JPH0688963B2 - ジ(フェニル)スルホンスルホニルフルオライド化合物 - Google Patents
ジ(フェニル)スルホンスルホニルフルオライド化合物Info
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- JPH0688963B2 JPH0688963B2 JP2215984A JP21598490A JPH0688963B2 JP H0688963 B2 JPH0688963 B2 JP H0688963B2 JP 2215984 A JP2215984 A JP 2215984A JP 21598490 A JP21598490 A JP 21598490A JP H0688963 B2 JPH0688963 B2 JP H0688963B2
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、新規なジ(フェニル)スルホンスルホニルフ
ルオライド化合物に関し、更に詳しくは、ジ(フェニ
ル)スルホン化合物に一つ又は二つのフルオロスルホニ
ル基を導入した新規化合物に関する。
ルオライド化合物に関し、更に詳しくは、ジ(フェニ
ル)スルホン化合物に一つ又は二つのフルオロスルホニ
ル基を導入した新規化合物に関する。
従来の技術 芳香族スルホニル化合物は、医薬品や染料などの合成中
間体として、また透明で耐熱性の高いポリスルホン系樹
脂の製造原料として、工業上重要な化合物である。
間体として、また透明で耐熱性の高いポリスルホン系樹
脂の製造原料として、工業上重要な化合物である。
従来よりアルキルベンゼンとハロゲン化スルホン酸とを
反応させて、ジ(アルキルフェニル)スルホンを合成す
る方法はよく知られている。
反応させて、ジ(アルキルフェニル)スルホンを合成す
る方法はよく知られている。
しかしながら、ジ(フェニル)スルホン化合物に一つ又
は二つのフルオロスルホニル基が導入された化合物及び
その合成方法は知られていない。
は二つのフルオロスルホニル基が導入された化合物及び
その合成方法は知られていない。
発明の開示 本発明の目的とするところは、ジ(フェニル)スルホン
化合物にフルオロスルホニル基を一つ又は二つ導入した
新規化合物を提供することにある。
化合物にフルオロスルホニル基を一つ又は二つ導入した
新規化合物を提供することにある。
即ち、本発明は、一般式(1) [式中、R1,R2,R3及びR4はHもしくはC1〜C12のアル
キル基を示す。mは0又は1の整数である。] で表されるジ(フェニル)スルホンスルホニルフルオラ
イド化合物に係る。
キル基を示す。mは0又は1の整数である。] で表されるジ(フェニル)スルホンスルホニルフルオラ
イド化合物に係る。
上記ジ(フェニル)スルホンスルホニルフルオライド化
合物は、m=0のジ(フェニル)スルホンモノスルホニ
ルフルオライド化合物(以下、モノ体という)及びm=
1のジ(フェニル)スルホンジスルホニルフルオライド
化合物(以下、ジ体という)を包含する。
合物は、m=0のジ(フェニル)スルホンモノスルホニ
ルフルオライド化合物(以下、モノ体という)及びm=
1のジ(フェニル)スルホンジスルホニルフルオライド
化合物(以下、ジ体という)を包含する。
本発明の一般式(1)で表わされるジ(フェニル)スル
ホンスルホニルフルオライド化合物は、芳香族スルホニ
ル化合物として、医薬品、染料、エンジニアリングプラ
スティックなどの合成原料又は合成中間体として有用な
化合物である。殊に本発明化合物は、置換基を複数有し
ているので、上記用途に使用した場合、公知の芳香族ス
ルホニル化合物に比して少ない合成工程で最終目的化合
物を得ることができ、また新たな物性を有する新規化合
物の合成が可能となるものと期待されるものである。
ホンスルホニルフルオライド化合物は、芳香族スルホニ
ル化合物として、医薬品、染料、エンジニアリングプラ
スティックなどの合成原料又は合成中間体として有用な
化合物である。殊に本発明化合物は、置換基を複数有し
ているので、上記用途に使用した場合、公知の芳香族ス
ルホニル化合物に比して少ない合成工程で最終目的化合
物を得ることができ、また新たな物性を有する新規化合
物の合成が可能となるものと期待されるものである。
本発明化合物は、例えばフルオロスルホン酸と一般式
