JPH0679373B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPH0679373B2 JPH0679373B2 JP59155556A JP15555684A JPH0679373B2 JP H0679373 B2 JPH0679373 B2 JP H0679373B2 JP 59155556 A JP59155556 A JP 59155556A JP 15555684 A JP15555684 A JP 15555684A JP H0679373 B2 JPH0679373 B2 JP H0679373B2
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Description
【発明の詳細な説明】 [発明の技術分野] 本発明は磁気記録媒体に関し、更に詳しくは、六方晶フ
ェライト微粉が含有された磁性層を有する高密度記録可
能な磁気記録媒体に関する。
ェライト微粉が含有された磁性層を有する高密度記録可
能な磁気記録媒体に関する。
[発明の技術的背景とその問題点] 磁気記録媒体は、一般に、ポリエチレンテレフタレート
のような樹脂材料から成る基体と、該基体の表面に例え
ば塗布形成された磁性層とから構成されている。基体は
非磁性材料である。そして磁性層は、磁性体の微粉と各
種の結着樹脂を主成分とする。
のような樹脂材料から成る基体と、該基体の表面に例え
ば塗布形成された磁性層とから構成されている。基体は
非磁性材料である。そして磁性層は、磁性体の微粉と各
種の結着樹脂を主成分とする。
従来、磁性体の微粉としては、γFe2O3,CrO2,Co−γFe2
O3,金属鉄のような針状微粉が用いられてきた。しかし
ながら、これらの針状磁性粉は、日々強まっている高密
度記録の要請に対応しきれないでいた。
O3,金属鉄のような針状微粉が用いられてきた。しかし
ながら、これらの針状磁性粉は、日々強まっている高密
度記録の要請に対応しきれないでいた。
一般に、高密度記録が可能な磁気記録媒体には、磁性
層に含有される磁性粉の粒径が小さいこと、磁性粉が
磁性層内に均一に分散していること、磁性層の表面が
平滑であること、磁性層の厚みが可能な限り薄いこ
と、などの条件が必要とされる。
層に含有される磁性粉の粒径が小さいこと、磁性粉が
磁性層内に均一に分散していること、磁性層の表面が
平滑であること、磁性層の厚みが可能な限り薄いこ
と、などの条件が必要とされる。
このような条件を満足せしめる磁気記録媒体に関しては
多くの研究がなされているが、最近では、六方晶フェラ
イトの磁性粉が開発され、この磁性粉を磁性層に含有す
る磁気記録媒体は高密度記録に好適であるとの事実が明
らかになっている。
多くの研究がなされているが、最近では、六方晶フェラ
イトの磁性粉が開発され、この磁性粉を磁性層に含有す
る磁気記録媒体は高密度記録に好適であるとの事実が明
らかになっている。
ところで、この六方晶フェライトの微粉はその平均粒径
が0.02〜0.2μmと極めて微細である。この微粉を用い
て磁気記録媒体を製造する際には、まず、この微粉を結
着樹脂、溶剤とともによく混練して粘稠な磁性塗料を調
製する。ついで、この塗料を基体の表面に塗布したのち
乾燥する。最後にこの塗布層の表面を平滑化して目的と
する磁気記録媒体が得られる。
が0.02〜0.2μmと極めて微細である。この微粉を用い
て磁気記録媒体を製造する際には、まず、この微粉を結
着樹脂、溶剤とともによく混練して粘稠な磁性塗料を調
製する。ついで、この塗料を基体の表面に塗布したのち
乾燥する。最後にこの塗布層の表面を平滑化して目的と
する磁気記録媒体が得られる。
このようにして製造された磁気記録媒体は、上記した4
の条件を充足して有用であるが、しかし、実用上大きな
問題を派生することが判明した。すなわち、この磁気記
録媒体は透光性が大きいということである。例えば、本
願発明の実施例1の六方晶バリウムフェライトのコバル
ト置換体を用いて3μm厚の磁性層を構成した場合の波
長900nmでの光透過率は、従来のγFe2O3を用いて同じ3
μm厚の磁性層を構成した場合の2〜8倍に大きくな
る。これは、バリウムフェライト、ストロンチウムフェ
ライトのような六方晶フェライトが比較的透光性に富む
材料であるということだけに基づくことではなく、この
微粉の粒径は可視光の波長に比べても充分に小さいこ
と、かつ、磁性層によく分散していること、磁性層表面
