JPH0695151B2 - 金属製中性子吸収エレメント及び該エレメントの製造方法 - Google Patents

金属製中性子吸収エレメント及び該エレメントの製造方法

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JPH0695151B2
JPH0695151B2 JP1195383A JP19538389A JPH0695151B2 JP H0695151 B2 JPH0695151 B2 JP H0695151B2 JP 1195383 A JP1195383 A JP 1195383A JP 19538389 A JP19538389 A JP 19538389A JP H0695151 B2 JPH0695151 B2 JP H0695151B2
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    • G21CNUCLEAR REACTORS
    • G21C21/00Apparatus or processes specially adapted to the manufacture of reactors or parts thereof
    • G21C21/18Manufacture of control elements covered by group G21C7/00
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、例えば水を使用する原子炉用の制御棒の部品
として使用するための中性子吸収エレメントを製造する
方法と、この方法により得られる中性子吸収エレメント
とに関する。
J of Nuclear Science and Technology,23(2),185〜
187頁(1986年2月)に記載されたR. KUWAE-M.OBATA-K.
SATO-S. SHIMAの論文″Development of Zircaloy Clad
Hafnium Rods for BWR Long Life Neutron Absorber
s″には、炭化ホウ素を基にした中性子吸収材に置き換
わるジルカロイ被覆ハフニウム棒が記載されており、Hf
は炭化ホウ素よりも耐久性がある中性子吸収材あること
を想起させる。
ハフニウム棒の製造は、真空下での融解から出発し、高
温次いで冷間の仕上げ処理、さらに熱処理と続く複雑な
工程である。上記論文に記述されたかかる棒のジルカロ
イ2による被覆も複雑であり且つ高価である。
本発明者らは、製造がより簡単で且つより経済的なハフ
ニウムベースの吸収エレメントの開発に努めた。
発明の概要 本発明の第1の目的は、原子炉の制御装置に使用するた
めの、ハフニウムを含有し且つ中性子に対してほとんど
吸収性を示さないかまたは非吸収性を示す被覆で覆われ
ている金属製中性子吸収エレメントを製造する方法を提
供することである。本発明の方法は、 電解Hf少なくとも25重量%、 Zr及び/またはZr合金0〜75重量%、 Ti及び/またはTi合金0〜75重量%、 Zr55重量%未満を含むHf-Zr合金0〜75重量%、Ti55重
量%未満を含むHf-Ti合金0〜75重量%、融点が400℃以
上の中性子吸収金属元素0.2重量%未満、及び 融点400℃以上の他の金属元素0〜残りで100重量%にな
るまで(但し5重量%未満) を含有する金属生成物を調製する工程と、 b)上記生成物の少なくとも一部を開口端部を有する金
属容器内に導入する工程と、 c)前記容器に入った生成物を圧縮するか、または前記
生成物を前記容器に入れる前に圧縮する工程と、 d)必要であれば、前記容器の少なくとも95%が充填さ
れ、圧縮された前記生成物の見掛けの密度が中実状態に
おける前記生成物の密度の80%以上となるまで、前記生
成物の導入及び圧縮を繰り返す工程と、 e)前記容器内部を真空下またはヘリウムのごとき中性
ガスの下に置き、電子衝撃、レーザ溶接またはアルゴン
下に封止を用いるアーク溶接といった方法で、金属の蓋
またはプラグを溶接し前記容器の開口端部を密閉し且つ
内部に1.3Pa(=マーキュリーの10-2mm)よりもよい空
気真空を与える工程を含む。
本発明の圧縮可能な金属生成物は、Hf金属または合金化
されたHfや、それに加え、合金化された又はされていな
