JPH0687445B2 - 極低温容器 - Google Patents
極低温容器Info
- Publication number
- JPH0687445B2 JPH0687445B2 JP61280391A JP28039186A JPH0687445B2 JP H0687445 B2 JPH0687445 B2 JP H0687445B2 JP 61280391 A JP61280391 A JP 61280391A JP 28039186 A JP28039186 A JP 28039186A JP H0687445 B2 JPH0687445 B2 JP H0687445B2
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- JP
- Japan
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- heat
- tank
- cryogen
- container
- storage container
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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- Containers, Films, And Cooling For Superconductive Devices (AREA)
- Magnetic Resonance Imaging Apparatus (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は核磁気共鳴装置用などの超電導マグネツトの
極低温容器に関するものである。
極低温容器に関するものである。
〔従来の技術〕 第２図は、従来の極低温容器を示したもので、図におい
て、１は超電導コイル、２は超電導コイル１を冷却する
液体ヘリウム等の寒剤、３は超電導コイル１および寒剤
２を収納する寒剤収納容器、４はシールド槽、５は内部
を真空状態に保つための真空断熱槽である。６は超電導
コイル１〜シールド槽４を支持するための支持材で、７
は寒剤を供給するための注液管である。
て、１は超電導コイル、２は超電導コイル１を冷却する
液体ヘリウム等の寒剤、３は超電導コイル１および寒剤
２を収納する寒剤収納容器、４はシールド槽、５は内部
を真空状態に保つための真空断熱槽である。６は超電導
コイル１〜シールド槽４を支持するための支持材で、７
は寒剤を供給するための注液管である。
従来の構造においては、寒剤収納容器５の外部からの熱
輻射による熱侵入を低くするため、寒剤収納容器３、シ
ールド槽４、真空断熱槽５の表面はバフ研磨が施されて
いた。
輻射による熱侵入を低くするため、寒剤収納容器３、シ
ールド槽４、真空断熱槽５の表面はバフ研磨が施されて
いた。
次にバフ研磨による熱輻射低減の作用について説明す
る。超電導コイル１は寒剤２により極低温域まで冷却さ
れて使用される。このため、この部分に外部からの熱侵
入があると寒剤２がガス化して寒剤２の消費量が多くな
り、たとえば磁気共鳴装置として運転する場合は、寒剤
２の価格が高いこともあつて運転維持費が高くなること
が考えられる。
る。超電導コイル１は寒剤２により極低温域まで冷却さ
れて使用される。このため、この部分に外部からの熱侵
入があると寒剤２がガス化して寒剤２の消費量が多くな
り、たとえば磁気共鳴装置として運転する場合は、寒剤
２の価格が高いこともあつて運転維持費が高くなること
が考えられる。
ここで外部から真空断熱槽５へ侵入した熱は、真空断熱
槽５の内部にあるシールド槽４へ輻射し、支持材６及び
注液管７により熱侵入する。さらにシールド槽４から寒
剤収納容器３へも輻射し、支持材６及び注液管７により
熱侵入する。これらの侵入熱のうち輻射による伝熱は次
式で表わされる。
槽５の内部にあるシールド槽４へ輻射し、支持材６及び
注液管７により熱侵入する。さらにシールド槽４から寒
剤収納容器３へも輻射し、支持材６及び注液管７により
熱侵入する。これらの侵入熱のうち輻射による伝熱は次
式で表わされる。
但し、W :輻射伝熱量 δ：ポルツマン定数 A1：内側容器の表面積 A2：外側容器の表面積 ε1：内側容器の輻射率 ε2：外側容器の輻射率 T1：内側容器の温度 T2：外側容器の温度 従つて、輻射による侵入熱量は、平板平面の輻射率が小
さい程小さくなる。そこで真空断熱槽５、シールド槽
４、寒剤収納容器３の表面をバフ研磨して輻射率を小さ
くすることにより外部からの熱侵入量を低減している。
さい程小さくなる。そこで真空断熱槽５、シールド槽
４、寒剤収納容器３の表面をバフ研磨して輻射率を小さ
くすることにより外部からの熱侵入量を低減している。
従来の極低温容器は以上のように構成されており、外部
からの熱侵入量を小さくするために熱侵入経路間の表面
の輻射率を小さくしようとバフ研磨を施していたが、こ
のバフ研磨加工を行なうにあたり費用が高くつくという
問題点があつた。
からの熱侵入量を小さくするために熱侵入経路間の表面
の輻射率を小さくしようとバフ研磨を施していたが、こ
のバフ研磨加工を行なうにあたり費用が高くつくという
問題点があつた。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、バフ研磨の代替案としてこれと同等の輻射率
を有する面を持つ極低温容器を安価に得ることを目的と
している。
たもので、バフ研磨の代替案としてこれと同等の輻射率
を有する面を持つ極低温容器を安価に得ることを目的と
している。
この発明に係る極低温容器は、容器を構成する寒剤収納
容器、シールド槽、及び真空断熱槽の表面に、バフ研磨
面と同等程度の輻射率を持つ金属箔を取付けたものであ
る。
容器、シールド槽、及び真空断熱槽の表面に、バフ研磨
面と同等程度の輻射率を持つ金属箔を取付けたものであ
る。
この発明では、極低温容器を構成する寒剤収納容器、シ
ールド槽、及び真空断熱槽の表面にバフ研磨面と同等の
輻射率を持つ金属箔を取付けることにより、外部からの
熱侵入を低減する作用がある。
ールド槽、及び真空断熱槽の表面にバフ研磨面と同等の
輻射率を持つ金属箔を取付けることにより、外部からの
熱侵入を低減する作用がある。
以下この発明の実施例を第１図について説明する。図に
おいて、１〜７は上記従来装置と同一のものである。８
は金属箔の輻射熱反射材であり、寒剤収納容器３、シー
