JPH0681116A - 金属溶射皮膜の改質溶射方法及びその装置 - Google Patents
金属溶射皮膜の改質溶射方法及びその装置Info
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Abstract
り溶射皮膜を形成する場合において、溶射皮膜に生じる
孔を低減させる。 【構成】本願発明に係るものは、噴射のための1次ガス
101として不活性ガス等空気以外のガスを使用し、噴
射口から被溶射面に至る噴射物の飛散経路の周囲を、適
当なカバー9によって囲う。他方において、上記噴射の
ための1次ガス101とは別に、不活性ガス等空気以外
のガスを2次ガス102として、上記噴射口とは別の導
入口より、上記カバー9の内側に導入するのである。こ
のとき、上記各ガスの導入により、カバー9の内側の圧
力は、外部の圧力よりも高くなり、外部から溶射金属に
空気が混入しない。
Description
溶射方法及びその装置に関し、詳しくは、アーク溶線式
溶射機又はガス溶線式溶射機により溶射皮膜を形成する
金属溶射皮膜の改質溶射方法及びその装置に関する。
式溶射機の金属溶射により、金属表面に皮膜を形成する
に際して、例えば図14に示すような装置が用いられ
た。これは、一般的なアーク溶線式溶射設備を示してい
る。この図14において、800はエアーコンプレッサ
ー、801は冷却水の収容部、802はエアーレシーバ
ー、803はエアー除湿機、804はエアークリーナ
ー、805はエアー調整器、806はアーク溶射制御ト
ランス、807はエアー流量計、808は溶射材料ワイ
ヤーコントロール装置、809はアーク溶射機、810
は被溶射体を示している。このアーク溶射機809は、
図15へ示すように、先端にエアーキャップ811が螺
着している。そして、エアーコンプレッサー800によ
って送られてくる高速圧縮空気814を噴射口815よ
り噴射し、通電ワイヤー材812から電気アーク813
を飛ばすのである。
式溶射設備である。この図16において、900はエア
ーコンプレッサー、901は冷却水の収容部、902は
エアーレシーバー、903はエアー除湿機、904はエ
アークリーナー、905はエアー調整器、906はアセ
チレン又はプロパンのボンベ、907は酸素又は水素の
ボンベ、908はガス流量計、909はエアー流量計、
910は溶射材料ワイヤーコントロール装置、911は
ガス溶射機、912は被溶射体を示している。このガス
溶射機911は、図17へ示すように、ノズル914先
端にエアーキャップ915が装着されている。そして、
この装置において、熱源としてガス燃焼炎、電気、アー
ク炎、プラズマアーク炎が用いられる。916は、圧縮
空気又は不活性ガスを示している。又917は溶射材料
(粉末線)を、918は空気流を、919は燃焼ガスを
夫々示している。このようなガス溶射機911におい
て、溶射しつつある材料先端920から、微細化された
金属粒子921が飛ばされ、被溶射体912である前処
理された母材922表面に溶射金属層923を形成する
のである。
ス溶線式溶射機の何れにあっても、被溶射体の表面に対
し溶射するに際して、被溶射体から適当な距離(ガス溶
線式の場合は10〜25cm前後)をおいて、溶射機か
ら皮膜形成を行おうとする金属の溶射を行っていたので
ある。
射装置では、溶射皮膜の多孔性を改善して無気孔な皮膜
を形成することができなかった。更に皮膜形成後に適当
な後処理(熱拡散、加熱溶融、加熱封孔含浸、又は封孔
剤の真空加熱含浸、有機又は無機質の封孔剤塗布又は浸
漬当の何れかの)工程を必要とした。特に溶射皮膜のま
ま耐食や環境遮断を必要とする場合は全て上記の後処理
を必要としたのであった。
によって、例えば母材にチタン溶射皮膜を形成した場
合、図18に示すように母材b(SUS304)の表面
の皮膜aには多くの孔cが存在するのである(この図1
8は、倍率100倍の断面写真を濃墨によりトレースし
たものである)。
のエアー方式によるタンタル溶射皮膜を母材に形成した
場合を例に採ると、図19に示すように、この場合も又
母材b(SUS304)の表面の皮膜aには多くの孔c
