JPH0680720B2 - 真空処理装置 - Google Patents
真空処理装置Info
- Publication number
- JPH0680720B2 JPH0680720B2 JP19184689A JP19184689A JPH0680720B2 JP H0680720 B2 JPH0680720 B2 JP H0680720B2 JP 19184689 A JP19184689 A JP 19184689A JP 19184689 A JP19184689 A JP 19184689A JP H0680720 B2 JPH0680720 B2 JP H0680720B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- belt conveyor
- wafer
- processing chamber
- vacuum
- chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 14
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 8
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Delivering By Means Of Belts And Rollers (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Intermediate Stations On Conveyors (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［発明の目的］ （産業上の利用分野） 本発明は真空処理装置に関し、特に被処理物を真空室か
ら処理室へ移動する際（又はこの逆の場合）にウェハの
搬送機構に改良を施したものである。
ら処理室へ移動する際（又はこの逆の場合）にウェハの
搬送機構に改良を施したものである。
（従来の技術） 従来、例えばエッチングを行う真空処理装置としては、
第２図に示すものが知られている。
第２図に示すものが知られている。
図中の１は、半導体ウェハ２のエッチングを行う処理室
である。この処理室１内には、前記ウェハ２を搬送する
第１ベルトコンベア３が配置されている。このベルトコ
ンベア３は、図示しない駆動源に接続されたロール４を
介して駆動されるようになっている。前記真空室１の両
隣には、圧力差を小さくするための真空室5,6が隔壁７
を介して設けられている。ここで、隔壁７には、ウェハ
通過用の開口部7aが設けられている。前記真空室5,6内
には、夫々図示しない駆動源に接続されたロール８を介
して駆動する第２ベルトコンベア９、及びウェハ２を確
実に真空室１側に搬送するためのロール10が夫々配置さ
れている。ここで、ロール10は隔壁と第２ベルトコンベ
ア９間に設けるが、この理由は後記するゲートベルトの
弁体が比較的厚いためにその厚み分隔壁７と第２ベルト
コンベア９の端部間をかなり距離をおかなければなら
ず、その結果径の小さいウェハがその間隙より落下する
恐れがあるからである。前記真空室5,6内には、前記隔
壁７の開口部7aの開閉を行うゲートバルブ11が配置され
ている。
である。この処理室１内には、前記ウェハ２を搬送する
第１ベルトコンベア３が配置されている。このベルトコ
ンベア３は、図示しない駆動源に接続されたロール４を
介して駆動されるようになっている。前記真空室１の両
隣には、圧力差を小さくするための真空室5,6が隔壁７
を介して設けられている。ここで、隔壁７には、ウェハ
通過用の開口部7aが設けられている。前記真空室5,6内
には、夫々図示しない駆動源に接続されたロール８を介
して駆動する第２ベルトコンベア９、及びウェハ２を確
実に真空室１側に搬送するためのロール10が夫々配置さ
れている。ここで、ロール10は隔壁と第２ベルトコンベ
ア９間に設けるが、この理由は後記するゲートベルトの
弁体が比較的厚いためにその厚み分隔壁７と第２ベルト
コンベア９の端部間をかなり距離をおかなければなら
ず、その結果径の小さいウェハがその間隙より落下する
恐れがあるからである。前記真空室5,6内には、前記隔
壁７の開口部7aの開閉を行うゲートバルブ11が配置され
ている。
しかしながら、従来装置によれば、隔壁７と第２ベルト
コンベア８の端部間に設けられたロール10は搬送される
ウェハ２が落下するのを防止するためのものである。従
って、ウェハ２のサイズが小さい場合は、真空室5,6内
の第２ベルトコンベア８の駆動力がウェハ２に伝わら
ず、ウェハ２の搬送時刻ウェハ２がロール10上に静止し
た状態になり、真空室５から処理室１、該処理室１から
真空室６への搬送が出来ないという問題が生じる。
コンベア８の端部間に設けられたロール10は搬送される
ウェハ２が落下するのを防止するためのものである。従
って、ウェハ２のサイズが小さい場合は、真空室5,6内
の第２ベルトコンベア８の駆動力がウェハ２に伝わら
ず、ウェハ２の搬送時刻ウェハ２がロール10上に静止し
た状態になり、真空室５から処理室１、該処理室１から
真空室６への搬送が出来ないという問題が生じる。
