JPH0690423B2 - スリツト放射線写真装置 - Google Patents
スリツト放射線写真装置Info
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- JPH0690423B2 JPH0690423B2 JP60095292A JP9529285A JPH0690423B2 JP H0690423 B2 JPH0690423 B2 JP H0690423B2 JP 60095292 A JP60095292 A JP 60095292A JP 9529285 A JP9529285 A JP 9529285A JP H0690423 B2 JPH0690423 B2 JP H0690423B2
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- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
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- G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
- G21K1/02—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators
- G21K1/04—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators using variable diaphragms, shutters, choppers
- G21K1/043—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators using variable diaphragms, shutters, choppers changing time structure of beams by mechanical means, e.g. choppers, spinning filter wheels
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- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
- A61B6/00—Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment
- A61B6/06—Diaphragms
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—HANDLING OF PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
- G21K1/02—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators
- G21K1/04—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators using variable diaphragms, shutters, choppers
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- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05G—X-RAY TECHNIQUE
- H05G1/00—X-ray apparatus involving X-ray tubes; Circuits therefor
- H05G1/08—Electrical details
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- H05G1/30—Controlling
- H05G1/36—Temperature of anode; Brightness of image power
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- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は、スリツト放射線写真装置に関し、この装置
は、操作中走査動作を行なうプランナ（すなわち扁平
な）フアンビームを備えた、複数の並置されるセクシヨ
ンに分割されるスリツト絞りを介して、検査中の物体を
照射するＸ線源と、操作中電気出力信号を生じて、物体
の背後に設けられたＸ線検知器と協働するための、スリ
ツト絞りのセクシヨンに対応するセクシヨンに分割され
た検知手段と、この検知手段に連結され、各スリツトセ
クシヨンと協働するＸ線減衰要素を制御するためのスリ
ツト制御手段とを含む。
は、操作中走査動作を行なうプランナ（すなわち扁平
な）フアンビームを備えた、複数の並置されるセクシヨ
ンに分割されるスリツト絞りを介して、検査中の物体を
照射するＸ線源と、操作中電気出力信号を生じて、物体
の背後に設けられたＸ線検知器と協働するための、スリ
ツト絞りのセクシヨンに対応するセクシヨンに分割され