が存在するのである(この図19は、倍率100倍の断
面写真を濃墨によりトレースしたものである)。
れの溶射による場合も、皮膜には多くの孔が存在するも
のとして、溶射後の適当な処理の必要は仕方のないこと
と諦められていたのであった。本願発明は、上記課題の
解決を目的とする。
に係る方法は、アーク溶線式溶射機又はガス溶線式溶射
機による金属溶射に際し、下記の構成を採る。即ち、噴
射のためのガスとして不活性ガス等空気以外のガスを使
用し、噴射口から被溶射面に至る噴射物の飛散経路の周
囲を適当な覆い9によって囲うのである。
線式溶射機又はガス溶線式溶射機による金属溶射に際
し、下記の構成を採る。即ち、噴射のための1次ガス1
01として不活性ガス等空気以外のガスを使用し、噴射
口から被溶射面に至る噴射物の飛散経路の周囲を、適当
な覆い9によって囲う。他方において、上記噴射のため
の1次ガス101とは別に、不活性ガス等空気以外のガ
スを2次ガス102として、上記噴射口とは別の導入口
より、上記覆い9の内側に導入するのである。
ク溶線式溶射機又はガス溶線式溶射機と、カバー9とを
備えてなるものであり、下記の構成を採る。即ち、上記
溶射機は、噴射口より不活性ガス等空気以外のガスを用
いて溶射金属を噴射するものである。上記カバー9は、
上記溶射機の噴射口に設けられ、上記噴射口から被溶射
面に至る噴射物の飛散経路の周囲を囲うものである。
線式溶射機又はガス溶線式溶射機と、カバー9とを備え
てなるものであり、下記の構成を採る。即ち、上記溶射
機は、噴射口より不活性ガス等空気以外の1次ガス10
1を用いて溶射金属を噴射するものである。上記カバー
9は、上記溶射機の噴射口に設けられ、上記噴射口から
被溶射面に至る噴射物の飛散経路の周囲を囲うものであ
る。そして上記カバー9或いは上記溶射機は、カバー9
の内部へ上記1次ガス101とは別に不活性ガス等空気
以外の2次ガス102を導入することが可能な導入口を
有するものである。
願第4又は第5の発明において、上記カバー9を、溶射
器の噴射口付近に取り外し自在に取付け可能なるものと
したものである。
ては、噴射のためのガスとして不活性ガス等空気以外の
ガスを使用し、噴射口から被溶射面に至る噴射物の飛散
経路の周囲を適当な覆いによって囲うものであるため、
噴射のガスに空気を用いないことはもとより、噴射が覆
い内部の圧力を外圧より高くすることになり、外部から
噴射物に、孔発生要因である空気が混入することが抑え
られる。
に係る方法にあっては、噴射のための1次ガスとして不
活性ガス等空気以外のガスを使用し、噴射口から被溶射
面に至る噴射物の飛散経路の周囲を、適当な覆いによっ
て囲うものであるため、上記本願第1の発明と同様噴射
のガスに空気を用いないことはもとより、噴射が覆い内
部の圧力を外圧より高くすることになり、外部から噴射
物に空気が混入することが抑えらる。更に、噴射のため
の1次ガスとは別に不活性ガス等空気以外のガスを2次
ガスを覆いの内側に導入するものであるため、覆い内部
の圧力を覆い外部の圧力より更に高くすることが可能で
ある。
は、アーク溶線式溶射機又はガス溶線式溶射機の噴射口
にカバー9を設け、噴射口より不活性ガス等空気以外の
ガスを用いて溶射金属を噴射することによって、噴射口
から被溶射面に至る噴射物の飛散経路空間の圧力をこの
空間外部の圧力より高くすることとなり、噴射物の飛散
経路途中で孔発生要因である空気が混入することが抑え
られる。
アーク溶線式溶射機又はガス溶線式溶射機の噴射口にカ
バー9を設け、噴射口より不活性ガス等空気以外の1次
ガスを用いて溶射金属を噴射することによって、噴射口
から被溶射面に至る噴射物の飛散経路空間の圧力をこの
空間外部の圧力より高くすることとなり、噴射物の飛散
経路途中で孔発生要因である空気の混入が抑えられる。
又このことに加え、上記導入口を備えることにより、こ
の導入口から、カバー9の内部へ上記1次ガスとは別に
不活性ガス等空気以外の2次ガスを導入することが可能
であり、カバー9内部の圧力をカバー9外部の圧力より
更に高くすることが可能である。
は、上記カバー9を溶射器の噴射口付近に取り外し自在