ルド槽４、真空断熱槽５の表面に取付け、外部からの熱
輻射による熱侵入を防ぐものである。
おいて、１〜７は上記従来装置と同一のものである。８
は金属箔の輻射熱反射材であり、寒剤収納容器３、シー
ルド槽４、真空断熱槽５の表面に取付け、外部からの熱
輻射による熱侵入を防ぐものである。
次に本発明における金属箔８による熱輻射の低減作用に
ついて説明する。外部から真空断熱槽５へ侵入した熱
は、真空断熱槽５の内部にあるシールド槽４へ輻射し、
支持材６及び注液管７等により熱侵入する。さらにシー
ルド槽４から寒剤収納容器３へも輻射し、支持材６及び
注液管７等により熱侵入する。これらの侵入熱の内輻射
による伝熱は、従来技術の動作の説明と同様である。
ついて説明する。外部から真空断熱槽５へ侵入した熱
は、真空断熱槽５の内部にあるシールド槽４へ輻射し、
支持材６及び注液管７等により熱侵入する。さらにシー
ルド槽４から寒剤収納容器３へも輻射し、支持材６及び
注液管７等により熱侵入する。これらの侵入熱の内輻射
による伝熱は、従来技術の動作の説明と同様である。
従つて輻射による侵入熱量は、平板平面の輻射率が小さ
い程小さくなる。そこで真空断熱槽５、シールド槽４、
寒剤収納容器３の表面に金属表面をバフ研磨した面と同
等の表面を持つ金属箔８を取付けることにより外部から
の熱侵入量を低減することが可能となる。また、この金
属箔８を真空断熱槽５、シールド槽４、寒剤収納容器３
の表面に取付けることにより、従来のバフ研磨加工に比
較して安い加工費でバフ研磨面と同等の輻射面を構成す
ることができる。
い程小さくなる。そこで真空断熱槽５、シールド槽４、
寒剤収納容器３の表面に金属表面をバフ研磨した面と同
等の表面を持つ金属箔８を取付けることにより外部から
の熱侵入量を低減することが可能となる。また、この金
属箔８を真空断熱槽５、シールド槽４、寒剤収納容器３
の表面に取付けることにより、従来のバフ研磨加工に比
較して安い加工費でバフ研磨面と同等の輻射面を構成す
ることができる。
なお、上記実施例では極低温容器について説明したが、
その他の低温容器あるいは保冷容器、断熱を目的として
いる構造部等の個所の輻射熱低減として採用してもよ
く、また金属箔としては、例えば銅箔もしくはアルミ箔
を使用し得る。
その他の低温容器あるいは保冷容器、断熱を目的として
いる構造部等の個所の輻射熱低減として採用してもよ
く、また金属箔としては、例えば銅箔もしくはアルミ箔
を使用し得る。
以上のようにこの発明によれば、寒剤収納容器、シール
ド槽、極低温容器の表面に金属箔を取付けたため従来の
バフ研磨加工に比較して加工費が安くなり、しかもバフ
研磨加工と同様の熱侵入を低減する効果がある。
ド槽、極低温容器の表面に金属箔を取付けたため従来の
バフ研磨加工に比較して加工費が安くなり、しかもバフ
研磨加工と同様の熱侵入を低減する効果がある。
第１図は本発明の極低温容器の実施例を示すもので、イ
は正面断面図、ロは平面断面図である。第２図は従来の
極低温容器を示すもので、ハは正面断面図、ニは平面断
面図である。 図中、１は超電導コイル、２は寒剤、３は寒剤収納容
器、４はシールド槽、５は真空断熱槽、６は支持材、７
は注液管、８は輻射熱反射材を示す。 尚、図中同一符号は同一または相当部分を示す。
は正面断面図、ロは平面断面図である。第２図は従来の
極低温容器を示すもので、ハは正面断面図、ニは平面断
面図である。 図中、１は超電導コイル、２は寒剤、３は寒剤収納容
器、４はシールド槽、５は真空断熱槽、６は支持材、７
は注液管、８は輻射熱反射材を示す。 尚、図中同一符号は同一または相当部分を示す。
Claims (2)
- 【請求項１】極低温寒剤を収納する寒剤収納容器と、こ
の寒剤収納容器を収納し真空断熱する真空断熱槽と、上
記寒剤収納容器と真空断熱槽との間にあつて輻射熱をし
や閉する熱シールド槽を備えた極低温容器において、上
記各容器の表面に直接バフ研磨面と同程度の輻射率を有
する金属箔を取付けたことを特徴とする極低温容器。 - 【請求項２】金属箔を銅箔もしくはアルミニウム箔で構
成したことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の極
低温容器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61280391A JPH0687445B2 (ja) | 1986-11-24 | 1986-11-24 | 極低温容器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61280391A JPH0687445B2 (ja) | 1986-11-24 | 1986-11-24 | 極低温容器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63132407A JPS63132407A (ja) | 1988-06-04 |
| JPH0687445B2 true JPH0687445B2 (ja) | 1994-11-02 |
Family
ID=17624369
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61280391A Expired - Lifetime JPH0687445B2 (ja) | 1986-11-24 | 1986-11-24 | 極低温容器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0687445B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6498487B2 (ja) * | 2015-03-26 | 2019-04-10 | 株式会社Ｉｆｇ | 高温超伝導線材を用いた医療用多連発磁気刺激コイル |
| JP2023131881A (ja) * | 2022-03-10 | 2023-09-22 | 株式会社東芝 | 超電導磁石装置 |
-
1986
- 1986-11-24 JP JP61280391A patent/JPH0687445B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63132407A (ja) | 1988-06-04 |
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