JPH0692253B2 - 新規な形態学的特徴を有する酸化第二セリウムおよびその製造方法 - Google Patents

新規な形態学的特徴を有する酸化第二セリウムおよびその製造方法

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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は新規な形態学的特徴を有する酸化第二セリウ
ムおよびその製造方法に関する。
[従来技術] この明細書においては比表面積はブルナウアー・エメッ
ト・テラー(BRUNAUER−EMMETT−TELLER)法に従って決
定されるB.E.T.比表面積をいう。[ザ・ジャーナル・オ
ブ・アメリカン・ソサイエティ、60巻、309頁(1938
年)(The Journal of American Society 1938.6
0,309)] 酸化第二セリウムは単独でまたは他の金属酸化物との混
合物の形で触媒として合成、特にメタノールの合成[C.
R.Sances Acad.Sci.Ser.2.292(12),883−5(198
1)]または残留ガスの処理方法[特願昭51−62616]に
使用される。良好な触媒活性を得るためには出来るだけ
比表面積の大きい酸化第二セリウムを用意するのが望ま
しい。
仏国特許出願公開第2,559,754号公報には350〜450℃で
焼成後の比表面積が85±5m2/g以上、好ましくは400〜45
0℃で焼成後100〜130m2/gである酸化第二セリウムが提
案されている。この酸化物は硝酸第二セリウム水溶液を
硝酸媒体中で加水分解し、得られた沈澱を分離し、有機
溶媒で洗浄し、場合によって乾燥し、ついで300〜600℃
で焼成することによって調製される。得られた酸化第二
セリウムは比表面積は大きいが微細気孔の平均孔径が10
〜20オングストロームであり気孔容積が0.02cm3/g程度
であるため多孔度は低い。また、350〜500℃で焼成後の
比表面積が85±5m2/g以上、好ましくは400〜450℃で焼
成後150〜180m2/gである酸化第二セリウムは公知である
[仏国特許出願公開第2,599,755号公報参照]。この酸
化物は硝酸第二セリウム水溶液と硫酸イオン含有水溶液
を反応させて塩基性硫酸第二セリウムを沈澱させ、得ら
れた沈澱を分離し、これをアンモニア溶液を用いて洗浄
し、場合によって乾燥し、ついでこれを300〜500℃の温
度で焼成することからなる方法により得られる。このよ
うにしして調製された酸化第二セリウムは比表面積が大
きく、孔径が10〜200オングストロームに達し気孔容積
も約0.15cm3/gと多孔度が高い。さらに、この酸化第二
セリウムはかなりの量の残留硫酸イオンを含有している
ので専ら触媒作用の領域においてしか使用出来ない。
上記刊行物に記載の製品に対して本出願人は比表面積が
大きく新規な多孔度特性を有する酸化第二セリウムを提
案する。
すなわち、この発明は気孔容積が015cm3/g以上であり、
かつ平均孔径が50オングストロームより大きいことを特
徴とする、350〜550℃の温度で焼成した後85m2/g以上の
比表面積を有する酸化第二セリウムを提供する。この明
細書において記載されている比表面積は所定の温度で2
時間以上焼成した生成物で測定したものである。
好ましくは、この発明の酸化第二セリウムの比表面積は
350〜500℃で焼成後100m2/g以上である。
気孔容積と気孔の大きさはB.E.T.法による比表面積と同
様に決定される。
この発明の酸化第二セリウムの気孔容積は0.15〜0.3cm3
/gである。
最後に、この発明の酸化第二セリウムの他の特徴は、調
製時に適当な塩基、例えばアンモニア、を選択すること
によって99%を越すこともある高い純度を達成すること
ができることである。
この発明の対象の一つは、気孔容積が0.15cm3/gより大
きく平均孔径が50〜200オングストロームであり、かつ
単項孔径分布を示すことを特徴とする350〜550℃の温度
で焼成した後85m2/g以上の比表面積を有する酸化第二セ
リウムである。
好ましくは、この発明の酸化第二セリウムは350〜500
℃、好ましくは400〜450℃、の温度で焼成後の比表面積
が150〜100m2/gのものである。
この発明の酸化第二セリウムの本質的な特徴は均一な気
孔度を持つたことである。
一般に、平均孔径(d50)で表される気孔の大きさは50
〜200オングストローム、好ましくは80〜150オングスト
ローム、である。平均孔径はその孔径より小さい気孔全
部で全気孔容積(vp)の50%を構成するような孔径とし
て定義される。
分離型e1およびe2はそれぞれ で定義されるが、これらの間隔は1.0〜2.0である。
X線回折分析はこの発明の酸化第二セリウムは格子定数
が5.41〜5.44で結晶度が50〜80%のCeO2型結晶相を持
つ。結晶化部分のうち、300℃で焼成後の酸化第二セリ
ウムの結晶子の大きさは50〜100オングストロームであ
る。
この発明の他の対象は、気孔容積が0.15cm3/gより大き
く二集団性分布を示し微細気孔の平均孔径が10〜50オン
グストロームであり中気孔の平均孔径が50〜200オング
ストロームであることを特徴とする、350〜550℃の温度
で焼成した後85m2/g以上の比表面積を有する酸化第二セ
リウムである。
好適には、この発明の酸化第二セリウムは350〜500℃、
好ましくは400〜450℃、の温度で焼成した後180〜150m2
/gの比表面積を有する。
この発明により得られる酸化第二セリウムの気孔容積と
気孔の大きさの分布を調節することができる特殊な酸化
物の製造方法が見いだされた。
比表面積が大きく気孔度の調節された酸化第二セリウム
の製造方法は、塩基を添加してセリウムIV化合物の水性
コロイド分散液を不安定化し、得られた沈澱を分離し、
ついでこれを熱処理することを特徴とする。
セリウムIV化合物の水性分散液の不安定化は塩基をセリ
ウムIV化合物の水性分散液にpHが7より大きくなるまで
添加することにより行われる。
この発明により、意外にも、得られた酸化第二セリウム
の形態学的特徴はセリウムIV化合物の水性分散液の特性
に依存すること、および得られた酸化第二セリウムの気
孔度は特に出発コロイドの形態(大きさ、形状、立体形
状)とコロイド分散液の不安定化条件を操作することに
よって調節することができることが見いだされた。
説明を明瞭にするために、まずセリウムのゾルの不安定
化により比表面積の大きい酸化第二セリウムを得る方法
を説明し、次いで、出発セリウムゾルの特性の選択およ
び使用法に関連する均一な気孔度を持つかまたは二集団
性の比表面積の大きい酸化第二セリウムを得ることを可
能にする手段を説明する。
この発明によれば、比表面積の大きい酸化第二セリウム
を得る方法は、第一工程においてセリウムIV化合物の水
性コロイド分散液を塩基処理することからなる。
