JPS6156563B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6156563B2 JPS6156563B2 JP55163885A JP16388580A JPS6156563B2 JP S6156563 B2 JPS6156563 B2 JP S6156563B2 JP 55163885 A JP55163885 A JP 55163885A JP 16388580 A JP16388580 A JP 16388580A JP S6156563 B2 JPS6156563 B2 JP S6156563B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- oxygen
- magnetic
- magnetic layer
- coercive force
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/851—Coating a support with a magnetic layer by sputtering
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、磁気記録媒体の製造方法に係り、薄
膜磁性層で高保磁力の磁気記録媒体の製造方法を
提供するものである。
膜磁性層で高保磁力の磁気記録媒体の製造方法を
提供するものである。
すなわち、本発明は幅100mm、長さ100m以上の
高分子基板を10-3Torr以下の真空槽内で、連続
的に走行させた状態で、磁性材料である鉄、コバ
ルト、ニツケル等の単一あるいは複数の磁性材を
連続的に蒸発させ、基板表面上に薄膜磁性層を得
るものである。ここで磁性層の積層時に、基板お
よび磁性材蒸発近傍に酸化性ガスである酸素を本
発明に示す方法で供給することにより高保磁力を
もつ磁気記録媒体の製造方法を実現したものであ
る。
高分子基板を10-3Torr以下の真空槽内で、連続
的に走行させた状態で、磁性材料である鉄、コバ
ルト、ニツケル等の単一あるいは複数の磁性材を
連続的に蒸発させ、基板表面上に薄膜磁性層を得
るものである。ここで磁性層の積層時に、基板お
よび磁性材蒸発近傍に酸化性ガスである酸素を本
発明に示す方法で供給することにより高保磁力を
もつ磁気記録媒体の製造方法を実現したものであ
る。
一般に、現在使用されているテープレコーダ
ー、ビデオテープレコーダー、電子計算機等の記
録媒体としては、酸化鉄（FeO2）や二酸化クロム
（CrO2）等の磁性材料を微小な粉末とした後、適
当なバインダーと共に基板上に塗布固定したもの
が主流であり、塗布型テープと呼ばれている。塗
布型テープにおいて、保磁力を得るために種々の
工夫がなさされており、一例として硫化第一鉄
（FeSO47H2O）を適当な各種処理工程により0.2
〜1.0μｍの針状酸化鉄にして使用し保磁力を得
ているが、高密度記録化において保磁力はまだ不
十分である。また塗布型の磁気記録媒体にあつて
は、バインダーを介して磁性体を固定し、基板と
に磁性層を形成するため磁性層に占める磁性体の
密度が低く、磁性層厚も数μｍ程度の厚みにな
る。磁性層厚は与えられた長さのテープに蓄えら
れる情報ビツトの数が厚さが薄いほど増加する。
テープ状のビツト間の最小間隔は、おおよそ、そ
の厚さに正比例するといわれている。したがつて
塗布型テープで高密度記録を実現しようとすると
きは、保持力、磁性体密度、磁性層厚等により
種々の問題が生じてくる。
ー、ビデオテープレコーダー、電子計算機等の記
録媒体としては、酸化鉄（FeO2）や二酸化クロム
（CrO2）等の磁性材料を微小な粉末とした後、適
当なバインダーと共に基板上に塗布固定したもの
が主流であり、塗布型テープと呼ばれている。塗
布型テープにおいて、保磁力を得るために種々の
工夫がなさされており、一例として硫化第一鉄
（FeSO47H2O）を適当な各種処理工程により0.2
〜1.0μｍの針状酸化鉄にして使用し保磁力を得
ているが、高密度記録化において保磁力はまだ不
十分である。また塗布型の磁気記録媒体にあつて
は、バインダーを介して磁性体を固定し、基板と
に磁性層を形成するため磁性層に占める磁性体の
密度が低く、磁性層厚も数μｍ程度の厚みにな
る。磁性層厚は与えられた長さのテープに蓄えら