た検知手段と、この検知手段に連結され、各スリツトセ
クシヨンと協働するＸ線減衰要素を制御するためのスリ
ツト制御手段とを含む。
オランダ特許出願84,00845で開示される装置では、伝達
されるＸ線は、スリツト絞りのセクシヨン毎に、検査中
の物体への吸収に種々の調節が可能で、それによつて、
最終的に得られる像の質をかなり高くすることができ
る。この方法において、詳細をよく見ることのできるに
十分な明暗の対照を有する像が得られる。
されるＸ線は、スリツト絞りのセクシヨン毎に、検査中
の物体への吸収に種々の調節が可能で、それによつて、
最終的に得られる像の質をかなり高くすることができ
る。この方法において、詳細をよく見ることのできるに
十分な明暗の対照を有する像が得られる。
オランダ特許出願84,00845は、数多くの実施例を開示し
ているが、その実施例では減衰要素の位置が、適当な磁
界を発生することによつて制御されたり、あるいは減衰
要素は圧電ストリップで、その位置は適当な電圧を与え
ることによつて定められたりする。減衰要素の位置を調
節する制御信号の瞬間的な大きさは、セクシヨン毎に、
特定のセクシヨンに結合された検知手段からの信号と、
予め定められた基準信号との間の差によつて決定され
る。
ているが、その実施例では減衰要素の位置が、適当な磁
界を発生することによつて制御されたり、あるいは減衰
要素は圧電ストリップで、その位置は適当な電圧を与え
ることによつて定められたりする。減衰要素の位置を調
節する制御信号の瞬間的な大きさは、セクシヨン毎に、
特定のセクシヨンに結合された検知手段からの信号と、
予め定められた基準信号との間の差によつて決定され
る。
上記の類型の装置の最良の操作には、減衰要素の位置の
再生可能な調節が達成されるようにするために、減衰要
素に与えられる制御信号と、これら要素の位置との関係
を明白にする必要がある。
再生可能な調節が達成されるようにするために、減衰要
素に与えられる制御信号と、これら要素の位置との関係
を明白にする必要がある。
磁界によつて、減衰要素の位置を制御すると、磁気ヒス
テリシス効果が起こるという結果になつた。減衰要素に
連設されたばねをリセツトしてもヒステリシス効果を
（機械的に）示すことになる。このことは、ばねリード
形状の減衰要素にもあてはまる。
テリシス効果が起こるという結果になつた。減衰要素に
連設されたばねをリセツトしてもヒステリシス効果を
（機械的に）示すことになる。このことは、ばねリード
形状の減衰要素にもあてはまる。
さらに、圧電ストリツプも同様にヒステリシス効果を示
している。
している。
このシステリシス効果によつて、減衰要素の位置と制御
信号との間の関係は明確さを欠く。さらに、制御信号が
零に減少しても、このことは、減衰要素をその休止位置
に戻すことを保証しない。
信号との間の関係は明確さを欠く。さらに、制御信号が
零に減少しても、このことは、減衰要素をその休止位置
に戻すことを保証しない。
したがつて、ヒステリシス効果の発生に関係なく、希望
されるときはいつでも、減衰装置を位置付けて、希望す
る減衰を行なうことのできるスリツト制御手段を必要と
する。
されるときはいつでも、減衰装置を位置付けて、希望す
る減衰を行なうことのできるスリツト制御手段を必要と
する。
本発明の目的は、この必要性を満たすことにある。この
目的のために、本発明のスリツ放射線写真装置は、第１
方向にＸ線を発生するＸ線源１と、 被検査物体Ｌを通過したＸ線を受けて、その被検査物体
Ｌの像を形成する像形成手段４と、 Ｘ線源１と前記被検査物体Ｌとの間に配置される絞り手
段２であつて、この絞り手段２は、前記第１方向に交差
する第２の方向に沿つて配置される複数の絞りセクシヨ
ンを有し、各絞りセクシヨンは、Ｘ線を遮蔽しまたは減
弱する要素９を有する、そのような絞り手段２と、 Ｘ線源１と前記絞りセクシヨンとを相対的に移動して、
前記第１方向と第２方向との両者に交差する第３の方向
７に前記被検査物体Ｌを走査する手段と、 検知手段５であつて、この検知手段５は、前記第２方向
に沿つて配置される複数の検出セクシヨンを有し、各検
出セクシヨンは、被検査物体Ｌを通過したＸ線に応答し
てその送られてきたＸ線の強度を表す電気信号を発生
し、各検出セクシヨンは前記絞りセクシヨンにそれぞれ
対応している。そのような検知手段５と、 各検出セクシヨン毎に設けられ、一対の入力を有し、そ
のうちの一方の入力には、検出手段５の各検出セクシヨ
ンからの電気信号が与えられ、一対の各入力の差の信号
を出力する比較手段11,23と、 比較手段11、23の他方に入力に、基準信号を与える手段
12,22と、 比較手段11,23からの出力に応答し、被検査物体Ｌの走
査中に、通過するＸ線を各絞りセクシヨン毎に調節する
ために前記各要素９を移動制御する手段14,24とを含む
ことを特徴とするスリツト放射線写真装置である。
目的のために、本発明のスリツ放射線写真装置は、第１
方向にＸ線を発生するＸ線源１と、 被検査物体Ｌを通過したＸ線を受けて、その被検査物体
Ｌの像を形成する像形成手段４と、 Ｘ線源１と前記被検査物体Ｌとの間に配置される絞り手
段２であつて、この絞り手段２は、前記第１方向に交差
する第２の方向に沿つて配置される複数の絞りセクシヨ
ンを有し、各絞りセクシヨンは、Ｘ線を遮蔽しまたは減