が非常に平滑であること、塗布層が薄いことなどの理由
によって根拠づけられる事象である。
の条件を充足して有用であるが、しかし、実用上大きな
問題を派生することが判明した。すなわち、この磁気記
録媒体は透光性が大きいということである。例えば、本
願発明の実施例1の六方晶バリウムフェライトのコバル
ト置換体を用いて3μm厚の磁性層を構成した場合の波
長900nmでの光透過率は、従来のγFe2O3を用いて同じ3
μm厚の磁性層を構成した場合の2〜8倍に大きくな
る。これは、バリウムフェライト、ストロンチウムフェ
ライトのような六方晶フェライトが比較的透光性に富む
材料であるということだけに基づくことではなく、この
微粉の粒径は可視光の波長に比べても充分に小さいこ
と、かつ、磁性層によく分散していること、磁性層表面
が非常に平滑であること、塗布層が薄いことなどの理由
によって根拠づけられる事象である。
現在市販されている磁気記録機器において、装着した磁
気テープ若しくは磁気ディスクの始発点又は終点の検出
には、磁気記録媒体の遮光性が利用されている。例え
ば、磁気テープの場合、テープの最初の部分(リーダテ
ープ部分)と終端部分がいずれも透明であり、それらの
中間部分が不透明の磁気記録媒体で構成されている。こ
のテープを機器に装着して作動せしめたとき、透明−不
透明を検出することにより、磁気記録媒体の存否が確認
できる。
気テープ若しくは磁気ディスクの始発点又は終点の検出
には、磁気記録媒体の遮光性が利用されている。例え
ば、磁気テープの場合、テープの最初の部分(リーダテ
ープ部分)と終端部分がいずれも透明であり、それらの
中間部分が不透明の磁気記録媒体で構成されている。こ
のテープを機器に装着して作動せしめたとき、透明−不
透明を検出することにより、磁気記録媒体の存否が確認
できる。
このように、従来の磁気記録機器は磁気記録媒体の遮光
性を前提として設計されている。したがって、前述した
六方晶フェライトの微粉を用いた磁気記録媒体を従来機
器に適用した場合には、機器が円滑に機能しないという
問題を生ずる。
性を前提として設計されている。したがって、前述した
六方晶フェライトの微粉を用いた磁気記録媒体を従来機
器に適用した場合には、機器が円滑に機能しないという
問題を生ずる。
このため、六方晶フェライト微粉を含む磁性層の透光性
を下げることを目的として、磁性層に更に光透過率を減
少させる顔料を添加することが行なわれている。
を下げることを目的として、磁性層に更に光透過率を減
少させる顔料を添加することが行なわれている。
しかしながら、この方法で製造した磁気記録媒体は、高
密度記録に適用したとき、その再生出力の低下を招くと
同時にノイズの増大をもたらし、全体としての特性低下
が避けられない。
密度記録に適用したとき、その再生出力の低下を招くと
同時にノイズの増大をもたらし、全体としての特性低下
が避けられない。
したがって、磁性層に六方晶フェライトの微粉を含有す
る磁気記録媒体にあっては、その高密度記録に関する特
性を低下させることなく遮光性を高めることが重要な課
題として浮上している。
る磁気記録媒体にあっては、その高密度記録に関する特
性を低下させることなく遮光性を高めることが重要な課
題として浮上している。
[発明の目的] 本発明は上記した問題点を解消した新規な構造の磁気記
録媒体の提供を目的とする。
録媒体の提供を目的とする。
[発明の概要] 本発明者らは上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結
果、磁性層とは別に独立した光遮断層を形成して磁気記
録媒体を構成すれば、磁性層の記録・再生特性は損なわ
れることなく、遮光性が付与されるとの着想を得、本発
明の磁気記録媒体を開発するに到った。
果、磁性層とは別に独立した光遮断層を形成して磁気記
録媒体を構成すれば、磁性層の記録・再生特性は損なわ
れることなく、遮光性が付与されるとの着想を得、本発
明の磁気記録媒体を開発するに到った。
すなわち、本発明の磁気記録媒体は、基体の表面に、六
方晶フェライトを含有する磁性層及び光遮断層が別個に
形成されていることを特徴とする。本発明の磁気記録媒
体は、基体と磁性層と光遮断層との複合構造である。
方晶フェライトを含有する磁性層及び光遮断層が別個に
形成されていることを特徴とする。本発明の磁気記録媒
体は、基体と磁性層と光遮断層との複合構造である。
まず、基体としては、従来から用いられている非磁性材