れる情報ビツトの数が厚さが薄いほど増加する。
テープ状のビツト間の最小間隔は、おおよそ、そ
の厚さに正比例するといわれている。したがつて
塗布型テープで高密度記録を実現しようとすると
きは、保持力、磁性体密度、磁性層厚等により
種々の問題が生じてくる。
一方、蒸着法やスパツター法、メツキ法等によ
ると、磁性層はほぼ100％磁性体で構成され、し
かも磁性層が極めて薄い薄膜磁性層を形成できる
ことが知られている。
ると、磁性層はほぼ100％磁性体で構成され、し
かも磁性層が極めて薄い薄膜磁性層を形成できる
ことが知られている。
本発明は、前述した高密度記録化への問題点を
解決する、薄膜磁性層を持つ磁気記録媒体を提供
するものである。
解決する、薄膜磁性層を持つ磁気記録媒体を提供
するものである。
以下実施例をあげて詳細な説明を行う。
実施例
第１図に本発明の製造方法を実施するために使
用する装置の一実施例を示す。10-5Torrの真空
槽１内に直径300mmの蒸着円筒２と蒸発源３を対
向して配置する。蒸発源３は電子ビーム４により
加熱蒸発させる。５は材料容器である。高分子基
板６には幅200mm、長さ1000m、厚さ15μｍのポ
リエチレンテレフタレートフイルムを用いた。基
板６は巻出し軸７からフリーローラ８を経て蒸着
円筒２に沿つて再び別のフリーローラ９を通り巻
取り軸１０に到る。したがつて基板６の走行方
向、軸、蒸着円筒の回転方向は矢印方向となる。
この基板走行系において、基板６が蒸着円筒２に
沿つて移動する部分で、蒸発源３から蒸発した磁
性材料が基板表面に磁性層を形成するのに有効な
蒸発原子群１１の範囲内で磁性材料が蒸着され
る。本実施例では、基板６の走行速度を20m／
minで行つたが、これは任意の走行速度に設定で
きる。上述した蒸着装置、蒸着条件下において磁
性層を形成するのであるが、本実施例では第１図
に示すように蒸着円筒２の下方の左右に酸素ノズ
ル１２，１３を配置した。この酸素ノズル１２，
１３は酸素１２′，１３′を供給するためのもの
で、磁性薄膜に高い保磁力を得るためである。ま
た第１図中、酸素ノズル１２，１３を２つ示した
のは、酸素ノズル位置の検討を示すためであり、
製造過程では以下に述べる結果より酸素ノズル１
３のみでよい。酸素ノズル１２，１３は、長さが
300mm、外径30φのパイプに50mmのピツチで0.5φ
の小孔をあけて各々の小孔から酸素が均一に噴出
するように構成したものである。なお、図におい
て、１４は防着板である。そして真空排気系は省
略している。
用する装置の一実施例を示す。10-5Torrの真空
槽１内に直径300mmの蒸着円筒２と蒸発源３を対
向して配置する。蒸発源３は電子ビーム４により
加熱蒸発させる。５は材料容器である。高分子基
板６には幅200mm、長さ1000m、厚さ15μｍのポ
リエチレンテレフタレートフイルムを用いた。基
板６は巻出し軸７からフリーローラ８を経て蒸着
円筒２に沿つて再び別のフリーローラ９を通り巻
取り軸１０に到る。したがつて基板６の走行方
向、軸、蒸着円筒の回転方向は矢印方向となる。
この基板走行系において、基板６が蒸着円筒２に
沿つて移動する部分で、蒸発源３から蒸発した磁
性材料が基板表面に磁性層を形成するのに有効な
蒸発原子群１１の範囲内で磁性材料が蒸着され
る。本実施例では、基板６の走行速度を20m／
minで行つたが、これは任意の走行速度に設定で
きる。上述した蒸着装置、蒸着条件下において磁
性層を形成するのであるが、本実施例では第１図
に示すように蒸着円筒２の下方の左右に酸素ノズ
ル１２，１３を配置した。この酸素ノズル１２，
１３は酸素１２′，１３′を供給するためのもの
で、磁性薄膜に高い保磁力を得るためである。ま
た第１図中、酸素ノズル１２，１３を２つ示した
のは、酸素ノズル位置の検討を示すためであり、
製造過程では以下に述べる結果より酸素ノズル１
３のみでよい。酸素ノズル１２，１３は、長さが
300mm、外径30φのパイプに50mmのピツチで0.5φ
の小孔をあけて各々の小孔から酸素が均一に噴出
するように構成したものである。なお、図におい
て、１４は防着板である。そして真空排気系は省
略している。
磁性層はコバルトを300Å蒸着して得たが、蒸
着期間中、ノズルから酸素量を0.2〜1.0／min
の範囲で変化させた。ノズル１２およびノズル１
３からの酸素供給量と保磁力Hcの関係を第２図