弱する要素９を有する、そのような絞り手段２と、 Ｘ線源１と前記絞りセクシヨンとを相対的に移動して、
前記第１方向と第２方向との両者に交差する第３の方向
７に前記被検査物体Ｌを走査する手段と、 検知手段５であつて、この検知手段５は、前記第２方向
に沿つて配置される複数の検出セクシヨンを有し、各検
出セクシヨンは、被検査物体Ｌを通過したＸ線に応答し
てその送られてきたＸ線の強度を表す電気信号を発生
し、各検出セクシヨンは前記絞りセクシヨンにそれぞれ
対応している。そのような検知手段５と、 各検出セクシヨン毎に設けられ、一対の入力を有し、そ
のうちの一方の入力には、検出手段５の各検出セクシヨ
ンからの電気信号が与えられ、一対の各入力の差の信号
を出力する比較手段11,23と、 比較手段11、23の他方に入力に、基準信号を与える手段
12,22と、 比較手段11,23からの出力に応答し、被検査物体Ｌの走
査中に、通過するＸ線を各絞りセクシヨン毎に調節する
ために前記各要素９を移動制御する手段14,24とを含む
ことを特徴とするスリツト放射線写真装置である。
以下添付の図面によつて本発明は詳細に説明される。
第１図は、本発明に従う装置の基本図を示している。こ
の装置は、長手スリツトＳを有するたとえば鉛プレート
から成るスリツト絞り２を介して、検査中の物体ＬにＸ
線を投じるようにしたＸ線源１を含む。図面において
は、スリツトＳは紙面に垂直に延びている。。物体Ｌの
背後には箱が設けられており、のＸ線透過前面プレート
は参照符４で図式的に示されている。この基本図で示さ
れていないＸ線検知器は前面プレート４の背後に設けら
れている。このプレート４の背後には、検知手段５も設
けられており、この検知手段は電気信号を生じ、この信
号は、Ｘ線検知器に入射したＸ線に常時比例する。
の装置は、長手スリツトＳを有するたとえば鉛プレート
から成るスリツト絞り２を介して、検査中の物体ＬにＸ
線を投じるようにしたＸ線源１を含む。図面において
は、スリツトＳは紙面に垂直に延びている。。物体Ｌの
背後には箱が設けられており、のＸ線透過前面プレート
は参照符４で図式的に示されている。この基本図で示さ
れていないＸ線検知器は前面プレート４の背後に設けら
れている。このプレート４の背後には、検知手段５も設
けられており、この検知手段は電気信号を生じ、この信
号は、Ｘ線検知器に入射したＸ線に常時比例する。
スリツトＳは長手形状であるので、プランナフアンビー
ムが生じる。
ムが生じる。
操作中、検査中の物体Ｌは、このビームによつて走査さ
れる。走査は、スリツトＳの長手方向に垂直な方向で行
なわれることができる。この目的のために、たとえば、
スリツト絞りとＸ線源とのアツセンブリは、矢符７で示
されるように、紙面に垂直な方向に延びる軸のまわりを
揺動することができるようにする。
れる。走査は、スリツトＳの長手方向に垂直な方向で行
なわれることができる。この目的のために、たとえば、
スリツト絞りとＸ線源とのアツセンブリは、矢符７で示
されるように、紙面に垂直な方向に延びる軸のまわりを
揺動することができるようにする。
しかしながら、走査は他のやり方によつても行なうこと
ができる。円錐形のＸ線ビームを発生するＸ線源を用い
るとき、たとえばこのＸ線源は、希望されれば曲線通路
に沿つて、絞りに関して上下に移動されることができる
ようにし、あるいは、希望されれば曲線通路に沿つて、
絞りがＸ線源に関して上下に移動されることができるよ
うにする。さらに、Ｘ線源とスリツト絞りのアツセンブ
リを、さらに希望されれば曲線通路に沿つて、上下に移
動させることも可能である。
ができる。円錐形のＸ線ビームを発生するＸ線源を用い
るとき、たとえばこのＸ線源は、希望されれば曲線通路
に沿つて、絞りに関して上下に移動されることができる
ようにし、あるいは、希望されれば曲線通路に沿つて、
絞りがＸ線源に関して上下に移動されることができるよ
うにする。さらに、Ｘ線源とスリツト絞りのアツセンブ
リを、さらに希望されれば曲線通路に沿つて、上下に移
動させることも可能である。
さらに、装置が軸断層Ｘ線写真を撮るために用いられる
場合には、紙面に延びかつフアンビーム平面に垂直な値
方向に延びる軸線８のまわりに、装置か物体を回転させ
ることによつて、走査をフアンビーム平面に行なうこと
ができる。一連の並置された減衰要素は、スリツト絞り
のスリツトＳ内あるいはこれに近接するよう設けられ、
この減衰要素は紙面に垂直な方向に延びている。これら
の減衰要素のうちの１つは参照符９で示されている。実
際には、このスリツトは、複数、たとえば10の並置され
たセクシヨンに分割され、各々は適当な減衰要素と協働
する。第１図の基本図には、１つの減衰要素のみが示さ
れていて、この要素は、リード形状で１つの自由端を有
するが、他の適当な形状にしてもよく、たとえばオラン
ダ特許出願84,00845で示されるように、Ｘ線ビームの通
路に滑動して進入退出するようにしてもよい。
場合には、紙面に延びかつフアンビーム平面に垂直な値
方向に延びる軸線８のまわりに、装置か物体を回転させ
ることによつて、走査をフアンビーム平面に行なうこと
ができる。一連の並置された減衰要素は、スリツト絞り
のスリツトＳ内あるいはこれに近接するよう設けられ、
この減衰要素は紙面に垂直な方向に延びている。これら
の減衰要素のうちの１つは参照符９で示されている。実
