JPH0683036A - 投影露光用レチクル - Google Patents
投影露光用レチクルInfo
- Publication number
- JPH0683036A JPH0683036A JP4235786A JP23578692A JPH0683036A JP H0683036 A JPH0683036 A JP H0683036A JP 4235786 A JP4235786 A JP 4235786A JP 23578692 A JP23578692 A JP 23578692A JP H0683036 A JPH0683036 A JP H0683036A
- Authority
- JP
- Japan
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- stepping
- light
- reticule
- patterns
- projection exposure
- Prior art date
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- Withdrawn
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 13
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 15
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 9
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 5
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 abstract description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract 2
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】縮小投影露光する際に、投影露光用レチクル表
面に付着した異物による露光パターンの欠陥を防止する
ことを目的とする。 【構成】投影露光用レチクルにおいて、光を透過する材
料で形成されたガラス基板１内に、光を透過しないクロ
ム遮光パターン２を埋設する。これにより、縮小投影露
光する際、縮小投影の焦点をクロム遮光パターン２に合
せ、投影露光用レチクル表面に付着した異物３による投
影パターンへの影響をおさえ、露光パターンの欠陥を防
止する。
面に付着した異物による露光パターンの欠陥を防止する
ことを目的とする。 【構成】投影露光用レチクルにおいて、光を透過する材
料で形成されたガラス基板１内に、光を透過しないクロ
ム遮光パターン２を埋設する。これにより、縮小投影露
光する際、縮小投影の焦点をクロム遮光パターン２に合
せ、投影露光用レチクル表面に付着した異物３による投
影パターンへの影響をおさえ、露光パターンの欠陥を防
止する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は投影露光用レチクルに関
し、特に縮小投影露光時に使用する投影露光用レチクル
に関する。
し、特に縮小投影露光時に使用する投影露光用レチクル
に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の投影露光用レチクルは、図３に示
す様に光を透過するガラス基板１の表面に光を透過しな
いクロム遮光パターン２が形成された構造となってい
た。
す様に光を透過するガラス基板１の表面に光を透過しな
いクロム遮光パターン２が形成された構造となってい
た。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来の投影露光用レチ
クルは、光を透過しない異物がガラス基板表面に付着す
るとクロム遮光パターンと同一平面上に位置することに
なるので露光されるべき箇所の光が遮られて露光パター
ンに欠陥が発生するという問題点があった。
クルは、光を透過しない異物がガラス基板表面に付着す
るとクロム遮光パターンと同一平面上に位置することに
なるので露光されるべき箇所の光が遮られて露光パター
ンに欠陥が発生するという問題点があった。
【０００４】本発明の目的は、露光パターンに欠陥のな
い投影露光用レチクルを提供することにある。
い投影露光用レチクルを提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の投影露光用レチ
クルは、光透過基板内に遮光パターンを埋設して構成さ
れている。
クルは、光透過基板内に遮光パターンを埋設して構成さ
れている。
【０００６】
【実施例】次に本発明の実施例について図面を参照して
説明する。
説明する。
【０００７】図１（Ａ）〜（Ｆ）は本発明の一実施例の
製造方法を説明する工程順に示した断面図である。
製造方法を説明する工程順に示した断面図である。
【０００８】投影露光用レチクルは、まず、図１（Ａ）
に示す様に、光を透過するガラス基板１上にレジスト膜
４を被覆し、ホトリソグラフィ技術を用いてパターンを
形成する。
に示す様に、光を透過するガラス基板１上にレジスト膜
４を被覆し、ホトリソグラフィ技術を用いてパターンを
形成する。
【０００９】次に、図１（Ｂ）に示す様に、ガラス基板
１をエッチングし遮光パターンの位置決めを行う。
１をエッチングし遮光パターンの位置決めを行う。
【００１０】次に、図１（Ｃ）に示す様に、スパッタに
よりガラス基板１上にクロム膜５を形成する。