いZrやTiを主成分とする。但し、当該金属に本来的に不
純物等として伴って存在する金属成分(以下、「固有金
属成分」と称する)も含みうる。
この固有金属成分の第1は、合金化された又はされてい
ない上記主成分の中に、不純物として含まれている、上
記a)工程中記載の「中性子吸収金属元素」である。こ
れは、Hf同様に中性子吸収元素として周知であるB,Eu,D
y,Ga,Sm,Laのような元素(融点400℃以上)である。こ
れらの含有量は、Hfの中性子吸収特性を妨害しないよう
に、大変少なく、つまり上記したように0.2重量%未満
でなければならない。好ましくは、0.1重量%未満とす
る。
AlやMgのように中性子吸収特性を持たない不純物にすぎ
ないものが第2の固有金属成分である。この成分は、例
えばZr合金、Ti合金、Hf−Zr合金、Hf−Ti合金中の金属
添加物(例えばZr合金中の添加物:Fe,Sn,Cr,Ni等)と共
に、工程a)中で定義されている、融点400℃以上の
「他の金属元素」の範疇に含まれる。圧縮可能な金属生
成物中にこの「他の金属元素」が存在しても、中性子吸
収金属元素不純物ほど妨害作用を持たないため、その含
有量は、5重量%未満まで許容できるのである。
本発明の吸収エレメントは従って完全に金属製である。
圧縮可能な金属生成物は特に結晶、チップ及びスポンジ
の少なくとも一種からなる。本明細書中、「結晶」なる
用語は電着金属を意味し、「チップ」なる用語は旋削、
平削りまたは中ぐりといった機械操作において形成され
る金属フラグメントや、一般的に1立方cm未満の単位体
積を有する小さなスクラップを意味し、「スポンジ」な
る用語は、Hf、Zr及びTiについて、マグネシウム還元ま
たはクロール還元(Kroll還元)によって得られる生成
物を意味する。
使用されるハフニウムは、生成物の全重量の少なくとも
25重量%を占め且つ平均H含有量及び平均Cl含有量がそ
れぞれ40ppm及び50ppm未満の電解結晶からなる。
使用される生成物は更に電解Hf結晶に加え、水素及び塩
素の含有量がそれぞれ40ppm及び50ppm未満のZr及び/ま
たはTiの電解結晶を含有することができる。
電解Hf結晶は、好ましくは本発明の中性子吸収エレメン
トの内部を形成する装入物の全てまたは重要部分を構成
するので、特に注目に値する。電解Hf結晶は典型的には
タップ見掛けの密度が2〜6g/cm3の範囲に安定し、個々
の寸法が0.1〜3または4mmの範囲で可変であり、電解条
件に応じて中実または針状の外観を呈する。電解Hf結晶
は、複数の結晶軸に沿った樹枝状または針状の結晶の同
時成長を表す凝集体に分類されることが多い。これらの
凝集体の寸法は典型的には3mm〜2cmである。最も大きい
凝集体はこの用途に対しては除去されるかまたは、典型
的には得られるべき成形生成物の直径または厚さの0.5
〜0.3倍より小さい寸法に戻すために粉砕によって分解
される。
典型的には溶融塩化物槽内で行われる電解工程が終わる
と、ハフニウム結晶は通常は洗浄及び乾燥される。この
段階でのハフニウム結晶のH及びClの含有量はそれぞれ
40及び50ppm未満であり、電解条件を慎重に制御した
り、恐らくは周囲の空気内で乾燥するよりも大規模に乾
燥することによって、25〜30ppm未満に低下させること
ができる。ハフニウム結晶は1.3Paより高い真空内また
は不活性ガス内で150〜300℃で乾燥することができる。
150〜300℃で処理する代わりに1000〜1250℃で8〜48時
間、典型的には1050〜1150℃で16〜32時間、1mpaより高
い真空で電解結晶を処理することでH及びClからの精製
を更に行なうことができる。このときのH及びClの残留
含有量はそれぞれ20ppm未満及び10ppm未満となる。
Zr及び/またはTiの電解結晶を使用する場合にも同じ処
理を別々にまたは同時に適用することができる。要求さ
れるHfによる線形密度及び所望のエレメント重量に従っ
て並びに利用性に応じて、種々の純粋金属及び合金を装
入物を形成するために選択することができる。即ち、エ
レメント内部に25〜100%のHfを含有させたり、エレメ
ントを例えば、Tiまたはその合金の結晶またはチップを
使用することによってできるだけ軽量に作製することが
できる。
