が低下することを避けられ、寸
法精度が安定する利点もある。
することで、母材金属の表面に重ねてコーティング層を
別途形成するというものではないので、コーティング層
の厚み分だけ仕上げ精度が低下することを避けられ、寸
法精度が安定する利点もある。
更に、本発明による方法によれば、CVD法によるような
加熱の必要がないので、必要な熱処理を行った後に表層
改質処理を行っても、表層の熱処理部分に悪影響を及ぼ
すことがない。
加熱の必要がないので、必要な熱処理を行った後に表層
改質処理を行っても、表層の熱処理部分に悪影響を及ぼ
すことがない。
その結果、金型の強度を損なったり、寸法制度に狂いを
生じたりすることがなく、制度が良く、かつ強度が高く
て長寿命な、成形加工品の生産性に優れた成形用金型が
得られた。
生じたりすることがなく、制度が良く、かつ強度が高く
て長寿命な、成形加工品の生産性に優れた成形用金型が
得られた。
以下に本発明にかかる成形用金型およびその製法の一実
施例を、図面を参照して詳細に説明する。
施例を、図面を参照して詳細に説明する。
成形用金型としては、変圧器などに使用されるモーター
コア抜打ち用金型を用い、この金型の材質は高速工具鋼
SKH9である。この場合のブランクとしては、厚み0.8m
m、幅60mmの帯状をしたJIS SPCC鋼板を用いた。金型形
状は第１図（ａ），（ｂ）に示すように、上型と下型と
からなっていて、この両型間に被加工物たるブランクを
挿入しながら、抜打ちプレスを用いて連続的に第２図に
示す形状の製品を形成するようにしたものである。
コア抜打ち用金型を用い、この金型の材質は高速工具鋼
SKH9である。この場合のブランクとしては、厚み0.8m
m、幅60mmの帯状をしたJIS SPCC鋼板を用いた。金型形
状は第１図（ａ），（ｂ）に示すように、上型と下型と
からなっていて、この両型間に被加工物たるブランクを
挿入しながら、抜打ちプレスを用いて連続的に第２図に
示す形状の製品を形成するようにしたものである。
成形用金型の表面のうち、ブランクと接する抜打ち箇所
周辺にダイナミックミキシング処理を行いミキシング層
を形成した。このミキシング層の形成方法を以下に説明
する。
周辺にダイナミックミキシング処理を行いミキシング層
を形成した。このミキシング層の形成方法を以下に説明
する。
第３図に、用いたイオン注入装置の概略構成を示す。こ
の装置は、イオン源（５）として冷陰極型イオン源を用
い、このイオン源（５）から出たイオンは質量分析系
（６）によって注入したいイオンのみを取り出して試料
台（17）に載置された試料（７）に注入するようになっ
ている。従って、予定していない不純物元素は質量分析
系（６）によってふるい分けられ、試料（７）には不純
物元素が混入しないのである。更に、選択したイオンの
電流密度を制御することによって、試料表層で形成され
る化合物薄層の組成比を制御できるようになっている。
の装置は、イオン源（５）として冷陰極型イオン源を用
い、このイオン源（５）から出たイオンは質量分析系
（６）によって注入したいイオンのみを取り出して試料
台（17）に載置された試料（７）に注入するようになっ
ている。従って、予定していない不純物元素は質量分析
系（６）によってふるい分けられ、試料（７）には不純
物元素が混入しないのである。更に、選択したイオンの
電流密度を制御することによって、試料表層で形成され
る化合物薄層の組成比を制御できるようになっている。
図中（14）はバルブであり、（８）は試料（７）に照射
されるイオン電流を正確に知るための追い返し電極で、
これに試料（７）における電流密度および均質な照射領
域を得るためのレンズ作用を持たせたものである。図中
（９）は、試料（７）に照射されるイオン電流を測定す
るための電流積算計である。
されるイオン電流を正確に知るための追い返し電極で、
これに試料（７）における電流密度および均質な照射領
域を得るためのレンズ作用を持たせたものである。図中
（９）は、試料（７）に照射されるイオン電流を測定す
るための電流積算計である。
他方、イオン源（５）からのイオンとともに、試料
（７）の表層に別元素をミキシングさせるため、チャン
バー（10）内に電子ビーム蒸着装置（11）を設置してあ
る。電子ビーム蒸着装置（11）を用いれば、蒸着速度を
電子ビーム電流の調整により容易に制御できて都合がよ
い。チャンバー（10）内には、電子ビーム蒸着装置（1
1）による試料表層の蒸着量を測定するため、石英板を
備えた水晶振動型膜厚計（12）も設置されている。これ
は水晶振動子の振動数変化によって蒸着膜厚を正確に測
定できるのである。図中（13）は、チャンバー（10）内
を排気するための軸流分子ポンプ（図示せず）に接続す
る排気口である。もっとも、別イオンを混合させるため
の蒸着装置は、上記のように電子ビーム蒸着装置に限ら
れず、通常の蒸着装置でもよい。
（７）の表層に別元素をミキシングさせるため、チャン
バー（10）内に電子ビーム蒸着装置（11）を設置してあ