に示す。
着期間中、ノズルから酸素量を0.2〜1.0／min
の範囲で変化させた。ノズル１２およびノズル１
３からの酸素供給量と保磁力Hcの関係を第２図
に示す。
(A) ノズル１２のみ使用の場合
ノズル１２から酸素を矢印１２′の方向に向
けて供給した場合の保磁力Hc変化を第２図の
Ａに示す。酸素供給量0.2／minから増加さ
せることにより保磁力も増加するが、酸素供給
量が0.4〜0.5／minより増加させると保磁力
Hcは減少方向となつた。
けて供給した場合の保磁力Hc変化を第２図の
Ａに示す。酸素供給量0.2／minから増加さ
せることにより保磁力も増加するが、酸素供給
量が0.4〜0.5／minより増加させると保磁力
Hcは減少方向となつた。
(B) ノズル１３のみ使用の場合
ノズル１３から酸素を矢印１３′の方向に向
けて供給した場合の保磁力Hc変化を第２図の
Ｂに示す。この酸素供給方法によれば、酸素量
0.2〜1.0／minの範囲内では保磁力Hcは増加
している。過多の酸素供給になると、酸素分圧
が高くなり、所定の磁性層厚が得られなくな
り、検討に値しなかつた。
けて供給した場合の保磁力Hc変化を第２図の
Ｂに示す。この酸素供給方法によれば、酸素量
0.2〜1.0／minの範囲内では保磁力Hcは増加
している。過多の酸素供給になると、酸素分圧
が高くなり、所定の磁性層厚が得られなくな
り、検討に値しなかつた。
(C) ノズル１２，１３の付近にてノズル位置を変
え、また酸素噴出角度を水平に対して±40゜に
変化させて酸素供給量と保磁力Hcの関係を検
討したが、第２図のＡ，Ｂの傾向と大差はなか
つた。
え、また酸素噴出角度を水平に対して±40゜に
変化させて酸素供給量と保磁力Hcの関係を検
討したが、第２図のＡ，Ｂの傾向と大差はなか
つた。
以上の実施例および検討結果に示したように、
薄膜による磁気記録媒体を製造するに際し、高い
保磁力を有する磁性層を得るために酸素を供給す
る場合は、蒸着円筒の回転方向と逆方向に沿つた
酸素の流れが生じる供給方法が、第１図に示した
ノズル１３附近において水平に対し±40゜の噴出
角度を持つて基板の走行と逆方向に酸素を供給す
ることが、高保磁力を得るのに効果的な方法であ
ることが分つた。
薄膜による磁気記録媒体を製造するに際し、高い
保磁力を有する磁性層を得るために酸素を供給す
る場合は、蒸着円筒の回転方向と逆方向に沿つた
酸素の流れが生じる供給方法が、第１図に示した
ノズル１３附近において水平に対し±40゜の噴出
角度を持つて基板の走行と逆方向に酸素を供給す
ることが、高保磁力を得るのに効果的な方法であ
ることが分つた。
本発明は上記の実施例に限定されるものではな
く、通常行われる、入射角限定のマスクを利用す
場合についても同様の効果があり、Co100％、
Co80％Ni20％の合金について膜厚0.02μｍ〜0.25
μｍ、入射角０゜から75゜までの範囲について
も、従来法で得られる保磁力の２倍〜３倍の高い
保磁力が得られると共に角形性、実用耐久性に優
れた磁気記録媒体を得ることができるものであ
る。
く、通常行われる、入射角限定のマスクを利用す
場合についても同様の効果があり、Co100％、
Co80％Ni20％の合金について膜厚0.02μｍ〜0.25
μｍ、入射角０゜から75゜までの範囲について
も、従来法で得られる保磁力の２倍〜３倍の高い
保磁力が得られると共に角形性、実用耐久性に優
れた磁気記録媒体を得ることができるものであ
る。
なお、実施例中の装置の形状、寸法に限定され
ることなく、蒸発源の加熱方法も電子ビームに限
らず、例えば高周波誘導加熱等の方法も可能であ
り、基板の走行方向も実施例と逆方向でもよく、
ノズル位置は基板の走行方向にあわせて移動する
もので、基板と酸素の相対関係が一定であれば本
発明の範囲内に入るものである。
ることなく、蒸発源の加熱方法も電子ビームに限
らず、例えば高周波誘導加熱等の方法も可能であ
り、基板の走行方向も実施例と逆方向でもよく、
ノズル位置は基板の走行方向にあわせて移動する
もので、基板と酸素の相対関係が一定であれば本
発明の範囲内に入るものである。
以上のような本発明の磁気記録媒体の製造方法
によれば、次のような利点がある。
によれば、次のような利点がある。
(1) 高保磁力の磁性薄膜が容易に得られ、高密度
記録媒体の大量生産が可能である。