電解ハフニウム結晶は、主にその中に含まれる小さいタ
ップ見掛けの密度の原因である空洞の割合が大きいこと
から特に圧縮に適しており、圧縮は2つの段階、即ち、 被覆容器内に圧縮可能な生成物を入れる前の段階であっ
て、それを適切ならば均一に混合し、例えば、典型的に
は直径方向で0.5mm未満のわずかな間隙を残して容器内
に入れることができるペレットの形態に圧縮する段階
と、 一般的には複数の段階で行われる容器への導入の後の段
階であって、好ましくは小さな間隙を残して容器内に通
される器具を用いて少なくとも2回圧縮をなす段階との
いずれか一方で実施され得る。
ペレットが使用される場合には、容器内に入れられたペ
レットは再度圧縮され得る。
容器の充填及び圧縮は通常、容器上に溶接されるべきプ
ラグまたは蓋が適所に置かれたときに、3mm未満、好ま
しくは1mm未満の自由な内部高さが残るように制御され
る。圧縮生成物の見掛けの密度は、中実状態における平
均密度の80%以上、典型的には同じく85〜95%である。
生成物は通常、圧縮される前または金属容器に入れられ
る前に混合される。そうすると、密封容器またはエレメ
ントに沿った単位長さまたは単位有効面積当たりのハフ
ニウムの重量の変化は2相対パーセント未満、または1
相対パーセント未満とさえなる。
ハフニウムの含有量または密度は、所望であれば吸収エ
レメントに沿って変化させることができる。このことは
2つの方法によって達成できる。その一方は、 ハフニウム含有量が異なる複数の生成物のバッチからペ
レットを調製し、その後、密閉容器によって形成される
エレメントに沿ってハフニウム含有量が離散的に変化す
るように、ペレットを容器内に堆積する方法である。他
方は、 ハフニウム及びハフニウムを含有する合金を1つ以上の
段階で容器の一方の端部から他方の端部まで連続的に増
加する量で容器に入れると共に、ハフニウムをより少な
く含有する金属または合金を漸減量で導入し、それぞれ
の導入段階の後に、または容器の端部を密閉する前の操
作の最終段階で、一緒に圧縮し、ハフニウムの含有量ま
たは表面密度を吸収エレメントに沿って連続的に変化す
るようになす方法である。
金属容器及びその蓋は、約350℃の反応炉内で充分な耐
腐食性を示す任意の金属合金で製造される。ステンレス
スチール、好ましくは低カーボンまたは安定化されたオ
ーステノ−フェライト質スチール(austeno-ferritic s
teel)、例えばAISI316Lがその耐腐食性、溶接可能性及
び容器として成形する上での適合性において特に適して
いる。容器のための金属または合金は、本発明の吸収エ
レメントに使用される固定方法に従って、制御装置の構
造体に使用される金属または合金に関係して選択するこ
とができる。
容器及びその内容物の性質によって、充填及び密閉され
た容器によって形成される吸収エレメントの形状を、普
通の冷間形成または260℃未満の温間成形によって変え
ることが可能となることに留意されたい。これは例え
ば、エレメントが制御装置上に固定され得るように、エ
レメントの長さを30%未満だけ延伸したりその幅を変え
ることである。
本発明の第2の目的は、容易に認識される形状の電解Hf
結晶を少なくとも25%含有する圧縮金属生成物で充填さ
れている。本発明の方法で得られた金属製中性子吸収エ
レメントを提供することである。局所的なハフニウム含
有量は、エレメントに沿って段階的にまたは一方の端部
から他方の端部まで連続的に典型的には少なくとも10相
対パーセントだけ変化させることができる。ハフニウム
結晶及び恐らくはチップに加え、例えば重量を調整する
意味で、このエレメントは、Zr、その合金、Ti、その合
金またはそれらの任意の組み合わせを、結晶、チップ及
びスポンジの少なくとも1つの形態で20%以上含有する
ことができる。
発明の長所 本発明には以下の長所がある: 複雑で且つ高価な変換を行わずとも純粋なHf(電解結
晶)を使用するのが好ましい、 金属または合金源に関して融通性がある、 Hfの重量の調整が容易である、 エレメントに沿ってHf含有量を変化させることができ
る、 含有されるHfの所与の質量に対して全質量を変更するこ
とができる、 製造工程が単純である。
実施例 以下の実施例により本発明を更に説明する。
実施例1 厚さ0.8mm、内径25mm、長さ1000mmであり下方端部が高