（発明が解決しようとする課題） 本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、真空室内の
搬送機構に改善を施すことにより、ウェハのサイズにか
かわらず、ウェハを真空室から処理室へかつこの逆に確
実に搬送し得る真空処理装置を提供することを目的とす
る。
搬送機構に改善を施すことにより、ウェハのサイズにか
かわらず、ウェハを真空室から処理室へかつこの逆に確
実に搬送し得る真空処理装置を提供することを目的とす
る。
［発明の構成］ （課題を解決するための手段） 本発明は、半導体ウェハに対しエッチングあるいは堆積
を行う処理室と、この処理室に隣接された真空室と、前
記処理室と真空室間に設けられ、ウェハ通過用の開口部
を有した隔壁と、前記処理室及び真空室に夫々設けられ
たウェハ搬送用の第1,第２ベルトコンベアと、同真空室
内に配置され，一端が前記第２ベルトコンベアの処理室
寄りの端部に回動自在に連結された第３ベルトコンベア
と、この第３ベルトコンベアにリンクを介して接続され
て前記隔壁の開口部を開閉するゲートバルブとを具備
し、前記半導体ウェハを真空室から処理室へ又はこの逆
に移動させる際に第３ベルトコンベアが第２ベルトコン
ベアと一直線状に配置され、かつ真空室と処理室とを遮
断する場合には第３ベルトコンベアが回動して第２ベル
トコンベアに対して傾斜することを特徴とする真空処理
装置である。
を行う処理室と、この処理室に隣接された真空室と、前
記処理室と真空室間に設けられ、ウェハ通過用の開口部
を有した隔壁と、前記処理室及び真空室に夫々設けられ
たウェハ搬送用の第1,第２ベルトコンベアと、同真空室
内に配置され，一端が前記第２ベルトコンベアの処理室
寄りの端部に回動自在に連結された第３ベルトコンベア
と、この第３ベルトコンベアにリンクを介して接続され
て前記隔壁の開口部を開閉するゲートバルブとを具備
し、前記半導体ウェハを真空室から処理室へ又はこの逆
に移動させる際に第３ベルトコンベアが第２ベルトコン
ベアと一直線状に配置され、かつ真空室と処理室とを遮
断する場合には第３ベルトコンベアが回動して第２ベル
トコンベアに対して傾斜することを特徴とする真空処理
装置である。
（作用） 本発明によれば、真空室内の搬送機構に改善を施すこと
により、具体的には処理室と真空室間の隔壁の開口部を
開閉するゲートバルブに連動する第３ベルトコンベアを
真空室に配置することにより、ウェハのサイズがある程
度小さくても、ウェハを真空室から処理室へあるいはこ
の逆に確実に搬送することができる。
により、具体的には処理室と真空室間の隔壁の開口部を
開閉するゲートバルブに連動する第３ベルトコンベアを
真空室に配置することにより、ウェハのサイズがある程
度小さくても、ウェハを真空室から処理室へあるいはこ
の逆に確実に搬送することができる。
（実施例） 以下、本発明の一実施例を第１図を参照して説明する。
但し、第２図（従来）と同部材は同符号を付して説明を
省略する。
但し、第２図（従来）と同部材は同符号を付して説明を
省略する。
図中の21は、一端が第２ベルトコンベア９に連結した第
３ベルトコンベアである。この第３ベルトコンベア21
は、リンク22を介してゲートバルブ11に連結されてい
る。
３ベルトコンベアである。この第３ベルトコンベア21
は、リンク22を介してゲートバルブ11に連結されてい
る。
こうした構造の真空処理装置において、例えば半導体ウ
ェハ２を真空室５から処理室１へ搬送する時は、第１図
に示すようにゲートバルブ11を下方にさげた状態にすれ
ばよい。その結果、ゲートバルブ11にリンク22を介して
接続した第３ベルトコンベア21が第２ベルトコンベア９
と一直線状となり、処理室１内の第１ベルトコンベア３
の（左）端部との隙間が従来と比べて著しく狭くなり、
かなりのサイズの小さいウェハでも搬送を容易に行なえ
る。また、ウェハ２の搬送が終了して隔壁７の開口部7a
を閉じるときは、ゲートバルブ11を上方に移動するだけ
でよい。つまり、この動作により、リンク22が上方に移
動するとともに、第３ベルトコンベア21が第２ベルトコ
ンベア９との連結点（Ｐ点）を起点として反対時計回り
に回動し、ゲートバルブ11の弁体が隔壁７の開口部7aを
塞ぐことになる。
ェハ２を真空室５から処理室１へ搬送する時は、第１図
に示すようにゲートバルブ11を下方にさげた状態にすれ
ばよい。その結果、ゲートバルブ11にリンク22を介して
接続した第３ベルトコンベア21が第２ベルトコンベア９
と一直線状となり、処理室１内の第１ベルトコンベア３
の（左）端部との隙間が従来と比べて著しく狭くなり、
かなりのサイズの小さいウェハでも搬送を容易に行なえ
る。また、ウェハ２の搬送が終了して隔壁７の開口部7a
を閉じるときは、ゲートバルブ11を上方に移動するだけ
でよい。つまり、この動作により、リンク22が上方に移
動するとともに、第３ベルトコンベア21が第２ベルトコ
ンベア９との連結点（Ｐ点）を起点として反対時計回り
に回動し、ゲートバルブ11の弁体が隔壁７の開口部7aを
塞ぐことになる。
しかして、上記実施例に係る真空処理装置によれば、真
空室5,6内に一端が第２ベルトコンベア９に連結した第