記録媒体の大量生産が可能である。
(2) したがつてコストの低減が図れ、工業的価値
が大である。
が大である。
(3) 酸素の供給方法は簡単である。
第１図は本発明の製造方法を実施するために使
用する装置の概略断面正面図、第２図は酸素供給
量に対する磁気記録媒体の保磁力特性図である。 １……真空槽、２……蒸着円筒、３……蒸発
源、６……高分子基板、１１……蒸発原子群、１
３……酸素ノズル。
用する装置の概略断面正面図、第２図は酸素供給
量に対する磁気記録媒体の保磁力特性図である。 １……真空槽、２……蒸着円筒、３……蒸発
源、６……高分子基板、１１……蒸発原子群、１
３……酸素ノズル。
Claims (1)
- １ 真空槽内にて蒸着円筒の周面に沿つて移動す
る高分子基板の表面に連続的に蒸発源からの磁性
材料を差し向け、磁性層を形成する磁気記録媒体
の製造方法において、前記高分子基板の磁性層形
成部分に酸素を供給し、かつ前記磁性層形成部分
における前記酸素の流れを前記高分子基板の走行
方向と逆になるようにしたことを特徴とする磁気
記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55163885A JPS5788531A (en) | 1980-11-20 | 1980-11-20 | Manufacture for magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55163885A JPS5788531A (en) | 1980-11-20 | 1980-11-20 | Manufacture for magnetic recording medium |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5788531A JPS5788531A (en) | 1982-06-02 |
| JPS6156563B2 true JPS6156563B2 (ja) | 1986-12-03 |
Family
ID=15782643
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP55163885A Granted JPS5788531A (en) | 1980-11-20 | 1980-11-20 | Manufacture for magnetic recording medium |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5788531A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2559685B (en) | 2015-03-10 | 2019-06-12 | Bobst Manchester Ltd | Vacuum Coater For Coating A Web |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5342010A (en) * | 1976-09-28 | 1978-04-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Preparation of magnetic recording medium |
| JPS5419199A (en) * | 1977-07-12 | 1979-02-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium porcess |
| JPS5629A (en) * | 1979-06-15 | 1981-01-06 | Ulvac Corp | Vacuum-evaporated film type magnetic recording substance and its manufacture |
-
1980
- 1980-11-20 JP JP55163885A patent/JPS5788531A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5788531A (en) | 1982-06-02 |
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