この発明において使用することができるセリウムIV化合
物の水性コロイド分散液は一般式(I) Ce(M)z(OH)x(NO3)y・pCeO2・H2O (I) (式中、Mはアルカリ金属または第四アンモニウム基を
表す。
zは0〜0.2である。
yは0〜1.5である。
xはy=4−z+xとなるような数である。
pは0〜2.0である。
nは0〜約20である。) に相当する。
以下、この明細書において「ゾル」という用語は式
(I)に相当するセリウムIV化合物の水性コロイド分散
液を指称するものとする。
ゾルのセリウムIV化合物の濃度は臨界的意義を持たな
い。CeO2で表すと、この濃度は0.1〜2.0モル/、好ま
しくは0.5〜1モル/である。
コロイドの形のセリウムの割合は95%より多いが、この
発明ではイオンの形をしたセリウムIVが存在しているゾ
ルを除外していない。好ましくは、セリウムの割合は99
〜100%である。
ゾル中に存在するコロイドの割合は広い範囲で変えられ
る。一般に、マイケル・エル・マッコンネル法「アナリ
ティカル・ケミストリー、第53巻、第8号、1007A、(1
981年)」に従う光の準弾性散乱により測定されたコロ
イドの流体動力学的平均粒径は100〜2,000オングストロ
ームである。この発明の方法において使用される塩基溶
液は例えばアンモニア、ゾーダ、カリの水溶液である。
同様に、アンモニアガスも挙げられる。この発明では、
アンモニア水溶液を使用するのが好ましい。
使用する塩基溶液の規定度はこの発明では臨界的意義を
持つ因子ではなく、広い範囲、例えば0.1〜11Nで変えら
れるが、好ましくは濃度が5〜10Nである溶液が挙げら
れる。
塩基の添加量は処理された分散液の最終pHが7より大き
く、好ましくは9以上10以下となるように決められる。
実地上は、塩基をセリウムIV化合物の水性コロイド分散
液に添加するかまたはその逆に添加する。添加は一度
に、徐々にまたは連続的に行われる。また、添加は攪は
ん下に行われる。
好ましくは、塩基をセリウムIV化合物の水性コロイド分
散液に添加する。
塩基のセリウムIV化合物の水性コロイド分散液への添加
流量は臨界的意義を持たないが、通常、セリウムIV1モ
ル当たりかつ1時間当たりOH-0.1〜5モル、好ましくは
2〜4である。
混合は好ましくは60℃より低い温度で行われる。さらに
好ましくは、室温、最も好ましくは10〜25℃で操作され
る。
塩基溶液の添加の終わりに場合によって反応媒体を再び
攪はん下に数時間維持して沈澱を完了させることができ
る。この時間は臨界的意義を持たず、1分間〜24時間程
度であってもよい。
この方法の第二工程は、得られた沈澱の分離を従来公知
の固液分離技術であるろ過、デカンテーション、遠心分
離または脱水により行うことからなる。
この分離は一般に室温で行われる。
場合によってOH-イオンを除去するために分離された沈
澱を洗浄操作にかけることができる。
洗浄は水または有機溶媒を使用して行われる。有機溶媒
の例としてメタノール、エタノール、n−プロパノー
ル、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノー
ル、ネオブタノールのような脂肪族、脂環族もしくは芳
香族炭化水素、脂肪族もしくは脂環族ケトン、または脂
肪族もしくは脂環族アルコールが挙げられる。
洗浄は一回または数回、しばしば1〜3回行われる。洗
浄後、沈澱の水分含有量は20〜80%であり、一般には20
〜50%である。
分離および洗浄後得られる生成物は次いで風乾または1
〜100mmHg(133.3322Pa〜13,332.2Pa)程度の減圧下で
乾燥される。乾燥温度は室温〜100℃の温度で変えられ
る。乾燥時間は臨界的意義を持たないが、一般に2〜48
時間、好ましくは10〜24時間である。
この発明の最後の工程によれば、乾燥生成物を300〜800
℃、好ましくは350〜450℃の温度で焼成する。焼成は約
30分間〜10時間、好ましくは4〜8時間である。
温度範囲の下限は臨界的意義を持たず、もっと下げるこ
とができる。
これに対して、焼成温度の上限を上げるのは得られた酸
化第二セリウムの比表面積が減少することが確かめられ
ているので有益でない。
この発明の方法は連続的実施に全く適している。上記の
ように、ゾル中のコロイドの形態は気孔の大きさのある
種の分布をもたらしている。
この発明の第一の実施態様に従えば、気孔の大きさが単
項分布をしている酸化第二セリウムを得る目的でこの発
明に適したゾルの例が提供される。
そのような酸化第二セリウムを得るのに適した出発材料
としては、特に、水に一般式(II) Ce(OH)x(NO3)y・pCeO2・nH2O (II) (式中、xはx=4−yとなるような数である。
yは0.35〜1.5である。
pは0以上2.0以下である。
nは0以上約20以下である。) に相当するセリウムIV化合物を懸濁させることにより得
られるゾルを使用することができる。
このゾルはコロイド粒子の大きさが100〜1,000オングス
トロームの広い範囲で変えられる。
pH3.0になるまで塩基性化することにより流体動力学的
平均粒径が300〜2,000オングストロームのより大きいコ
ロイドが得られる。
上記のコロイド粒径を持つゾルを得る方法は水に直接分
散し得る一般式(II)に相当するセリウムIV化合物を水
に懸濁させることからなる。この化合物は攪はん下に水
性媒体または弱酸性媒体にpHが1〜2.5のゾルが形成さ
れるように分散させる。一般式(II)のセリウムIV化合
物は、第一工程において、セリウムIV塩の水溶液を酸性
媒体中で加水分解し、第二工程において、得られた沈澱
を分離し、第三工程(必須ではない)において、これを
熱処理することからなる方法により調製される。
第一工程において、セリウムIV塩水溶液の加水分解が実
施される。
このためにセリウムIV水溶液を出発材料として使用する
が、これは硝酸セリウム水溶液でもよい。この溶液は第
一セリウムの状態のセリウムを含有していても不都合は
ないが、沈澱の収率をよくするためにはセリウムIVを85
%以上含有していることが望ましい。
セリウム塩溶液は最終生成物中に回収できる程の不純物
を含有していないものを選ぶ。99%より高い純度を持つ
セリウム塩溶液を使用するのが有利である。
セリウム塩溶液の濃度は臨界的意義を持つ因子ではな
い。セリウムIVで表すとこの濃度は0.3〜3モル/、
好ましくは0.5〜1.5モル/である。
原料としては、従来の方法に従って第一セリウム塩、例
えば炭酸第一セリウム、の溶液とアンモニア溶液を反応
させて調製された酸化第二セリウム水和塩に硝酸を作用
させることによって得られた硝酸第二セリウムの溶液を
挙げられる。
硝酸第一セリウム溶液の電解酸化法[仏国特許出願公開
第2570087号公報(仏国特許出願第8413.6411号)]によ
って得られた硝酸第二セリウム溶液は好ましい原料であ
る。
加水分解媒体は水からなり、その性質は重要ではない