料であればよく格別限定されるものではない。例えば、
ポリエチレンテレフタレートのようなポリエステル、ポ
リプロピレンのようなポリオレフィン類、セルロースト
リアセテートのようなセルロース誘導体、ポリカーボネ
ート、ポリイミド、ポリアミドをあげることができる。
料であればよく格別限定されるものではない。例えば、
ポリエチレンテレフタレートのようなポリエステル、ポ
リプロピレンのようなポリオレフィン類、セルロースト
リアセテートのようなセルロース誘導体、ポリカーボネ
ート、ポリイミド、ポリアミドをあげることができる。
磁性層は、バリウムフェライトの各種コバルト置換体、
ストロンチウムフェライトの各種コバルト置換体、各種
のW型バリウムフェライト、各種のW型ストロンチウム
フェライトのような六方晶フェライトの微粉と、それを
結着する結着樹脂とから構成される。結着樹脂として
は、例えば、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビ
ニル−塩化ビニリデン共重合体、アクリル酸エステル−
アクリルニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニ
ルブチラール樹脂、セルロースの誘導体、ポリエステル
樹脂、ポリウレタン樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、シ
リコーン系樹脂、アクリル系樹脂、フェノール樹脂、エ
ポキシ樹脂をあげることができる、磁性層への六方晶フ
ェライト微粉の含有量は、磁性層に求められる記録・再
生特性、及び磁性層形成時における塗布操作の良否など
の因子によって適宜選定される。
ストロンチウムフェライトの各種コバルト置換体、各種
のW型バリウムフェライト、各種のW型ストロンチウム
フェライトのような六方晶フェライトの微粉と、それを
結着する結着樹脂とから構成される。結着樹脂として
は、例えば、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビ
ニル−塩化ビニリデン共重合体、アクリル酸エステル−
アクリルニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニ
ルブチラール樹脂、セルロースの誘導体、ポリエステル
樹脂、ポリウレタン樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、シ
リコーン系樹脂、アクリル系樹脂、フェノール樹脂、エ
ポキシ樹脂をあげることができる、磁性層への六方晶フ
ェライト微粉の含有量は、磁性層に求められる記録・再
生特性、及び磁性層形成時における塗布操作の良否など
の因子によって適宜選定される。
基体、磁性層とは別個に後述の光遮断層が形成されてい
ることが本発明の最大の特徴である。
ることが本発明の最大の特徴である。
本発明における光遮断層の形成箇所は次の3通りであ
る。第1は、基体と磁性層との間に形成する場合。この
場合、光遮断層は磁性層の下塗り層であって、磁気記録
媒体は、基体−光遮断層−磁性層をこの順序で積層した
3層構造体となる。なお、このとき下塗り層として設け
る光遮断層を其体と磁性層との接着性向上用のアンカー
コートとして機能させたり、又は、導電性を付与して媒
体の帯電を防止する導電層として機能させることもでき
る。第2は、磁性層を有する面と反対側の基体面に形成
される場合。この場合、磁気記録媒体は光遮断層−其体
−磁性層とをこの順序で積層した3層構造体になる。こ
のとき、光遮断層を、媒体の走行性向上用の潤滑層とし
て機能させたり、又は、上記した帯電防止用の導電層と
して機能させることも可能である。第3は、第1と第2
が同時になされている場合である。
る。第1は、基体と磁性層との間に形成する場合。この
場合、光遮断層は磁性層の下塗り層であって、磁気記録
媒体は、基体−光遮断層−磁性層をこの順序で積層した
3層構造体となる。なお、このとき下塗り層として設け
る光遮断層を其体と磁性層との接着性向上用のアンカー
コートとして機能させたり、又は、導電性を付与して媒
体の帯電を防止する導電層として機能させることもでき
る。第2は、磁性層を有する面と反対側の基体面に形成
される場合。この場合、磁気記録媒体は光遮断層−其体
−磁性層とをこの順序で積層した3層構造体になる。こ
のとき、光遮断層を、媒体の走行性向上用の潤滑層とし
て機能させたり、又は、上記した帯電防止用の導電層と