(2) [式中、R1,R2,R3及びR4は前記と同じ。] で表されるベンゼン又はアルキルベンゼンとの反応によ
り得られる。
(2) [式中、R1,R2,R3及びR4は前記と同じ。] で表されるベンゼン又はアルキルベンゼンとの反応によ
り得られる。
フルオロスルホン酸は、強酸として知られており、100
%硫酸よりも遥かに強い酸である。本発明者は、以前に
アルキルベンゼンスルホニルハライドもしくはジ(アル
キルフェニル)スルホンを得る目的で、ハロゲン化スル
ホン酸とアルキルベンゼンとを反応させる方法を見出し
ている。本発明者は、更に上記反応について研究を進め
た結果、上記反応を以前よりも長時間行ったときには、
ジ(アルキルフェニル)スルホンに一つ又は二つのハロ
ゲン化スルホニル基が導入された化合物が生成すること
を見出した。また、上記ハロゲン化スルホン酸とアルキ
ルベンゼンとの反応を、加熱下又はルイス酸の存在下、
或いは双方の下に行ったときには、該化合物の生成反応
が促進されることも判明した。更に、上記反応において
アルキルベンゼンに代えジ(アルキルフェニル)スルホ
ンを反応原料としたときには、上記化合物の収率が顕著
に向上することも判明した。
%硫酸よりも遥かに強い酸である。本発明者は、以前に
アルキルベンゼンスルホニルハライドもしくはジ(アル
キルフェニル)スルホンを得る目的で、ハロゲン化スル
ホン酸とアルキルベンゼンとを反応させる方法を見出し
ている。本発明者は、更に上記反応について研究を進め
た結果、上記反応を以前よりも長時間行ったときには、
ジ(アルキルフェニル)スルホンに一つ又は二つのハロ
ゲン化スルホニル基が導入された化合物が生成すること
を見出した。また、上記ハロゲン化スルホン酸とアルキ
ルベンゼンとの反応を、加熱下又はルイス酸の存在下、
或いは双方の下に行ったときには、該化合物の生成反応
が促進されることも判明した。更に、上記反応において
アルキルベンゼンに代えジ(アルキルフェニル)スルホ
ンを反応原料としたときには、上記化合物の収率が顕著
に向上することも判明した。
本発明化合物の合成原料となるハロゲン化スルホン酸
は、フルオロスルホン酸である。
は、フルオロスルホン酸である。
また、上記一般式(2)で表わされるアルキルベンゼン
としては、モノアルキルベンゼン、ジアルキルベンゼ
ン、トリアルキルベンゼン、テトラアルキルベンゼンが
挙げられる。より具体的には、モノアルキルベンゼンと
しては、例えばトルエン、エチルベンゼン、プロピルベ
ンゼン、ブチルベンゼン、ペンチルベンゼン、ドデシル
ベンゼン等のベンゼン核に一つのアルキル置換基を有す
る化合物、ジアルキルベンゼンとしては、例えばo−キ
シレン、m−キシレン、p−キシレン、o−ジエチルベ
ンゼン、m−ジエチルベンゼン、p−ジエチルベンゼ
ン、o−ジプロピルベンゼン、m−ジプロピルベンゼ
ン、p−ジプロピルベンゼン、o−ジブチルベンゼン、
m−ジブチルベンゼン、p−ジブチルベンゼン等のベン
ゼン核に二つのアルキル置換基を有する化合物、トリア
ルキルベンゼンとしては、例えば1,2,3−トリメチルベ
ンゼン、1,2,4−トリメチルベンゼン、1,3,5−トリメチ
ルベンゼン、1,3,5−トリエチルベンゼン、1,3,5−トリ
プロピルベンゼン等のベンゼン核に三つのアルキル置換
基を有する化合物、テトラアルキルベンゼンとしては、
例えば1、2,3,4−テトラメチルベンゼン、1,2,3,5−テ
トラメチルベンゼン、1,2,4,5−テトラメチルベンゼン
等のベンゼン核に四つのアルキル置換基を有する化合物
が挙げられる。
としては、モノアルキルベンゼン、ジアルキルベンゼ
ン、トリアルキルベンゼン、テトラアルキルベンゼンが
挙げられる。より具体的には、モノアルキルベンゼンと
しては、例えばトルエン、エチルベンゼン、プロピルベ
ンゼン、ブチルベンゼン、ペンチルベンゼン、ドデシル
ベンゼン等のベンゼン核に一つのアルキル置換基を有す
る化合物、ジアルキルベンゼンとしては、例えばo−キ
シレン、m−キシレン、p−キシレン、o−ジエチルベ
ンゼン、m−ジエチルベンゼン、p−ジエチルベンゼ
ン、o−ジプロピルベンゼン、m−ジプロピルベンゼ
ン、p−ジプロピルベンゼン、o−ジブチルベンゼン、
m−ジブチルベンゼン、p−ジブチルベンゼン等のベン
ゼン核に二つのアルキル置換基を有する化合物、トリア
