JPH0680532B2 - 薄膜磁気デイスクの製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、コンピュータなどの周辺機器の一つである磁
気記録装置に用いられる薄膜磁気ディスクの製造方法に
関するものである。

従来の技術 近年、コンピュータの周辺機器として磁気記録装置の発
展はめざましく、より小型化，より高密度記録化が進ん
でいる。それに用いる磁気ディスクはγ−酸化鉄の塗布
型のものが大勢を占めているが、より高密度記録を求め
て現在では、薄膜化して行く傾向にある。塗布型ではよ
り薄膜化するのに特にハードディスクにおいては、スピ
ンコートなどの手法，あるいは塗布後研磨して薄膜化す
るなどの方法がとられている、また塗布型以外に真空技
術、たとえばスパッタ膜形成技術を用いて、コバルト−
テッケル素，コバルト−クロムなどの金属膜，γ−酸化
鉄，バリウムフェライトなどの酸化膜がさかんにおこな
われている。コバルト−クロム，バリウムフェライトは
垂直磁化膜として面内磁化膜のものより、より高密度な
媒体として最近さかんに検討されているものである。

コバルトを主成分とする面内磁化膜も薄膜形成技術によ
り検討されており、より薄膜化できれば、塗布型の媒体
より、より高密度媒体として有望である。

この媒体をハードディスクに応用する場合は、平滑度の
高い、たとえばアルミーマグネシウム合金からなるハー
ドディスク用円板，ガラス円板などの表面に真空蒸着，
スパッタ蒸着などの薄膜形成技術でつけられ実用化が検
討されている。また、フレキシブルディスクの場合は、
ポリエチレンテレフタレート，ポリアミド，ポリイミド
などの有機フィルム上に上記薄膜形成法で析出して作成
することが検討されている。

発明が解決しようとする問題点 ハードディスク，フレキシブルディスクなどの媒体は、
円板の中心を軸にして、面内方向に回転させて使用する
もので、記録再生は、円周方向におこなわれる。この場
合、媒体の磁化の磁化方向が円周方向に揃っておれば、
記録時の磁化反転はより、スムースになり再生時の出力
も大となると共に雑音レベルも低下する。塗布膜におい
ては、塗布した膜が固化するまえに、回転磁場中に媒体
を置いて磁化方向を円周方向に揃えるなどの手段をとっ
ている（たとえば特公昭53−62505）。しかし真空蒸
着，スパッタ蒸着などの薄膜形成技術を用いて上記ディ
スクを作成する場合にも円周方向に磁化容易軸を持つよ
うに磁化させて膜形成することが必要である。

問題点を解決するための手段 真空蒸着，スパッタ蒸着などで磁性膜を形成する場合、
膜形成時に、磁界がある方向に印加されているとその方
向に膜の容易軸が、直角方向に固難軸ができることは知
られている。この現象は軟磁性膜ではより容易になり、
外部より磁界を設けなくても容易軸，困難軸ができる。

しかし磁気記録媒体として使用する保磁力の大きい磁性
膜では外部より磁界を印加しないと上記の様な異方性は
つくりにくい、またディスクにする場合の様に、円周方
向に揃えたい場合は特にそうである。そこで本発明にお
いては、かかる点を鑑みて、着膜時に、 （ｉ） 基板が円板であれば、その中心を軸として回転
させ、半径方向に長いスリットを通して着膜する。この
時スリット近くに基板面内の半径方向と直角方向に永久
磁石で直流磁界を印加しておく。

（ii） 基板がテープ状のものでその上に円状の膜を形
成する場合は、回転円板にスリットを設け、スリットの
長手方向が半径方向になる様にして回転させる。この
時、スリットの長手方向に直角に永久磁石で直流磁界を
印加する。

この様にして常に膜の容易軸方向がディスクの半径方向
に直角な方向になる様にして膜形成することにより磁化
方向を円周方向に揃える。

作 用 この技術的手段による作用は次の様になる。

金属磁性膜よりなる面内磁化のディスクを作成する場
合、本発明の手段により膜形成をすれば、磁性膜の磁化
容易軸は常にディスク円板の半径方向に直角な、すなわ
ち円周の方向に向いており、γ−酸化鉄の塗布型で円周
方向に針状γ−酸化鉄を揃えたのと同等になる。したが
って、記録再生時の磁化反転は容易になり出力，雑音−
出力比もよくなる。