が、蒸留水または交換水が好ましい。
酸度は鉱酸を添加することにより与えられる。好ましく
は硝酸が選ばれる。濃縮または例えば10-2Nまで希釈し
た酸を使用することができる。
また、酸度は硝酸第二セリウム溶液に由来していてもよ
く、この溶液は弱酸性であってもよく、規定度は0.01〜
5N、好ましくは0.1〜1Nであってよい。
加水分解反応のために導入されるH+イオンの量はモル比
[H+]/[CeIV当量]が0以上3以下となるような量で
ある。
モル比[H+]/[CeIV当量]の選択はセリウムIV塩水溶
液および加水分解媒体の使用態様によって決まる。
セリウムIV塩水溶液と加水分解媒体(本質的に水)の割
合はセリウムIVの最終当量濃度が0.1〜1.0モル/、好
ましくは0.2〜0.6モル/となるように決められる。セ
リウムIVの最終当量濃度は次の式によって定義される。
式中、[CeIV]はセリウムIV塩溶液のモル/濃度を表
す。
Vは、場合によって酸を添加した水の体積を表す。
V′はセリウムIV塩溶液の体積を表す。
上記の条件下でおこなわれたセリウムIV塩の加水分解は
好ましくは70〜120℃の温度で、さらに好ましくは反応
媒体の還流温度(100℃程度)でおこなわれる。調節お
よび再現の容易な還流温度で操作するのがより容易であ
る。
この発明の方法は種々の変形例に従って実施することが
できる。例えば、セリウムIV塩溶液を一度に、徐々にま
たは連続的に反応温度に維持された、場合によって酸を
含有する、水に添加することができるし、あるいは、こ
の逆に添加することができる。
この方法は連続的に操作することができる。そのために
セリウムIV塩溶液と加水分解媒体を同時にかつ連続的に
混合し、この混合物を連続的に選ばれた反応温度に加熱
する。
二つの出発溶液が上記の実施態様に従って使用されると
き、モル比[H+]/[CeIV当量]は0以上3以下であ
る。
収率の点からは上記モル比は0〜2.0に選ぶのが好まし
い。
この発明の別の実施態様に従えば、セリウムIV塩溶液と
加水分解媒体を混合し次いでこの混合物を攪はん下に反
応温度に維持する。
この場合、モル比[H+]/[CeIV当量]はセリウムIVの
最終当量濃度によらず0.75より大きく3より小さくする
ことができる。モル比[H+]/[CeIV当量]が0以上0.
75以下に選ばれたときはセリウムIV塩溶液の最終当量濃
度は0.4モル/以上に選ばれる。
この発明の実施態様によらず沈澱の形成が認められる。
反応時間は2〜8時間、好ましくは3〜6時間である。
この発明の方法の第二工程は懸濁液の形をした温度が90
〜100℃の反応混合物を従来公知の方法に従って分離す
ることからなる。この操作は反応混合物を室温(たいて
いの場合10〜25℃の温度)に冷却する前にまたは冷却し
た後に行われる。
この沈澱は従来公知の分離技術、すなわち、ろ過、デカ
ンテーション、脱水および遠心分離に従って分離され
る。
この発明の方法の第三工程は分離された沈澱を熱処理す
ることからなる。
この操作は、第一工程の加水分解に次いで分離された沈
澱が水に直接分散し得ること、および分離された沈澱を
乾燥することなく水に懸濁して水性ゾルを直接得ること
ができることが見いだされているので、任意である。実
際、乾燥工程は必須ではなく、自由水をすべて除去する
ことは必要ではない。
この場合、得られる生成物は一般式(II a) Ce(OH)x(NO3)y・nH2O (II a) (式中、xはx=4−yとなるような数である。
yは0.35〜0.7である。
nは0以上約20以下である。) に相当する。
一般式(II a)により定義されるセリウムIV化合物は一
般式(II)においてpが0に等しく、nが0以上約20以
下の化合物に相当する。分離された沈澱を時間と温度の
パラメータを調節しつつ乾燥工程に付する際に、それら
のパラメータの増加するに従って、一般式(II)におい
てnが0以上約20以下の場合に相当する一般式(II a)
のセリウムIV化合物、一般式(II)においてnおよびn
がともに0に等しい場合に相当する一般式(II b)のセ
リウムIV化合物、および一般式(II)においてnが0に
等しく、pが0より大きい場合に相当する一般式(II
c)がセリウムIV化合物が得られる。
さらに詳しくいうと、セリウムIV化合物は下記の一般式
(II b)で表される。
Ce(OH)x(NO3)y (II b) (式中、xはx=4−yとなるような数である。
yは0.35〜0.7である。
CeO2の%で表されるセリウム含有量は77〜72%であ
る。) 乾燥条件がもっと強く、かつ、CeO2含有量がy=0.7に
対して72%を超え、y=0.35に対して77%を超え、y=
0.35〜0.7に対して77〜72%であるならば、得られた化
合物は酸化第二セリウムの存在を証明する下記一般式
(II c)により表される。
Ce(OH)x(NO3)y・pCeO2 (II c) (式中、xはx=4−yとなるような数を表す。
yは0.35〜1.5である。
pは0以上2.0以下である。) 乾燥条件は広い範囲で変えられる。すなわち、温度は15
〜100℃、好ましくは室温〜50℃である。乾燥時間は乾
燥生成物(n=0)を得るために、好ましくは5〜48時
間から選ばれる。乾燥操作は風乾によりまたは例えば1
〜100mmHg(133.3322〜13332.2Pa)の減圧下で行われ
る。
一般式(II)に相当するセリウムIV化合物の水和の程度
のいかんによらず水に直接分散させることができ、水に
懸濁することにより流体動力学的平均粒径が100〜1,000
オングストロームであるコロイドをもつゾルを与えるセ
リウムIV化合物が得られる。
同様に均一な気孔孔径分布をもつ酸化第二セリウムをも
たらすゾルの別の実施態様として一般に流体動力学的平
均粒径が300〜600オングストロームであり、水と酸(例
えば硝酸)で酸化第二セリウム水和塩の分散液を形成
し、この懸濁液を加熱する方法に従って得られたゾルを
挙げられる。この分散液中に存在する酸の量はpHが5.4
より低くなるような量である。出発原料の酸化第二セリ
ウム水和塩は第一セリウム塩、例えば炭酸第一セリウ
ム、の溶液とアンモニア溶液を酸化剤、例えば過酸化水
素水、の存在下で反応させることにより調製される。
ゾルの調製に関する詳細については仏国特許出願公開第
2,416,867号公報を参照することができる。
均一な多孔度を持つ酸化第二セリウムを得るために上記
のゾルを使用する場合、気孔の大きさはコロイドの大き
さに関係づけることができ、コロイドが大きければ大き
いだけ気孔もそれだけ大きいことが確かめられた。
非限定的な例示として説明すると、流体動力学的平均粒
径が300オングストロームに等しい大きなコロイドのゾ
ルは気孔大きさがが50〜80オングストロームの酸化第二
セリウムをもたらし、流体動力学的平均粒径が570オン
グストロームのコロイドをもつゾルは160オングストロ