ルキルベンゼンとしては、例えば1,2,3−トリメチルベ
ンゼン、1,2,4−トリメチルベンゼン、1,3,5−トリメチ
ルベンゼン、1,3,5−トリエチルベンゼン、1,3,5−トリ
プロピルベンゼン等のベンゼン核に三つのアルキル置換
基を有する化合物、テトラアルキルベンゼンとしては、
例えば1、2,3,4−テトラメチルベンゼン、1,2,3,5−テ
トラメチルベンゼン、1,2,4,5−テトラメチルベンゼン
等のベンゼン核に四つのアルキル置換基を有する化合物
が挙げられる。
本発明化合物の合成反応におけるフルオロスルホン酸と
一般式(2)のベンゼン又はアルキルベンゼンとの使用
割合としては、特に限定されないが、通常後者に対して
前者を1〜20倍モル量程度、好ましくは2〜10倍モル量
程度用いるのがよい。
一般式(2)のベンゼン又はアルキルベンゼンとの使用
割合としては、特に限定されないが、通常後者に対して
前者を1〜20倍モル量程度、好ましくは2〜10倍モル量
程度用いるのがよい。
本発明において、反応は、20〜150℃の範囲の温度で行
われ得るが、生成速度を考慮すると、加熱下に行われる
のが有利であり、反応系を50〜150℃程度、より好まし
くは50〜100℃の温度とするのが望ましい。
われ得るが、生成速度を考慮すると、加熱下に行われる
のが有利であり、反応系を50〜150℃程度、より好まし
くは50〜100℃の温度とするのが望ましい。
また、上記フルオロスルホン酸ベンゼン又はアルキルベ
ンゼンとの反応をルイス酸の存在下に行なうことも有利
である。ルイス酸の存在下に反応を行うとき、反応速度
は、ルイス酸の添加量に依存し、該添加量の増加にとも
ない速くなる。従って、ルイス酸の添加量が多ければジ
(フェニル)スルホンスルホニルフルオライド化合物の
生成量は多くなるが、効果的且つ実用的にはルイス酸を
ハロゲン化スルホン酸に対して0.05〜1.5倍モル量程
度、好ましくは0.1〜0.8倍モル量程度添加するのが望ま
しい。上記ルイス酸としては、例えば五フッ化アンチモ
ン、五塩化アンチモン等のハロゲン化アンチオンが挙げ
られる。
ンゼンとの反応をルイス酸の存在下に行なうことも有利
である。ルイス酸の存在下に反応を行うとき、反応速度
は、ルイス酸の添加量に依存し、該添加量の増加にとも
ない速くなる。従って、ルイス酸の添加量が多ければジ
(フェニル)スルホンスルホニルフルオライド化合物の
生成量は多くなるが、効果的且つ実用的にはルイス酸を
ハロゲン化スルホン酸に対して0.05〜1.5倍モル量程
度、好ましくは0.1〜0.8倍モル量程度添加するのが望ま
しい。上記ルイス酸としては、例えば五フッ化アンチモ
ン、五塩化アンチモン等のハロゲン化アンチオンが挙げ
られる。
勿論、本発明において上記合成反応をルイス酸の存在下
に加熱して進行させてもよく、そのときはより効果的に
目的物を得ることができる。
に加熱して進行させてもよく、そのときはより効果的に
目的物を得ることができる。
本発明の方法において、目的のモノ体及びジ体は、両者
混合して生成する。両者の生成比は、反応時間に依存
し、反応を長時間行えば行うほどジ体の割合が増加す
る。よって本発明の方法における反応時間としては、こ
のことと製造条件に応じて適切な時間とすればよいが、
通常2〜24時間程度とするのがよい。
混合して生成する。両者の生成比は、反応時間に依存
し、反応を長時間行えば行うほどジ体の割合が増加す
る。よって本発明の方法における反応時間としては、こ
のことと製造条件に応じて適切な時間とすればよいが、
通常2〜24時間程度とするのがよい。
また本発明では、上記合成反応において、ベンゼン及び
アルキルベンゼンに代えて一般式(3) [式中、R1,R2,R3及びR4は前記と同じ。] で表されるジ(フェニル)スルホン化合物を原料として
使用することもできる。
アルキルベンゼンに代えて一般式(3) [式中、R1,R2,R3及びR4は前記と同じ。] で表されるジ(フェニル)スルホン化合物を原料として
使用することもできる。
ベンゼン及びアルキルベンゼンに代えて上記一般式
(3)のジ(フェニル)スルホン化合物を使用するとき
は、ベンゼン又はアルキルベンゼンを用いるときよりも
高い収率で一般式(1)の化合物を得ることができる。
上記ジ(フェニル)スルホン化合物の使用割合として