に取付け可能なるものとしたことにより、従来より在る
アーク溶線式溶射機、ガス溶線式溶射機或いはその他の
溶射機をそのまま利用して、上記本願第4又は第5の発
明の作用を得ることが可能である。
に説明する。図1へ本願発明の一実施例を掲げる。この
図1に示すものは、アーク溶線式溶射機において本願発
明を実施したものである。先ず、1次ガス101とし
て、アルゴン(Ar)、ヘリウム(He)又は窒素(N
2 )等の不活性ガスを収容した第1ガスボンベ1と、同
じく2次ガス102として、アルゴン(Ar)、ヘリウ
ム(He)又は窒素(N2 )等の不活性ガスを収容した
第2ガスボンベ2とを用意する。11は第1ガスボンベ
1のガス圧力調整器を示しており、21は第2ガスボン
ベ2のガス圧力調整器を示している。
管13に続く管14によってアーク溶射機3に接続され
ている。管13と管14との間には、ガス流量計15が
介されている。同じく上記第1ガスボンベ2は、管23
と、この管23に続く管24によってアーク溶射機3に
接続されている。管23と管24との間には、ガス流量
計25が介されている。
トロール装置のドラム4、ドラム5より、溶射材料6,
7が供給される。8はアーク制御トランスを示してい
る。
ものが、手に持ち、被溶射体100へ向かって溶射する
ことが可能な形状、寸法のものである。このように溶射
機3は、携帯用のものを採用することが、機動性の面で
有利であり、現地での溶射を可能とするものである。そ
してこの溶射機3は、被溶射体100に対向する先端に
後述するカバー9が設けられる。
れ、図2へ示す溶射機3の1次ガスの噴出路12へ連絡
するものである。管24は、溶射機3へ接続され、図2
へ示す溶射機3(この図2に示す実施例においては、後
述するカバー9)の導入路22へ連絡するものである。
ーク)を示している。この図2は、溶射機3の先端付近
及び、後述するカバー9の断面を示しているのである
が、図面の煩雑化を避けるため、ハッチングは省略して
ある。溶射機3の先端周囲は、螺刻部32が形成されて
おり、ここに円筒形のカバー9後端が螺合する。詳述す
ると、カバー9の後端の内周面に螺刻部90が形成され
ており、この螺刻部90と上記溶射機3の螺刻部32が
螺合するのである。
なくとも溶射機3の通電ワイヤー31先端から被溶射体
100に至る空間を覆うものである。このとき、溶射状
況が外部から観察可能なように、少なくともカバー9に
おいて溶射金属の飛散経路付近は、透明なプラスチック
等の素材によって形成しておくのが効果的である。内部
の観察が不必要であれば、カバー9はアルミ等の他の素
材によって形成して実施することも可能である。
形成されたものであっても実施可能であるが、上述のよ
うに取り外し可能な構成を採ることによって、溶射機3
を従来の溶射にも使用することが可能であり、使用用途
の拡大という点で効果的である。
に隔壁93が形成されている。この隔壁93の中央に
は、噴出口91が形成されており、この噴出口91を取
り囲んで、適宜数の導入口92が形成されている。
排気部94が形成されている。この排気部94は、適当
な形状の切欠部として刻設されたものである。図2にお
いて、この排気部94は長円或いは真円を半分にした形
状のものを示したが、このような形状のものに限定する
ものではなく、この他矩形等の多角形やその他の曲線図
形の切欠部として形成されたものであってもよい。又例
えば、図3へ示すように、カバー9の先端周縁に適当な
突起95を形成して、この突起95の高さ分カバー9先
端と被溶射体100との間に間隙をかせぎ、この間隙に
排出部94の役目を荷なわせるものであってもよいので
ある。勿論上記排出部94等の形成は、被溶射体100
に対してカバー9先端を接触させることを前提としてな
すものであり、カバー9の先端自身を若干(空気がカバ
ー9内部へ侵入しない程度)被溶射体100表面から離
すのであれば、このような排気部94の形成は行う必要
はない。
機において、噴出路12から送られてくる既述の1次ガ
ス101(1次高速不活性ガス)は、噴出口91を通じ
て、放出され、アークを飛ばすのである。105はこの
