JPH0682747B2 - ウエハチヤツク - Google Patents

ウエハチヤツク

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JPH0682747B2
JPH0682747B2 JP25917085A JP25917085A JPH0682747B2 JP H0682747 B2 JPH0682747 B2 JP H0682747B2 JP 25917085 A JP25917085 A JP 25917085A JP 25917085 A JP25917085 A JP 25917085A JP H0682747 B2 JPH0682747 B2 JP H0682747B2
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JP
Japan
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wafer
chuck
suction surface
stopper mechanism
suction
Prior art date
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Application number
JP25917085A
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English (en)
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JPS62118536A (ja
Inventor
俊雄 笹岡
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Omron Corp
Original Assignee
Omron Tateisi Electronics Co
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> この発明は、半導体製造装置等に適用されるウエハチャ
ックに関する。
<発明の概要> この発明は、チャックベース上面に形成された吸着面の
側方に、ウエハの吸着停止と連動して情操動作し、ウエ
ハの脱落を防止するストッパー機構を配備することによ
り、ウエハの脱落を阻止するものである。
<発明の背景> 従来この種ウエハチャックは、第4図に示す如く、ステ
ージ装置5の上部に設けられており、多数の吸気孔を有
する平坦な吸着面61にウエハ7が吸着保持されている
(特開昭59−6555号)。ところが、かかるウエハチャッ
ク6に対するウエハ7の自動供給等の関係により、ウエ
ハチャックの周辺部は全周が開放されているため、ステ
ージ装置5の移動中にウエハ7の吸気動作が何等かの原
因で停止すると、ウエハ7はウエハチャック6から解放
されて慣性によって容易に脱落し、破損する。さらにこ
の脱落、破損したウエハ7の破片71がステージ装置5内
に混入して装置のトラブルを誘発したり、半導体製造装
置のスループットの低下の一因となる虞がある。
<発明の目的> この発明は、ウエハ吸着面の側方に、ウエハの脱落を防
止するストッパー機構を配設することにより、吸着源の
吸気停止時のウエハの脱落を防止することを目的とす
る。
<発明の構成および効果> この発明のウエハチャックは、チャックベースの上面に
ウエハ吸着面を形成され、このウエハ吸着面の側方にウ
エハの脱落を防止するストッパー機構を配備されたもの
である。
上記の構成によると、ステージ装置の移動中、かりにウ
エハの吸気動作がなんらかの原因で停止しても、ストッ
パー機構が直ちにウエハの側方に上昇し、ウエハの脱落
を阻止する。従って、ウエハの破損およびウエハの破片
によるステージ装置のトラブルを未然に防止できると共
に、半導体製造装置のスループットの低下を防止できる
等、実用上の優れた効果を奏する。
<実施例の説明> 第1図〜第3図は本発明の一実施例にかかるウエハチャ
ック10を示す。図示例のウエハチャック10は、ステージ
装置(図示せず)の上部に水平に架設されるもので、円
盤状のチャックベース1の上面には、同心円をなす凹溝
11が複数個形成されている。各凹溝11の溝底には、一連
の通気孔21が開設されており、この通気孔21を吸気源2
に接続することにより、チャックベース1の上面に、ウ
エハ吸着面12が形成される。
前記チャックベース1の上面外周部には、ウエハ吸着面
12と同心円をなし、ウエハ吸着面12より一段低い環状の
座部13が形成され、この座部13のウエハ吸着面12の前
後、左右に対応する位置に、ウエハ4の脱落を防止する
ストッパー機構3が配設されている。
前記ストッパー機構3は本発明の特徴をなすもので、座
部13に上面が開口した有底の円形穴を形成し、この円形
穴を通気孔22を介して前記吸気源2に連設することによ
りエアシリンダ31が構成される。
このエアシリンダ31内へは、弾発ばね32およびこの弾発
ばね32により上昇附勢され、吸気源2の吸気によって下
降するピストンロッド33が嵌挿される。またエアシリン
ダ31の開口面は蓋板34で閉成され、これによりピストン
ロッド33の上昇端が規制される。ピストンロッド33は、
エアシリンダ31に緊密嵌挿されたピストン部35の上端
に、ピストンロッド33の下降端を規制する鍔部36、およ
び蓋板34の軸孔を貫通するストッパー軸37を有してお
り、さらにストッパー軸37の上端部には弾性部材38が嵌
着され、下降端において、弾性部材38の上端面がウエハ
4の上面位置と一致し、上昇端において弾性部材38がウ
エハ4の側方に位置すべく寸法設定される。
然して、前記ウエハ吸着面12にウエハ4が吸着状態にあ
るときは、ストッパー機構3におけるピストンロッド33
は、ウエハ4と同一の吸気源2による吸気によって弾発
ばね32が圧縮されることにより下降し、ピストンロッド
33上部のストッパー軸37が低く下げられる(第3図
a)。一方、ステージ装置の移動中にウエハ4への吸気
動作が停止すると、ウエハ4はウエハ吸着面12の吸着か
ら解放され、慣性力によって脱落方向に移動するが、吸
気動作の停止と同時に吸気源2に連通した各シリンダ31
内の減圧力が低下し、各ピストンロッド33は弾発ばね32
の弾発力によって一斉に上昇し、ストッパー軸37がウエ
ハ4の側方に位置してウエハ4の脱落が防止されるので
ある。
上記の如く、ウエハ吸着面12の側方に、ウエハ4の吸着
停止と連動して上昇動作して、ウエハ4の脱落を防止す
るストッパー機構3を配備したから、ステージ装置の移
動中にウエハ4への吸気動作が停止すると、ストッパー
機構3が直ちに上昇し、ウエハ4の脱落が防止される。
従って、ウエハの破損、ウエハ破片によるステージ装置
のトラブル、および半導体製造装置のスループットの低
下を未然に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例にかかるウエハチャックの平
面図、第2図は第1図中II−II線に沿う拡大断面図、第
3図は動作状況の説明図、第4図は従来例を示す説明図
である。 1……チャックベース、10……ウエハチャック 12……ウエハ吸着面、13……座部 2……吸気源、3……ストッパー機構 31……エアシリンダ、32……弾発ばね 33……ピストンロッド 37……ストッパー軸、38……弾性部材

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】チャックベースの上面にウエハ吸着面を形
    成し、このウエハ吸着面の側方にウエハの脱落を防止す
    るストッパー機構を配備して成るウエハチャック。
  2. 【請求項2】前記ストッパー機構は、前記チャックベー
    スに対し、ウエハ吸着用の吸気源に連通するエアシリン
    ダと、このエアシリンダに昇降可能に支持されるピスト
    ンロッドと、エアシリンダ内に配備され、前記吸気源の
    吸気停止時あるいは吸気力の低下時にピストンロッドを
    上昇させてロッド上部のストッパー軸をウエハの側方へ
    位置させる弾性ばねとで構成されている特許請求の範囲
    第1項記載のウエハチャック。
  3. 【請求項3】前記ストッパー機構は、ウエハ吸着面の前
    後左右に対向配備されている特許請求の範囲第1項記載
    のウエハチャック。
  4. 【請求項4】ストッパー軸には弾性部材が嵌着されてい
    る特許請求の範囲第1項記載のウエハチャック。
JP25917085A 1985-11-18 1985-11-18 ウエハチヤツク Expired - Lifetime JPH0682747B2 (ja)

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JPS62118536A JPS62118536A (ja) 1987-05-29
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JPS62118536A (ja) 1987-05-29

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