際には、このスリツトは、複数、たとえば10の並置され
たセクシヨンに分割され、各々は適当な減衰要素と協働
する。第１図の基本図には、１つの減衰要素のみが示さ
れていて、この要素は、リード形状で１つの自由端を有
するが、他の適当な形状にしてもよく、たとえばオラン
ダ特許出願84,00845で示されるように、Ｘ線ビームの通
路に滑動して進入退出するようにしてもよい。
検出手段５は、スリツトのセクシヨンに対応するセクシ
ヨンを含んでいる。第１図は検知手段の１つのセクシヨ
ンのみを示している。このセクシヨンは、図示された減
衰要素に関連されるスリツトセクシヨンに対応する。
ヨンを含んでいる。第１図は検知手段の１つのセクシヨ
ンのみを示している。このセクシヨンは、図示された減
衰要素に関連されるスリツトセクシヨンに対応する。
検知手段は、一連の並置された感光性要素であつてもよ
く、この要素は、Ｘ線ビームの走査動作に従い、したが
つて、継続的に、Ｘ線検知器によつて生じた光を集め、
この光を電気的信号に変換することができる。たとえ
ば、光電子増倍管、あるいはシリコンセルが感光性要素
として用いられることができる。
く、この要素は、Ｘ線ビームの走査動作に従い、したが
つて、継続的に、Ｘ線検知器によつて生じた光を集め、
この光を電気的信号に変換することができる。たとえ
ば、光電子増倍管、あるいはシリコンセルが感光性要素
として用いられることができる。
各感光性要素は、Ｘ線検知器の関連した範囲たとえば４
×4cmの範囲からの光を検知する。
×4cmの範囲からの光を検知する。
検知手段の各セクシヨンは、希望されれば第１図の破線
で示す前置増幅器10を介して、特定セクシヨンに関連し
た比較回路の一方の入力に連結される。この比較回路
は、たとえば差動増幅器11である。比較回路の他方の入
力は、調整可能な基準信号発生器12に連結される。
で示す前置増幅器10を介して、特定セクシヨンに関連し
た比較回路の一方の入力に連結される。この比較回路
は、たとえば差動増幅器11である。比較回路の他方の入
力は、調整可能な基準信号発生器12に連結される。
比較回路の出力は、もし希望されれば別の増幅器13を介
して、関連する減衰要素ののための付勢回路14に連結さ
れる。しかし、増幅器13もまた、比較回路の中に含まれ
ていてもよい。
して、関連する減衰要素ののための付勢回路14に連結さ
れる。しかし、増幅器13もまた、比較回路の中に含まれ
ていてもよい。
オランダ特許出願84,00845に述べられているように、減
衰要素の位置は異なつた方法で変えることができる。も
し減衰要素が片持はり圧電ストリツプであるなら、各ス
トリツプの電極間に、電圧差を生じる。この電圧差はこ
のストリツプをアーチ状にし、その自由端は、大かれ少
なかれＸ線ビームの方に延びる。
衰要素の位置は異なつた方法で変えることができる。も
し減衰要素が片持はり圧電ストリツプであるなら、各ス
トリツプの電極間に、電圧差を生じる。この電圧差はこ
のストリツプをアーチ状にし、その自由端は、大かれ少
なかれＸ線ビームの方に延びる。
減衰要素が片持ばねリードあるいは、旋回固定リードで
ある場合、これらの位置は、リードに近接する地点に延
びるコアを有する磁気コイルを付勢することによつて変
えることができる。またリードをそれぞれ、磁気コイル
の移動可能なコアに連結させることも可能である。
ある場合、これらの位置は、リードに近接する地点に延
びるコアを有する磁気コイルを付勢することによつて変
えることができる。またリードをそれぞれ、磁気コイル
の移動可能なコアに連結させることも可能である。
付勢回路の出力信号をｘとし、休止位置に関する減衰要
素の偏位をｙとすると、ｙ＝ｆ（ｘ）となる。上述した
ように、この関係は、ヒステリシス効果が起こる場合に
は、不明瞭となる。
素の偏位をｙとすると、ｙ＝ｆ（ｘ）となる。上述した
ように、この関係は、ヒステリシス効果が起こる場合に
は、不明瞭となる。
ヒステリシス効果の影響を排除するために、比較回路
は、検知信号と基準信号との差の発生に応答して、正あ
るいは負の出力信号を生じるようにしている。この出力
信号は検知信号が基準信号と等しくなるまで維持され
る。
は、検知信号と基準信号との差の発生に応答して、正あ
るいは負の出力信号を生じるようにしている。この出力
信号は検知信号が基準信号と等しくなるまで維持され
る。
したがつて、減衰要素は、検知信号と基準値との差に応
じた大きさの信号を、付勢回路に与えること（操縦操
作）に応答して、直接希望する位置に移動されるのでは
なく、正あるいは負（検知信号と基準信号との間の差の
符号による）の信号が、付勢回路に与えられ、この信号
は、検知信号が基準信号と異なつている限り維持される
（制御操作）。
じた大きさの信号を、付勢回路に与えること（操縦操
作）に応答して、直接希望する位置に移動されるのでは
なく、正あるいは負（検知信号と基準信号との間の差の
符号による）の信号が、付勢回路に与えられ、この信号
は、検知信号が基準信号と異なつている限り維持される
（制御操作）。
事実、スリツト絞りの関連するセクシヨンを通過し、続
いて物体を透過するＸ線と、Ｘ線検知器と検知手段の対
応するセクシヨンとの間の放射線とによつて接続される
制御回路を実現することができる。この制御回路は、検
知手段を用いて継続的に操作され、減衰要素の実際の位