とき飛散する溶射金属を示している。この際、溶射金属
105の被溶射体100に至までの飛散経路の周囲は、
カバー9に囲われる。即ちカバー9は、チャンバーをな
しているのである。このようにカバー9がチャンバーと
して、溶射金属105の飛散経路周囲を囲うことによ
り、飛散中の溶射金属105に孔の原因となる空気が混
入しない。又1次ガス101の噴射圧は、必要に応じ適
宜選択すればよい。通常約60ポンドが適当である。
102は、導入路22から導入口92を通じて、カバー
9内部へ導入され、カバー9内の圧を更に高め、外気が
カバー9内へ侵入するのをより完全に防ぐものである。
このようにして、溶射金属105は、被溶射体100の
母材表面103へ皮膜104を形成するのである。そし
て、1次ガス101及び2次ガス102等の、カバー内
に充満し不活性雰囲気を形成しているガスは、既述の排
気部94を通じて外部へ排出される。
素に応じて適宜変更可能である。更にカバー9の形状
は、上記の円筒形のものに限定するものではない。これ
は、1次ガス101の噴出口91の形状に対応して選択
すればよい。詳述すると1次ガス101の噴出口91の
形状が円形である場合、溶射金属105の飛散空間の形
状が円錐状となるため、カバー9の形状は円筒形或いは
円錐(円錐台)形が好ましいのである。従って、上記噴
出口91の形状が多角形の場合、カバー9の形状は対応
する(中空の)多角柱形或いは多角錐(多角錐台)形が
好ましい。又上記噴出口91が他の形状を採るのであれ
ば、カバー9はこの形状に対応する断面形状を持つもの
を採用すればよいのである。例えば、噴出口91の形状
が十字型である場合、カバー9の断面形状(正確にはカ
バー9内周の断面形状)も、十字型にすればよく、噴出
口91の形状が楕円或いは長円の場合、カバー9の断面
形状(正確にはカバー9内周の断面形状)も楕円或いは
長円にすればよいのである。勿論噴出口91の大きさに
ついては、多少の大小の違いがあっても問題なく、又上
記整合は厳密なものではなく、形状の違いがあっても問
題はない。通常溶射器3の噴射口92には、口を形成す
るキャップ(図示しない)が嵌められ、このキャップを
交換することによって噴射口92の口の形状が選択可能
となっている。
を実施した例を、図4に示す。先ずアーク溶線式溶射機
同様、1次ガス101として、アルゴン(Ar)、ヘリ
ウム(He)又は窒素(N2 )等の不活性ガスを収容し
た第1ガスボンベ1と、同じく2次ガス102として、
アルゴン(Ar)、ヘリウム(He)又は窒素(N2)
等の不活性ガスを収容した第2ガスボンベ2とを用意す
る。11は第1ガスボンベ1のガス圧力調整器を示して
おり、21は第2ガスボンベ2のガス圧力調整器を示し
ている。
管13に続く管14によってガス溶射機300に接続さ
れている。管13と管14との間には、ガス流量計15
が介されている。同じく上記第1ガスボンベ2は、管2
3と、この管23に続く管24によってガス溶射機30
0に接続されている。管23と管24との間には、ガス
流量計25が介されている。
ボンベを示しており、202は酸素、水素ガスボンベを
示している。203はアセチレン又はプロパンガス圧力
調整器を示し、204は酸素又は水素圧力調整器を示し
ている。そして205は、アセチレン・酸素(又はプロ
パンガスボンベ・水素)流量計を示している。
ントロール装置206溶射材料207が供給される。こ
のガス溶射機300は、図5へ示すように、ノズル20
8先端にエアーキャップ209が装着されている。そし
て、この装置において、熱源としてガス燃焼炎、電気、
アーク炎、プラズマアーク炎が用いられる。207は上
述の溶射材料(粉末線)を、210は燃焼ガスを夫々示
している。このようなガス溶射機300において、溶射
しつつある材料先端211から、微細化された金属粒子
(溶射金属105)が飛ばされ、被溶射体100である
前処理された母材103表面に溶射金属層(皮膜10
4)を形成するのである。
続され、図5へ示す溶射機3の1次ガスの噴出路12へ
連絡するものである。管24は、溶射機300へ接続さ
れ、図5へ示す溶射機300(この図5に示す実施例に