さ10mmの溶接プラグで封止されたステンレススチールチ
ューブ(AISI 316L)を使用した。チューブは充填のた
めに鉛直に維持した。電解Hf結晶625gを3段階に分けて
挿入した。各挿入の後に直径8.2mmの平らな端部を有す
るニードルによってプレスした。圧縮された結晶の最終
的な高さは容器端部の開口の下方約5.5mmのところであ
った。次いで高さ10mmのプラグをいかなる困難もなく適
所に収め、プラグ下方に平均間隙0.5mmを残した。内部
を真空にし、プラグをチューブの端部を横断する横方向
溶接による通常の方法で溶接した。
この実施例では、密閉容器は98%充填され、圧縮Hf結晶
層の見掛けの密度は約85%であった。
実施例2 長さが1400mmであることを除き実施例1のチューブと同
一のチューブを使用した。
直径8.2mm及び1つの高さ20mmのペレット75個を、 電解Hf結晶:207g(37.5%)、及び ジルカロイ 4チップ:345g の混合物の等しい画分から調製した。
予備圧縮した状態で、ペレットの見掛けの合計堆積は7
9.2cm3であり、比重から誘導される理論的な合計体積は
207/13.29+345/6.5=68.65cm3であった。
従って圧縮結晶及びチューブの見掛けの密度は86.7%で
あった。
40個のペレットをチップ内に入れ、最初の再圧縮を実施
し、これらのペレットの合計の高さを約10mmだけ小さく
すると幅が広がり且つより密になった。他の35個のペレ
ットをチューブ内に入れ、ややより高い圧力で再圧縮を
継続し、一番上のペレットの上側の高さを容器の開口端
部から約5.5mmのところにした。この状態でペレットは
僅かに幅が広がって亀裂が入り、圧縮された結晶及びチ
ップの見掛けの密度または相対密度は88%であった。
プラグを実施例1と同様に位置決めし溶接した。
実施例3 チューブは実施例2のチューブと同一であった。同じタ
イプ及び量の圧縮可能な生成物を使用し、同じ重量(18
4g)の3つのバッチに別様に分割した。第1のバッチ:H
f結晶60g(32.5%) −ジルカロイチップ124g、 第2のバッチ:Hf結晶69g(37.5%) −ジルカロイチップ115g、 第3のバッチ:Hf結晶78g(42.5%) −ジルカロイチップ102g。
各バッチの等しい重量の画分を使用し、第1のバッチか
らは26個のペレット、第2のバッチからは25個のペレッ
ト及び第3のバッチからは24個のペレットを調製した。
第1のバッチの26個のペレットをチューブ内に入れ、第
1の再圧縮工程を実施した。第2のバッチの25個のペレ
ットをチューブ内に入れ、更に再圧縮を実施し、次いで
第3のバッチの24個のペレットを挿入し、最後の再圧縮
を実施し、実施例2と同様に封止を実施した。
得られた吸収エレメントは実施例2で得られたエレメン
トと同じ重量のHfを有したが、Hf含有量が異なる3つの
部分からなった。
フロントページの続き (72)発明者 リユツク・ムーラン フランス国、75008・パリ、リユ・ランネ、 24 (56)参考文献 特開 昭59−163591(JP,A)

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】原子炉の制御装置に使用するための金属製
    中性子吸収エレメントであって、ハフニウムを含有し且
    つ前記中性子に対してほとんど吸収性を示さないかまた
    は非吸収性を示す被覆で覆われている中性子吸収エレメ
    ントの製造方法において、 a)電解Hf少なくとも25重量%、 Zr及び/またはZr合金0〜75重量%、 Ti及び/またはTi合金0〜75重量%、 Zr55重量%未満を含むHf-Zr合金0〜75重量%、Ti55重
    量%未満を含むHf-Ti合金0〜75重量%、融点が400℃以
    上の中性子吸収金属元素0.2重量%未満、及び 融点400℃以上の他の金属元素0〜残りで100重量%にな
    るまでの量(但し5重量%未満) を含有する圧縮可能な金属生成物を調製する工程と、 b)前記生成物の少なくとも一部を開口端部を有する金
    属容器内に導入する工程と、 c)前記容器に入った生成物を圧縮するか、または前記
    生成物を前記容器に入れる前に圧縮する工程と、 d)必要であれば、前記容器の少なくとも95%が充填さ