る。電子ビーム蒸着装置（11）を用いれば、蒸着速度を
電子ビーム電流の調整により容易に制御できて都合がよ
い。チャンバー（10）内には、電子ビーム蒸着装置（1
1）による試料表層の蒸着量を測定するため、石英板を
備えた水晶振動型膜厚計（12）も設置されている。これ
は水晶振動子の振動数変化によって蒸着膜厚を正確に測
定できるのである。図中（13）は、チャンバー（10）内
を排気するための軸流分子ポンプ（図示せず）に接続す
る排気口である。もっとも、別イオンを混合させるため
の蒸着装置は、上記のように電子ビーム蒸着装置に限ら
れず、通常の蒸着装置でもよい。
試料である金型（７）をイオン注入装置に挿入してイオ
ン注入するに当たり、まず、被加工物と当接することと
なる金型の表面部分を、イオン注入方向に向けて試料台
（17）に設置する。しかる後、所定条件で注入処理（イ
オン注入と同時に蒸着を行う）を実施する。
ン注入するに当たり、まず、被加工物と当接することと
なる金型の表面部分を、イオン注入方向に向けて試料台
（17）に設置する。しかる後、所定条件で注入処理（イ
オン注入と同時に蒸着を行う）を実施する。
ダイナミックミキシング処理は、下記条件によって行っ
た（括弧内は実施する上で好ましい範囲）。
た（括弧内は実施する上で好ましい範囲）。
イオン種……………………N:N2 加速電圧（KeV）………30 （好ましくは１〜100、より好ましくは５〜40） N2イオン電流密度………0.4 （0.1〜0.7mA/cm2） N2イオン注入量…………約６×1016 （５〜７×1016個／cm2） 到達真空度（Pa）…………３×10−５ （薄層形成時（Pa）……３×10−３） 蒸着元素……………………Ti Tiは高純度チタンを用いた。
蒸着速度……………………約10 （３〜50Å/sec） 蒸着時の電流値（mA）……３ 上記条件によれば、金属表層に非晶質合金層が形成され
ることとなる。この非晶質合金層、は試料基質の結晶配
向による影響を遮断する役割を有し、表層が機械的に優
れた性質を備える要因ともなっている。
ることとなる。この非晶質合金層、は試料基質の結晶配
向による影響を遮断する役割を有し、表層が機械的に優
れた性質を備える要因ともなっている。
尚、良好な非晶質合金層を得るためには、Ｎイオン注入
量（Ｎイオン電流密度）ＸとTiの蒸着量（蒸着速度Å/s
ec）Ｙが下記の関係にあることが必要である。
量（Ｎイオン電流密度）ＸとTiの蒸着量（蒸着速度Å/s
ec）Ｙが下記の関係にあることが必要である。
10X｛（cm2・Å）／（mA・sec）｝≦Ｙ≦250X｛（cm2・
Å）／（mA・sec）｝ Ｎイオン注入量（Ｎイオン電流密度mA/cm2）ＸとTiの蒸
着量（蒸着速度Å/sec）Ｙの関係において、Ti蒸着量が
10X未満、または250Xを越えると、前述した被加工物の
母材金属と、注入イオンと、蒸着物質とが、前述したよ
うな三元系の非晶質合金層の状態になり難いものとな
り、好ましい改質表面処理層が得られない。
Å）／（mA・sec）｝ Ｎイオン注入量（Ｎイオン電流密度mA/cm2）ＸとTiの蒸
着量（蒸着速度Å/sec）Ｙの関係において、Ti蒸着量が
10X未満、または250Xを越えると、前述した被加工物の
母材金属と、注入イオンと、蒸着物質とが、前述したよ
うな三元系の非晶質合金層の状態になり難いものとな
り、好ましい改質表面処理層が得られない。
より好ましくは、下記の関係にあることである。
25X｛（cm2・Å）／（mA・sec）｝≦Ｙ≦100X｛（cm2・
Å）／（mA・sec）｝ 上記のミキシング処理を行った金型を用い、第２図に示
した抜打ち製品を製造した。そして、この金型につい
て、ミキシング処理を行わなかった金型の場合と寿命を
比較した。このときの寿命は、製品に損傷を与えるな
ど、金型として使用不能となるまでの製造個数とした。
その結果を次の第１表に示す。
Å）／（mA・sec）｝ 上記のミキシング処理を行った金型を用い、第２図に示
した抜打ち製品を製造した。そして、この金型につい
て、ミキシング処理を行わなかった金型の場合と寿命を
比較した。このときの寿命は、製品に損傷を与えるな
ど、金型として使用不能となるまでの製造個数とした。
その結果を次の第１表に示す。
第１表に見るように、SKH9製金型ではミキシング処理し
た方が５倍の寿命となった。
た方が５倍の寿命となった。
ミキシングするイオン種としては、上記Tinの他、TaC,T
iC,VC,BN,TiN,Fe2Nなど原子周期律表における第III族〜
第VI族および第VIII族に属する元素を単独あるいは２種
以上を組合せて用いるようにしてもよい。
iC,VC,BN,TiN,Fe2Nなど原子周期律表における第III族〜
第VI族および第VIII族に属する元素を単独あるいは２種
以上を組合せて用いるようにしてもよい。
ミキシング処理としては種々の条件が考えられ、イオン
注入量、注入深さなどを変えて、目的に応じた処理を行
