JPH0689431A

JPH0689431A - 磁気記録媒体の製造方法

Info

Publication number: JPH0689431A
Application number: JP4240537A
Authority: JP
Inventors: Ryuji Sugita; 龍二杉田; Kiyokazu Toma; 清和東間; Tatsuro Ishida; 達朗石田
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1992-09-09
Filing date: 1992-09-09
Publication date: 1994-03-29

Abstract

(57)【要約】【目的】本発明は薄膜型磁気記録媒体の製造方法に関
するもので、低い生産コストで優れた記録再生特性を有
する磁気テープを提供することを目的とする。【構成】円筒状キャン４に沿って走行しつつある基板
１上に真空蒸着法によって磁性層を形成する際に、円筒
状キャン４の中心を通る鉛直線に対して、左右に少なく
とも１台ずつ蒸発源５ａ、５ｂを配置し、基板１が円筒
状キャン４に接触を開始する部分を蒸着開始部よりも低
い位置にし、基板１が円筒状キャン４から離れる部分を
蒸着終了部よりも低い位置にする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は高密度記録特性の優れた
磁気記録媒体の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録再生装置は年々高密度化してお
り、短波長記録再生特性の優れた磁気記録媒体が要望さ
れている。現在では基板上に磁性粉を塗布した塗布型磁
気記録媒体が主に使用されており、上記要望を満足すべ
く特性改善がなされているが、ほぼ限界に近づいてい
る。

【０００３】この限界を越えるものとして薄膜型磁気記
録媒体が開発されている。薄膜型磁気記録媒体は真空蒸
着法、スパッタリング法、メッキ法等により作製され、
優れた短波長記録再生特性を有する。薄膜型磁気記録媒
体における磁性層としては、Co、Co-Ni、Co-Ni-P、Co-
O、Co-Ni-O、Co-Cr、Co-Ni-Cr等が検討されている。

【０００４】磁気テープへの応用の点からは、これらの
中で、斜め蒸着法により形成したCo-O、Co-Ni-O膜が最
も適していると考えられており、Co-Ni-Oを磁性層とし
た蒸着テープが既にＨｉ８方式ＶＴＲ用テープとして実
用化されている。Ｈｉ８方式ＶＴＲ用蒸着テープの製造
方法の一例を、（図２）を用いて以下に説明する。（図
２）は上記の蒸着テープを作製するための、従来の真空
蒸着装置内部の構成の一例である。高分子材料よりなる
基板１は円筒状キャン４に沿って矢印Ａの向きに走行す
る。蒸発源５から蒸発した蒸発原子７が、基板１に付着
することにより磁性層が形成される。蒸発源５としては
電子ビーム蒸発源が適しており、この中に蒸発物質６と
しての例えばCo、Co-Ni等の合金を充填する。なお、蒸
発源として電子ビーム蒸発源を用いるのは、Co等の高融
点金属を高い蒸発速度で蒸発させるためである。８は蒸
発原子の基板への入射角を制限し、不要な蒸発原子が基
板に付着するのを防ぐために設けてある遮蔽板である。
蒸発原子の基板への入射角は、膜法線に対し大きい方が
高い再生出力が得られる。９は蒸着時に真空槽内に酸素
を導入するためのガス導入口であり、その位置及び酸素
導入量を最適にすることにより、記録再生特性及び実用
特性の優れた蒸着テープが得られる。２、３はそれぞれ
基板１の供給ロールと巻き取りロールである。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】今後、磁気テープには
短波長領域における高出力化の要求がますます強くな
る。この要求に応えるための一つの手段として蒸発原子
の基板への入射角を大きくすることが考えられる。

【０００６】しかし従来、単に蒸発原子の基板への入射
角を大きくしただけでは、高出力の媒体を安定に得るこ
とが困難であった。そこでこれを解決するために、本発
明者らは種々の検討を重ね、CoO、CoNiO等の下地層を設
けることが極めて有効であることを明らかにした。とこ
ろが、下地層を設けてその上に磁性層を形成するため
に、（図２）に示す真空蒸着装置を使用した従来の方法
を用いたのでは、基板１を走行させながら蒸着を行なう
という工程を、２回繰り返さなければならない。あるい
は、従来方法によって１回の基板走行で下地層と磁性層
を形成するためには、２個の円筒状キャンを備えた真空
蒸着装置を用いなければならない。これらの方法で磁性
層を形成すると記録再生特性は改善されるが、いずれの
方法を用いても、生産コストの上昇を伴ってしまう。