おいては、カバー9)の導入路22へ連絡するものであ
る。
び、後述するカバー9の断面を示しているのであるが、
図面の煩雑化を避けるため、ハッチングは省略してあ
る。図4へ示すように溶射機300は、図1に示すアー
ク溶射機3と同様作業を行うものが、手に持ち、被溶射
体100へ向かって溶射することが可能な形状、寸法の
ものである。このようにガス溶射機300も、携帯用の
ものを採用することが、機動性の面で有利であり、現地
での溶射を可能とするものである。
ーク溶射機3と同様被溶射体100に対向する先端に後
述するカバー9が設けられる。
9は、円筒形の部材であり、少なくとも溶射機300の
溶融しつつある材料先端211から被溶射体100に至
る空間を覆うものである。このとき、溶射状況が外部か
ら観察可能なように、少なくともカバー9において溶射
金属の飛散経路付近は、透明なプラスチック等の素材に
よって形成しておくのが効果的である。内部の観察が不
必要であれば、カバー9はアルミ等の他の素材によって
形成して実施することも可能である。
体に形成されたものであっても実施可能であるが、図2
のもの同様取り外し可能な構成を採ることによって、溶
射機3を従来の溶射にも使用することが可能であり、使
用用途の拡大という点で効果的である。
3が形成されている。この隔壁93の中央には、噴出口
91が形成されており、この噴出口91を取り囲んで、
適宜数の導入口92が形成されている。
94が形成されている。この排気部94は、適当な形状
の切欠部として刻設されたものである。図5において、
この排気部94は図2の実施例のものと同様の長円或い
は真円を半分にした形状のものを示したが、このような
形状のものに限定するものではなく、この他矩形等の多
角形やその他の曲線図形の切欠部として形成されたもの
であってもよい。又例えば、この場合も先に説明した図
3へ示すように、カバー9の先端周縁に適当な突起95
を形成して、この突起95の高さ分カバー9先端と被溶
射体100との間に間隙をかせぎ、この間隙に排出部9
4の役目を荷なわせるものであってもよいのである。勿
論上記排出部94等の形成は、被溶射体100に対して
カバー9先端を接触させることを前提としてなすもので
あり、カバー9の先端自身を若干(空気がカバー9内部
へ侵入しない程度)被溶射体100表面から離すのであ
れば、このような排気部94の形成は行う必要はないの
も、既述のものと同様である。
機において、噴出路12から送られてくる既述の1次ガ
ス101(1次高速不活性ガス)は、噴出口91を通じ
て、放出され、溶融しつつある材料先端211を飛ばす
のである。105はこのとき飛散する溶射金属を示して
いる。この際、溶射金属105の被溶射体100に至ま
での飛散経路の周囲は、上記カバー9に囲われる。即ち
カバー9は、チャンバーをなしているのである。このよ
うにカバー9がチャンバーとして、溶射金属105の飛
散経路周囲を囲うことにより、飛散中の溶射金属105
に孔の原因となる空気が混入しない。又このとき、溶射
と同時に既述の2次ガス102は、導入路22から導入
口92を通じて、カバー9内部へ導入され、カバー9内
の圧を更に高め、外気がカバー9内へ侵入するのをより
完全に防ぐものである。
射体100の母材表面103へ皮膜104を形成するの
である。そして、1次ガス101及び2次ガス102等
の、カバー内に充満し不活性雰囲気を形成しているガス
は、既述の排気部94を通じて外部へ排出される。この
実施例においても、カバー9の長さ及び径は、噴射圧等
の各要素に応じて適宜変更可能であり、カバー9の形状
は、上記の円筒形のものに限定するものではない。即ち
図2のものの説明において述べた他の形状を採用するこ
とが可能である。
びガス溶線式溶射機の何れの溶射装置による場合も2次
ガス102をカバー9内へ導入するものとして説明した
が、この2次ガス102を用いずに、溶射しても、従来
のアーク溶線式溶射及びガス溶線式溶射に比して格段に
皮膜の孔が低減する。即ちこの場合第2ガスボンベ2や
管23,24、カバー9の導入路22及び導入口92等
の構成を設けずに実施してもよいのである。