よりガラス基板１上にクロム膜５を形成する。
【００１１】次に、図１（Ｄ）に示す様に、クロム膜５
上に酸化膜６を形成する。
上に酸化膜６を形成する。
【００１２】次に、図１（Ｅ）に示す様に、エッチバッ
クを行い、クロム膜５によるクロム遮光パターン２を形
成する。
クを行い、クロム膜５によるクロム遮光パターン２を形
成する。
【００１３】その後、図１（Ｆ）に示すように、再度ガ
ラス基板１上に光を透過する酸化膜６を形成することに
より、光透過基板内に遮光パターンが埋設された投影露
光用レチクルが得られる。
ラス基板１上に光を透過する酸化膜６を形成することに
より、光透過基板内に遮光パターンが埋設された投影露
光用レチクルが得られる。
【００１４】図２は本発明の一実施例のクロム遮光パタ
ーンと付着した異物の位置関係を説明する断面図であ
る。
ーンと付着した異物の位置関係を説明する断面図であ
る。
【００１５】図２に示す様に、この様に構成された投影
露光用レチクルは、クロム遮光パターン２がガラス基板
１と酸化膜６との光透過基板内に埋設されているので直
接クロム遮光パターン２と同一平面上に異物３が付着す
ることはない。そこで、縮小投影露光する際に、縮小投
影レンズの焦点をクロム遮光パターン２に合わせること
で投影露光用レチクル表面に付着した異物３が焦点から
ずれ、投影パターンへ与える影響をおさえ露光パターン
の欠陥を防止することができる。
露光用レチクルは、クロム遮光パターン２がガラス基板
１と酸化膜６との光透過基板内に埋設されているので直
接クロム遮光パターン２と同一平面上に異物３が付着す
ることはない。そこで、縮小投影露光する際に、縮小投
影レンズの焦点をクロム遮光パターン２に合わせること
で投影露光用レチクル表面に付着した異物３が焦点から
ずれ、投影パターンへ与える影響をおさえ露光パターン
の欠陥を防止することができる。
【００１６】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、光透過基
板内に遮光パターンを埋設したことで、投影露光用レチ
クル表面に付着した異物による投影パターンへの影響を
おさえ、露光パターンの欠陥を防止できるという効果を
有する。
板内に遮光パターンを埋設したことで、投影露光用レチ
クル表面に付着した異物による投影パターンへの影響を
おさえ、露光パターンの欠陥を防止できるという効果を
有する。
【図１】本発明の一実施例の製造方法を説明する工程順
に示した断面図である。
に示した断面図である。
【図２】本発明の一実施例のクロム遮光パターンと付着
した異物の位置関係を説明する断面図である。
した異物の位置関係を説明する断面図である。
【図３】従来の投影露光用レチクルの一例の断面図であ
る。
る。
１ ガラス基板 ２ クロム遮光パターン ３ 異物 ４ レジスト膜 ５ クロム膜 ６ 酸化膜
Claims (1)
- 【請求項１】 光透過基板内に遮光パターンを埋設した
ことを特徴とする投影露光用レチクル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4235786A JPH0683036A (ja) | 1992-09-03 | 1992-09-03 | 投影露光用レチクル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4235786A JPH0683036A (ja) | 1992-09-03 | 1992-09-03 | 投影露光用レチクル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0683036A true JPH0683036A (ja) | 1994-03-25 |
Family
ID=16991235
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4235786A Withdrawn JPH0683036A (ja) | 1992-09-03 | 1992-09-03 | 投影露光用レチクル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0683036A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008062634A1 (fr) * | 2006-11-22 | 2008-05-29 | Nano Craft Technologies Co. | Microstructure tridimensionnelle, procédé de fabrication de la microstructure, et appareil permettant de fabriquer la microstructure |
-
1992
- 1992-09-03 JP JP4235786A patent/JPH0683036A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008062634A1 (fr) * | 2006-11-22 | 2008-05-29 | Nano Craft Technologies Co. | Microstructure tridimensionnelle, procédé de fabrication de la microstructure, et appareil permettant de fabriquer la microstructure |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19991130 |