【０００７】それゆえに、生産コストの上昇をできる限
り低く抑えて、下地層と磁性層を形成する製造方法の開
発が望まれていた。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は上記要望を実現
したものであって、円筒状キャンに沿って走行しつつあ
る基板上に真空蒸着法によって磁性層を形成する際に、
円筒状キャンの中心を通る鉛直線に対して、左右に少な
くとも１台ずつ蒸発源を配置し、基板が円筒状キャンに
接触を開始する部分が蒸着開始部よりも低い位置にあ
り、基板が円筒状キャンから離れる部分が蒸着終了部よ
りも低い位置にあることを特徴とする。

【０００９】

【作用】本発明の方法によれば、下地層及び磁性層を蒸
着する際の円筒状キャンは１個でよく、しかも１回の基
板走行で成膜できるので、生産コストの大幅な上昇を伴
わずに、記録再生特性の改善された磁気テープを提供で
きる。

【００１０】

【実施例】本発明の実施例を（図１）に基づいて説明す
る。

【００１１】（図１）は本発明の方法を実施するための
真空蒸着装置内部の一例を示す。高分子材料よりなる基
板１は円筒状キャン４に沿って矢印Ａの向きに走行す
る。蒸発源としては、５ａ、５ｂで示される２台の蒸発
源が配置されている。これらの蒸発源と円筒状キャン４
との間には、不用な蒸発原子が基板に付着するのを防止
するために、８ａ、８ｂ、８ｃ、８ｄで示される遮蔽板
が配置されている。遮蔽板８ａと８ｂの間、及び遮蔽板
８ｃと８ｄの間は、それぞれの蒸発源から所望の蒸発原
子が通過し、基板に付着するように開口している。すな
わち、蒸発源５ａから蒸発した蒸発原子７ａは、遮蔽板
８ａと８ｂの間の開口部１０ａを通過して基板１に付着
する。蒸発源５ｂから蒸発した蒸発原子７ｂは、遮蔽板
８ｃと８ｄの間の開口部１０ｂを通過して基板に付着す
る。６ａ、６ｂはそれぞれ蒸発源５ａ及び５ｂに充填さ
れた蒸発物質である。９ａ、９ｂは蒸着時に酸素等のガ
スを真空槽内に導入するためのガス導入口である。１６
ａ、１６ｂ、１６ｃ、１６ｄは基板１の走行を規制する
フリーローラである。

【００１２】蒸発源５ａ及び５ｂは次のように配置す
る。円筒状キャン４の中心を通る鉛直線１１に対して左
側に蒸発源５ａが配置されており、右側に蒸発源５ｂが
配置されている。しかも、基板１が円筒状キャン４に接
触を開始する部分１２が、蒸着開始部１３よりも低い位
置にあり、基板１が円筒状キャン４から離れる部分１４
が、蒸着終了部１５よりも低い位置にある。

【００１３】以上のような構成で基板を走行させ、蒸発
源５ａから下地層用の蒸発原子を蒸発させ、蒸発源５ｂ
から磁性層用の蒸発原子を蒸発させつつ成膜することに
より、１回の基板走行で下地層及び磁性層を形成するこ
とが出来る。

【００１４】次に、本発明の第２の実施例を（図３）に
基づいて説明する。（図３）の真空蒸着装置は基本的に
は（図１）と同じであるが、磁性層用の蒸発源が２台配
置されている点が、（図１）と異なっている。すなわち
（図３）においては、下地層は（図１）と同様に、蒸発
源５ａによって形成するが、磁性層は蒸発源５ｂ及び５
ｃによって形成する。６ｂ、６ｃは、それぞれ蒸発源５
ｂ及び５ｃに充填されている蒸発物質である。それぞれ
の蒸発源から蒸発した蒸発原子７ｂ、７ｃは、それぞれ
遮蔽版８ｃ、８ｅ、８ｆの開口部１０ｂ及び１０ｃを通
過して基板１に付着する。９ｂ、９ｃはガス導入口であ
る。（図３）の真空蒸着装置においても、基板１が円筒
状キャン４から離れる部分１４が、蒸着終了部１５より
も低い位置にある。以上のような方法で、下地層及び２
層構造の磁性層を１回の基板走行で形成できる。しか
も、磁性層が２層構造になっているので、（図１）の真
空蒸着装置で作製した媒体に比べて、ノイズの低下を図
ることができる。