ついて説明する。先ず本願発明をアーク溶射において実
施した場合得られた皮膜について、図6、図7及び図8
を用いて順に説明する(各図は、倍率100倍の断面写
真を濃墨によりトレースしたものである)。
して母材103(SUS304)へ皮膜104を形成し
たものである。この皮膜104は、1次ガス101とし
て、窒素ガスのみ使用して得たチタン溶射皮膜層であ
る。図18に示したものに比して、孔cは、顕著に低減
している。
を溶射して母材103(SUS304)へ皮膜104を
形成したものである。この皮膜104は、1次ガス10
1として、アルゴンガスのみ使用して得たチタン溶射皮
膜層である。図18に示したものに比して、孔cは、顕
著に低減している。
を溶射して母材103(SUS304)へ皮膜104を
形成したものである。この皮膜104は、1次ガス10
1として、アルゴンガスを使用し、2次ガス102とし
て同じくアルゴンガスを使用して得たチタン溶射皮膜層
である。図18に示したものに比して、孔cは、格段に
低減し、殆ど皆無といってよい状態である。
場合得られた皮膜について、図9、図10及び図11を
用いて順に説明する(各図は、倍率100倍の断面写真
を濃墨によりトレースしたものである)。
射して母材103(SUS304)へ皮膜104を形成
したものである。この皮膜104は、1次ガス101と
して、窒素ガスのみ使用して得たタンタル溶射皮膜層で
ある。図19に示したものに比して、孔cは、顕著に低
減している。
r)を溶射して母材103(SUS304)へ皮膜10
4を形成したものである。この皮膜104は、1次ガス
101として、アルゴンガスのみ使用して得たタンタル
溶射皮膜層である。図19に示したものに比して、孔c
は、顕著に低減している。
r)を溶射して母材103(SUS304)へ皮膜10
4を形成したものである。この皮膜104は、1次ガス
101として、アルゴンガスを使用し、2次ガス102
として同じくアルゴンガスを使用して得たタンタル溶射
皮膜層である。図19に示したものに比して、孔cは、
格段に低減し、殆ど皆無といってよい状態である。
場合の評価について述べる。この場合も総じて、フェロ
キシル試験にて気孔は発生しなかったが、断面を観察す
ると、斑点状にボイド(空孔)が若干発生した(図1
2、図13参照。尚図12は倍率50倍の断面写真を、
図13は倍率100倍の断面写真を、夫々濃墨によりト
レースしたものである。双方共に2次ガス102を使用
せず、母材103(SUS304)へ本願発明に係るア
ーク溶射方法を使用してチタンを溶射し、皮膜104を
形成したものである)。しかし、皮膜の硬さ等も2次ガ
ス102を用いた場合とほぼ同じである。従って、不活
性の1次ガス101と、カバー9の使用により、耐食皮
膜等の皮膜を形成した場合も、その耐食性の効果には、
2次ガス102を用いたものと比して、遜色はない。し
かし、使用温度条件により、上記空孔(空洞)内に密閉
された気体の膨張の可能性を考慮すると最も望ましく
は、2次ガス102を用いて実施することである。又上
記図6〜図13に示すものは、母材103として、SU
S304が用いられているが、これは、試験データを採
るために便宜上採用したものであり、実施に際し、当然
このSUS304以外の対象に対しても溶射を行い、本
願発明の効果を享受することができる。表1に、各条件
下にてアーク溶線式溶射法によるチタンの溶射を行い、
得られた皮膜の比較評価を掲げておく。
を用いてアーク溶線式溶射を行って得られたものであ
る。又上記表1のサンプル2は、従来のアーク溶線式溶
射において、アルゴンを用いて得られたものである。そ
して上記表1のサンプル3は、従来のアーク溶線式溶射
において、窒素を用いて得られたものである。更に上記
表1のサンプル4は、本願発明に係るアーク溶線式溶射
において、1次ガス101に窒素を用い、2次ガス10
2を用いずに得られたものである。又上記表1のサンプ
ル5は、本願発明に係るアーク溶線式溶射において、1
次ガス101にアルゴンを用い、2次ガス102を用い
ずに得られたものである。更に又上記表1のサンプル6