ームの気孔をもつ酸化第二セリウムを得ることを可能に
する。
この発明の一つの変形実施例に従えば、二集団性の多孔
度をもつ比表面積の大きい酸化第二セリウムを得ること
を可能にするゾルの例を与える。
一般式(II)に相当し所定の加水分解条件に従って調製
された化合物を水に懸濁させ、次いで得られた沈澱を分
離し、場合によって熱処理することにより得られたゾル
から出発する。
加水分解の第一工程はセリウム塩溶液と加水分解媒体を
混合し、次いでこの混合物を70〜120℃、好ましくは反
応混合物の還流温度、から選ばれる反応温度に維持する
ことからなる。
出発溶液であるセリウム塩溶液と加水分解媒体の前記の
特性は有効である。
加水分解反応のために導入されるH+イオンの量はモル比
[H+]/[CeIV当量]が0以上0.75以下となるような量
である。
セリウムIV塩水溶液と加水分解媒体(本質的に水)の割
合はセリウムIVの最終当量濃度が0.4モル/未満、好
ましくは0.2〜0.4モル/となるように決められる。
実地上、二つの出発溶液の混合を室温で行い、この混合
物を反応温度に導く。
反応時間は2〜8時間、好ましくは3〜6時間である。
分離、場合によって乾燥、ゾルを得るためのセリウムIV
化合物の懸濁の諸操作は前記のものに従って実施され
る。
流体動力学的平均粒径が100〜1.000オングストロームに
達するコロイドを有するゾルが得られる。
前記のゾルの焼成後得られる酸化第二セリウムは多数の
適用例において使用することができる。例えば、装入
剤、結合剤、薄め塗膜、濃化剤、分散剤、補力剤、顔
料、吸着剤、およびセラミック製造原料が挙げられる。
この発明の酸化第二セリウムは比表面積が大きく多孔度
が高いので触媒作用の領域で触媒または触媒担体として
使用するのに好適である。
この発明の酸化第二セリウムは種々の反応、例えば脱
水、水硫化、加水脱窒、脱硫、加水脱硫、脱ハロゲン化
水素、リフォーミング、蒸気改質、クラッキング、加水
クラッキング、水素化、脱水素化、異性化、不均化、オ
キシクロル化、炭化水素その他の有機化合物の脱水環
化、酸化および/または還元反応、クラウス反応、内燃
機関の廃棄ガス処理、脱金属、水性ガス転化等を行うた
めの触媒または触媒担体として使用することができる。
この発明の酸化第二セリウムは単味で使用してもよい
し、他の酸化物と混合して使用してもよい。
この発明の酸化第二セリウムは化学反応性が高いので触
媒の混合担体、例えばAl2O3−MgO−CeO2。り作成に有利
に使用できる(特願昭53−40077参照)。
以下にこの発明の実施例を挙げるが、もちろん、この発
明はこれらに限定されない。実施例中、百分率は重量表
示である。
実施例 1 a.一般式(II c)に相当するセリウムIV化合物のゾルの
調製 温度計、攪はん装置、反応体導入系、還流冷却器および
加熱装置を備えた反応器に室温で下記のものを導入し
た。
1.02N硝酸溶液−2150cm3 仏国特許出願公開第2,570,087号公報(仏国特許出
願第84.13641号)に従う電解によって調製された硝酸第
二セリウムでセリウムIVを1.23モル/、セリウムIII
を0.05モル/含有し、自由酸度0.49Nの硝酸第二セリ
ウム溶液−850cm3 加水分解媒体はCeO2で表されたセリウムIVの濃度が60g/
であり、かつ、モル比 [H+]/[CeIV当量]が2.5に等しい。
反応媒体を攪はん下に4時間維持した。
フリットしたガラス(多孔度3)上でろ過した。
得られた生成物を乾燥40℃の乾燥室で48時間乾燥した。
CeO283%を含有し、モル比NO3 -/CeIVが約0.5である一般
式(II c)に相当するセリウムIV化合物の黄色の沈澱5
9.4gを収得した。
このようにして調製された化合物25.9gを十分量の蒸留
水に添加して250cm3とした。CeO2で表されたCeIVの濃度
が86g/(0.5M)のゾルを得た。
準弾性光散乱試験により流体動力学的平均粒径が310オ
ングストローム程度のコロイドの存在が示された。
b.比表面積が大きく均一な気孔分布の酸化第二セリウム
の調製 上記のように調製したゾル250cm3に攪はん下室温で11N
アンモニア溶液を流量45.5cm3/時間pH=10になるまで添
加した。
反応混合物を5分間PH=10に維持し、次いでろ過により
固液分離を行った。
次いで、収得された沈澱を蒸留水250cm3中で15分間洗浄
した。
ろ過後、収得された固体を100℃の乾燥室で24時間乾燥
した。
沈澱をアルミナ製ゴンドラに乗せて陶器焼窯の中で450
℃で6時間焼成した。
得られた沈澱第二セリウムは下記の物理化学的性質を示
した。
○ 重量比Na2O/CeO2が100ppmより小さく重量比NO3 -/Ce
O2が0.003より小さい。
BETポロシメーター分析により次のことが証明された。
○ 比表面積 115m2/g程度 ○ 気孔容積 約0.23cm3/g ○ 気孔平均孔径 80オングストローム程度 ○ 気孔の大きさの均一分散:次の比 で定義され分離型がそれぞれ1.6および1.5である。
実施例 2 a.一般式(II a)に相当するセリウムIV化合物のゾルの
調製 温度計、攪はん装置、反応体導入系、還流冷却器および
加熱装置を備えた反応器に室温で蒸留水1.89を導入し
た。
この溶液の温度を攪はん下に100℃まで上げ、3時間の
間に、セリウムIVを1.26モル/およびセリウムIIIを
0.05モル/含有し、自由酸度0.52Nの硝酸第二セリウ
ム溶液1.11を添加した。
加水分解媒体はCeO2で表されたセリウムIVの濃度が80g/
であり、かつ、モル比 [H+]/[CeIV当量]が0.4に等しい。
反応媒体を攪はん・還流下に3時間維持した。
フリットしたガラス(多孔度3)上でろ過した。
CeO257%を含有する一般式(II a)に相当するセリウム
IV化合物351gを収得した。
このようにして調製された化合物37.7gを十分量の蒸留
水に添加して250cm3とした。CeO2で表されたCeIVの濃度
が85g/(0.5M)のゾルを得た。
準弾性光散乱試験により流体動力学的平均粒径が450オ
ングストローム程度のコロイドの存在が示された。
b.比表面積が大きく均一な気孔分布の酸化第二セリウム
の調製 上記のように調製したゾル250cm3に攪はん下室温で11N
アンモニア溶液を流量45.5cm3/時間でpH=10になるまで
添加した。
反応混合物を5分間pH=10に維持し、次いでろ過により
固液分離を行った。
次いで、回収された沈澱を蒸留水250cm3中で15分間洗浄
した。
ろ過後、回収された固体を100℃の乾燥室で24時間乾燥
した。
沈澱をアルミナ製ゴンドラに乗せて陶器焼窯の中で450
℃で6時間焼成した。
BETポロシメーター分析により次のことが証明された。
○ 比表面積 125m2/g程度 ○ 気孔容積 約0.22cm3/g ○ 気孔平均孔径 75オングストローム程度 ○ 気孔の大きさの均一分散:次の比 で定義される分離型がそれぞれ1.06および1.6である。