は、フルオロスルホン酸に対して2〜50倍モル量程度、
好ましくは5〜20倍モル量程度とするのがよい。
(3)のジ(フェニル)スルホン化合物を使用するとき
は、ベンゼン又はアルキルベンゼンを用いるときよりも
高い収率で一般式(1)の化合物を得ることができる。
上記ジ(フェニル)スルホン化合物の使用割合として
は、フルオロスルホン酸に対して2〜50倍モル量程度、
好ましくは5〜20倍モル量程度とするのがよい。
本発明では、反応途中又は反応終了後、例えば反応混合
物を水中に注ぎ、ベンゼンで抽出してモノ体及びジ体を
回収することができる。また、得られたモノ体及びジ体
は、再結晶又は液体クロマトグラフィーによって単離精
製され得る。
物を水中に注ぎ、ベンゼンで抽出してモノ体及びジ体を
回収することができる。また、得られたモノ体及びジ体
は、再結晶又は液体クロマトグラフィーによって単離精
製され得る。
実施例 以下実施例を示し、本発明の特徴とするところをより一
層明確なものとする。
層明確なものとする。
尚、実施例で得られた生成物の構造は、NMR、IR、質量
分析により確認された。
分析により確認された。
実施例1 フルオロスルホン酸17.4g(174mmol)と五フッ化アンチ
モン5.98g(27.6mmol)の混合溶液に、100℃でベンゼン
1.56g(20mmol)を滴下し、11時間撹拌した後、反応液
を水中に注ぎ、ベンゼンで抽出して、ジ(フェニル)ス
ルホン−3−スルホニルフルオライド0.90g(収率15
%)及びジ(フェニル)スルホン−3,3′−ジスルホニ
ルフルオライド0.99g(収率13%)を得た。
モン5.98g(27.6mmol)の混合溶液に、100℃でベンゼン
1.56g(20mmol)を滴下し、11時間撹拌した後、反応液
を水中に注ぎ、ベンゼンで抽出して、ジ(フェニル)ス
ルホン−3−スルホニルフルオライド0.90g(収率15
%)及びジ(フェニル)スルホン−3,3′−ジスルホニ
ルフルオライド0.99g(収率13%)を得た。
物性値 ジ(フェニル)スルホン−3−スルホニルフルオライド IR(cm-1):1405,1320,1295,1210,1150,8051 H−NMR δ(CDCl3): 7.4〜8.8(m,9H,aromatic H) MS:M+=300 融点:86〜87℃ ジ(フェニル)スルホン−3,3′−ジスルホニルフルオ
ライド IR(cm-1):1600,1425,1360,1235,1175,8351 H−NMR δ(CDCl3): 7.7〜8.8(m,8H,aromatic H) MS:M+=382 融点:172〜173℃ 実施例2 フルオロスルホン酸8.7g(87mmol)と五フッ化アンチモ
ン14.95g(69.0mmol)の混合溶液に、50℃でジフェニル
スルホン2.18g(10mmol)を加え、48時間撹拌した後、
反応液を水中に注ぎ、ベンゼンで抽出して、ジ(フェニ
ル)スルホン−3−スルホニルフルオライド1.77g(収
率59%)及びジ(フェニル)スルホン−3,3′−ジスル
ホニルフルオライド0.46g(収率12%)を得た。
ライド IR(cm-1):1600,1425,1360,1235,1175,8351 H−NMR δ(CDCl3): 7.7〜8.8(m,8H,aromatic H) MS:M+=382 融点:172〜173℃ 実施例2 フルオロスルホン酸8.7g(87mmol)と五フッ化アンチモ
ン14.95g(69.0mmol)の混合溶液に、50℃でジフェニル
スルホン2.18g(10mmol)を加え、48時間撹拌した後、
反応液を水中に注ぎ、ベンゼンで抽出して、ジ(フェニ
ル)スルホン−3−スルホニルフルオライド1.77g(収
率59%)及びジ(フェニル)スルホン−3,3′−ジスル
ホニルフルオライド0.46g(収率12%)を得た。
物性値 ジ(フェニル)スルホン−3−スルホニルフルオライド IR(cm-1):1405,1320,1295,1210,1150,8051 H−NMR δ(CDCl3): 7.4〜8.8(m,9H,aromatic H) MS:M+=300 融点:86〜87℃ ジ(フェニル)スルホン−3,3′−ジスルホニルフルオ