３ベルトコンベア21を配置し、かつこの第３ベルトコン
ベア21にリンク22を介してゲートバルブ言いに連結され
た構成となっているため、ウェハ２を真空室５から処理
室１へ搬送する時あるいは処理室１から真空室６へ搬送
する時は、第１図に示すようにゲートバルブ11を下方に
さげた状態にすることにより、ゲートバルブ11にリンク
22を介して接続した第３ベルトコンベア21が第２ベルト
コンベア９と一直線状となり、処理室１内の第１ベルト
コンベア３の（左）端部との隙間が従来と比べて著しく
狭くなり、かなりのサイズの小さいウェハでも搬送を容
易に行なうことができる。
空室5,6内に一端が第２ベルトコンベア９に連結した第
３ベルトコンベア21を配置し、かつこの第３ベルトコン
ベア21にリンク22を介してゲートバルブ言いに連結され
た構成となっているため、ウェハ２を真空室５から処理
室１へ搬送する時あるいは処理室１から真空室６へ搬送
する時は、第１図に示すようにゲートバルブ11を下方に
さげた状態にすることにより、ゲートバルブ11にリンク
22を介して接続した第３ベルトコンベア21が第２ベルト
コンベア９と一直線状となり、処理室１内の第１ベルト
コンベア３の（左）端部との隙間が従来と比べて著しく
狭くなり、かなりのサイズの小さいウェハでも搬送を容
易に行なうことができる。
なお、上記実施例では、処理室で半導体ウェハをエッチ
ングする場合について述べたが、これに限らず、ウェハ
に金属等を被着（堆積）させる場合でもよい。
ングする場合について述べたが、これに限らず、ウェハ
に金属等を被着（堆積）させる場合でもよい。
［説明の効果］ 以上詳述した如く本発明によれば、真空室内の搬送機構
に改善を施すことにより、ウェハのサイズがある程度小
さくても、ウェハを真空室から処理室へかつこの逆に確
実に搬送し得る真空処理装置を提供できる。
に改善を施すことにより、ウェハのサイズがある程度小
さくても、ウェハを真空室から処理室へかつこの逆に確
実に搬送し得る真空処理装置を提供できる。
第１図は本発明の一実施例に係る真空処理装置の概略説
明図、第２図は従来の真空処理装置の説明図である。 １…処理室、２…半導体ウェハ、5,6…真空室、７…隔
壁、4,9,21…ベルトコンベア、22…リンク。
明図、第２図は従来の真空処理装置の説明図である。 １…処理室、２…半導体ウェハ、5,6…真空室、７…隔
壁、4,9,21…ベルトコンベア、22…リンク。
Claims (1)
- 【請求項１】半導体ウェハに対しエッチングあるいは堆
積を行う処理室と、この処理室に隣接された真空室と、
前記処理室と真空室間に設けられ、ウェハ通過用の開口
部を有した隔壁と、前記処理室及び真空室に夫々設けら
れたウェハ搬送用の第1,第２ベルトコンベアと、同真空
室内に配置され，一端が前記第２ベルトコンベアの処理
室寄りの端部に回動自在に連結された第３ベルトコンベ
アと、この第３ベルトコンベアにリンクを介して接続さ
れて前記隔壁の開口部を開閉するゲートバルブとを具備
し、前記半導体ウェハを真空室から処理室へ又はこの逆
に移動させる際に第３ベルトコンベアが第２ベルトコン
ベアと一直線状に配置され、かつ真空室と処理室とを遮
断する場合には第３ベルトコンベアが回動して第２ベル
トコンベアに対して傾斜することを特徴とする真空処理
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19184689A JPH0680720B2 (ja) | 1989-07-25 | 1989-07-25 | 真空処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19184689A JPH0680720B2 (ja) | 1989-07-25 | 1989-07-25 | 真空処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0355866A JPH0355866A (ja) | 1991-03-11 |
| JPH0680720B2 true JPH0680720B2 (ja) | 1994-10-12 |
Family
ID=16281486
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19184689A Expired - Lifetime JPH0680720B2 (ja) | 1989-07-25 | 1989-07-25 | 真空処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0680720B2 (ja) |
-
1989
- 1989-07-25 JP JP19184689A patent/JPH0680720B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0355866A (ja) | 1991-03-11 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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