実施例 3 a.一般式(II c)に相当するセリウムIV化合物のゾルの
調製 実施例2に記載の装置な室温で0.518N硝酸2.182を導
入した。
この溶液の温度を攪はん下に100℃まで上げ、3時間の
間に、セリウムIVを1.28モル/およびセリウムIIIを
0.06モル/含有し、自由酸度0.53Nの硝酸第二セリウ
ム溶液817.6cm3を添加した。
加水分解媒体はCeO2で表されたセリウムIVの濃度が60g/
であり、かつ、モル比 [H+]/[CeIV当量]が1.5に等しい。
反応媒体を攪はん・還流下に3時間維持した。
フリットしたガラス(多孔度3)上でろ過した。
得られた生成物を40℃の乾燥室で48時間乾燥した。
CeO282.6%を含有する一般式(II c)に相当するセリウ
ムIV化合物180gを収得した。
このようにして調製された化合物26.03gを十分量の蒸留
水に添加して250cm3とした。CeO2で表されたCeIVの濃度
が86g/(0.5Mあのゾルを得た。
準弾性光散乱試験により流体動力学的平均粒径が470オ
ングストローム程度のコロイドの存在が示された。
b.比表面積が大きく均一な気孔分布の酸化第二セリウム
の調製 上記のように調製したゾル250cm3に攪はん下室温で5.5N
アンモニア溶液を流量91cm3/時間でpH=10になるまで添
加した。
反応混合物を5分間pH=10に維持し、次いでろ過により
固液分離を行った。
ろ過後、収得された固体を100℃の乾燥室で24時間乾燥
した。
沈澱を陶器焼窯の中で450℃で6時間焼成した。
BETポロシメーター分析により次のことが証明された。
○ 比表面積 110m2/g程度 ○ 気孔容積 約0.22cm3/g ○ 気孔平均孔径 140オングストローム程度 ○ 気孔の大きさの均一分散:次の比 で定義される分離型がそれぞれ1.14および1.22である。
実施例 4 a.一般式(II c)に相当するセリウムIV化合物のゾルの
調製 実施例2に記載の装置に室温で0.59N硝酸2.455を導入
した。
この溶液の温度を攪はん下に100℃まで上げ、3時間の
間に、セリウムIVを1.28モル/およびセリウムIIIを
0.06モル/含有し、自由酸度0.53Nの硝酸第二セリウ
ム溶液545cm3を添加した。
加水分解媒体はCeO2で表されたセリウムIVの濃度が40g/
であり、かつ、モル比 [H+]/[CeIV当量]が2.5に等しい。
反応媒体を攪はん・還流下に3時間維持した。
フリットしたガラス(多孔度3)上でろ過した。
得られた生成物を40℃の乾燥室で48時間乾燥した。
CeO283%を含有する一般式(II c)に相当するセリウム
IV化合物133.6gを収得した。
このようにして調製された化合物259gを十分量の蒸留水
に添加して250cm3とした。CeO2で表されたCeIVの濃度が
86g/(0.5M)のゾルを得た。
準弾性光散乱試験により流体動力学的平均粒径が570オ
ングストローム程度のコロイドの存在が示された。
b.比表面積が大きく均一な気孔分布の酸化第二セリウム
の調製 上記のように調製したゾル250cm3に攪はん下室温で11N
アンモニア溶液を流量22.5cm3/時間でpH=10になるまで
添加した。
反応混合物を5分間pH=10に維持し、次いでろ過により
固液分離を行った。
ろ過後、収得された固体を100℃の乾燥室で24時間乾燥
した。
沈澱を陶器焼窯の中で450℃で6時間焼成した。
BETポロシメーター分析により次のことが証明された。
○ 比表面積 110m2/g程度 ○ 気孔容積 約0.26cm3/g ○ 気孔平均孔径 160オングストローム程度 ○ 気孔の大きさの均一分散:次の比 で定義される分離型がそれぞれ1.13および1.45である。
実施例 5 a.一般式(I)に相当するセリウムIV化合物のゾルの調
製 反応器に下記のものを導入した。
○ 過酸化水素の存在下で硝酸第一セリウム溶液のアン
モニア沈澱により調製された酸化第二セリウム水和塩
(CeO271.6%)−300g ○ 水475cm3に添加した7.5N硝酸−43cm3 反応混合物を20分間70℃に維持し、次いで3,000回転/
分で15分間遠心分離することにより固腋分離した。
上清を除去した後、水1.18を添加した。攪はん後、Ce
O2172g/(1M)のゾルを得た。
準弾性光散乱試験により流体動力学的平均粒径が450オ
ングストローム程度のコロイドの存在が示された。
b.比表面積が大きく均一な気孔分布の酸化第二セリウム
の調製 上記のように調製したゾル250cm3に攪はん下室温で10.8
Nアンモニア溶液を流量100cm3/時間でpH=10になるまで
添加した。
反応混合物を5分間pH=10に維持し、次いでろ過により
固液分離を行った。
ろ過後、収得された固体を100℃の乾燥室で24時間乾燥
した。
沈澱を陶器焼窯の中で450℃で6時間焼成した。
BETポロシメーター分析により次のことが証明された。
○ 比表面積 125m2/g程度 ○ 気孔容積 約0.175cm3/g ○ 気孔平均孔径 50オングストローム程度 ○ 気孔の大きさの均一分散:次の比 で定義される分離型がそれぞれ1.2および1.4である。
実施例 6 a.一般式(II c)に相当するセリウムIV化合物のゾルの
調製 温度計、攪はん装置、反応体導入系、還流冷却器および
加熱装置を備えた反応器に室温で下記のものを導入し
た。
蒸留水−2440cm3 セリウムIVを1.25モル/、セリウムIIIを0.05モ
ル/含有し、自由酸度0.49Nの硝酸第二セリウム溶液
−558cm3 加水分解媒体はCeO2で表されたセリウムIVの濃度が40g/
であり、かつ、モル比 [H+]/[CeIV当量]が0.4に等しい。
反応媒体を攪はん下に4時間維持した。
フリットしたガラス(多孔度3)上でろ過した。
得られた生成物を乾燥40℃の乾燥室で48時間乾燥した。
CeO280%の黄色の沈澱147を収得した。
このようにして調製された化合物26.9gを十分量の蒸留
水に添加して250cm3とした。CeO2で表されたCeIVの濃度
が86g/(0.5M)のゾルを得た。
準弾性光散乱試験により流体動力学的平均粒径が900オ
ングストローム程度のコロイドの存在が示された。
b.比表面積が大きく二集団性の多孔度をもつ酸化第二セ
リウムの調製 上記のように調製したゾル250cm3に攪はん下室温で11N
アンモニア溶液を流量45.5cm3/時間でpH=10になるまで
添加した。
反応混合物を5分間PH=10に維持し、次いでろ過により
固液分離を行った。
次いで、収得された沈澱を蒸留水250cm3中で15分間洗浄
した。
ろ過後、収得された固体を100℃の乾燥室で24時間乾燥
した。
沈澱を陶器焼窯の中で450℃で6時間焼成した。
得られた酸化第二セリウムのBETポロシメーター分析に
より次のことが証明された。