置を、基準信号によつて表わされた希望する位置と比較
し、希望する位置からの偏位が認められるやいなや減衰
要素の位置を変える。
いて物体を透過するＸ線と、Ｘ線検知器と検知手段の対
応するセクシヨンとの間の放射線とによつて接続される
制御回路を実現することができる。この制御回路は、検
知手段を用いて継続的に操作され、減衰要素の実際の位
置を、基準信号によつて表わされた希望する位置と比較
し、希望する位置からの偏位が認められるやいなや減衰
要素の位置を変える。
第２図は、本発明に従う装置の実施例を概略的に示す。
第１図に示される装置の構成要素に対応する第２図の装
置の構成要素は、同一の参照符で示されている。第２図
は、正面プレート４の背後に設けられたＸ線検知器20の
例を示し、この検知器は実際の用に適し、断面図で示さ
れている。Ｘ線検知器20は実質的によく知られた、近接
焦点型の長手像増強管であり、そのカソードＫは、実質
的によく知られた方法で、入射されたＸ線に応答して電
子を解放する。なおこの電子はアノードＡの方向に加速
される。アノードＡは、同様に実質的に知られた方法
で、入射された電子から光像を形成する。実施例では、
カソードは、たとえば長さ40cm幅4cmでよい。この装置
は、Ｘ線検知器をＸ線ビームの走査動作と同期して動か
して、物体Ｌを通過した放射線は、いつでもカソードに
入射されるような手段を備えていなくてはならない。次
に、アノードによつて形成される光像を検知することが
できるように、検知手段は、Ｘ線検知器の動作に従わな
ければならない。さらに、この光像は、たとえば写真プ
レート上に記録され、またはビデオカメラあるいは類似
の実質的によく知られた器械によつて検査される。
第１図に示される装置の構成要素に対応する第２図の装
置の構成要素は、同一の参照符で示されている。第２図
は、正面プレート４の背後に設けられたＸ線検知器20の
例を示し、この検知器は実際の用に適し、断面図で示さ
れている。Ｘ線検知器20は実質的によく知られた、近接
焦点型の長手像増強管であり、そのカソードＫは、実質
的によく知られた方法で、入射されたＸ線に応答して電
子を解放する。なおこの電子はアノードＡの方向に加速
される。アノードＡは、同様に実質的に知られた方法
で、入射された電子から光像を形成する。実施例では、
カソードは、たとえば長さ40cm幅4cmでよい。この装置
は、Ｘ線検知器をＸ線ビームの走査動作と同期して動か
して、物体Ｌを通過した放射線は、いつでもカソードに
入射されるような手段を備えていなくてはならない。次
に、アノードによつて形成される光像を検知することが
できるように、検知手段は、Ｘ線検知器の動作に従わな
ければならない。さらに、この光像は、たとえば写真プ
レート上に記録され、またはビデオカメラあるいは類似
の実質的によく知られた器械によつて検査される。
また、そのアノードが、光学出力信号の代わりに所望の
像データを含む電気的出力信号を発生する一連のCCDs
（電荷結合装置）から形成される図示のタイプのＸ線検
知器を用いてもよく、このデータはメモリに貯えられる
ことができる。
像データを含む電気的出力信号を発生する一連のCCDs
（電荷結合装置）から形成される図示のタイプのＸ線検
知器を用いてもよく、このデータはメモリに貯えられる
ことができる。
この場合、この検知手段は電気的出力信号を集めてこの
信号を比較回路に伝達するようにすることができる。
信号を比較回路に伝達するようにすることができる。
あるいは、螢光スクリーンをＸ線検知器の前方に設ける
ようにしてもよく、このスクリーンは入射されたＸ線の
一部を光に変換し、この変換された光は感光電池によつ
て検知されることができるようにする。
ようにしてもよく、このスクリーンは入射されたＸ線の
一部を光に変換し、この変換された光は感光電池によつ
て検知されることができるようにする。
さらに、長手小幅Ｘ線検知器に代えて、被走査領域のす
べてをカバーするに充分な方法のＸ線検知器を用いるこ
ともでき、この検知器はそれゆえ静止しつづけることが
できる。この場合、検知手段は、Ｘ線検知器上のプラン
ナフアンビーム入射領域を常にカバーするように設置、
あるいは移動すべきである。
べてをカバーするに充分な方法のＸ線検知器を用いるこ
ともでき、この検知器はそれゆえ静止しつづけることが
できる。この場合、検知手段は、Ｘ線検知器上のプラン
ナフアンビーム入射領域を常にカバーするように設置、
あるいは移動すべきである。
第２図示の実施例における検知手段５のそれぞれのセク
シヨンは、したがつてそれぞれの感光要素は、その他方
の入力を接地している関連した伝達インピーダンス増幅
器（電流電圧増幅器）10の一方の入力に接続される。
シヨンは、したがつてそれぞれの感光要素は、その他方
の入力を接地している関連した伝達インピーダンス増幅
器（電流電圧増幅器）10の一方の入力に接続される。
利得はフイードバツク抵抗器21によつて制御されること
ができる。増幅器10の出力電圧は、検知要素が関連する
領域におけるＸ線検知器が受け取るＸ線の量を計るはか
りである。
ができる。増幅器10の出力電圧は、検知要素が関連する
領域におけるＸ線検知器が受け取るＸ線の量を計るはか
りである。
増幅器10の出力電圧は、第１図の基準信号発生器12に対
応する電位差計22によつてセツトされる基準電圧と比較