は、本願発明に係るアーク溶線式溶射において、1次ガ
ス101にアルゴンを用い、2次ガス102に同じくア
ルゴンを用いて得られたものである。
にあっては、噴射のためのガスとして不活性ガス等空気
以外のガスを使用し、噴射口から被溶射面に至る噴射物
の飛散経路の周囲を適当な覆いによって囲うものである
ため、噴射のガスはもとより、外部から噴射物に、孔発
生要因である空気が混入することが抑えられるため、溶
射皮膜に生ずる孔が低減される。
に係る方法にあっては、噴射のための1次ガスとして不
活性ガス等空気以外のガスを使用し、噴射口から被溶射
面に至る噴射物の飛散経路の周囲を、適当な覆いによっ
て囲うものであるため、上記本願第1の発明と同様噴射
のガスはもとより、外部から噴射物に空気が混入するこ
とが抑えられ、更に、噴射のための1次ガスとは別に不
活性ガス等空気以外のガスを2次ガスを覆いの内側に導
入するものであるため、覆い内部の圧力を覆い外部の圧
力より更に高くすることが可能であり、外部から覆い内
への空気の混入をほぼ完全に抑えることが可能である。
は、アーク溶線式溶射機又はガス溶線式溶射機の噴射口
にカバーを設け、噴射口より不活性ガス等空気以外のガ
スを用いて溶射金属を噴射することによって、噴射口か
ら被溶射面に至る噴射物の飛散経路途中で孔発生要因で
ある空気の混入が抑えられる。
アーク溶線式溶射機又はガス溶線式溶射機の噴射口にカ
バーを設け、噴射口より不活性ガス等空気以外の1次ガ
スを用いて溶射金属を噴射するものであるため、上記本
願第4の発明と同様噴射口から被溶射面に至る噴射物の
飛散経路途中で孔発生要因である空気の混入が抑えられ
る。又このことに加え、上記導入口を備えることによ
り、この導入口から、カバーの内部へ上記1次ガスとは
別に不活性ガス等空気以外の2次ガスを導入することが
可能であり、外部からカバー内への空気の混入をほぼ完
全に抑えることが可能である。
は、上記カバーを溶射器の噴射口付近に取り外し自在に
取付け可能なるものとしたことにより、従来より在るア
ーク溶線式溶射機、ガス溶線式溶射機或いはその他の溶
射機をそのまま利用して、上記本願第4又は第5の発明
の効果を得ることが可能である。これは、現地補修等の
作業が可能な可搬性を有する装置において、特に効果的
である。
も、耐食性、耐薬品性或いは耐候性等各種用途の皮膜に
おいて、孔(ピンホール)の発生を低減することが可能
であり、産業の発達に多大な功を奏するものである。他
方皮膜に適度な柔らかさを必要とする場合、従来の溶射
では、空気中の窒素により、窒化皮膜が形成され硬化し
てしまうと問題があった。この点本願発明を利用するこ
とにより、外気を絶ち空気の混入が生じないため、窒化
皮膜を生じさせず、所望する柔らかさを持った金属皮膜
の形成が可能である。更に本願各発明の実施によって、
従来必要とした皮膜の後処理工程を排除或いは簡略化す
ることが可能となり、労力、コスト及び工程時間の短縮
に多大な功を奏するものである。
料の溶射においても、高価な真空チャンバーを用いる必
要もなく、又プラズマ等の高電力を必要とする方法を採
用ぜずとも、ノンピンホールの溶射皮膜を得ることが可
能となり、コストの低減に極めて効果的である。
る。
る。
膜の拡大断面図である。
膜の拡大断面図である。
膜の拡大断面図である。
皮膜の拡大断面図である。
射皮膜の拡大断面図である。
射皮膜の拡大断面図である。
皮膜の拡大断面図である。
皮膜の拡大断面図である。
体正面図である。
略要部断面図である。
正面図である。
要部断面図である。
て得られたチタン溶射皮膜の拡大断面図である。
て得られたタンタル溶射皮膜の拡大断面図である。
Claims (5)
- 【請求項1】 アーク溶線式溶射機又はガス溶線式溶射
機による金属溶射に際し、噴射のためのガスとして不活
性ガス等空気以外のガスを使用し、噴射口から被溶射面
に至る噴射物の飛散経路の周囲を、適当な覆いによって
囲うことを特徴とする金属溶射皮膜の改質溶射方法。 - 【請求項2】 アーク溶線式溶射機又はガス溶線式溶射
機による金属溶射に際し、噴射のための1次ガスとして
不活性ガス等空気以外のガスを使用し、噴射口から被溶