して機能させることも可能である。第3は、第1と第2
が同時になされている場合である。
このような光遮断層は光透過率が小さく効率よく遮光す
る層であることが好ましく、また、磁性層に比べて単位
厚みあたりの光透過率が大きい層である。
る層であることが好ましく、また、磁性層に比べて単位
厚みあたりの光透過率が大きい層である。
光遮断層は、後述の各種顔料の粉末とこれらを結着する
結着樹脂とから構成されるが、これに用いられる結着樹
脂としては、磁性層の場合と同様な樹脂があげられる。
結着樹脂とから構成されるが、これに用いられる結着樹
脂としては、磁性層の場合と同様な樹脂があげられる。
顔料としては以下のようなものをあげることができる。
すなわち、MgO,BaO,VO,FeO,αFe2O3,αAl2O3,Cr2O3,Mn2
O3,La2O3,Ce2O3,SiO2,GeO2,SnO2,In2O3,TiO2,MnO2,Ce
O2,V2O5,WO3,SnO,Bi2O3,MnAl2O4,CoAl2O4,NiAl2O4,CuAl
2O4,MgCr2O4,MnCr2O4,FeCr2O4,NiCr2O4,ZnCr2O4,NiCr2O
4,CaIn2O4,SrIn2O4,SnCo2O4,Ni12Fe8Ti4O32,NiMn2O4,Co
Mn2O4Ti3O5,FeTiO3,MgTiO3,MnTiO3,FeTiO3,CoTiO3,NiTi
O3,ZnTiO3,LiNbO3,LiTaO3,SrTiO3,SrZnO3,SrSnO3,SrFeO
3,BaZrO3,BaSnO3,BaThO3,BaTiO3,PbTiO3,LaCoO3,LaFe
O3,CaTiO3,PbZrO3,Sr2TiO4,Ca2MnO4,Sr2MoO4,BaSnO4,La
2NiO4,NiWO4,MgCO3,CaCO3,SrSO4,BaSO4,FeSiO4,ZrSiO4
などの金属酸化物の顔料;ZnS,SnS,SnS2,FeS1+δ,CuS,
NiS,CoS,MoS2,WS2,FeS2,CoS2,MnS2,NiS2,Al2S3,Ni3S2,F
eCr2S4,Co3S4,Ni3S4,CuV2S4,CuFeS2,CuAlS2,CuInS2,CuF
eS2のような金属硫化物の顔料;BN,AlN,Si3N4,TiN,ZrN,V
N,CrN,NbNのような金属窒化物の顔料;アルミニウム、
銅、銀、チタン、クロム、ニッケル、コバルト、鉄のよ
うな金属微粉の顔料;アニリンブラック、ポリクロルフ
タロシアニン、ニッケル錯塩のような有機顔料である。
すなわち、MgO,BaO,VO,FeO,αFe2O3,αAl2O3,Cr2O3,Mn2
O3,La2O3,Ce2O3,SiO2,GeO2,SnO2,In2O3,TiO2,MnO2,Ce
O2,V2O5,WO3,SnO,Bi2O3,MnAl2O4,CoAl2O4,NiAl2O4,CuAl
2O4,MgCr2O4,MnCr2O4,FeCr2O4,NiCr2O4,ZnCr2O4,NiCr2O
4,CaIn2O4,SrIn2O4,SnCo2O4,Ni12Fe8Ti4O32,NiMn2O4,Co
Mn2O4Ti3O5,FeTiO3,MgTiO3,MnTiO3,FeTiO3,CoTiO3,NiTi
O3,ZnTiO3,LiNbO3,LiTaO3,SrTiO3,SrZnO3,SrSnO3,SrFeO
3,BaZrO3,BaSnO3,BaThO3,BaTiO3,PbTiO3,LaCoO3,LaFe
O3,CaTiO3,PbZrO3,Sr2TiO4,Ca2MnO4,Sr2MoO4,BaSnO4,La
2NiO4,NiWO4,MgCO3,CaCO3,SrSO4,BaSO4,FeSiO4,ZrSiO4
などの金属酸化物の顔料;ZnS,SnS,SnS2,FeS1+δ,CuS,
NiS,CoS,MoS2,WS2,FeS2,CoS2,MnS2,NiS2,Al2S3,Ni3S2,F
eCr2S4,Co3S4,Ni3S4,CuV2S4,CuFeS2,CuAlS2,CuInS2,CuF
eS2のような金属硫化物の顔料;BN,AlN,Si3N4,TiN,ZrN,V
N,CrN,NbNのような金属窒化物の顔料;アルミニウム、
銅、銀、チタン、クロム、ニッケル、コバルト、鉄のよ
うな金属微粉の顔料;アニリンブラック、ポリクロルフ
タロシアニン、ニッケル錯塩のような有機顔料である。
これら顔料はいずれも微粉状で光遮光層に分散含有され
るがそのときの粒径は1μm以下、更に磁気記録媒体全