される。この目的を果すため、伝達インピーダンス増幅
器10の出力電圧が、第１図の比較回路11および増幅器13
に対応する基準増幅器23の一方の入力に印加される。こ
の基準電圧は、基準増幅器23の他方の入力に印加され
る。
応する電位差計22によつてセツトされる基準電圧と比較
される。この目的を果すため、伝達インピーダンス増幅
器10の出力電圧が、第１図の比較回路11および増幅器13
に対応する基準増幅器23の一方の入力に印加される。こ
の基準電圧は、基準増幅器23の他方の入力に印加され
る。
第２図の実施例において示されるように減衰要素９が圧
電ストリツプの場合、基準増幅器の出力信号は、第１図
の付勢回路14に対応する電圧増幅器24に与えられる。こ
の電圧増幅器24は関連する圧電ストリツプ９の電極の１
つに、たとえばマイナス300ボルトからプラス300ボルト
の範囲の電圧を印加することができる。圧電ストリツプ
の他の電極は接地される。
電ストリツプの場合、基準増幅器の出力信号は、第１図
の付勢回路14に対応する電圧増幅器24に与えられる。こ
の電圧増幅器24は関連する圧電ストリツプ９の電極の１
つに、たとえばマイナス300ボルトからプラス300ボルト
の範囲の電圧を印加することができる。圧電ストリツプ
の他の電極は接地される。
減衰要素の位置が磁気コイルによつて影響される場合
は、増幅器24をコイルを流れる電流の大きさを決定する
電流増幅器とする。
は、増幅器24をコイルを流れる電流の大きさを決定する
電流増幅器とする。
この回路構成の最も重要な要素は、関連する検知要素か
らの検知器信号の大きさおよび極性が、セツトされた基
準信号の大きさおよび極性と比較される比較回路であ
る。伝達インピーダンス増幅器10によつて与えられる基
準増幅器23の入力電圧がセツトされた基準電圧よりも高
い場合、これはすなわち感光電池５におけるＸ線量が極
めて多く、スリツト絞りの対応するセクシヨンを通過し
たＸ線が減衰されねばならないことを意味する。図示の
場合では、そこで圧電ストリツプ９がアーチ状に曲げら
れねばならず、これは電圧増幅器24を介して与えられる
基準増幅器の出力信号によつて行なわれる。この圧電ス
トリツプが上方に曲がりはじめるとすぐに、このストリ
ツプを通過するＸ線は（さらに）減衰され、これは感光
電池５によつて検知される。その結果、この電池の出力
信号が減少し、次いで伝達インピーダンス増幅器によつ
て与えられる基準増幅器の入力信号が減少することにな
る。
らの検知器信号の大きさおよび極性が、セツトされた基
準信号の大きさおよび極性と比較される比較回路であ
る。伝達インピーダンス増幅器10によつて与えられる基
準増幅器23の入力電圧がセツトされた基準電圧よりも高
い場合、これはすなわち感光電池５におけるＸ線量が極
めて多く、スリツト絞りの対応するセクシヨンを通過し
たＸ線が減衰されねばならないことを意味する。図示の
場合では、そこで圧電ストリツプ９がアーチ状に曲げら
れねばならず、これは電圧増幅器24を介して与えられる
基準増幅器の出力信号によつて行なわれる。この圧電ス
トリツプが上方に曲がりはじめるとすぐに、このストリ
ツプを通過するＸ線は（さらに）減衰され、これは感光
電池５によつて検知される。その結果、この電池の出力
信号が減少し、次いで伝達インピーダンス増幅器によつ
て与えられる基準増幅器の入力信号が減少することにな
る。
この制御工程は、基準信号が伝達インピーダンス増幅器
の出力信号と等しくなり、圧電ストリツプがＸ線ビーム
へ延びるまで続く。電圧増幅器の出力信号は、次に感光
電池が基準増幅器の入力信号単に差を生じさせるような
もう１つの出力信号を発生するまで一定のままである。
の出力信号と等しくなり、圧電ストリツプがＸ線ビーム
へ延びるまで続く。電圧増幅器の出力信号は、次に感光
電池が基準増幅器の入力信号単に差を生じさせるような
もう１つの出力信号を発生するまで一定のままである。
同様に、基準増幅器の一方の入力に与えられる伝達イン
ピーダンス増幅器の出力信号が基準電圧よりも小さい場
合は、圧電ストリツプのアーチ状に曲がる程度が減少す
る。
ピーダンス増幅器の出力信号が基準電圧よりも小さい場
合は、圧電ストリツプのアーチ状に曲がる程度が減少す
る。
このようにそれぞれの圧電ストリツプの曲がる程度が両
方の方向において確実に制御され、ヒステリシス効果の
結果が効果的に相殺される。
方の方向において確実に制御され、ヒステリシス効果の
結果が効果的に相殺される。
減衰要素に接続される移動可能な軟鉄コアを有する磁性
コイルを流れる付勢電流が、同様に減衰要素の移動の両
方の方向に関して、確実に制御されることができること
が当業者には明らかであろう。
コイルを流れる付勢電流が、同様に減衰要素の移動の両
方の方向に関して、確実に制御されることができること
が当業者には明らかであろう。
調整可能な基準電圧のレベルは、Ｘ線検知器のそれぞれ
のセクシヨンにおいて所望される平均露光のわずかの値
に対応する。
のセクシヨンにおいて所望される平均露光のわずかの値
に対応する。
初期調整の後、基準電圧はそれぞれのセクシヨンに関し
て一定であるが、例えば減衰要素の特性間の差異や、Ｘ
線検知器における不均一性や、検知要素間の差異や、使
用されるＸ線源によつて発声されるＸ線ビームの異方性
等の現象を補償するために、それぞれ異つても良い。こ