射面に至る噴射物の飛散経路の周囲を、適当な覆いによ
って囲い、上記噴射のための1次ガスとは別に、不活性
ガス等空気以外のガスを2次ガスとして、上記噴射口と
は別の導入口より、上記覆いの内側に導入するものであ
ることを特徴とする金属溶射皮膜の改質溶射方法。 - 【請求項3】 アーク溶線式溶射機又はガス溶線式溶射
機と、カバーとを備えてなり、上記溶射機は、噴射口よ
り不活性ガス等空気以外のガスを用いて溶射金属を噴射
するものであり、上記カバーは、上記溶射機の噴射口に
設けられ、上記噴射口から被溶射面に至る噴射物の飛散
経路の周囲を囲うものであることを特徴とする金属溶射
皮膜の改質溶射装置。 - 【請求項4】 アーク溶線式溶射機又はガス溶線式溶射
機と、カバーとを備えてなり、上記溶射機は、噴射口よ
り不活性ガス等空気以外の1次ガスを用いて溶射金属を
噴射するものであり、上記カバーは、上記溶射機の噴射
口に設けられ、上記噴射口から被溶射面に至る噴射物の
飛散経路の周囲を囲うものであり、上記カバー或いは上
記溶射機は、カバーの内部へ上記1次ガスとは別に不活
性ガス等空気以外の2次ガスを導入することが可能な導
入口を有するものであることを特徴とする金属溶射皮膜
の改質溶射装置。 - 【請求項5】上記カバーは、溶射器の噴射口付近に取り
外し自在に取付け可能なるものであることを特徴とする
請求項3又は請求項4記載の金属溶射皮膜の改質溶射装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4177570A JP2689200B2 (ja) | 1992-06-10 | 1992-06-10 | 金属溶射皮膜の改質溶射方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4177570A JP2689200B2 (ja) | 1992-06-10 | 1992-06-10 | 金属溶射皮膜の改質溶射方法及びその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0681116A true JPH0681116A (ja) | 1994-03-22 |
| JP2689200B2 JP2689200B2 (ja) | 1997-12-10 |
Family
ID=16033283
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4177570A Expired - Lifetime JP2689200B2 (ja) | 1992-06-10 | 1992-06-10 | 金属溶射皮膜の改質溶射方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2689200B2 (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS48100332A (ja) * | 1972-04-01 | 1973-12-18 | ||
| JPS6425964A (en) * | 1987-07-20 | 1989-01-27 | Nippon Kokan Kk | Arc thermal spraying method |
-
1992
- 1992-06-10 JP JP4177570A patent/JP2689200B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS48100332A (ja) * | 1972-04-01 | 1973-12-18 | ||
| JPS6425964A (en) * | 1987-07-20 | 1989-01-27 | Nippon Kokan Kk | Arc thermal spraying method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2689200B2 (ja) | 1997-12-10 |
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