体を薄くするためには、0.5μm以下であることが好ま
しい。
るがそのときの粒径は1μm以下、更に磁気記録媒体全
体を薄くするためには、0.5μm以下であることが好ま
しい。
顔料の光遮断層への含有量は、光遮断層の厚みとの関係
で決められる。本発明にあっては、光遮断層用の塗料中
における顔料の含有率(重量%で表示)と光遮断層の厚
み(μmで表示)との積が0.05以上、好ましくは0.1以
上の値となるように顔料の含有量を管理することが好ま
しい。例えば、光遮断層の厚みを1μmにする場合、用
いる塗料中には顔料を5重量%以上(したがって結着樹
脂が95重量%未満)含有せしめればよい。この値が0.05
未満の場合には、光遮断層の遮光性が不充分である。光
遮断層の厚みは、目的とする磁気記録媒体全体の厚みか
ら逆規定されるべきであるので、一義的には決められな
いが、できるだけ薄い方がよい。
で決められる。本発明にあっては、光遮断層用の塗料中
における顔料の含有率(重量%で表示)と光遮断層の厚
み(μmで表示)との積が0.05以上、好ましくは0.1以
上の値となるように顔料の含有量を管理することが好ま
しい。例えば、光遮断層の厚みを1μmにする場合、用
いる塗料中には顔料を5重量%以上(したがって結着樹
脂が95重量%未満)含有せしめればよい。この値が0.05
未満の場合には、光遮断層の遮光性が不充分である。光
遮断層の厚みは、目的とする磁気記録媒体全体の厚みか
ら逆規定されるべきであるので、一義的には決められな
いが、できるだけ薄い方がよい。
本発明の磁気記録媒体は次のようにして製造することが
できる。まず、所定の材料から成る基体を用意する。更
には、磁性層を構成する塗料及び光遮断層を構成する塗
料を調製する。これらの塗料を、前述した複合構造を形
成する順序でそれぞれ所定量塗布してから硬化・平滑化
処理を施せばよい。
できる。まず、所定の材料から成る基体を用意する。更
には、磁性層を構成する塗料及び光遮断層を構成する塗
料を調製する。これらの塗料を、前述した複合構造を形
成する順序でそれぞれ所定量塗布してから硬化・平滑化
処理を施せばよい。
[発明の実施例] 実施例1 下記の組成の磁性塗料を調製した。
六方晶バリウムフェライトのコバルト置換体(平均粒径
0.08μm、保磁力800Oe) 100重量部 カーボンブラック 5重量部 酸化アルミニウム 2重量部 塩化ビニール−酢酸ビニール共重合体 10重量部 ウレタン樹脂 10重量部 潤滑剤(混合脂肪酸) 1.5重量部 メチルエチルケトン 60重量部 トルエン 60重量部 シクロヘキサノン 60重量部 硬化剤(トリレンジイソシアネート) 6重量部 つぎに、下記組成の遮光性塗料を調製した。
0.08μm、保磁力800Oe) 100重量部 カーボンブラック 5重量部 酸化アルミニウム 2重量部 塩化ビニール−酢酸ビニール共重合体 10重量部 ウレタン樹脂 10重量部 潤滑剤(混合脂肪酸) 1.5重量部 メチルエチルケトン 60重量部 トルエン 60重量部 シクロヘキサノン 60重量部 硬化剤(トリレンジイソシアネート) 6重量部 つぎに、下記組成の遮光性塗料を調製した。
αFe2O3(平均粒径0.2μm) 100重量部 カーボンブラック 6重量部 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 10重量部 ウレタン樹脂 10重量部 硬化剤(トリレンジイソシアネート) 6重量部 メチルエチルケトン 600重量 シクロヘキサノン 100重量部 まず、前者の磁性塗料を厚み14μmのポリエチレンテレ
フタレート製の基体シートの片面に塗布し、カレンダー
処理を施して厚み3μmの磁性層を形成し、この層を硬
化した。
フタレート製の基体シートの片面に塗布し、カレンダー
処理を施して厚み3μmの磁性層を形成し、この層を硬
化した。
反対側の基体面に、後者の遮光性塗料を塗布し、乾燥後
の厚み0.5μmのバックコート層を形成した。これが光
遮断層である。バックコート層を硬化したのち、スリッ
ティングして幅1/2インチの磁気テープを得た。
の厚み0.5μmのバックコート層を形成した。これが光
遮断層である。バックコート層を硬化したのち、スリッ
ティングして幅1/2インチの磁気テープを得た。
このテープの光透過率(波長900nm)は1.2%であった。
これに反し、上記バックコート層が形成されていない場
合の光透過率(波長900nm)は12%であった。
これに反し、上記バックコート層が形成されていない場