実施例 以下本発明を実施例により具体的に説明する。

（実施例１） 真空蒸着技術でCoを主成分とするCo−Ni−Ｐの蒸着をお
こない円板状基板の上に幅5mm,長さ90mmのスリットを介
して着膜した。このときスリットの中心が着膜する基板
の中心になる様にし、基板を面内で回転させた。回転速
度は１回転15秒とした。スリットの幅方向には、第１図
に示す如き位置に永久磁石を設け両側がそれぞれＮ極,S
極になる様にしてある。スリットに設けた永久磁石の極
性は回転中心に対して対称にしてある、これは常に回転
方向に対し同じになる様にするためである。なお中心部
は磁化方向が乱れるが、この部分の基板は機械的に打抜
いて除去するため不要である。１は基板を回転させるモ
ータ、２はその伝達軸、３は基板、４はスリット９が設
けてあるシャッタで、8,8′はスリットの両側に設けて
ある永久磁石で、本実施例では500エルステッドのアル
ニコ磁石を用いた。５はスリット９つきシャッタ４の支
柱、６はCo−Ni−Ｐの蒸発源、７は真空槽である。

この方法で1000オングストロームの上記磁性膜を形成し
た。ディスクの数ケ所から直径10mmの円板を打抜き、デ
ィスクの半径方向とそれに直角な円周方向のトルク曲線
を測定した。その結果円周方向が常に容易軸方向になっ
ていた。

（実施例２） 平行平板型マグネトロンスパッタを用い、基板の前に実
施例１と基本的に同じ構成のスリット、永久磁石を設け
たシャッタを設置した、本実施例では基板を回転させた
がシャッタを基板の軸と同軸にして回転し基板を固定し
ても問題ない。第２図に本発明の一実施例を示した。10
は基板を回転するモータ、11はその伝達軸、12は基板ホ
ルダー、13は基板、14はスリットと永久磁石のついたシ
ャッタ、15はシャッタの支柱、16はCo−Ni−Ｐのターゲ
ット、17はスパッタ用マグネットである。

基板の回転を15秒／回とし、５×10^-2Torrのアルゴン圧
中、350Watt,ターゲットサイズφ90mmで、RFスパッタに
て膜形成をおこない1000オングストロームの厚みとし
た。実施例１と同様な方法で基板の数ケ所の半径方向と
円周方向のトルク曲線を調べた結果実施例と同様に円周
方向が容易軸方向であった。

発明の効果 以上述べて来たように、本発明の方法によれば、真空蒸
着，スパッタ蒸着などの膜形成技術によっても、円周方
向に容易軸を持った磁気ディスク形成でき、さらに、薄
膜化が容易であるため高密度磁気記録媒体を得るのに非
常に有用である。

【図面の簡単な説明】 第１図は、本発明の製造方法の一実施例を真空蒸着法に
より示す図、第２図は同じくスパッタ蒸着法を用いた実
施例を示す図である。 ３……基板、４……スリット，永久磁石つきシャッタ、
8,8′……永久磁石、９……スリット、12……基板、14
……スリット，永久磁石つきシャッタ、16……ターゲッ
ト、17……スパッタ装置のマグネット。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】真空蒸着やスパッタリングにより、円板状
   基板面上に円の中心を軸とし円周方向に磁化容易軸を設
   けた薄膜磁気ディスクの製造方法において、前記円板状
   基板の中心から半径方向にスリット状の隙間を形成し、
   しかもスリットの幅方向の一方がＳ極、他方がＮ極とな
   るようそれぞれ永久磁石を固定して設けたマスクを蒸発
   源側に前記円板状基板と平行に接近して置き、前記円板
   状基板の中心を軸として回転させた状態で、磁性薄膜を
   着膜形成してなることを特徴とする薄膜磁気ディスクの
   製造方法。
2. 【請求項２】スリット状隙間の両側に固定する永久磁石
   は、円板状基板上に着膜する磁性薄膜を十分磁化する強
   さの磁化力をもってなることを特徴とする特許請求の範
   囲第１項記載の薄膜磁気ディスクの製造方法。