うことができる。
注入量、注入深さなどを変えて、目的に応じた処理を行
うことができる。
被ミキシング処理物に対しては、ミキシングを効果的に
行うための工夫、例えば、電気的な極性を与えるなどの
処置を施してもよい。
行うための工夫、例えば、電気的な極性を与えるなどの
処置を施してもよい。
尚、特許請求の範囲の項に図面との対照を便利にする為
に符号を記すが、該記入により本発明は添付図面の構成
に限定されるものではない。
に符号を記すが、該記入により本発明は添付図面の構成
に限定されるものではない。
第１図（ａ），（ｂ）は本発明にかかる成形用金型の一
実施例を表す上型および下型の平面図、第２図は第１図
の金型により打抜いた製品の平面図、第３図は本発明の
実施に用いたイオン注入装置の概略構成図である。 （４）……加工の際被加工物が当接する金型表面
実施例を表す上型および下型の平面図、第２図は第１図
の金型により打抜いた製品の平面図、第３図は本発明の
実施に用いたイオン注入装置の概略構成図である。 （４）……加工の際被加工物が当接する金型表面
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ２３Ｃ 14/16 Ｚ 9271−4Ｋ
Claims (3)
- 【請求項１】成形加工の際少なくとも被加工物と当接す
る表面（４）に、イオンの注入と真空蒸着とを同時に行
うことによって形成された改質表面処理層を備える成形
用金型であって、前記イオンの注入量（イオン電流密
度:mA/cm2）Ｘと金属元素の蒸着量（蒸着速度：Å/se
c）Ｙとを、 10X｛（cm2・Å）／（mA・sec）｝≦Ｙ≦250X｛（cm2・
Å）／（mA・sec）｝ の関係に設定して、前記改質表面処理層を、被加工物の
母材金属と、注入イオンと、蒸着物質とによる三元系の
非晶質合金層によって形成してあることを特徴とする成
形用金型。 - 【請求項２】成形加工の際少なくとも被加工物と当接す
る表面（４）に、イオンの注入と真空蒸着を同時に行う
ことにより金型の表層を改質する成形用金型の製法であ
って、前記イオンの注入量（イオン電流密度:mA/cm2）
Ｘと金属元素の蒸着量（蒸着速度：Å/sec）Ｙとを、 10X｛（cm2・Å）／（mA・sec）｝≦Ｙ≦250X｛（cm2・
Å）／（mA・sec）｝ の関係に設定して、前記金型の表層に、被加工物の母材
金属と、注入イオンと、蒸着物質とによる三元系の非晶
質合金層を形成することを特徴とする成形用金型の製
法。 - 【請求項３】前記金型表層の改質をＮイオンの注入とTi
の蒸着により行う請求項２記載の成形用金型の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1127648A JPH0676660B2 (ja) | 1989-05-19 | 1989-05-19 | 成形用金型およびその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1127648A JPH0676660B2 (ja) | 1989-05-19 | 1989-05-19 | 成形用金型およびその製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02307631A JPH02307631A (ja) | 1990-12-20 |
| JPH0676660B2 true JPH0676660B2 (ja) | 1994-09-28 |
Family
ID=14965293
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1127648A Expired - Lifetime JPH0676660B2 (ja) | 1989-05-19 | 1989-05-19 | 成形用金型およびその製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0676660B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115142035B (zh) * | 2021-09-08 | 2023-09-19 | 武汉苏泊尔炊具有限公司 | 一种刀具及其制造方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0759751B2 (ja) * | 1986-03-31 | 1995-06-28 | 株式会社日立製作所 | 薄膜の製作方法 |
-
1989
- 1989-05-19 JP JP1127648A patent/JPH0676660B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02307631A (ja) | 1990-12-20 |
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