ライド IR(cm-1):1600,1425,1360,1235,1175,8351 H−NMR δ(CDCl3): 7.7〜8.8(m,8H,aromatic H) MS:M+=382 融点:172〜173℃ 実施例3 フルオロスルホン酸13.1g(131mmol)と五フッ化アンチ
モン6.73g(31.0mmol)の混合溶液に、25℃でジ(4−
メチルフェニル)スルホン3.59g(14.6mmol)を加え、1
9時間撹拌した後、反応液を水中に注ぎ、ベンゼンで抽
出して、ジ(4−メチルフェニル)スルホン−3−スル
ホニルフルオライド1.01g(収率21%)及びジ(4−メ
チルフェニル)スルホン−3−,3′−ジスルホニルフル
オライド1.86g(収率31%)を得た。
ライド IR(cm-1):1600,1425,1360,1235,1175,8351 H−NMR δ(CDCl3): 7.7〜8.8(m,8H,aromatic H) MS:M+=382 融点:172〜173℃ 実施例3 フルオロスルホン酸13.1g(131mmol)と五フッ化アンチ
モン6.73g(31.0mmol)の混合溶液に、25℃でジ(4−
メチルフェニル)スルホン3.59g(14.6mmol)を加え、1
9時間撹拌した後、反応液を水中に注ぎ、ベンゼンで抽
出して、ジ(4−メチルフェニル)スルホン−3−スル
ホニルフルオライド1.01g(収率21%)及びジ(4−メ
チルフェニル)スルホン−3−,3′−ジスルホニルフル
オライド1.86g(収率31%)を得た。
物性値 ジ(4−メチルフェニル)スルホン−3−スルホニルフ
ルオライド IR(cm-1):1590,1405,1320,1205,1150,7551 H−NMR δ(CDCl3): 2.41(s,3H,−CH3) 2.73(s,3H,−CH3) 7.2〜8.7(m,7H,aromatic H) MS:M+=328 融点:117〜118℃ ジ(4−メチルフェニル)スルホン−3,3′−ジスルホ
ニルフルオライド IR(cm-1):1605,1425,1350,1225,1175,7951 H−NMR δ(CDCl3): 2.79(s,6H,−CH3) 7.6〜8.8(m,6H,aromatic H) MS:M+=410 融点:204〜205℃ 実施例4 フルオロスルホン酸10.04g(100.4mmol)と五フッ化ア
ンチモン5.38g(24.83mmol)の混合溶液に、25℃でビス
(3,4−ジメチルフェニル)スルホン3.30g(12mmol)を
加え、7時間撹拌した後、反応液を水中に注ぎ、ベンゼ
ンで抽出して、ビス(3,4−ジメチルフェニル)スルホ
ン−5−スルホニルフルオライド0.90g(収率21%)及
びビス(3,4−ジメチルフェニル)スルホン−5,5′−ジ
スルホニルフルオライド1.05g(収率20%)を得た。
ルオライド IR(cm-1):1590,1405,1320,1205,1150,7551 H−NMR δ(CDCl3): 2.41(s,3H,−CH3) 2.73(s,3H,−CH3) 7.2〜8.7(m,7H,aromatic H) MS:M+=328 融点:117〜118℃ ジ(4−メチルフェニル)スルホン−3,3′−ジスルホ
ニルフルオライド IR(cm-1):1605,1425,1350,1225,1175,7951 H−NMR δ(CDCl3): 2.79(s,6H,−CH3) 7.6〜8.8(m,6H,aromatic H) MS:M+=410 融点:204〜205℃ 実施例4 フルオロスルホン酸10.04g(100.4mmol)と五フッ化ア
ンチモン5.38g(24.83mmol)の混合溶液に、25℃でビス
(3,4−ジメチルフェニル)スルホン3.30g(12mmol)を
加え、7時間撹拌した後、反応液を水中に注ぎ、ベンゼ
ンで抽出して、ビス(3,4−ジメチルフェニル)スルホ
ン−5−スルホニルフルオライド0.90g(収率21%)及
びビス(3,4−ジメチルフェニル)スルホン−5,5′−ジ
スルホニルフルオライド1.05g(収率20%)を得た。
物性値 ビス(3,4−ジメチルフェニル)スルホン−5−スルホ
ニルフルオライド IR(cm-1):1400,1310,1210,1170,1110,830,7601 H−NMR δ(CDCl3): 2.35(s,6H,−CH3) 2.47(s,3H,−CH3) 2.61(s,3H,−CH3) 7.2〜8.5(m,5H,aromatic H) MS:M+=356 融点:141〜142℃ ビス(3,4−ジメチルフェニル)スルホン−5,5′−ジス