    れるまで前記生成物の導入及び圧縮を繰り返す工程と、 e)金属の蓋またはプラグを溶接し前記容器の開口端部
    を密閉し且つ内部に1.3Paよりもよい空気真空を与える
    工程とを含むことを特徴とする方法。
  2. 【請求項2】使用されるハフニウムが前記生成物の全重
    量の少なくとも25%を占める電解結晶からなり、前記結
    晶の水素及び塩素の含有量がそれぞれ40ppm及び50ppm未
    満である請求項1に記載の方法。
  3. 【請求項3】使用される前記生成物が、水素及び塩素の
    含有量がそれぞれ40ppm及び50ppm未満のZr及び/または
    Tiの電解結晶を含有する請求項1または2に記載の方
    法。
  4. 【請求項4】使用される前記電解結晶が、真空下または
    不活性ガス内で150〜300℃で事前に処理されている請求
    項3に記載の方法。
  5. 【請求項5】使用される前記電解結晶が、1000〜1250℃
    で8〜48時間、好ましくは1050〜1150℃で16〜32時間事
    前に処理されている請求項3に記載の方法。
  6. 【請求項6】前記密閉容器またはエレメントに沿った単
    位長さ当りまたは単位有効表面積当たりのHfの重量の変
    化が2相対パーセント未満であるように、前記圧縮可能
    な生成物が圧縮される前及び/または前記金属容器内に
    入れられる前に混合される請求項1から5のいずれか一
    項に記載の方法。
  7. 【請求項7】前記密閉容器またはエレメントに沿ったHf
    含有量の離散的な変化が、前記圧縮可能な生成物を前記
    容器内に入れる前に異なるHf含有量を有する前記圧縮可
    能な生成物のバッチからペレットを調製することによっ
    てもたらされる請求項1から5のいずれか一項に記載の
    方法。
  8. 【請求項8】Hf及び/またはHfを含有する合金を、1つ
    以上の段階において前記容器の一方の端部から他方の端
    部まで連続的に増加する量で入れると同時に、Hfを全く
    含有しないかまたはより少なく含有する金属または合金
    を漸減量で前記容器内に入れ、そして各導入工程後に、
    または前記容器の端部を封止する前の操作の最終段階
    で、前記容器の内容物を圧縮することによって容器に沿
    ったHf密度の連続的な変化をもたらす請求項1から5の
    いずれか一項に記載の方法。
  9. 【請求項9】電解Hf結晶を少なくとも25%含有する、圧
    縮生成物で充填された金属製中性子吸収エレメント。
  10. 【請求項10】局所的なHf含有量が段階的に変化する請
    求項9に記載のエレメント。
  11. 【請求項11】Hf含有量が一方の端部から他方の端部ま
    で連続的に少なくとも10相対パーセントだけ変化する請
    求項9に記載のエレメント。
  12. 【請求項12】更に、Zr、その合金、Ti、その合金また
    はそれらの任意の組み合わせの結晶、チップ及びスポン
    ジの少なくとも一種を20%以上含有する請求項9から11
    のいずれか一項に記載のエレメント。
JP1195383A 1988-07-28 1989-07-27 金属製中性子吸収エレメント及び該エレメントの製造方法 Expired - Lifetime JPH0695151B2 (ja)

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FR8810449A FR2634938B1 (fr) 1988-07-28 1988-07-28 Procede de fabrication d'un element metallique absorbeur de neutrons et element obtenu

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KR (1) KR940011430B1 (ja)
DE (1) DE68909711T2 (ja)
ES (1) ES2044193T3 (ja)
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