○ 比表面積 150m2/g程度 ○ 気孔容積 約0.25cm3/g ○ 気孔の二重分布 平均孔径約15オングストロームの微細気孔の存在 平均孔径約100オングストロームの中気孔の存在 実施例 7 a.一般式(II c)に相当するセリウムIV化合物のゾルの
調製 実施例6に記載の装置に室温で下記のものを導入した。
蒸留水 − 2182cm3 セリウムIVを1.28モル/、セリウムIIIを0.06モ
ル/含有し、自由酸度0.5Nの硝酸第二セリウム溶液
− 817cm3 加水分解媒体はCeO2で表されたセリウムIVの濃度が60g/
であり、かつ、モル比 [H+]/[CeIV当量]が0.4に等しい。
反応媒体を攪はん・還流下に4時間維持した。
ろ過および得られた生成物の乾燥を実施例6と同様に行
った。
CeO280.3%の黄色の沈澱213gを収得した。
このようにして調製された化合物26.77gを十分量の蒸留
水に添加して250cm3とした。CeO2で表されたCeIVの濃度
が86g/(0.5M)のゾルを得た。
準弾性光散乱試験により流体動力学的平均粒径が750オ
ングストローム程度のコロイドの存在が示された。
b.比表面積が大きく二集団性の多孔度をもつ酸化第二セ
リウムの調製 上記のように調製したゾル250cm3に攪はん下室温で11N
アンモニア溶液を流量45.5cm3/時間でpH=10になるまで
添加した。
反応混合物を5分間PH=10に維持し、次いでろ過により
固液分離を行った。
次いで、収得された沈澱を蒸留水250cm3中で15分間洗浄
した。
ろ過後、収得された固体を100℃の乾燥室で24時間乾燥
した。
沈澱を陶器焼窯の中で450℃で6時間焼成した。
得られた酸化第二セリウムのBETポロシメーター分析に
より次のことが証明された。
○ 比表面積 175m2/g程度 ○ 気孔容積 約0.160cm3/g ○ 気孔の二重分布 平均孔径約12オングストローム、気孔容積約0,05cm3/g
の微細気孔の存在 平均孔径約120オングストローム、気孔容積0.11cm3/gの
中気孔の存在 実施例 8 a.一般式(II c)に相当するセリウムIV化合物のゾルの
調製 実施例6に記載の装置に室温で下記のものを導入した。
蒸留水 − 1984cm3 セリウムIVを1.25モル/、セリウムIIIを0.05モ
ル/含有し、自由酸度0.5Nの硝酸第二セリウム溶液
− 1016cm3 加水分解媒体はCeO2で表されたセリウムIVの濃度が80g/
であり、かつ、モル比 [H+]/[CeIV当量]が0.4に等しい。
反応媒体を攪はん・還流下に4時間維持した。
ろ過および得られた生成物の乾燥を実施例6と同様に行
った。
CeO282%の黄色の沈澱228gを収得した。
このようにして調製された化合物26.18gを十分量の蒸留
水に添加して250cm3とした。CeO2で表されたCeIVの濃度
が86g/(0.5M)のゾルを得た。
準弾性光散乱試験により流体動力学的平均粒径が650オ
ングストローム程度のコロイドの存在が示された。
b.比表面積が大きい均一な気孔分布を持つ酸化第二セリ
ウムの調製 上記のように調製したゾル250cm3に攪はん下室温で11N
アンモニア溶液を流量45.5cm3/時間でpH=10になるまで
添加した。
反応混合物を5分間PH=10に維持し、次いでろ過により
固液分離を行った。
次いで、収得された沈澱を蒸留水250cm3中で15分間洗浄
した。
ろ過後、収得された固体を100℃の乾燥室で24時間乾燥
した。
沈澱を陶器焼窯の中で450℃で6時間焼成した。
得られた酸化第二セリウムのBETポロシメーター分析に
より次のことが証明された。
○ 比表面積 100m2/g程度 ○ 気孔容積 約0.20cm3/g ○ 気孔平均孔径 85オングストローム程度 ○ 気孔の大きさの均一分散:次の比 で定義され分離型がそれぞれ2.94および8.5である。
実施例 9 a.一般式(II a)に相当するセリウムIV化合物のゾルの
調製 温度計、攪はん装置、反応体導入系、還流冷却器および
加熱装置を備えた三首球形フラスコに室温で下記のもの
を導入した。
蒸留水 − 1425cm3 セリウムIVを1.24モル/、セリウムIIIを0.06モ
ル/含有し、自由酸度0.8Nの硝酸第二セリウム溶液
− 558cm3 加水分解媒体はCeO2で表されたセリウムIVの濃度が60g/
であり、かつ、モル比 [H+]/[CeIV当量]が0.64に等しい。
反応媒体を攪はん・還流下に4時間維持した。
フリットしたガラス(多孔度3)の薄層(<5mm)上で
減圧(160mmHg)ろ過し、ケーキを最大限圧縮して圧力
脱水を確実にした。
CeO272.5%、モル比NO3 -/CeIVが約0.45の一般式(II
a)に相当するセリウムIV化合物黄色の沈澱157gを収得
した。
このようにして調製された化合物27.6gを十分量の蒸留
水に添加して250cm3とした。CeO2で表されたCeIVの濃度
が80g/のゾルを得た。
準弾性光散乱試験により流体動力学的平均粒径が900オ
ングストローム程度のコロイドの存在が示された。
b.比表面積が大きく二集団性の多孔度をもつ酸化第二セ
リウムの調製 上記のように調製したゾル250cm3に攪はん下室温で11N
アンモニア溶液7.3cm3を流量45cm3/時間でpH=9.5にな
るまで添加した。
反応混合物を5分間pH=9.5に維持し、次いでろ過によ
り固液分離を行った。
次いで、収得された沈澱を蒸留水250cm3中で15分間洗浄
した。
ろ過後、収得された固体を100℃の乾燥室で24時間乾燥
した。
沈澱を陶器焼窯の中で300℃で6時間焼成した。
得られた酸化第二セリウムのBETポロシメーター分析に
より次のことが証明された。
○ 比表面積 175m2/g程度 ○ 気孔容積 約0.24cm3/g ○ 気孔の二重分布 平均孔径約15オングストロームの微細気孔の存在 平均孔径約100オングストロームの中気孔の存在 実施例 10 a.一般式(II b)に相当するセリウムIV化合物のゾルの
調製 3時間で硝酸第二セリウム溶液558cm3をあらかじめ100
℃に昇温した水1425cm3に導入した以外は実施例9を繰
り返した。
加水分解媒体はCeO2で表されたセリウムIVの濃度が60g/
であり、かつ、モル比 [H+]/[CeIV当量]が0.64に等しい。
反応媒体を攪はん・還流下に3時間維持した。
フリットしたガラス(多孔度3)の薄層(<5mm)上で
減圧(160mmHg)ろ過し、ケーキを最大限圧縮して圧力
脱水を確実にした。
得られた生成物を20℃で15時間乾燥する。
CeO276.6%、モル比NO3 -/CeIVが約0.37の一般式(II
b)に相当するセリウムIV化合物の黄色の沈澱14.6gを収
得した。
このようにして調製された化合物26.1gを十分量の蒸留
水に添加して250cm3とした。CeO2で表されたCeIVの濃度
が80g/のゾルを得た。
準弾性光散乱試験により流体動力学的平均粒径が200オ
ングストローム程度のコロイドの存在が示された。
b.比表面積が大きい均一な気孔分布を持つ酸化第二セリ