合の光透過率(波長900nm)は12%であった。
また、テープの磁気持性におけるバックコート層形成の
影響について調べた。テープとフェライトリングヘッド
との相対速度3.75m/sec、トラック幅35μm、ヘッドギ
ャップ0.2μm、巻数18ターンの条件で、記録周波数1MH
z,2MHz,3MHz,5MHzにて記録し、それら各場合の再生出力
を測定したところ、2つのテープではそれぞれ300μV,2
50μV,200μV,160μVであって両者間に差異は認められ
なかった。また、ノイズ増もなかった。
影響について調べた。テープとフェライトリングヘッド
との相対速度3.75m/sec、トラック幅35μm、ヘッドギ
ャップ0.2μm、巻数18ターンの条件で、記録周波数1MH
z,2MHz,3MHz,5MHzにて記録し、それら各場合の再生出力
を測定したところ、2つのテープではそれぞれ300μV,2
50μV,200μV,160μVであって両者間に差異は認められ
なかった。また、ノイズ増もなかった。
実施例2 下記の組成の遮光性塗料を調整した。
カーボンブラック 50重量部 酸化銅(CuO,平均粒径0.15μm) 50重量部 ウレタン樹脂 200重量部 メチルエチルケトン 1000重量部 シクロヘキサノン 100重量部 硬化剤(トリレンジイソシアネート) 60重量部 この塗料を実施例1で用いた基体シートの片面に塗布し
て乾燥後の厚みが0.6μmの下塗り層を形成した。つい
で、この層の上に実施例1の磁性塗料を塗布し、実施例
1と同様の処理を施して磁性層を形成し、同様の磁気テ
ープを製造した。
て乾燥後の厚みが0.6μmの下塗り層を形成した。つい
で、この層の上に実施例1の磁性塗料を塗布し、実施例
1と同様の処理を施して磁性層を形成し、同様の磁気テ
ープを製造した。
このテープの光透過率(波長900nm)は3.0%であり、ま
た磁気特性の変化も認められなかった。
た磁気特性の変化も認められなかった。
参考例 実施例1で用いた基体シートの片面にアルミニウムを約
0.05μm蒸着した。他方の面に実施例1の磁性塗料を塗
布して磁性層を形成した。
0.05μm蒸着した。他方の面に実施例1の磁性塗料を塗
布して磁性層を形成した。
この磁気テープの光透過率(波長900nm)は1%未満で
あった。また磁気特性の変化は認められなかった。
あった。また磁気特性の変化は認められなかった。
[発明の効果] 以上の説明で明らかなように、本発明の磁気記録媒体
は、磁性層が六方晶フェライトを含有しているので高
密度記録が可能である。この磁性層とは別個に遮光性
の光遮断層が形成されているので、従来機器を設計変更
することなく高密度記録ができる。また、光遮断層に
は、基体と磁性層との接着性を向上させる、記録媒体の
帯電を防止させる又は、磁気記録媒体の潤滑性を高めて
走行性を向上させるなどの機能を付与することが可能な
る、などの効果を奏しその工業的価値は大である。
は、磁性層が六方晶フェライトを含有しているので高
密度記録が可能である。この磁性層とは別個に遮光性
の光遮断層が形成されているので、従来機器を設計変更
することなく高密度記録ができる。また、光遮断層に
は、基体と磁性層との接着性を向上させる、記録媒体の
帯電を防止させる又は、磁気記録媒体の潤滑性を高めて
走行性を向上させるなどの機能を付与することが可能な
る、などの効果を奏しその工業的価値は大である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭55−86103(JP,A) 特開 昭57−130232(JP,A) 特開 昭53−56804(JP,A)
Claims (4)
- 【請求項1】基体の表面に、磁性粉として平均粒子径が
0.02〜0.2μmの六方晶フェライトを主体とした磁性
層、及び、粒径1μm以下の金属酸化物の顔料、金属硫
化物の顔料、金属窒化物の顔料、金属微粉末の顔料から
選ばれる少なくとも一種の顔料を主体とした光遮蔽層が
個別に形成されていることを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項2】該光遮蔽層が、基体と磁性層との間に形成
された下塗り層である特許請求の範囲第1項記載の磁気
記録媒体。 - 【請求項3】該光遮蔽層が、磁性層を有する面と反対側
の基体面に形成されている特許請求の範囲第1項記載の
磁気記録媒体。 - 【請求項4】該光遮蔽層が、基体と磁性層との間に形成