ルホニルフルオライド IR(cm-1):1405,1320,1210,1125,840,7451 H−NMR δ(CDCl3): 2.50(s,6H,−CH3) 2.67(s,6H,−CH3) 8.15(s,2H,aromatic H) 8.48(s,2H,aromatic H) MS:M+=438 融点:250〜251℃ 実施例5 フルオロスルホン酸10.04g(100.4mmol)と五フッ化ア
ンチモン5.38g(24.83mmol)の混合溶液に、25℃でビス
(2,4−ジメチルフェニル)スルホン3.30g(12mmol)を
加え、2時間撹拌した後、反応液を水中に注ぎ、ベンゼ
ンで抽出して、ビス(2,4−ジメチルフェニル)スルホ
ン−5−スルホニルフルオライド0.68g(収率16%)及
びビス(2,4−ジメチルフェニル)スルホン−5,5′−ジ
スルホニルフルオライド1.26g(収率24%)を得た。
ニルフルオライド IR(cm-1):1400,1310,1210,1170,1110,830,7601 H−NMR δ(CDCl3): 2.35(s,6H,−CH3) 2.47(s,3H,−CH3) 2.61(s,3H,−CH3) 7.2〜8.5(m,5H,aromatic H) MS:M+=356 融点:141〜142℃ ビス(3,4−ジメチルフェニル)スルホン−5,5′−ジス
ルホニルフルオライド IR(cm-1):1405,1320,1210,1125,840,7451 H−NMR δ(CDCl3): 2.50(s,6H,−CH3) 2.67(s,6H,−CH3) 8.15(s,2H,aromatic H) 8.48(s,2H,aromatic H) MS:M+=438 融点:250〜251℃ 実施例5 フルオロスルホン酸10.04g(100.4mmol)と五フッ化ア
ンチモン5.38g(24.83mmol)の混合溶液に、25℃でビス
(2,4−ジメチルフェニル)スルホン3.30g(12mmol)を
加え、2時間撹拌した後、反応液を水中に注ぎ、ベンゼ
ンで抽出して、ビス(2,4−ジメチルフェニル)スルホ
ン−5−スルホニルフルオライド0.68g(収率16%)及
びビス(2,4−ジメチルフェニル)スルホン−5,5′−ジ
スルホニルフルオライド1.26g(収率24%)を得た。
物性値 ビス(2,4−ジメチルフェニル)スルホン−5−スルホ
ニルフルオライド IR(cm-1):1590,1400,1300,1200,1130,7651 H−NMR δ(CDCl3): 2.32(S,3H,−CH3) 2.39(S,3H,−CH3) 2.43(S,3H,−CH3) 2.70(S,3H,−CH3) 7.1〜8.9(m,5H,aromatic H) MS:M+=356 融点:132〜134℃ ビス(2,4−ジメチルフェニル)スルホン−5,5′−ジス
ルホニルフルオライド IR(cm-1):1590,1400,1310,1200,1140,7751 H−NMR δ(CDCl3): 2.48(s,6H,−CH3) 2.75(s,6H,−CH3) 7.39(s,2H,aromatic H) 8.66(s,2H,aromatic H) MS:M+=438 融点:256〜258℃ 実施例6 フルオロスルホン酸10.04g(100.4mmol)と五フッ化ア
ンチモン5.38g(24.83mmol)の混合溶液に、25℃でビス
(2,5−ジメチルフェニル)スルホン3.03g(11mmol)を
加え、24時間撹拌した後、反応液を水中に注ぎ、ベンゼ
ンで抽出して、ビス(2,5−ジメチルフェニル)スルホ
ン−3−スルホニルフルオライド0.79g(収率20%)及
びビス(2,5−ジメチルフェニル)スルホン−3,3′−ジ
スルホニルフルオライド1.78g(収率37%)を得た。
ニルフルオライド IR(cm-1):1590,1400,1300,1200,1130,7651 H−NMR δ(CDCl3): 2.32(S,3H,−CH3) 2.39(S,3H,−CH3) 2.43(S,3H,−CH3) 2.70(S,3H,−CH3) 7.1〜8.9(m,5H,aromatic H) MS:M+=356 融点:132〜134℃ ビス(2,4−ジメチルフェニル)スルホン−5,5′−ジス