の最後に言及した現象を補償することは、走査動作中Ｘ
線源と絞りが相互に関して移動し、その度ごとにＸ線ビ
ームの異なつた部分が有効に用いられるような場合に
は、特に重要である。
て一定であるが、例えば減衰要素の特性間の差異や、Ｘ
線検知器における不均一性や、検知要素間の差異や、使
用されるＸ線源によつて発声されるＸ線ビームの異方性
等の現象を補償するために、それぞれ異つても良い。こ
の最後に言及した現象を補償することは、走査動作中Ｘ
線源と絞りが相互に関して移動し、その度ごとにＸ線ビ
ームの異なつた部分が有効に用いられるような場合に
は、特に重要である。
第3A図と第3B図とは、本発明に従う装置に用いられるに
適したスリツト絞りの実例の正面図と断面図とをそれぞ
れ概略的に示す。
適したスリツト絞りの実例の正面図と断面図とをそれぞ
れ概略的に示す。
スリツト絞りは、Ｘ線の不透過性のある、たとえば鉛プ
レートのようなプレート３を含み、その中に実質的に長
方形で中心的スリツトＳが形成される。
レートのようなプレート３を含み、その中に実質的に長
方形で中心的スリツトＳが形成される。
この示された例では、10個の平行に並置されたリードあ
るいはストリツプ型の減衰要素９がスリツト内に設けら
れる。減衰要素は、それらの一端部がスリツト内あるい
はその近くに固定され、他端がＸ線源に対向する。この
Ｘ線焦点はＦで示され、この他端は、付勢回路の影響を
受けてＸ線ビームの方へ大かれ少なかれ延びていくこと
ができる。この装置は、小型構造となるが、原則的に、
減衰要素の遊端をＸ線源から離れて、すなわちＸ線検知
器の方向に向かわせることも可能である。
るいはストリツプ型の減衰要素９がスリツト内に設けら
れる。減衰要素は、それらの一端部がスリツト内あるい
はその近くに固定され、他端がＸ線源に対向する。この
Ｘ線焦点はＦで示され、この他端は、付勢回路の影響を
受けてＸ線ビームの方へ大かれ少なかれ延びていくこと
ができる。この装置は、小型構造となるが、原則的に、
減衰要素の遊端をＸ線源から離れて、すなわちＸ線検知
器の方向に向かわせることも可能である。
上記の内容を読めば、示された実施例の異なつた修正は
当業者には明らかなものである。
当業者には明らかなものである。
たとえば、ヒステリシス効果が減衰要素の位置制御に重
要な役割を果たすのではない場合でも、自明のことであ
るが、本発明に従う制御装置を用いられることができ
る。
要な役割を果たすのではない場合でも、自明のことであ
るが、本発明に従う制御装置を用いられることができ
る。
この修正は、本発明の範囲内で収まるものと考えられ
る。
る。
Ｘ線源１は、第１図および第２の右方である第１方向に
Ｘ線を発生する。スリツト絞り２の複数の絞りセクシヨ
ンは、前記第１方向に交差する第２の方向、すなわち第
１図および第２図の紙面に垂直方向に沿つて配置され
る。各絞りセクシヨンは、Ｘ線を遮蔽しまたは減弱する
要素９を有する。被検査物体Ｌは、前記第１方向と第２
方向との両者に交差する第３の方向７（したがつて第１
図および第２図の上下方向）に走査する。
Ｘ線を発生する。スリツト絞り２の複数の絞りセクシヨ
ンは、前記第１方向に交差する第２の方向、すなわち第
１図および第２図の紙面に垂直方向に沿つて配置され
る。各絞りセクシヨンは、Ｘ線を遮蔽しまたは減弱する
要素９を有する。被検査物体Ｌは、前記第１方向と第２
方向との両者に交差する第３の方向７（したがつて第１
図および第２図の上下方向）に走査する。
第１図は本発明に従う一実施例の装置の基本的構成を示
す図、第２図は本発明に従う他の実施例のスリツト放射
線写真装置の例を概略的に示す図、第3A図、第3B図はリ
ード形状で減衰要素を含むスリツト絞りの正面および断
面をそれぞれ示す図である。 １…Ｘ線源、２…スリツト絞り、４…正面プレート、５
…検知手段、６…プランナフアンビーム、７…矢符、９
…減衰要素、10…前置増幅器、11…差動増幅器、12…基
準信号発生器、13…増幅器、14…付勢回路、20…Ｘ線検
知器、21…フイードバツク抵抗器、22…電位差計、23…
基準増幅器、24…電圧増幅器、Ａ…アノード、Ｋ…カソ
ード、Ｌ…物体、Ｓ…スリツト
す図、第２図は本発明に従う他の実施例のスリツト放射
線写真装置の例を概略的に示す図、第3A図、第3B図はリ
ード形状で減衰要素を含むスリツト絞りの正面および断
面をそれぞれ示す図である。 １…Ｘ線源、２…スリツト絞り、４…正面プレート、５
…検知手段、６…プランナフアンビーム、７…矢符、９
…減衰要素、10…前置増幅器、11…差動増幅器、12…基
準信号発生器、13…増幅器、14…付勢回路、20…Ｘ線検
知器、21…フイードバツク抵抗器、22…電位差計、23…
基準増幅器、24…電圧増幅器、Ａ…アノード、Ｋ…カソ
ード、Ｌ…物体、Ｓ…スリツト
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭55−40531（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−501602（ＪＰ，Ａ) 特開 昭50−28894（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−253198（ＪＰ，Ａ) 米国特許3755672（ＵＳ，Ａ) 米国特許3912936（ＵＳ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】第１方向にＸ線を発生するＸ線源１と、 被検査物体Ｌを通過したＸ線を受けて、その被検査物体