され、かつまた、磁性層を有する面と反対側の基体面に
形成されている特許請求の範囲第1項記載の磁気記録媒
体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59155556A JPH0679373B2 (ja) | 1984-07-27 | 1984-07-27 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59155556A JPH0679373B2 (ja) | 1984-07-27 | 1984-07-27 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6139221A JPS6139221A (ja) | 1986-02-25 |
| JPH0679373B2 true JPH0679373B2 (ja) | 1994-10-05 |
Family
ID=15608640
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59155556A Expired - Lifetime JPH0679373B2 (ja) | 1984-07-27 | 1984-07-27 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0679373B2 (ja) |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5331112A (en) * | 1976-09-03 | 1978-03-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic tape |
| JPS5356804U (ja) * | 1976-10-18 | 1978-05-15 | ||
| JPS6050323B2 (ja) * | 1978-12-22 | 1985-11-08 | 株式会社東芝 | 高密度記録体 |
| JPS57130232A (en) * | 1981-02-03 | 1982-08-12 | Hitachi Maxell Ltd | Magnetic recording medium |
| JPS58150129A (ja) * | 1982-03-01 | 1983-09-06 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
| JPS5928228A (ja) * | 1982-08-09 | 1984-02-14 | Victor Co Of Japan Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS5928226A (ja) * | 1982-08-09 | 1984-02-14 | Victor Co Of Japan Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS5928242A (ja) * | 1982-08-09 | 1984-02-14 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体 |
| US4587157A (en) * | 1982-10-25 | 1986-05-06 | Verbatim Corp. | Wear resisting undercoat for thin film magnetic recording media |
| JPS5977628A (ja) * | 1982-10-25 | 1984-05-04 | Ricoh Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS59129935A (ja) * | 1983-01-12 | 1984-07-26 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1984
- 1984-07-27 JP JP59155556A patent/JPH0679373B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6139221A (ja) | 1986-02-25 |
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