ルホニルフルオライド IR(cm-1):1590,1400,1310,1200,1140,7751 H−NMR δ(CDCl3): 2.48(s,6H,−CH3) 2.75(s,6H,−CH3) 7.39(s,2H,aromatic H) 8.66(s,2H,aromatic H) MS:M+=438 融点:256〜258℃ 実施例6 フルオロスルホン酸10.04g(100.4mmol)と五フッ化ア
ンチモン5.38g(24.83mmol)の混合溶液に、25℃でビス
(2,5−ジメチルフェニル)スルホン3.03g(11mmol)を
加え、24時間撹拌した後、反応液を水中に注ぎ、ベンゼ
ンで抽出して、ビス(2,5−ジメチルフェニル)スルホ
ン−3−スルホニルフルオライド0.79g(収率20%)及
びビス(2,5−ジメチルフェニル)スルホン−3,3′−ジ
スルホニルフルオライド1.78g(収率37%)を得た。
物性値 ビス(2,5−ジメチルフェニル)スルホン−3−スルホ
ニルフルオライド IR(cm-1):1455,1410,1310,1195,1145,7851 H−NMR δ(CDCl3): 2.20(s,3H,−CH3) 2.37(s,3H,−CH3) 2.49(s,3H,−CH3) 2.57(s,3H,−CH3) 7.1〜8.6(m,5H,aromatic H) MS:M++1=357 融点:171〜173℃ ビス(2,5−ジメチルフェニル)スルホン−3,3′−ジス
ルホニルフルオライド IR(cm-1):1455,1410,1310,1195,1140,7801 H−NMR δ(CDCl3): 2.59(s,12H,−CH3) 8.21(s,2H,aromatic H) 8.47(s,2H,aromatic H) MS:M++1=439 融点:253〜255℃ 実施例7 フルオロスルホン酸13.1g(131mmol)に、100℃でジ
(4−メチルフェニル)スルホン3.59g(14.6mmol)を
加え、10時間撹拌した後、反応液を水中に注ぎ、ベンゼ
ンで抽出して、ジ(4−メチルフェニル)スルホン−3
−スルホニルフルオライド1.51g(収率31%)及びジ
(4−メチルフェニル)スルホン−3,3′−ジスルホニ
ルフルオライド2.79g(収率46%)を得た。
ニルフルオライド IR(cm-1):1455,1410,1310,1195,1145,7851 H−NMR δ(CDCl3): 2.20(s,3H,−CH3) 2.37(s,3H,−CH3) 2.49(s,3H,−CH3) 2.57(s,3H,−CH3) 7.1〜8.6(m,5H,aromatic H) MS:M++1=357 融点:171〜173℃ ビス(2,5−ジメチルフェニル)スルホン−3,3′−ジス
ルホニルフルオライド IR(cm-1):1455,1410,1310,1195,1140,7801 H−NMR δ(CDCl3): 2.59(s,12H,−CH3) 8.21(s,2H,aromatic H) 8.47(s,2H,aromatic H) MS:M++1=439 融点:253〜255℃ 実施例7 フルオロスルホン酸13.1g(131mmol)に、100℃でジ
(4−メチルフェニル)スルホン3.59g(14.6mmol)を
加え、10時間撹拌した後、反応液を水中に注ぎ、ベンゼ
ンで抽出して、ジ(4−メチルフェニル)スルホン−3
−スルホニルフルオライド1.51g(収率31%)及びジ
(4−メチルフェニル)スルホン−3,3′−ジスルホニ
ルフルオライド2.79g(収率46%)を得た。
物性値 ジ(4−メチルフェニル)スルホン−3−スルホニルフ
ルオライド IR(cm-1):1590,1405,1320,1205,1150,7551 H−NMR δ(CDCl3): 2.41(s,3H,−CH3) 2.73(s,3H,−CH3) 7.2〜8.7(m,7H,aromatic H) MS:M+=328 融点:117〜118℃ ジ(4−メチルフェニル)スルホン−3,3′−ジスルホ
ニルフルオライド IR(cm-1):1605,1425,1350,1225,1175,7951 H−NMR δ(CDCl3): 2.79(s,6H,−CH3) 7.6〜8.8(m,6H,aromatic H) MS:M+=410 融点:204〜205℃