ウムの調製 上記のように調製したゾル250cm3に攪はん下室温で11N
アンモニア溶液7.3cm3を流量45cm3/時間でpH=9.5にな
るまで添加した。
反応混合物を5分間pH=9.5に維持し、次いでろ過によ
り固液分離を行った。
次いで、収得された沈澱を蒸留水250cm3中で15分間洗浄
した。
ろ過後、収得された固体を100℃の乾燥室で24時間乾燥
した。
沈澱を陶器焼窯の中で300℃で6時間焼成した。
得られた酸化第二セリウムのBETポロシメーター分析に
より次のことが証明された。
○ 比表面積 165m2/g程度 ○ 気孔容積 約0.23cm3/g ○ 気孔平均孔径 75オングストローム程度 ○ 気孔の大きさの均一分散:次の比 で定義され分離型がそれぞれ1.20および1.35である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭60−239324(JP,A) 特開 昭62−239323(JP,A) 粉体および粉末冶金 vol.17,6号 (1971)P.243〜250 Surfece Technology vol.21 No.1,(1984)73〜82 OTINCAHNE N306PETEH NR 833525

Claims (43)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】気孔容積が0.15cm3/g以上であり、かつ平
    均孔径が50オングストロームより大きいことを特徴とす
    る、350〜550℃の温度で焼成した後に85m2/g以上の比表
    面積を有する酸化第二セリウム。
  2. 【請求項2】350〜500℃の温度で焼成した後に100m2/g
    以上の比表面積を有することを特徴とする、特許請求の
    範囲第1項に記載の酸化第二セリウム。
  3. 【請求項3】気孔容積が0.15〜0.3cm3/gであることを特
    徴とする、特許請求の範囲第1または2項に記載の酸化
    第二セリウム。
  4. 【請求項4】純度が99%より大きいことを特徴とする、
    特許請求の範囲第1〜3項のいずれか一項に記載の酸化
    第二セリウム。
  5. 【請求項5】気孔容積が0.15cm3/gより大きく、平均孔
    径が50〜200オングストロームであり、かつ単項孔径分
    布を示すことを特徴とする、特許請求の範囲第1項に記
    載の酸化第二セリウム。
  6. 【請求項6】350〜500℃の温度で焼成した後に、150〜1
    00m2/gの比表面積を有することを特徴とする、特許請求
    の範囲第5項に記載の酸化第二セリウム。
  7. 【請求項7】400〜450℃の温度で焼成した後に、150〜1
    00m2/gの比表面積を有することを特徴とする、特許請求
    の範囲第6項に記載の酸化第二セリウム。
  8. 【請求項8】平均孔径が80〜150オングストロームであ
    ることを特徴とする、特許請求の範囲第5項に記載の酸
    化第二セリウム。
  9. 【請求項9】均一で狭い気孔分布を示し分離型e1および
    e2の間隔が1.0〜2.0であることを特徴とする、特許請求
    の範囲第5項に記載の酸化第二セリウム。
  10. 【請求項10】気孔容積が0.15cm3/gより大きく、二集
    団性分布を示し、微細気孔の平均孔径が10〜50オングス
    トロームでありかつ中気孔の平均孔径が50〜200オング
    ストロームであることを特徴とする、特許請求の範囲第
    1項に記載の酸化第二セリウム。
  11. 【請求項11】350〜500℃の温度で焼成した後に180〜1
    50m2/gの比表面積を有することを特徴とする、特許請求
    の範囲第10項に記載の酸化第二セリウム。
  12. 【請求項12】400〜450℃の温度で焼成した後に180〜1
    50m2/gの比表面積を有することを特徴とする、特許請求
    の範囲第11項に記載の酸化第二セリウム。
  13. 【請求項13】塩基を添加してセリウムIV化合物の水性
    コロイド分散液を不安定化し、得られた沈澱を分離し、
    ついでこれを熱処理することを特徴とする、気孔容積が
    0.15cm3/g以上であり、平均孔径が50オングストローム
    より大きく、かつ350〜550℃の温度で焼成した後に85m2
    /g以上の比表面積を有する酸化第二セリウムの製造方
    法。
  14. 【請求項14】使用するセリウムIV化合物の水性コロイ
    ド分散液が一般式(I) Ce(M)z(OH)x(NO3)y・pCeO2・H2O (1) (式中、Mはアルカリ金属または第四アンモニウム基を
    表す。 zは0〜0.2である。 yは0〜1.5である。 xはy=4−z+xとなるような数である。 pは0〜2.0である。 nは0〜約20である。 に相当することを特徴とする、特許請求の範囲第13項に
    記載の製造方法。
  15. 【請求項15】該水性コロイド分散液中のセリウムIV化
    合物の濃度が0.1〜2.0モル/であることを特徴とす
    る、特許請求の範囲第14項に記載の製造方法。
  16. 【請求項16】該濃度が0.5〜1モル/であることを
    特徴とする、特許請求の範囲第15項に記載の製造方法。
  17. 【請求項17】該水性コロイド分散液中のコロイドの形
    のセリウムの割合が99〜100%であることを特徴とす
    る、特許請求の範囲第14項に記載の製造方法。
  18. 【請求項18】該コロイドの流体動力学的平均粒径が10
    0〜2000オングストロームであることを特徴とする、特
    許請求の範囲第14項に記載の製造方法。
  19. 【請求項19】該塩基溶液の規定度が0.1〜11Nであるこ
    とを特徴とする、特許請求の範囲第13項に記載の製造方
    法。
  20. 【請求項20】該規定度が5〜10Nであることを特徴と
    する、特許請求の範囲第19項に記載の製造方法。
  21. 【請求項21】塩基の添加量を該分散液の最終pHが7よ
    り大きくなるようにすることを特徴とする、特許請求の
    範囲第13項に記載の製造方法。
  22. 【請求項22】塩基の添加量を処理された分散液の最終
    pHが9以上10以下となるようにすることを特徴とする、
    特許請求の範囲第21項に記載の製造方法。
  23. 【請求項23】該塩基を該セリウムIV化合物の水性コロ
    イド分散液にまたは該セリウムIV化合物の水性コロイド
    分散液を該塩基に一度に、徐々にもしくは連続的に添加
    することを特徴とする、特許請求の範囲第13項に記載の
    製造方法。
  24. 【請求項24】該塩基の該セリウムIV化合物の水性コロ
    イド分散液への添加流量がセリウムIV 1モル当たりかつ