Ｌの像を形成する像形成手段４と、 Ｘ線源１と前記被検査物体Ｌとの間に配置される絞り手
段２であつて、この絞り手段２は、前記第１方向に交差
する第２の方向に沿つて配置される複数の絞りセクシヨ
ンを有し、各絞りセクシヨンは、Ｘ線を遮蔽しまたは減
弱する要素９を有する、そのような絞り手段２と、 Ｘ線源１と前記絞りセクシヨンとを相対的に移動して、
前記第１方向と第２方向との両者に交差する第３の方向
７に前記被検査物体Ｌを走査する手段と、 検知手段５であつて、この検知手段５は、前記第２方向
に沿つて配置される複数の検出セクシヨンを有し、各検
出セクシヨンは、被検査物体Ｌを通過したＸ線に応答し
てその送られてきたＸ線の強度を表す電気信号を発生
し、各検出セクシヨンは前記各絞りセクシヨンにそれぞ
れ対応している、そのような検知手段５と、 各検出セクシヨン毎に設けられ、一対の入力を有し、そ
のうちの一方の入力には、検出手段５の各検出セクシヨ
ンからの電気信号が与えられ、一対の各入力の差の信号
を出力する比較手段11,23と、 比較手段11,23の他方に入力に、基準信号を与える手段1
2,22と、 比較手段11,23からの出力に応答し、被検査物体Ｌの走
査中に、通過するＸ線を各絞りセクシヨン毎に調節する
ために前記各要素９を移動制御する手段14,24とを含む
ことを特徴とするスリツト放射線写真装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL8401411A NL8401411A (nl) | 1984-05-03 | 1984-05-03 | Inrichting voor spleetradiografie. |
| NL8401411 | 1984-05-03 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6134449A JPS6134449A (ja) | 1986-02-18 |
| JPH0690423B2 true JPH0690423B2 (ja) | 1994-11-14 |
Family
ID=19843893
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60095292A Expired - Lifetime JPH0690423B2 (ja) | 1984-05-03 | 1985-05-02 | スリツト放射線写真装置 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4677652A (ja) |
| EP (1) | EP0162512B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0690423B2 (ja) |
| DE (1) | DE3561038D1 (ja) |
| IL (1) | IL75085A (ja) |
| NL (1) | NL8401411A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8966144B2 (en) | 1997-03-04 | 2015-02-24 | Papst Licensing Gmbh & Co. Kg | Analog data generating and processing device having a multi-use automatic processor |
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- 1985-05-02 JP JP60095292A patent/JPH0690423B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1985-05-02 EP EP85200697A patent/EP0162512B1/en not_active Expired
- 1985-05-02 US US06/729,617 patent/US4677652A/en not_active Expired - Lifetime
- 1985-05-02 DE DE8585200697T patent/DE3561038D1/de not_active Expired
- 1985-05-03 IL IL75085A patent/IL75085A/xx unknown
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| JPS6134449A (ja) | 1986-02-18 |
| NL8401411A (nl) | 1985-12-02 |
| US4677652A (en) | 1987-06-30 |
| EP0162512B1 (en) | 1987-11-19 |
| DE3561038D1 (en) | 1987-12-23 |
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