ルオライド IR(cm-1):1590,1405,1320,1205,1150,7551 H−NMR δ(CDCl3): 2.41(s,3H,−CH3) 2.73(s,3H,−CH3) 7.2〜8.7(m,7H,aromatic H) MS:M+=328 融点:117〜118℃ ジ(4−メチルフェニル)スルホン−3,3′−ジスルホ
ニルフルオライド IR(cm-1):1605,1425,1350,1225,1175,7951 H−NMR δ(CDCl3): 2.79(s,6H,−CH3) 7.6〜8.8(m,6H,aromatic H) MS:M+=410 融点:204〜205℃
Claims (3)
- 【請求項1】一般式 [式中、R1,R2,R3及びR4はHもしくはC1〜C12のアル
キル基を示す。mは0又は1の整数である。] で表されるジ(フェニル)スルホンスルホニルフルオラ
イド化合物。 - 【請求項2】請求項に記載の一般式において、m=0
で表わされるジ(フェニル)スルホンモノスルホニルフ
ルオライド化合物。 - 【請求項3】請求項に記載の一般式において、m=1
で表わされるジ(フェニル)スルホンジスルホニルフル
オライド化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2215984A JPH0688963B2 (ja) | 1990-08-15 | 1990-08-15 | ジ(フェニル)スルホンスルホニルフルオライド化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2215984A JPH0688963B2 (ja) | 1990-08-15 | 1990-08-15 | ジ(フェニル)スルホンスルホニルフルオライド化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0499760A JPH0499760A (ja) | 1992-03-31 |
| JPH0688963B2 true JPH0688963B2 (ja) | 1994-11-09 |
Family
ID=16681486
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2215984A Expired - Lifetime JPH0688963B2 (ja) | 1990-08-15 | 1990-08-15 | ジ(フェニル)スルホンスルホニルフルオライド化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0688963B2 (ja) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2922760A1 (de) * | 1979-06-05 | 1980-12-11 | Bayer Ag | Neue derivate von 3,4,5-trihydroxypiperidin, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung als arzneimittel sowie in der tierernaehrung |
| JPH0672132B2 (ja) * | 1987-04-07 | 1994-09-14 | 株式会社三光開発科学研究所 | ジアリ−ルスルホンの製造方法 |
| JPH01250342A (ja) * | 1988-03-31 | 1989-10-05 | Agency Of Ind Science & Technol | スルホン化合物の合成法 |
-
1990
- 1990-08-15 JP JP2215984A patent/JPH0688963B2/ja not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 「ChemicalAbstracts」Vol.84.121373s(1976) |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0499760A (ja) | 1992-03-31 |
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