    1時間当たりOH-0.1〜5モルであることを特徴とする、
    特許請求の範囲第13項に記載の製造方法。
  25. 【請求項25】混合温度が室温〜60℃から選ばれること
    を特徴とする、特許請求の範囲第13項に記載の製造方
    法。
  26. 【請求項26】反応媒体をさらに撹はん下に1分間〜24
    時間維持することを特徴とする、特許請求の範囲第13項
    に記載の製造方法。
  27. 【請求項27】沈澱の分離を従来公知の固液分離技術で
    あるろ過、デカンテーション、遠心分離または脱水によ
    り行うことを特徴とする、特許請求の範囲第13項に記載
    の製造方法。
  28. 【請求項28】水または有機溶媒で沈澱を一回または二
    回以上洗浄することを特徴とする、特許請求の範囲第13
    項に記載の製造方法。
  29. 【請求項29】乾燥工程を大気中でまたは1〜100mmHg
    程度の減圧下室温〜100℃の温度で2〜48時間行うこと
    を特徴とする、特許請求の範囲第13項に記載の製造方
    法。
  30. 【請求項30】焼成工程を300〜800℃の温度で30分間〜
    10時間行うことを特徴とする、特許請求の範囲第13項に
    記載の製造方法。
  31. 【請求項31】焼成温度が350〜450℃であることを特徴
    とする、特許請求の範囲第30項に記載の製造方法。
  32. 【請求項32】焼成時間が4〜8時間であることを特徴
    とする、特許請求の範囲第30項に記載の製造方法。
  33. 【請求項33】塩基を添加してセリウムIV化合物の水性
    コロイド分散液を不安定化し、得られた沈澱を分離し、
    ついでこれを焼成することによって、気孔容積が0.15cm
    3/gより大きく、平均孔径が50〜200オングストロームで
    あり、単項孔径分布を示し、そして350〜500℃の温度で
    焼成した後に150〜100m2/gの比表面積を有する酸化第二
    セリウムを製造するにあたり、該分散液が、一般式(I
    I) Ce(OH)x(NO3)y・pCeO2・nH2O (II) (式中、xはx=4−yとなるような数である。 yは0.35〜1.5である。 pは0以上2.0以下である。 nは0以上約20以下である。) に相当し、かつ、第一工程において、セリウムIV塩溶液
    を一度に、徐々にまたは連続的に場合によって酸を含有
    する反応温度に維持された水に添加するかあるいはその
    逆に添加してモル比 [H+]/[CeIV当量] が0以上3以下になるようにすることによりセリウムIV
    塩の水溶液を酸で加水分解し、第二工程において、得ら
    れた沈澱を分離し、場合によって第三工程において、こ
    れを熱処理することからなる方法により得られるセリウ
    ムIV化合物を水に懸濁することにより調整されたもので
    あることを特徴とする該酸化第二セリウムの製造方法。
  34. 【請求項34】加水分解工程においてセリウムIV塩溶液
    と加水分解媒体の混合を同時にかつ連続的に行い、該混
    合物を連続的に反応温度に加熱し、モル比 [H+]/[CeIV当量] が0以上3以下となるようにすることを特徴とする、特
    許請求の範囲第33項に記載の製造方法。
  35. 【請求項35】該モル比 [H+]/[CeIV当量] が0〜2.0となるようにすることを特徴とする、特許請
    求の範囲第33または34項に記載の製造方法。
  36. 【請求項36】加水分解工程においてセリウムIV塩溶液
    と加水分解媒体をまず撹はん下に混合し、ついで反応温
    度に加熱し、セリウムIVの最終当量濃度の如何に拘わら
    ずモル比 [H+]/[CeIV当量] が0.75より大きく3以下となるように、またはセリウム
    IVの最終当量濃度が0.4モル/以上のときはモル比 [H+]/[CeIV当量] が0以上0.75以下となるようにすることを特徴とする、
    特許請求の範囲第33項に記載の製造方法。
  37. 【請求項37】塩基を添加してセリウムIV化合物の水性
    コロイド分散液を不安定化し、得られた沈澱を分離し、
    ついでこれを焼成することによって、気孔容積が0.15cm
    3/gより大きく、二集団性分布を示し、微細気孔の平均
    孔径が10〜50オングストロームでありかつ中気孔の平均
    孔径が50〜200オングストロームであり、そして350〜50
    0℃の温度で焼成した後に180〜150m2/gの比表面積を有
    する酸化第二セリウムを製造するにあたり、該分散液
    が、一般式(II) Ce(OH)x(NO3)y・pCeO2・nH2O (II) (式中、xはx=4−yとなるような数である。 yは0.35〜1.5である。 pは0以上2.0以下である。 nは0以上約20以下である。) に相当し、かつ、第一工程において、セリウムIV塩溶液
    と加水分解媒体をまず撹はん下に混合し、ついで反応温
    度に加熱し、かつモル比 [H+]/[CeIV当量] が0以上0.75以下でありセリウムIVの最終当量濃度が0.
    4モル/より小さくなるようにすることによりセリウ
    ムIV塩の水溶液を酸媒体中で加水分解し、第二工程にお
    いて、得られた沈澱を分離し、場合によって第三工程に
    おいて、これを熱処理することからなる方法により得ら
    れるセリウムIV化合物を水に懸濁することにより調製さ
    れたものであることを特徴とする該酸化第二セリウムの
    製造方法。
  38. 【請求項38】該セリウムIV塩水溶液と該加水分解媒体
    の割合をセリウムIVの最終当量濃度が0.2〜0.4モル/
    となるようにすることを特徴とする、特許請求の範囲第
    37項に記載の製造方法。
  39. 【請求項39】該セリウムIV塩水溶液が硝酸第二セリウ
    ム水溶液であることを特徴とする、特許請求の範囲第33
    〜38項のいずれか一項に記載の製造方法。
  40. 【請求項40】酸度が硝酸によりもたらされることを特
    徴とする、特許請求の範囲第33〜39項のいずれか一項に
    記載の製造方法。
  41. 【請求項41】反応媒体の温度が70〜120℃であること
    を特徴とする、特許請求の範囲第33〜39項のいずれか一
    項に記載の製造方法。
  42. 【請求項42】加水分解後に得られる沈澱を分離し、15
    〜100℃の温度で乾燥することを特徴とする、特許請求
    の範囲第39〜40項のいずれか一項に記載の製造方法。
  43. 【請求項43】該温度が室温〜50℃から選ばれることを
    特徴とする、特許請求の範囲第42項に記載の製造方法。
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