【００１５】以下に、本発明の具体的な実施例を説明
し、本発明の方法で作製した蒸着テープと、従来の方法
で作製した蒸着テープの記録再生特性の比較を行なう。

【００１６】（図１）のような基本構成を有する真空蒸
着装置を用いて、蒸着テープを作製した。円筒状キャン
４の直径は１．５mとし、テープ厚７μmのポリエチレン
テレフタレートフィルムを基板１として使用した。蒸発
物質６ａ、６ｂとしてはCoを用いた。ガス導入口９ａか
らは酸素を導入し、基板１上に下地層としての膜厚０．
０２μmの非磁性CoO膜を形成した。ガス導入口９ｂから
も酸素を導入し、前記CoO膜上に、磁性層としての膜厚
０．１５μmのCo-O部分酸化膜を形成した。

【００１７】以上のようにして作製した媒体をテープ状
にスリットし、センダストから成るギャップ長０．１５
μmのリング形磁気ヘッドを用いて記録再生特性の評価
を行なった。その結果、従来の方法で作製された、市販
のＨｉ８方式ＶＴＲ用蒸着テープに対して、記録波長
３．８μmで２ｄＢ、０．５４μmで５ｄＢ、０．３８μ
mで７ｄＢ高い再生出力が得られた。

【００１８】上記の如く、本発明の方法で作製した磁気
テープは、従来の蒸着テープに対して、再生出力が高
い。さらに、１回の基板走行で作製できるので生産性が
高い。また、蒸着のための円筒状キャンは１個でよいの
で、真空蒸着装置の走行系が複雑にならない。

【００１９】以上では具体的な実施例として、下地層用
蒸発物質６ａとしてCoを用いる場合について説明した
が、これに限ったものではなく、他の金属や合金の場合
でも、磁性層の特性を改善できるものであれば、本発明
の製造方法の採用が有効である。また磁性層用蒸発物質
６ｂとしてCo-Ni、Co-Fe、Co-Ni-Fe、Co-Cr、Co-Ni-Cr
合金等を用いてもよい。なお、磁性層用蒸発物質とし
て、Co-Cr、Co-Ni-Cr合金を用いる場合には、真空槽内
に酸素を導入しない方が高い再生出力が得られる。ま
た、基板については、ポリエチレンテレフタレートフィ
ルムについて説明したが、ポリイミドフィルム、ポリア
ミドフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、ポリエチ
レンナフタレートフィルム等の高分子フィルムでも、全
く同様であることは言うまでもない。

【００２０】

【発明の効果】本発明によれば、優れた記録再生特性を
有する磁気テープを低い生産コストで提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例における真空蒸着装置内部の
概略を示す図

【図２】従来の一実施例における真空蒸着装置内部の概
略を示す図

【図３】本発明の一実施例における真空蒸着装置内部の
概略を示す図

【符号の説明】

１基板２供給ロール３巻き取りロール４円筒状キャン５、５ａ、５ｂ、５ｃ蒸発源６、６ａ、６ｂ、６ｃ蒸発物質７、７ａ、７ｂ、７ｃ蒸発原子８、８ａ、８ｂ、８ｃ、８ｄ、８ｅ、８ｆ遮蔽板９、９ａ、９ｂ、９ｃガス導入口１０ａ、１０ｂ、１０ｃ開口部１１円筒状キャンの中心を通る鉛直線１２基板が円筒状キャンに接触を開始する部分１３蒸着開始部１４基板が円筒状キャンから離れる部分１５蒸着終了部１６ａ、１６ｂ、１６ｃ、１６ｄフリーローラＡ基板走行方向

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】円筒状キャンに沿って走行しつつある基板
上に真空蒸着法によって磁性層を形成する際に、円筒状
キャンの中心を通る鉛直線に対して、左右に少なくとも
１台ずつ蒸発源を配置し、基板が円筒状キャンに接触を
開始する部分が蒸着開始部よりも低い位置にあり、基板
が円筒状キャンから離れる部分が蒸着終了部よりも低い
位置にあることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。